CN202465871U - 真空镀膜用的输入电极自动接合机构 - Google Patents

真空镀膜用的输入电极自动接合机构 Download PDF

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Abstract

本实用新型公开一种真空镀膜用的输入电极自动接合机构,包括固定电极、动电极、射频接入件和气动件,固定电极与真空室的室腔固定连接,动电极设于固定电极下方,动电极伸入真空室的外壁,动电极与真空室外壁的相接处设有密封件,密封件外周依次设置水冷套和绝缘套,动电极下端设置射频接入件,动电极下端通过绝缘隔离件与气动件连接,固定电极外周设有上屏蔽件,动电极外周设有下屏蔽件。本输入电极自动接合机构采用气动件(包括气缸形式等)驱动使固定电极和动电极自动接合,将其应用于等离子增强化学气相沉积工艺,可有效提高生产效率;同时,减少人工操作,有效降低生产成本。

Description

真空镀膜用的输入电极自动接合机构
技术领域
本实用新型涉及等离子增强化学气相沉积技术,特别涉及一种真空镀膜用的输入电极自动接合机构。
背景技术
等离子增强化学气相沉积(PECVD)是在电源(包括射频电源、直流电源或交流电源等)接通的条件下通入相关气体,生成的薄膜沉积在基底上,可应用于半导体、太阳能、显示器及电子应用的设备中。由于该工艺没有环境污染产生,没有化学污水排放,同时消耗功率低,效率较高,因此逐步被应用。然而,目前射频输入电极使用时,一般需要靠人工将其接合后才能使用,其操作麻烦,人工资源耗费也大,同时使得等离子增强化学气相沉积工艺的效率低下。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有技术的不足,提供一种射频输入电机自动接合机构,该机构的使用可减少人工操作,有效提高等离子增强化学气相沉积工艺的生产效率。
本实用新型的技术方案为:一种真空镀膜用的输入电极自动接合机构,包括固定电极、动电极、射频接入件和气动件,固定电极与真空室的室腔固定连接,动电极设于固定电极下方,动电极伸入真空室的外壁,动电极与真空室外壁的相接处设有密封件,密封件外周依次设置水冷套和绝缘套,动电极下端设置射频接入件,动电极下端通过绝缘隔离件与气动件连接,固定电极外周设有上屏蔽件,动电极外周设有下屏蔽件。
所述真空室为等离子增强化学气相沉积室,包括沉积室腔和真空室壁,真空室壁设于沉积室腔外周;其中,沉积室腔为真空室的室腔,真空室壁为真空室的外壁。
所述上屏蔽件和下屏蔽件相接,固定电极固定于上屏蔽件中部,动电极滑动于下屏蔽件中部。
本真空镀膜用的输入电极自动接合机构使用时,其原理是:当工件进入真空室进行等离子增强化学气相沉积时,系统的驱动机构驱动气动件动作,气动件末端驱使动电极滑动并与固定电极相接,射频机构通过射频接入件即可进行等离子增强化学气相沉积。
本实用新型相对于现有技术,具有以下有益效果:
本输入电极自动接合机构采用气动件(包括气缸形式等)驱动使固定电极和动电极自动接合,将其应用于等离子增强化学气相沉积工艺,可有效提高生产效率;同时,减少人工操作,有效降低生产成本。
附图说明
图1为本输入电极自动接合机构的结构示意图。
具体实施方式
下面结合实施例及附图,对本实用新型作进一步的详细说明,但本实用新型的实施方式不限于此。
实施例
本实施例一种真空镀膜用的输入电极自动接合机构,其结构如图1所示,包括固定电极1、动电极2、射频接入件3和气动件4,固定电极与真空室的室腔5固定连接,动电极设于固定电极下方,动电极伸入真空室的外壁6,动电极与真空室外壁的相接处设有密封件7,密封件外周依次设置水冷套8和绝缘套9,动电极下端设置射频接入件,动电极下端通过绝缘隔离件10与气动件连接,固定电极外周设有上屏蔽件11,动电极外周设有下屏蔽件12。
真空室为等离子增强化学气相沉积室,包括沉积室腔和真空室壁,真空室壁设于沉积室腔外周;其中,沉积室腔为真空室的室腔,真空室壁为真空室的外壁。
上屏蔽件和下屏蔽件相接,固定电极固定于上屏蔽件中部,动电极滑动于下屏蔽件中部。
本真空镀膜用的输入电极自动接合机构使用时,其原理是:当工件进入真空室进行等离子增强化学气相沉积时,系统的驱动机构驱动气动件动作,气动件末端驱使动电极滑动并与固定电极相接,射频机构通过射频接入件即可进行等离子增强化学气相沉积。
如上所述,便可较好地实现本实用新型,上述实施例仅为本实用新型的较佳实施例,并非用来限定本实用新型的实施范围;即凡依本实用新型内容所作的均等变化与修饰,都为本实用新型权利要求所要求保护的范围所涵盖。

Claims (3)

1.真空镀膜用的输入电极自动接合机构,其特征在于,包括固定电极、动电极、射频接入件和气动件,固定电极与真空室的室腔固定连接,动电极设于固定电极下方,动电极伸入真空室的外壁,动电极与真空室外壁的相接处设有密封件,密封件外周依次设置水冷套和绝缘套,动电极下端设置射频接入件,动电极下端通过绝缘隔离件与气动件连接,固定电极外周设有上屏蔽件,动电极外周设有下屏蔽件。
2.根据权利要求1所述的真空镀膜用的输入电极自动接合机构,其特征在于,所述真空室为等离子增强化学气相沉积室,包括沉积室腔和真空室壁,真空室壁设于沉积室腔外周;其中,沉积室腔为真空室的室腔,真空室壁为真空室的外壁。
3.根据权利要求1所述的真空镀膜用的输入电极自动接合机构,其特征在于,所述上屏蔽件和下屏蔽件相接,固定电极固定于上屏蔽件中部,动电极滑动于下屏蔽件中部。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2014079120A1 (zh) * 2012-11-21 2014-05-30 中国科学院微电子研究所 一种电极引入结构
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CN109355635A (zh) * 2018-12-15 2019-02-19 湖南玉丰真空科学技术有限公司 一种连续镀膜生产线中基片框架偏压引入装置

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