CN202352610U - 手动升降装置 - Google Patents
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Abstract
手动升降装置,主要解决了现有的产品结构复杂、造价高等技术问题。该装置包括波纹管组件,波纹管组件是由波纹管与上下法兰通过焊接而成。其上法兰固定于加热盘底部,下法兰压紧密封圈固定于稳流室底部实现波纹管固定与密封。波纹管组件的下法兰与导向铜套连接,为整个装置的竖直方向导向。指针固定于导向铜套上,刻度板环于手柄外圈,在导向铜套的外围设有和弹簧连接的螺栓。本装置采用简单可靠的机械传动机构及直观可见的刻度盘、刻度尺,来代替现有技术的滑台与传感器,其结构简单明了、拆卸维护方便、成本低廉。适应于科研机构及小型Fab厂所需的经常调整试验参数,达到反复调整比对实验结果的目的。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种手动升降装置,该装置通过调节加热盘升降来实现调整两极板之间的间距,属于半导体薄膜沉积应用及制造技术领域。
背景技术
目前,半导体镀膜设备,尤其是12英时PECVD设备其产品的加热盘升降调整机构均是由电动滑台(气动滑台)、导轨、波纹钢管、上下连接法兰、导向机构、调平机构、密封机构、传感器和固定架组成。当动力电联通时,在导向机构的导向下,滑台上下移动,通过传感器反馈位置来实现加热盘升降调整。但是,上述这样复杂的调整结构,虽然可以满足调整加热盘升降的需要,满足升降位置反馈并调节的需求,但由于设备工作环境一般为400℃以上的高温,调整和反馈的信号容易受到干扰,维护时需等待设备降温从而影响到产能,高端电子设备的造价也不容小视,像上述结构的这样闭环全自动的设计结构并不是完全适应于半导体镀膜行业现状。
发明内容
本实用新型的目的是针对上述现有技术的不足,而提供一种占地面积小、结构简单及调平方便的新型手动升降装置。
为实现上述目的,本实用新型采用下述技术方案:手动升降装置,包括波纹管组件,波纹管组件是由波纹管与上下法兰通过焊接而成。其上法兰固定于加热盘底部,下法兰压紧密封圈固定于稳流室底部实现波纹管固定与密封。波纹管组件的下法兰与导向铜套连接,为整个装置的竖直方向导向。上述导向铜套与丝母连接,丝母与丝杠配合并通过丝杠固定座、转动铜套与手柄实现丝杠的平稳旋转。指针固定于导向铜套上,刻度板环于手柄外圈。当调整加热盘时,刻度盘可以精确的指示旋转行程,刻度尺则在数量级上提示上升或下降的位移。在导向铜套的外围,有和弹簧连接的螺栓,用来微调加热盘的水平。由于弹簧的自锁功能,可实现在调整过程中,可调即可见的效果。
本实用新型采用简单可靠的机械传动机构及直观可见的刻度盘、刻度尺,来代替现有技术的滑台与传感器,其结构简单明了。并在实现基本功能需求的前提下,即:在能完全实现加热盘的升降调整,极间距调整的基础上,保证整个机构空间占用小,调平及拆卸维护简单方便,升降高度反馈直观可见,成本低廉。适用于科研机构及小型Fab厂所需的经常调整试验参数,达到反复调整比对实验结果的目的。
附图说明
图1是本实用新型的剖面图。
图2是本实用新型的右视图。
具体实施方式
实施例
如图1和图2所示,手动升降装置,包括波纹管组件4,波纹管组件4是由波纹管与上下法兰通过精密焊接组成。其上法兰压紧密封圈3固定于加热盘1底部,下法兰压紧密封圈6固定于稳流室底部实现波纹管固定与密封,波纹管组件4的下法兰与导向铜套7连接,实现整个装置的竖直方向导向,导向铜套7与丝母5连接,丝母5与丝杠8配合并通过丝杠固定座10、转动铜套9与手柄11实现丝杠的平稳旋转。上述丝杠8为T型结构。指针12固定于导向铜套7上,刻度板2环于手柄11外圈,当调整加热盘1时,刻度板2可以精确的指示旋转行程,刻度尺14竖直固定在真空稳流室上,可在数量级上提示上升或下降的位移。在导向铜套7的外围,有和弹簧13连接的调整螺栓15,用来微调加热盘1的水平,由于弹簧13的自锁功能,可实现在调整过程中,可调即可见的效果。
Claims (2)
1.一种手动升降装置,包括波纹管组件,其特征在于:波纹管组件是由波纹管与上下法兰通过焊接而成,其上法兰固定于加热盘底部,下法兰压紧密封圈固定于稳流室底部实现波纹管固定与密封,波纹管组件的下法兰与导向铜套连接,为整个装置的竖直方向导向,上述导向铜套与丝母连接,丝母与丝杠配合,指针固定于导向铜套上,刻度尺(14)竖直固定在稳流室上,刻度板环于手柄外圈,在导向铜套的外围设有和弹簧连接的螺栓。
2.如权利要求1所述的手动升降装置,其特征在于:所述的丝杠(8)为T型结构。
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CN201120479074XU CN202352610U (zh) | 2011-11-25 | 2011-11-25 | 手动升降装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN108762314A (zh) * | 2018-03-23 | 2018-11-06 | 北京航空航天大学 | 一种用于超导磁悬浮微小力测量装置的真空密封位移机构 |
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2011
- 2011-11-25 CN CN201120479074XU patent/CN202352610U/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
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CN108762314A (zh) * | 2018-03-23 | 2018-11-06 | 北京航空航天大学 | 一种用于超导磁悬浮微小力测量装置的真空密封位移机构 |
CN108762314B (zh) * | 2018-03-23 | 2020-08-21 | 北京航空航天大学 | 一种用于超导磁悬浮微小力测量装置的真空密封位移机构 |
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Legal Events
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GR01 | Patent grant | ||
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Granted publication date: 20120725 Termination date: 20171125 |
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