CN202390316U - 低辐射镀膜玻璃 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种低辐射镀膜玻璃，所述低辐射镀膜玻璃包括玻璃基片和镀制在玻璃基片上的膜系，所述膜系自玻璃基片向外依次包括：第一电介质层、第二电介质层、第一功能层、第一阻挡层、中间电介质组合层、第三电介质层、第二功能层、第二阻挡层、顶层下电介质层、顶层上电介质层。本实用新型的玻璃产品呈自然色，颜色均一，并且在可见光区透过率高，在近红外区具有低辐射的优点。
Description
技术领域
本实用新型涉及玻璃深加工中的镀膜技术领域，具体是一种低辐射镀膜玻璃。
背景技术
传统的低辐射玻璃往往都是双银镀膜玻璃的结构，具体结构包括：玻璃基底和在玻璃基底上依次向上沉积的第一介电质层、银膜层、第一阻挡层、第二介电质层、银膜层、第二阻挡层，以及第三介电质层，按照所述结构生产的镀膜玻璃其透过色呈蓝绿色，此玻璃用于建筑后，透过此玻璃，从室内往室外看时，外界的物体也被增添了蓝绿色调，使得外界景物发生色变。
发明内容
本实用新型的技术目的是克服现有技术存在的缺陷，提供一种新型的低辐射镀膜玻璃，使镀膜后的玻璃呈自然色。
本实用新型的技术方案为：
一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀制在玻璃基片上的膜系，其特征在于，所述膜系自玻璃基片向外依次包括：
第一电介质层、第二电介质层、第一功能层、第一阻挡层、中间电介质组合层、第三电介质层、第二功能层、第二阻挡层、顶层下电介质层、顶层上电介质层。
作为优选的技术方案：
所述第一功能层为Cu层，所述第二功能层为Ag层;
所述第一电介质层可设为Si3N4、ZnSnO3、TiO2或者SiOxNy膜层中的一种；
所述第二电介质层、第三电介质层为ZnO层；
所述第一阻挡层的为NiCr、AZO、Ti、Nb2O5或NiCrOx膜层中的一种；
所述中间电介质组合层为ZnSnO3、Si3N4膜层中的一种或者二者的组合层；
所述第二阻挡层设为NiCr、AZO、Ti、Nb2O5或NiCrOx膜层中的一种；
所述顶层下电介质层为ZnSnO3层；
所述顶层上电介质层为Si3N4层。
一种用于制造上述低辐射镀膜玻璃的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
在所述玻璃基片上镀制Si3N4、ZnSnO3、TiO2或者SiOxNy膜层中的一种作为第一电介质层；
在所述第一电介质层上镀制作为第二电介质层的ZnO层；
在所述第二电介质层上镀制作为第一功能层的Cu层；
在所述第一功能层上镀制NiCr、AZO、Ti、Nb2O5或NiCrOx膜层中的一种作为第一阻挡层；
在所述第一阻挡层上镀制ZnSnO3、Si3N4膜层中的一种或者二者的组合层层作为中间电介质组合层；
在所述中间电介质组合层上镀制第三电介质层的ZnO层；
在所述第三电介质层上镀制第二功能层的Ag层；
在所述第二功能层上镀制NiCr、AZO、Ti、Nb2O5或NiCrOx膜层中的一种作为第二阻挡层；
在所述第二阻挡层上镀制作为顶层下电介质层的ZnSnO3层；
在所述顶层下电介质层上镀制作为顶层上电介质层的Si3N4层；
上述玻璃结构中，Si3N4层使用质量百分比为92:8的硅铝靶，采用双旋转阴极、中频反应磁控溅射方式在氩、氮氛围中溅射沉积，功率为20-80kw，电源频率为20-40kHz；
SiOxNy层使用质量百分比为92:8的硅铝靶，采用双旋转阴极、中频反应磁控溅射方式在氩、氮、氧氛围中溅射沉积，功率为20-80kw，电源频率为20-40kHz；
AZO层使用陶瓷锌铝靶，采用双旋转阴极、中频反应磁控溅射方式在氩、氧氛围中溅射沉积，功率为5-15kw，电源频率为20-40kHz；
ZnSnO3层使用质量百分比为50:50的锌锡合金靶，采用双旋转阴极、中频反应磁控溅射方式在氩、氧氛围中溅射沉积，功率为10-70kw，电源频率为20-40kHz；
NiCrOx层使用镍铬合金靶，采用平面阴极、直流磁控溅射方式在纯氩氛围中溅射沉积，功率为2-10kw；
功能层Ag层为使用银靶，采用平面阴极、直流磁控溅射方式在纯氩氛围中溅射沉积，功率为2-10kw；
功能层Cu层为使用铜靶，采用平面阴极、直流磁控溅射方式在纯氩氛围中溅射沉积，功率为2-10kw。
本实用新型的玻璃产品呈自然色，颜色均一，克服了现有产品的缺陷，并且在可见光区透过率高，在近红外区具有低辐射的优点，并且其镀膜方法简单，容易实施，镀出的膜层均匀，产品质量好。
附图说明
图1为实施例一低辐射镀膜玻璃的膜面反射光谱曲线；
图2为实施例一低辐射镀膜玻璃面的反射光谱曲线；
图3为实施例一低辐射镀膜玻璃的透射特性谱图；
图4为实施例一低辐射镀膜玻璃的单片色系坐标；
图5为实施例一低辐射镀膜玻璃构成的中空玻璃色系坐标；
图6为实施例二低辐射镀膜玻璃的膜面反射光谱曲线；
图7为实施例二低辐射镀膜玻璃的玻璃面反射光谱曲线；
图8为实施例二低辐射镀膜玻璃的透射特性谱图；
图9为实施例二低辐射镀膜玻璃的单片色系坐标；
图10为实施例二低辐射镀膜玻璃构成的中空玻璃色系坐标；
图11为本实用新型低辐射镀膜玻璃的结构示意图。
具体实施方式
为详细说明本实用新型创造的技术方案、技术目的以及技术效果，下面结合实施例并配合附图予以详细说明。
如图11所示，本实用新型低辐射镀膜玻璃在玻璃基片10上向外依次镀有第一电介质层11、第二电介质层12、第一功能层13、第一阻挡层14、中间电介质组合层15、第三电介质层16、第二功能层17、第二阻挡层18、顶层下电介质层19以及顶层上电介质层20。
所述第一电介质层11可设为Si3N4、ZnSnO3、TiO2或者SiOxNy膜层中的一种；
所述第二电介质层12优选为ZnO层；
所述第一功能层13为Cu层；
所述第一阻挡层14为NiCr、AZO、Ti、Nb2O5或NiCrOx层；
所述中间电介质组合层15为ZnSnO3或Si3N4层，或者是ZnSnO3和Si3N4的组合层；
所述第三电介质层16为ZnO层;
所述第二功能层17为Ag层;
所述第二阻挡层18优选为为NiCr、AZO、Ti、Nb2O5或NiCrOx层中的一种；
所述顶层下电介质层19为ZnSnO3层；
所述顶层上电介质层20为Si3N4层。
上述结构中，所有氮化硅（Si3N4）层使用硅铝（质量百分比92:8）靶，采用双旋转阴极、中频反应磁控溅射方式在氩、氮氛围中溅射沉积，功率为20-80kw，电源频率为20-40kHz；
所有氮氧化硅（SiOxNy ）层使用硅铝（质量百分比92:8）靶，采用双旋转阴极、中频反应磁控溅射方式在氩、氮、氧氛围中溅射沉积，功率为20-80kw，电源频率为20-40kHz；
锌铝氧化物（AZO）层使用陶瓷锌铝靶，采用双旋转阴极、中频反应磁控溅射方式在氩、氧氛围中溅射沉积，功率为5-15kw，电源频率为20-40kHz；
氧化锌锡（ZnSnOx）层，如ZnSnO3，使用锌锡合金（质量百分比50:50）靶，采用双旋转阴极、中频反应磁控溅射方式在氩、氧氛围中溅射沉积，功率为10-70kw，电源频率为20-40kHz；
所有氧化镍铬（NiCrOx）层使用镍铬合金靶，采用平面阴极、直流磁控溅射方式在纯氩氛围中溅射沉积，功率为2-10kw；
功能层Ag层为使用银靶，采用平面阴极、直流磁控溅射方式在纯氩氛围中溅射沉积，功率为2-10kw；
功能层Cu层为使用铜靶，采用平面阴极、直流磁控溅射方式在纯氩氛围中溅射沉积，功率为2-10kw。
实施例一：
作为低辐射镀膜玻璃的一种优选结构，具体如下：
玻璃基片/Si3N4/ZnO/Cu/NiCr/ZnSnO3/ZnO/Ag/NiCr/ZnSnO3/Si3N4。
其中，所述第一电介质层11为Si3N4层， Si3N4厚度为19.5nm;
所述第二电介质层12为ZnO层，ZnO厚度为10nm；
所述第一功能层13为Cu层，Cu的厚度为7.5nm；
所述第一阻挡层14为NiCr层，NiCr的厚度为1.3nm；
所述中间电介质组合层15为ZnSnO3层，ZnSnO3的厚度为68.9nm；
所述第三电介质层16为ZnO层， ZnO的厚度为10nm;
所述第二功能层17为Ag层，Ag的厚度为16.8nm;
所述第二阻挡层18为NiCr层，NiCr的厚度为0.6nm;
所述顶层下电介质层19为ZnSnO3， ZnSnO3的厚度为20.4nm；
所述顶层上电介质层20为Si3N4，Si3N4的厚度为15.6nm。
玻璃膜层镀制完成后，产品参数如图所示：
图1为实施例一低辐射镀膜玻璃的膜面反射光谱曲线；
图2为实施例一低辐射镀膜玻璃的玻璃面反射光谱曲线；
图3为实施例一低辐射镀膜玻璃的透射特性谱图；
图4为实施例一低辐射镀膜玻璃的单片色系坐标；
图5为实施例一低辐射镀膜玻璃构成的中空玻璃色系坐标。
图1-图3中，虚线曲线为标准参照产品的测试曲线，实线曲线为实施例一产品的测试参数曲线；图4-图5为色坐标的a*值、b*值与角度的变化曲线图谱，虚线曲线为随着角度的变化a*值（绿到红的变化）的变化参数曲线，实线曲线为b*值（蓝到黄的变化）的参数曲线。
由图1、图2可知具有实施例一结构的低辐射镀膜玻璃在可见光区具有高透过率，对近红外区具有低辐射率。图3说明所述低辐射镀膜玻璃在可见光区具有高阳光透过率。图4、图5说明所述低辐射镀膜玻璃呈自然色，且从各角度观察，颜色具有均一性。 SHAPE \* MERGEFORMAT
实施例二：
低辐射镀膜玻璃的另一种优选结构，具体为:
玻璃基片/Si3N4/ZnO/Cu/NiCr/ZnSnO3/ZnO/Ag/NiCr/ZnSnO3/Si3N4。
其中，所述第一电介质层11为Si3N4层，Si3N4的厚度为15.7nm；
第二电介质层12为ZnO层， ZnO的厚度为10nm；
第一功能层13为Cu层， Cu的厚度为7.3nm；
第一阻挡层14为NiCr层，NiCr的厚度为0.6nm；
中间电介质组合层15为ZnSnO3层, ZnSnO3的厚度为68.7nm；
第三电介质层16为ZnO层， ZnO的厚度为10nm;
第二功能层17为Ag层，Ag的厚度为15.6nm;
第二阻挡层18为NiCr层，NiCr的厚度为0.6nm;
顶层下电介质层19为ZnSnO3层，ZnSnO3的厚度为20.6nm；
顶层上电介质层20为Si3N4层，Si3N4的厚度为14nm。
产品参数如图6-图10所示：
图6为实施例二低辐射镀膜玻璃的膜面反射光谱曲线；
图7为实施例二低辐射镀膜玻璃的玻璃面反射光谱曲线；
图8为实施例二低辐射镀膜玻璃的透射特性谱图；
图9为实施例二低辐射镀膜玻璃的单片色系坐标；
图10为实施例二低辐射镀膜玻璃构成的中空玻璃色系坐标。
图6-图8中，虚线曲线为标准参照产品的测试曲线，实线曲线为实施例二产品的测试参数曲线；图9-图10为色坐标的a*值、b*值与角度的变化曲线图谱，虚线曲线为随着角度的变化a*值（绿到红的变化）的变化参数曲线，实线曲线为b*值（蓝到黄的变化）的参数曲线。
由图6、图7可知具有实施例一结构的低辐射镀膜玻璃在可见光区具有高透过率，对近红外区具有低辐射率。图8说明所述低辐射镀膜玻璃在可见光区具有高阳光透过率。图9、图10说明所述低辐射镀膜玻璃呈自然色，且从各角度观察，颜色具有均一性。
本领域技术人员均应了解，在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，可以对本实用新型进行各种修改和变型。因而，如果任何修改或变型落入所附权利要求书及等同物的保护范围内时，认为本实用新型涵盖这些修改和变型。
Claims (9)
1.一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀制在玻璃基片上的膜系，其特征在于，所述膜系自玻璃基片向外依次包括：
第一电介质层、第二电介质层、第一功能层、第一阻挡层、中间电介质组合层、第三电介质层、第二功能层、第二阻挡层、顶层下电介质层、顶层上电介质层。
2.根据权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一功能层为Cu层，所述第二功能层为Ag层。
3.根据权利要求1或2所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一电介质层为Si3N4、ZnSnO3、TiO2或者SiOxNy膜层中的一种。
4.根据权利要求1或2所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二电介质层、第三电介质层为ZnO层。
5.根据权利要求1或2所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一阻挡层的为NiCr、AZO、Ti、Nb2O5或NiCrOx膜层中的一种。
6.根据权利要求1或2所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述中间电介质组合层为ZnSnO3膜层、Si3N4膜层中的一种或者由ZnSnO3膜层和Si3N4膜层的组合层构成。
7.根据权利要求1或2所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二阻挡层为NiCr、ZnAlO、Ti、Nb2O5或NiCrOx膜层中的一种。
8.根据权利要求1或2所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述顶层下电介质层为ZnSnO3层。
9.根据权利要求1或2所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述顶层上电介质层为Si3N4层。
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Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102514285A (zh) * | 2011-12-23 | 2012-06-27 | 林嘉宏 | 低辐射镀膜玻璃及其制造方法 |
| CN103613285A (zh) * | 2013-11-07 | 2014-03-05 | 中山市创科科研技术服务有限公司 | 一种低成本防辐射薄膜的制备方法 |
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| CN105481267A (zh) * | 2015-11-26 | 2016-04-13 | 黑龙江健中特种玻璃有限公司 | 可后续加工的高透单银低辐射镀膜玻璃及其生产工艺 |
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| CN107663029A (zh) * | 2016-07-28 | 2018-02-06 | 四川南玻节能玻璃有限公司 | 一种欧洲灰低辐射镀膜玻璃 |
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Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102514285A (zh) * | 2011-12-23 | 2012-06-27 | 林嘉宏 | 低辐射镀膜玻璃及其制造方法 |
| CN105518080A (zh) * | 2013-09-02 | 2016-04-20 | 乐金华奥斯有限公司 | 低辐射涂敷物及包括其的窗户用建筑材料 |
| CN103613285A (zh) * | 2013-11-07 | 2014-03-05 | 中山市创科科研技术服务有限公司 | 一种低成本防辐射薄膜的制备方法 |
| CN103613285B (zh) * | 2013-11-07 | 2016-03-02 | 中山市创科科研技术服务有限公司 | 一种低成本防辐射薄膜的制备方法 |
| CN104290404A (zh) * | 2014-10-30 | 2015-01-21 | 中山市亨立达机械有限公司 | 一种特殊膜系的绿色双银low-e玻璃 |
| CN104290403A (zh) * | 2014-10-30 | 2015-01-21 | 中山市亨立达机械有限公司 | 一种特殊膜系的绿色三银low-e玻璃 |
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