CN202114923U - 表面具有微细凹凸构造的薄膜的制造装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种可以保持辊子状模具表面的脱模性、可以稳定地制造表面具有微细凹凸构造的薄膜的制造装置。该制造装置将辊子状模具表面的微细凹凸构造转印到与辊子状模具的旋转同步移动的带状薄膜本体的表面，该制造装置具有：表面具有微细凹凸构造的辊子状模具，该辊子状模具的表面沿圆周方向分为第1表面部和第2表面部；向所述第2表面部供给脱模剂的脱模剂供给单元；以及使供给到所述第2表面部的脱模剂干燥的脱模剂干燥单元，所述薄膜本体沿所述第1表面部与所述辊子状模具的旋转同步地移动，将所述微细凹凸构造形成在所述薄膜本体的表面，所述薄膜本体不沿所述第2表面部移动。

Description

表面具有微细凹凸构造的薄膜的制造装置

技术领域

本实用新型涉及一种表面具有微细凹凸构造的薄膜的制造装置以及制造方法。

背景技术

近年来，表面具有可见光波长以下的间隔的微细凹凸构造的薄膜被发现具有防止反射的效果、荷叶(lotus)效应等。特别是，被称为蛾眼(moth-eye)构造的凹凸构造，由于其折射率从空气的折射率向物品材料的折射率连续地增大，因而可以有效地防止反射，该情况已为公众所熟知。

表面具有微细凹凸构造的薄膜的制造方法，使用表面形成有该微细凹凸构造的翻转构造的模具，将该模具的微细凹凸构造转印到薄膜本体的表面，该方法已引起人们的注意。该模具的形成有微细凹凸构造侧的表面通常通过脱模剂进行处理(专利文献1)。

然而，虽然通过脱模剂处理模具的表面，但是因为模具表面的脱模剂层随着旋转次数的增加而劣化，所以难以保持良好的脱模性。其结果是，模具的表面附着树脂，以附着的树脂为起点而发生更大的树脂残留。

在以往的具有微细凹凸构造的薄膜的制造装置中，需要定期中断生产拆下模具，去除附着树脂，通过脱模剂再次处理模具表面。因为这些操作需要花费相当多的时间，所以大幅降低了生产性。

作为可以维持模具表面的脱模性的制造装置，已提出有如下装置。

一种制造表面具有微细凹凸构造的薄膜的装置，其将辊子状模具的表面的微细凹凸构造转印到带状的薄膜本体的表面，该制造装置具有：附着树脂去除单元，该附着树脂去除单元通过黏附剂去除辊子状模具的表面的附着树脂；脱模剂涂布单元，该脱模剂涂布单元向辊子状模具的表面涂布脱模剂(专利文献2)。

但是，该制造装置存在如下问题。

(i)因为涂布在辊子状模具的表面的脱模剂未干燥时就与薄膜本体接触，所以在脱模剂固定到辊子状模具的表面之前，脱模剂向薄膜本体转移。其结果是，无法充分保持辊子状模具的表面的脱模性，树脂容易附着到辊子状模具的表面。

(ii)因此，需要利用黏附剂的附着树脂去除单元，不过，通过利用黏附剂的附着树脂去除单元很难去除残留在可见光波长以下的间隔的微细凹凸构造的深处的树脂。

(iii)用喷雾器喷洒的脱模剂向空气中飞散，造成脱模剂过度消耗；飞散到转印有微细凹凸构造的薄膜的表面的脱模剂发生附着，对该薄膜的性能(防反射性、排斥性等)造成负面影响；使性能因部位的不同而发生变化。

专利文献1：日本特开2007-326367号公报

专利文献2：日本特开2008-207474号公报

实用新型内容

实用新型所要解决的问题

本实用新型提供一种可以保持辊子状模具的表面的脱模性、可以稳定地制造表面具有微细凹凸构造的薄膜的制造装置。

用于解决问题的手段

本实用新型的表面具有微细凹凸构造的薄膜的制造装置将辊子状模具表面的微细凹凸构造转印到与辊子状模具的旋转同步移动的带状薄膜本体的表面，制造表面具有细微凹凸构造的薄膜，该表面具有微细凹凸构造的薄膜的制造装置具有：表面具有微细凹凸构造的辊子状模具，该辊子状模具的表面沿圆周方向分为第1表面部和第2表面部；向所述第2表面部供给脱模剂的脱模剂供给单元；以及使供给到所述第2表面部的脱模剂干燥的脱模剂干燥单元，所述薄膜本体沿所述第1表面部与所述辊子状模具的旋转同步地移动，将所述微细凹凸构造形成在所述薄膜本体的表面，所述薄膜本体不沿所述第2表面部移动。

本实用新型的表面具有微细凹凸构造的薄膜的制造装置最好还具有脱模剂回收单元，该脱模剂回收单元对从所述脱模剂供给单元飞散的脱模剂进行回收。

本实用新型的表面具有微细凹凸构造的薄膜的制造装置的所述脱模剂供给单元与所述第2表面部相对配置，连续地或间歇地向所述第2表面部供给脱模剂，所述脱模剂干燥单元与所述第2表面部相对配置，且配置在所述脱模剂供给单元的所述辊子状模具旋转方向的下游侧。

本实用新型的表面具有微细凹凸构造的薄膜的制造装置的所述脱模剂回收单元最好被设置成覆盖所述脱模剂供给单元以及所述脱模剂干燥单元。

实用新型的效果

根据本实用新型的表面具有微细凹凸构造的薄膜的制造装置，能够保持辊子状模具表面的脱模性，能够稳定地制造表面具有微细凹凸构造的薄膜。

附图说明

图1是表示本实用新型的表面具有微细凹凸构造的薄膜的制造装置的一例的概略构成图。

图2是表示表面具有阳极氧化铝的辊子状模具的制造工序的剖面图。

图3是表示表面具有微细凹凸构造的薄膜的一例的剖图。

附图符号说明

12...细孔(微细凹凸构造)；20...辊子状模具；40...薄膜；42...薄膜本体；46...突起(微细凹凸构造)；50...脱模剂供给单元；51...脱模剂干燥单元；52...脱模剂回收单元。

具体实施方式

在本说明书中，活性能量射线指的是可见光线、紫外线、电子束、等离子体、热线(红外线等)等。

<表面具有微细凹凸构造的薄膜的制造装置>

本实用新型的表面具有微细凹凸构造的薄膜的制造装置具有：表面具有微细凹凸构造的辊子状模具；脱模剂供给单元，该脱模剂供给单元向辊子状模具表面的移动有薄膜本体的部位以外的部位供给脱模剂；以及使已供给到辊子状模具表面的脱模剂干燥的脱模剂干燥单元。

图1是表示本实用新型的表面具有微细凹凸构造的薄膜的制造装置的一例的概略构成图。该制造装置具有：辊子状模具20，辊子状模具20的表面具有微细凹凸构造(图中省略示出)且该表面用脱模剂事先处理过；罐体22，该罐体22向带状的薄膜本体42与辊子状模具20之间供给活性能量射线固化性树脂组成物，该带状的薄膜本体42与辊子状模具20的旋转同步地沿着辊子状模具20的下半部分的表面(第1表面部)移动的；夹持辊26，在该夹持辊26与辊子状模具20之间夹持薄膜本体42以及活性能量射线固化性树脂组成物；调整夹持辊26的夹持压力的空压气缸24；活性能量射线照射装置28，该活性能量射线照射装置28设置在辊子状模具20的下方，透过薄膜本体42向活性能量射线固化性树脂组成物照射活性能量射线；剥离辊30，该剥离辊30将表面形成有固化树脂层44的薄膜本体42从辊子状模具20剥离；脱模剂供给单元50，该脱模剂供给单元50与辊子状模具20的上半部分的表面(第2表面部)对向配置，向辊子状模具20的表面供给脱模剂；脱模剂干燥单元51，该脱模剂干燥单元51位于脱模剂供给单元50的辊子状模具20旋转方向的下游侧且与辊子状模具20的上半部分的表面对向设置，使已供给到辊子状模具20的表面的脱模剂干燥；以及脱模剂回收单元52，该脱模剂回收单元52对从脱模剂供给单元50飞散的脱模剂进行回收。

(脱模剂供给单元)

脱模剂供给单元50被配置的位置为：能够在表面形成有固化树脂层44的薄膜本体42从辊子状模具20剥离之后、下一次向薄膜本体42与辊子状模具20之间供给活性能量射线固化性树脂组成物之前，向辊子状模具20的表面供给脱模剂。

脱模剂供给单元50在图示例中为喷雾器。此外，脱模剂供给单元并不限于喷雾器，也可以为可以通过涂覆、浸渍等公知的供给方法进行供给的供给装置。

(脱模剂干燥单元)

脱模剂干燥单元51被配置的位置为：能够在向辊子状模具20的表面供给脱模剂之后、向薄膜本体42与辊子状模具20之间供给活性能量射线固化性树脂组成物之前，使已供给到辊子状模具20的表面的脱模剂干燥。

作为脱模剂干燥单元51可以列举吹热风的烘干机等。此外，还可以为对辊子状模具20的温度进行调整、通过辊子状模具20的热量使脱模剂干燥的模具调温单元。

(脱模剂回收单元)

脱模剂回收单元52被设置为从上方包覆脱模剂供给单元50以及脱模剂干燥单元51，并具有：向辊子状模具20侧开口的飞散防止罩53；一端与飞散防止罩53连接的吸气管54；以及设置在吸气管54中途的回收脱模剂的收集器(图中省略示出)以及吸气泵(图中省略示出)。

(活性能量射线照射装置)

作为活性能量射线照射装置28可以列举高压水银灯、金属氯化物灯等。

(辊子状模具)

辊子状模具20是一种模具基材表面具有微细凹凸构造且该表面事先用脱模剂处理过的模具。

模具基材的材料可以为金属(包括表面形成有氧化皮膜的金属)、石英、玻璃、树脂、陶瓷等。

模具基材的形状可以为圆筒状、圆柱状、平板状、薄板状等。在模具基材的形状为平板状或者薄板状的情况下，在形成微细凹凸构造前或者形成微细凹凸构造后，加工成圆筒状而做成辊子状模具20。

模具的制造方法例如可以为下述的方法(α)或者方法(β)。从能够大面积化、且制作简便这一点来考虑，尤为优选方法(α)。

(α)是一种在铝基材的表面形成具有多个细孔的阳极氧化铝的方法。

(β)是一种通过光刻法在模具基材的表面形成微细凹凸构造的方法。

方法(α)优选为具有下述工序(a)～(f)的方法。

(a)在电解液中、以恒定电压对铝基材进行阳极氧化、在铝基材表面形成氧化皮膜的工序。

(b)去除氧化皮膜、在铝基材的表面形成阳极氧化的细孔发生点的工序。

(c)在电解液中再次对铝基材进行阳极氧化、形成在细孔发生点具有细孔的氧化皮膜的工序。

(d)扩大细孔孔径的工序。

(e)在工序(d)之后、在电解液中再次进行阳极氧化的工序。

(f)反复进行工序(d)和工序(e)、得到在铝基材的表面形成有带多个细孔的阳极氧化铝的模具的工序。

工序(a)：

如图2所示，对铝基材10进行阳极氧化，形成具有细孔12的氧化皮膜14。

铝基材的形状可以为圆筒状、圆柱状、平板状、薄板状等。

此外，对于铝基材，为了使表面状态平滑化，最好通过机械研磨、抛光、化学研磨、电解研磨处理(蚀刻处理)等进行研磨。此外，对于铝基材，因为会附着有在加工成规定形状时所用的油，所以最好在阳极氧化前先进行脱脂处理。

铝的纯度优选为99％以上，尤为优选为99.5％以上，更为优选为99.8％。若铝的纯度较低，则在进行阳极氧化时，由于杂质的偏析可能会形成使可见光散射那样大小的凹凸构造，或者使通过阳极氧化得到的细孔的规则性下降。

电解液可以为草酸、硫酸、磷酸等。

使用草酸作为电解液的情况：

草酸的浓度优选为0.7M以下。草酸的浓度超过0.7M时，会出现电流值过高，氧化皮膜的表面变粗糙的情况。

化成电压为30V～60V时，可以得到带有平均间隔为100nm的规则性较高的细孔的阳极氧化铝。化成电压比该范围高或者低都存在规则性降低的趋势。

电解液的温度优选为60℃以下，尤为优选为45℃以下。电解液的温度超过60℃时，可能会引发称为“烧伤”的现象而致使细孔受到损坏，或者表面熔化而致使细孔的规则性紊乱。

使用硫酸作为电解液的情况：

硫酸的浓度优选为0.7M以下。硫酸的浓度超过0.7M时，会出现电流值过高，无法维持恒定电压的情况。

化成电压为25V～30V时，可以得到带有平均间隔为63nm的规则性较高的细孔的阳极氧化铝。化成电压比该范围高或者低都存在规则性降低的趋势。

电解液的温度优选为30℃以下，尤为优选为20℃以下。电解液的温度超过30℃时，可能会引发称为“烧伤”的现象而致使细孔损坏，或者表面熔化而致使细孔的规则性紊乱。

阳极氧化条件并不受上述条件限制，为了得到所需的细孔间的平均间隔，可以对所使用的酸、化成电压、温度等进行适当调整。

工序(b)：

如图2所示，通过暂时去除氧化皮膜14、并将其作为阳极氧化的细孔发生点16可以提高细孔的规则性。

去除氧化皮膜的方法可以为使其溶解在不溶解铝而选择性溶解氧化皮膜的溶液中进行去除的方法。这种溶液可以为例如铬酸/磷酸混合液等。

工序(c)：

如图2所示，对去除了氧化皮膜的铝基材10再次进行阳极氧化，形成带圆柱状的细孔12的氧化皮膜14。

阳极氧化在与工序(a)相同的条件下进行即可。阳极氧化的时间越长，能够得到的细孔越深。

工序(d)：

如图2所示，进行使细孔12的孔径扩大的处理(以下称为细孔孔径扩大处理)。细孔孔径扩大处理是一种将氧化皮膜浸渍在将其溶解的溶液中，通过阳极氧化使所得到的细孔孔径扩大的处理。这种溶液可以为例如质量浓度5％左右的磷酸水溶液等。

细孔孔径扩大处理的时间越长，细孔孔径越大。

工序(e)：

如图2所示，再次进行阳极氧化，进而形成从圆柱状的细孔12的底部向下延伸的、直径较小的圆柱状细孔12。

阳极氧化在与工序(a)相同的条件下进行即可。阳极氧化的时间越长，能够得到的细孔越深。

工序(f)：

如图2所示，重复执行工序(d)的细孔孔径扩大工序和工序(e)的阳极氧化，得到模具18，该模具18形成有带细孔12的氧化皮膜14，且铝基材10的表面具有阳极氧化铝(铝的多孔质的氧化皮膜(防蚀铝))，所述细孔12的形状为直径从开口部向深度方向连续减少。最后最好以工序(d)结束。

重复的次数合计为三次以上较好，为五次以上则更加。重复的次数在两次以下时，由于细孔直径非连续性减少，因此，利用具有这种细孔的阳极氧化铝形成的蛾眼构造的反射率降低效果不充分。

当铝基材10的形状为圆筒状或圆柱状时，将模具18原样不变地作为辊子状模具20进行使用。当铝基材10的形状为平板状或者薄板状时，将模具18加工成圆筒状来作为辊子状模具20。

细孔12的形状可以为近似圆锥形、棱锥形、圆柱形等，优选为圆锥形状、棱锥形状之类的、与深度方向垂直的方向上的细孔截面积从最表面向深度方向连续减少的形状。

细孔12间的平均间隔优选为可见光的波长以下，即400nm以下。细孔12间的平均间隔优选为20nm以上。

细孔12间的平均间隔是通过电子显微镜观察、对五组相邻的细孔12间的间隔(从细孔12的中心到相邻的细孔12的中心的距离)进行测量、对这些数值进行平均而求出的数值。

细孔12的深宽比(细孔的深度/细孔间的平均间隔)优选为0.8～5.0，尤为优选为1.2～4.0，更为优选1.5～3.0。

细孔12的深度是利用电子显微镜观察、以30000倍的倍率进行观察时所测得的、细孔12的最底部与位于细孔12间的凸部的最顶部之间距离的数值。

(模具的前处理)

接着，用具有官能团(B)的脱模剂对模具(模具18或者辊子状模具20)的形成有微细凹凸构造侧的表面进行处理，所述官能团(B)能够与存在于该表面的官能团(A)发生反应。

所谓官能团(A)是指可以与后述的脱模剂所具有反应性官能团(B)反应而形成化学结合的基。

官能团(A)可以为氢氧基、氨基、羧基、巯基、环氧基、酯基等，考虑到后述的脱模剂的具有代表性的反应性官能团(B)为可水解的甲硅烷基这一点，官能团(A)最好为氢氧基。

官能团(A)可以为作为模具基材的材料的金属(包括表面形成有氧化皮膜的金属)、石英、玻璃、树脂、陶瓷等原本所具有的官能团，还可以为进行适当处理而导入到模具基材的表面的官能团。官能团(A)的导入方法可以为下述的方法(γ)或者方法(δ)。

(γ)是一种通过对模具的形成有微细凹凸构造侧的表面进行等离子处理、将官能团(A)导入该表面的方法。

(δ)是一种用具有官能团(A)或者其前驱体的化合物(硅烷偶联剂)等对模具的形成有微细凹凸构造侧的表面进行处理、从而将官能团(A)导入该表面的方法。

所谓官能团(B)是指可以与官能团(A)反应而形成化学结合的基或者可以容易地转换成该基的基。

官能团(A)为氢氧基时，官能团(B)可以为可水解的甲硅烷基、硅烷醇基、含有钛原子或铝原子的可水解的基等，从与氢氧基的反应性较好这一点来考虑，优选为可水解的甲硅烷基、或者硅烷醇基。可水解的甲硅烷基是指通过水解而生成硅烷醇基(Si-OH)的基，可以列举Si-OR(R为烷基)、Si-X(X为卤原子)等。

具有官能团(B)的脱模剂可以为具有官能团(B)的硅树脂、具有官能团(B)的氟树脂、具有官能团(B)的氟化合物等，最好为具有可水解的甲硅烷基的氟化合物。作为具有可水解的甲硅烷基的氟化合物的市面销售商品，可列举氟烷基硅烷(Fluoroalkylsilane)、KBM-7803(信越化学工业社制造)、“OPTOOL”系列(大金工业社制造)、NovecEGC-1720(住友3M社制造)等。

采用脱模剂的处理方法可以为下述的方法(ε)或者方法(ζ)，从通过脱模剂可以可靠地处理到辊子状模具20的微细凹凸构造(细孔12)的深处这一点来考虑，方法(ε)较佳。

(ε)是一种将模具浸渍到脱模剂的稀释溶液中的方法。

(ζ)是一种向模具的形成有微细凹凸构造侧的表面供给脱模剂或其稀释溶液的方法。

方法(ε)最好具体具有下述的工序(g)～(l)的方法。

(g)水洗模具的工序。

(h)在工序(g)之后、向模具吹送空气、去除附着在模具表面的水滴的工序。

(i)将表面具有官能团(A)的模具浸渍到稀释溶液中的工序，所述稀释溶液为用含氟溶剂对具有可水解的甲硅烷基的氟化合物进行稀释后的稀释溶液。

(j)从溶液中缓慢地提起所浸渍的模具的工序。

(k)根据需要、在工序(j)的后段对模具加热加湿的工序。

(l)根据需要、使模具干燥的工序。

工序(g)：

因为模具上附着有在形成微细凹凸构造时所用的药剂(细孔孔径扩大处理所用的磷酸水溶液、光刻法所用的剥离液等)、杂质(灰尘等)等，所以通过水洗将其去除。

工序(h)：

因为模具表面一旦附着水滴，就会使工序(i)的稀释溶液劣化，所以向模具吹送空气，肉眼可见的水滴几乎被去除。

工序(i)：

稀释用的含氟溶液可以为氢氟醚(HFE)、全氟己烷(Perfluorohexane)、全氟甲基环己烷(Perfluoromethylcyclohexane)、全氟-1，3-二甲基环己烷、五氟二氯丙烷等。

关于具有可水解的甲硅烷基的氟化合物的浓度，优选为在稀释溶液(质量浓度100％)中质量浓度为0.01～0.5％。

浸渍时间优选为1～30分钟。

浸渍温度优选为0～50℃。

工序(j)：

在将浸渍的模具从溶液中提起的工序中，最好使用电动提升机等，以固定的速度提起，抑制提升时的摇动。由此，可以减少涂布的不均匀。

提升速度优选为1～10mm/sec。

工序(k)：

在工序(j)的后段，还可以对模具进行加热加湿。通过将模具放置在加热加湿的环境下，使得氟化合物(脱模剂)的可水解的甲硅烷基水解而生成硅烷醇基，该硅烷醇基与模具表面的官能团(A)(氢氧基等)充分地进行反应，提高氟化合物的附着性。加湿方法可以为使用饱和盐水溶液的饱和盐法、对水进行加热而加湿的方法、将加热后的水蒸气直接吹向模具的方法等。该工序可以在恒温恒湿器中进行。

加热温度优选为30～150℃。

加湿条件优选为相对湿度60％以上。

放置时间优选为10分钟～7天。

工序(l)：

根据需要，既可以使模具风干，也可以使用干燥机等进行强制加热干燥。

干燥温度优选为50～150℃。

干燥时间优选为5～300分钟。

在不满足该条件的情况下，可能会出现脱模剂未充分附着、脱模性下降的情况。

关于用脱模剂处理模具的表面，可以通过对模具表面的水接触角的测量来进行确认。用脱模剂处理的模具的表面的水接触角优选为60°以上，尤为优选为90°以上。水接触角在60°以上时，模具表面被脱模剂充分处理，脱模性良好。

<表面具有微细凹凸构造的薄膜的制造方法>

本实用新型的表面具有微细凹凸构造的薄膜的制造方法如下：将辊子状模具表面的微细凹凸构造转印到薄膜本体的表面，在该薄膜本体从辊子状模具剥离之后，通过脱模剂供给单元向辊子状模具的表面连续地或间歇地供给脱模剂，接着通过脱模剂干燥单元使已供给到辊子状模具的表面的脱模剂干燥。

对本实用新型的表面具有微细凹凸构造的薄膜的制造方法的具体例子进行说明，该方法使用图1所示的制造装置。

从罐体22向辊子状模具20与带状的薄膜本体42之间供给活性能量射线固化性树脂组成物，所述辊子状模具20表面具有微细凹凸构造(图中省略示出)且该表面预先用脱模剂处理过，所述带状的薄膜本体42与辊子状模具20的旋转同步地沿着辊子状模具20的下半部分的表面移动。

在辊子状模具20与通过空压气缸24调整夹持压力的夹持辊26之间，夹持薄膜本体42以及活性能量射线固化性树脂组成物，使活性能量射线固化性树脂组成物均匀地遍布到薄膜本体42与辊子状模具20之间，同时填充到辊子状模具20的微细凹凸构造的凹部内。

通过从设置于辊子状模具20下方的活性能量射线照射装置28透过薄膜本体42而向活性能量射线固化性树脂组成物照射活性能量射线，使活性能量射线固化性树脂组成物固化，从而形成转印有辊子状模具20表面的微细凹凸构造的固化树脂层44。

通过利用剥离辊子30，从辊子状模具20剥离表面形成有固化树脂层44的薄膜本体42，可以得到如图3所示的薄膜40。

接着，在薄膜40从辊子状模具20剥离之后、下一次向薄膜本体42与辊子状模具20之间供给活性能量射线固化性树脂组成物之前，通过脱模剂供给单元50向辊子状模具20的表面供给脱模剂。向辊子状模具20的表面供给的脱模剂可以是与前处理中所用的脱模剂相同的脱模剂，也可以是不同的脱模剂。

接着，在向辊子状模具20的表面供给脱模剂之后、向薄膜本体42与辊子状模具20之间供给活性能量射线固化性树脂组成物之前，通过脱模剂干燥单元51使已供给到辊子状模具20表面的脱模剂干燥。

同时，通过脱模剂回收单元52回收从脱模剂供给单元50飞散到空气中的脱模剂，进行再利用。

从活性能量射线照射装置28射出的光照射能量优选为100～10000mJ/cm²。

薄膜本体42是一种光透过性膜。薄膜的材料可以为丙烯酸类树脂、聚碳酸酯、苯乙烯类树脂、聚酯、纤维素类树脂(三乙酰纤维素等)、聚烯烃、脂环族聚烯烃等。

脱模剂只要是与前处理中所用的脱模剂具有亲和性的脱模剂即可，优选与模具的前处理中所用的脱模剂相同的脱模剂。

通过脱模剂回收单元52回收的脱模剂可以原样不变地进行再利用，不过，优选进行提纯而去除杂质后进行再利用。

(表面具有微细凹凸构造的薄膜)

图3是表示用本实用新型的制造方法得到的、表面具有微细凹凸构造的薄膜40的一例的剖面图。

固化树脂层44是一种由后述的活性能量射线固化性树脂组成物的固化物构成的膜，表面具有微细凹凸构造。

在使用阳极氧化铝的模具的情况下，薄膜40的表面的微细凹凸构造是通过转印阳极氧化铝表面的细孔12而形成的，其具有由活性能量射线固化性树脂组成物的固化物构成的多个突起46。

近似圆锥形、棱锥形等的多个突起46以可见光波长以下的平均间隔排列，所谓蛾眼构造是一种通过折射率从空气的折射率向材料的折射率连续地增大而有效地防止反射的单元，上述情况已为公众熟知。

突起46间的平均间隔优选为可见光的波长以下、即400nm以下。因为在使用阳极氧化铝的模具形成突起46的情况下，突起46间的平均间隔为100nm左右，所以突起46间的平均间隔尤为优选在200nm以下，更为优选在150nm以下。

关于突起46间的平均间隔，从突起46的形成的容易程度来考虑，优选为20nm以上。

突起46的平均间隔为通过电子显微镜观察、对五组相邻的突起46间的间隔(从突起46的中心到相邻的突起46的中心的距离)进行测量、对这些数值进行平均而求出的数值。

突起46的深宽比(突起46的深度/突起46间的平均间隔)优选为0.8～5.0，尤为优选为1.2～4.0，更为优选1.5～3.0。突起46的深宽比在1.0以上时，反射率变得十分低，且反射率的波长依赖性减少。突起46的深宽比在5.0以下时，突起46的耐磨性良好。

突起46的高度是利用电子显微镜、以30000倍的倍率进行观察时所测得的、细突起46的最顶部与位于突起46间的凹部的最底部之间距离的数值。

突起46的形状优选为与高度方向垂直的方向上的突起46的截面积从最顶部向深度方向连续增加的形状、即突起46的高度方向的截面形状优选为三角形、梯形、钟型。

(其他实施方式)

此外，表面具有多个突起的薄膜不限于图示例的薄膜40。例如，多个突起可以不设置固化树脂层，而通过热压印法直接形成到薄膜本体的表面上。不过，从使用辊子状模具20可以高效地形成多个突起这一点来考虑，优选使用光压印法形成。

(作用效果)

关于如上所述的本实用新型的表面具有微细凹凸构造的薄膜的制造装置，因为其将辊子状模具表面的微细凹凸构造转印到薄膜本体的表面，在该薄膜本体从辊子状模具上剥离之后，通过脱模剂供给单元向辊子状模具的表面连续地或间歇地供给脱模剂，所以始终处于辊子状模具的表面具有脱模剂的状态。此外，因为通过脱模剂干燥单元使已供给到辊子状模具的表面的脱模剂干燥，所以可以使已供给到辊子状模具表面的脱模剂可靠地附着。其结果是，可以保持辊子状模具表面的脱模性，使辊子状模具的表面不会出现树脂残留，不需要设置专利文献2所述的利用黏附剂的附着树脂去除单元。此外，因为无需中断生产、定期维护辊子状模具，所以能够稳定地生产表面具有微细凹凸构造的薄膜。

此外，因为能够回收飞散的脱模剂，所以通过对所回收的脱模剂进行再利用，可以降低成本，另外，可以抑制向薄膜表面飞散的脱模剂的附着，可以抑制对薄膜性能(防反射性能等)的不良影响。

产业上的可利用性

通过本实用新型的制造装置得到的、表面具有微细凹凸构造的薄膜可以用作防反射膜。

Claims (4)

1.一种表面具有微细凹凸构造的薄膜的制造装置，其将辊子状模具表面的微细凹凸构造转印到与辊子状模具的旋转同步移动的带状薄膜本体的表面，

该表面具有微细凹凸构造的薄膜的制造装置的特征在于，具有：

表面具有微细凹凸构造的辊子状模具，该辊子状模具的表面沿圆周方向分为第1表面部和第2表面部；

向所述第2表面部供给脱模剂的脱模剂供给单元；以及

使已供给到所述第2表面部的脱模剂干燥的脱模剂干燥单元，

所述薄膜本体沿所述第1表面部与所述辊子状模具的旋转同步地移动，将所述微细凹凸构造形成在所述薄膜本体的表面，

所述薄膜本体不沿所述第2表面部移动。

2.根据权利要求1所述的表面具有微细凹凸构造的薄膜的制造装置，其特征在于，还具有脱模剂回收单元，该脱模剂回收单元对从所述脱模剂供给单元飞散的脱模剂进行回收。

3.根据权利要求1所述的表面具有微细凹凸构造的薄膜的制造装置，其特征在于，所述脱模剂供给单元与所述第2表面部相对配置，连续地或间歇地向所述第2表面部供给脱模剂，

所述脱模剂干燥单元与所述第2表面部相对配置，且配置在所述脱模剂供给单元的所述辊子状模具旋转方向的下游侧。

4.根据权利要求2所述的表面具有微细凹凸构造的薄膜的制造装置，其特征在于，所述脱模剂回收单元被设置成覆盖所述脱模剂供给单元以及所述脱模剂干燥单元。

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