CN202149032U - 一种真空泵清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型是关于一种真空泵清洗装置，包括：一气压源；一调压阀，以管线连接于该气压源；一压力表，以管线连接于该调压阀；一逆止阀，以管线连接于该压力表；一溶剂储存单元，以管线连接于一针阀；一电磁阀，以一三通管线连接于针阀与逆止阀；一真空泵，以管线连接于该电磁阀；一搜集单元，以管线外接于真空泵；及一控制单元，连接于真空泵以控制电磁阀。

Description

一种真空泵清洗装置

技术领域

本实用新型关于一种清洗装置，特别是关于一种能外接于真空泵并对内部转子进行清洗的真空泵清洗装置。

背景技术

真空泵被应用于制造真空的环境，其作用方式是内部的螺旋转子利用自身的旋转将空气挤压出真空泵之外，以制造出真空的状态，故真空制造效果的好坏是与转子有密切的关系，故转子也被称为真空泵的心脏，除了影响真空泵的效能，亦会影响其使用寿命及成本。

在现有技术当中，真空泵多应用于半导体制程中硅晶圆的制作，在长时间运转下，制程中的副产物容易沉积真空泵内部，若不按时清洗，则沉积于真空泵内部的副产物会造成真空泵运转的不顺畅甚至造成转子损坏，进而影响制程的效率，然而，要清洗真空泵，必须将整体机台关闭，并将真空泵取下并对内部转子或其他配件进行清洗，此举不但影响了生产效率，更必须耗费人力跟时间成本来装卸真空泵，并且在清洗上亦会耗费相当多的时间，此外，清洗时所使用的溶剂在使用后往往没有回收，造成环境的污染。

有鉴于此，本申请的设计人依据多年研究的经验累积，并搭配自身的创意及不断的尝试下，进而研发出一种可有效改善上述现有技术中所提及的缺陷的真空泵清洗装置。

实用新型内容

本实用新型的主要目的，在于提供一种真空泵清洗装置，可外接于真空泵上，并可于真空泵降速运转时进行清洗，不必另外关闭机台或者拆下真空泵，以降低因为拆装或清洗造成的人力及时间成本的浪费，并且在清洗流程结束后能确实回收废弃溶剂，避免环境污染的真空泵清洗装置。

该真空泵清洗装置包含：一气压源；一调压阀，以管线连接于该气压源；一压力表，外接于该调压阀，并用于测量管路内部的压力；一逆止阀，以管线连接于该压力表；一溶剂储存单元，以管线连接于一针阀；一电磁阀，以一三通管线连接于针阀与逆止阀；一真空泵，以管线连接于该电磁阀；一搜集单元，以管线外接于真空泵；及一控制单元，连接于真空泵以控制电磁阀。

上述已经对本实用新型做了相当完整的揭露，综合上述，可以得知本实用新型具有下列的优点：

1.由于真空泵清洗装置外接于真空泵上，可对真空泵直接进行清洗，不必另外拆装真空泵，节省了人力及时间的成本花费。

2.在进行真空泵的清洗时，真空泵可使用低速运转，而不必停机以人力使用工具转动真空泵内部转子。

3.通过搜集单元可将清洗过后的废弃溶剂确实回收处理，以避免废弃溶剂排入大气或者直接倒入污水处理系统造成环境的危害。

上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明如后。

附图说明

图1是本实用新型的一种真空泵清洗装置的模块示意图。

1：气压源

10：控制单元

2：调压阀

3：压力表

4：逆止阀

5：溶剂储存单元

6：针阀

7：电磁阀

8：真空泵

9：搜集单元

具体实施方式

为更进一步阐述本实用新型为达成预定实用新型目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对本实用新型的具体实施方式详细说明如后。

请同时参阅图1，是本实用新型的一种真空泵清洗装置的模块示意图，包含：一气压源1；一调压阀2，以管线连接于该气压源1；一压力表3，以管线连接于该调压阀2，并用于测量管路内部的压力；一逆止阀4，以管线连接于该调压阀2；一溶剂储存单元5，以管线连接于一针阀6，并且储存于溶剂储存单元5内的一溶剂为一液态清洗溶剂；一电磁阀7，以一三通管线连接于该针阀6与该逆止阀4；一真空泵8，以管线连接于该电磁阀7；一搜集单元9，以管线外接于真空泵8，并且该搜集单元9为排液搜集桶；及一控制单元10，可控制真空泵8的转速及电磁阀7的管线导通与否。

在说明完元件之间的连接关系之后，接下来将针对元件的功能及其作用方式做更进一步的说明，其中，针阀6的功能在于可调整控制溶剂储存单元5内部的该溶剂的流量，当针阀6开启时，溶剂会因重力的作用从溶剂储存单元5流入该三通管线，并且为了防止溶剂回流到气压源1，可利用逆止阀4防止溶剂往气压源1流通，同时，通过气压源1的加压可协助溶剂在管线内流通往真空泵8，也可避免溶剂回流至气压源1，当溶剂在管线流通至真空泵8之前会先经过电磁阀7，电磁阀7控制溶剂流入真空泵8的最后闸道，当控制单元10使电磁阀7开启时，真空泵8亦会同时减速运转，此时溶剂再进入真空泵8中对真空泵8中的转子进行清洗，其清洗的时间约为40分钟，清洗过程中转子仍以低速运转，等待清洗完毕后，溶剂会流入该搜集单元9内进行回收，以避免废弃溶剂造成环境的污染。

以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制，虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本实用新型，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本实用新型技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本实用新型技术方案的内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。

Claims (5)

1.一种真空泵清洗装置，其特征在于包括：

一气压源；

一调压阀，以管线连接于该气压源；

一压力表，外接于该调压阀，并用于测量管路内部的压力；

一逆止阀，以管线连接于调压阀；

一溶剂储存单元，以管线连接于一针阀；

一电磁阀，以一三通管线连接于该针阀与该逆止阀；

一真空泵，以管线连接于该电磁阀；

一搜集单元，以管线外接于该真空泵；及

一控制单元，连接于真空泵控制电磁阀；

其中，通过调整针阀可控制溶剂储存单元内部的溶剂的流量，并调整逆止阀可以避免该溶剂往气压源流通，再通过控制单元控制电磁阀导通管线，使溶剂储存单元的溶剂导入真空泵之中，最后再通过该搜集单元回收使用过的废弃溶剂。

2.根据权利要求1所述的真空泵清洗装置，其特征在于，其中，

通过该气压源的加压，可协助该溶剂储存单元内的该溶剂流向该真空泵，并也可使溶剂避免回流至气压源。

3.根据权利要求1所述的真空泵清洗装置，其特征在于，其中，

该溶剂储存单元内的溶剂为一液态清洗溶剂。

4.根据权利要求1所述的真空泵清洗装置，其特征在于，其中，

控制单元使电磁阀开启时，真空泵会继续以低频运转。

5.根据权利要求1所述的真空泵清洗装置，其特征在于，其中，

该搜集单元为一排液搜集桶。