CN202346907U - 一种玻璃蚀刻装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种玻璃蚀刻装置,其特征在于,包括底部向中心处下凹的反应槽、悬空置于反应槽的载物框、控制装置、设于反应槽下部的鼓气管、设于反应槽内的温度控制装置、连接反应槽底部的排液管、连接排液管的气动阀、设于反应槽上部的冲洗管和药液循环装置,载物框上方连接有抛动杆,反应槽侧壁设有相对的喷射入口和药液出口,反应槽、载物框和鼓气管都是耐腐蚀的。本实用新型公开的玻璃蚀刻装置利用药液循环装置使药液不断循环,直接均衡的冲击玻璃,有利于玻璃反应后残余脱落,本玻璃蚀刻装置还设有温度控制装置使反应槽上部和下部的药液温度均衡更利于玻璃加工均衡性的控制。
Description
技术领域
本实用新型属于玻璃加工机械领域,更具体涉及一种玻璃蚀刻装置,一种适用于玻璃腐蚀减薄加工工艺的装置。
背景技术
现时大部分TFT玻璃减薄都采用垂直浸泡式结构进行量产;主要的品质问题是蚀刻均匀性控制不好、有玻璃残渣、表面缺陷率多等品质问题。
为了针对解决以上产品的品质问题,我们可以通过以下两种方式进行解决;一种方法是通过药液的配方比例进行调控,另一种途径是对设备制造及改良达到提升良品率的效果;采用药液成份比例调控时其成本比较高,生产操作及监控难度增大。
现今的蚀刻不均匀主要是因为反应装置中上下方药液温差过大导致上下方反映效率相差过大引起的,玻璃表面有玻璃残渣和蚀刻不均匀的问题还受到药液浓度不均的影响。
因此需要一种设备能够改善药液上下方温度且能够是药液浓度均匀的设备以达到良好的生产效果。
实用新型内容
为了解决上述问题,本实用新型的目的在于提供一种玻璃蚀刻装置,一种使反应装置药液上下方温度差小、反应装置中药液浓度均匀、玻璃表面受力均匀的玻璃蚀刻装置。
为实现上述目的,本实用新型所采用的技术方案是:一种玻璃蚀刻装置,其特征在于,包括底部向中心处下凹的反应槽、悬空置于反应槽的载物框、控制装置、设于反应槽下部的鼓气管、设于反应槽内的温度控制装置、连接反应槽底部的排液管、连接排液管的气动阀、设于反应槽上部的冲洗管和药液循环装置,载物框上方连接有抛动杆,反应槽侧壁设有相对的喷射入口和药液出口,反应槽、载物框和鼓气管都是耐腐蚀的。
优选的,所述的药液循环装置包括设于反应槽内并对应喷射入口的喷射散流板、设于反应槽内并对应药液出口的吸收散流板和分别连接喷射入口和药液出口的大功率泵。
优选的,所述的温度控制装置包括设于反应槽上部的上温控管和上温度探测装置、设于反应槽下部的下温控管和下温度探测装置。
优选的,所述的喷射散流板和吸收散流板相对应。
采用上述技术方案后,其有益效果是:本实用新型公开的玻璃蚀刻装置是一种适用于玻璃浸泡式腐蚀减薄工艺中,可以使反应装置中上下方药液温差小、药液浓度分布均匀且玻璃表面受力均匀的玻璃蚀刻装置,该装置可以使加工出玻璃更加均匀且使玻璃表面残渣更少。
附图说明
图1是本实用新型一种玻璃蚀刻装置的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。
如图1所示,一种玻璃蚀刻装置,包括底部向中心处下凹的反应槽1、悬空置于反应槽1的载物框2、控制装置、设于反应槽1下部的鼓气管3、设于反应槽1内的温度控制装置、连接反应槽1底部的排液管5、连接排液管5的气动阀6、设于反应槽1上部的冲洗管11和药液循环装置7,载物框2上方连接有抛动杆8,反应槽1侧壁设有相对的喷射入口9和药液出口10,反应槽1、载物框2和鼓气管3都是耐腐蚀的。
所述的药液循环装置7包括设于反应槽1内并对应喷射入口9的喷射散流板71、设于反应槽1内并对应药液出口10的吸收散流板72和分别连接喷射入口9和药液出口10的大功率泵73;温度控制装置包括设于反应槽1上部的上温控管41和上温度探测装置、设于反应槽1下部的下温控管42和下温度探测装置;喷射散流板71和吸收散流板72相对应。
工作原理:反应槽1中盛放腐蚀性药液,待加工玻璃放入载物框2浸泡在反应槽1中药液中,在玻璃浸泡时开启大功率泵73使药液由药液出口10进入大功率泵73再经喷射入口9重新进入反应槽1形成药液循环,待加工玻璃较薄侧面对应药液出口10和喷射入口9使玻璃侧面药液形成流动对玻璃形成冲刷使腐蚀后玻璃残渣脱落。
设于反应槽1内并对应喷射入口9的喷射散流板71和设于反应槽1内并对应药液出口10的吸收散流板72使药液形成均匀对流,药液均匀分布,这样就不会出现部分药液浓度过高使玻璃腐蚀不均匀的情况。
由于反应槽1一般都较高大,所以反应槽1内药液的上下方温度存在差异,这样会使药液的腐蚀效率存在差异,因此保证药液上下方的温度均衡也是保证玻璃加工质量的因数之一,本装置中的温控装置,分别在反应槽1上部设有上温控管41和上温度探测装置和反应槽1下部设有下温控管42和下温度探测装置,通过上温度探测装置和下温度探测装置对反应槽1内进行检测并经控制装置控制上温控管41和下温控管42使反映槽中药液上下温度差异在±1℃内,基本达到温度均衡,另外设于反应槽1底部的鼓气管3使药液翻滚也起到均衡药液温度的作用,只有药业温度均衡才能使玻璃腐蚀速度一致,加工后玻璃才会均匀。
另外载物框2上方连接的抛动杆8,带动载物框2上下运动,抛动频率一般为5-20次/分钟,在载物框2上下运动上下运动时使玻璃与药液间产生位移,进而对玻璃产生冲刷作用,冲刷掉玻璃上的玻璃残渣,而且载物框2上下运动使玻璃产生震荡效果,进一步使玻璃残渣脱落。
脱落的玻璃残渣由于密度大于药液沉入反应槽1底部,因反应槽1底部下凹,玻璃残渣集中于凹坑底部,在打开气动阀6时玻璃残渣尽数随药液排出,反应槽1底部下凹有效防止玻璃残渣在反应槽1底部无法彻底排除的情况,在排出药液后冲洗管11对玻璃冲洗冲洗后废水经反应槽1底部排出。
由以上所述可以看出,本实用新型公开的玻璃蚀刻装置是一种适用于玻璃浸泡式腐蚀减薄工艺中,可以使反应装置中上下方药液温差小、药液浓度分布均匀且玻璃表面受力均匀的玻璃蚀刻装置,该装置可以使加工出玻璃更加均匀且使玻璃表面残渣更少。
以上所述的的仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。
Claims (4)
1.一种玻璃蚀刻装置,其特征在于,包括底部向中心处下凹的反应槽、悬空置于反应槽的载物框、控制装置、设于反应槽下部的鼓气管、设于反应槽内的温度控制装置、连接反应槽底部的排液管、连接排液管的气动阀、设于反应槽上部的冲洗管和药液循环装置,载物框上方连接有抛动杆,反应槽侧壁设有相对的喷射入口和药液出口,反应槽、载物框和鼓气管都是耐腐蚀的。
2.如权利要求1所述的的一种玻璃蚀刻装置,其特征在于,所述的药液循环装置包括设于反应槽内并对应喷射入口的喷射散流板、设于反应槽内并对应药液出口的吸收散流板和分别连接喷射入口和药液出口的大功率泵。
3.如权利要求1所述的的一种玻璃蚀刻装置,其特征在于,所述的温度控制装置包括设于反应槽上部的上温控管和上温度探测装置、设于反应槽下部的下温控管和下温度探测装置。
4.如权利要求2所述的的一种玻璃蚀刻装置,其特征在于,所述的喷射散流板和吸收散流板相对应。
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CN103708736A (zh) * | 2013-12-13 | 2014-04-09 | 汕头市拓捷科技有限公司 | 一种ogs玻璃的强度恢复方法及使用该方法的设备 |
CN110357445A (zh) * | 2019-08-23 | 2019-10-22 | 泰兴美视智能光电有限公司 | 一种柔性电子玻璃基板的制备装置及基于其的制备方法 |
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