CN202107763U

CN202107763U - 吹扫装置和具有它的等离子体增强化学气相沉积设备

Info

Publication number: CN202107763U
Application number: CN2011201732916U
Authority: CN
Inventors: 刘红义
Original assignee: Beijing North Microelectronics Co Ltd
Priority date: 2011-05-26
Filing date: 2011-05-26
Publication date: 2012-01-11
Anticipated expiration: 2021-05-26

Abstract

本实用新型提出一种用于等离子体增强化学气相沉积设备的吹扫装置，包括：内管，所述内管的第一端敞开且所述内管的第二端封闭，所述内管的管壁上设有通孔；和外管，所述外管套设在所述内管外面以在所述外管与所述内管之间限定出环形空间，所述环形空间通过所述通孔与所述内管的内腔连通，所述环形空间的第一端和第二端封闭，所述外管的管壁上设有将所述环形空间与外界连通的分配孔。本实用新型还提出一种等离子体增强化学气相沉积设备。根据本实用新型的吹扫装置，结构简单，使用方便，具有该吹扫装置的等离子体增强化学气相沉积设备能够快速清理载板上的颗粒，从而改善了加工件的外观，提高设备使用率。

Description

吹扫装置和具有它的等离子体增强化学气相沉积设备

技术领域

本实用新型涉及一种吹扫装置和具有该清扫装置的等离子体增强化学气相沉积设备。

背景技术

随着等离子体(Plasma)技术的不断发展，等离子体装置已经被广泛地应用于制造集成电路(IC)或光伏(PV)产品的制造工艺中。而光伏产品制造过程中用到的平板式PECVD设备根据成膜方式的不同主要分为直接法和间接法两种，这两种设备都是通过平板式载板承放基片。直接法的载板接地，上电极接中频或者射频，在上电极和载板之间形成等离子体；间接法的载板不接地，只起到传输作用，电极板接高频或者微波，离子放电空间中就结合成减反膜并由扩散作用沉积在硅片表面上。

直接法成膜致密，可以实现表面钝化和体钝化，有利于提高少子寿命，所以短路电流一般比较高。但直接法为了载板接地，都是采用向上镀膜的方式，成膜表面朝上，在工艺过程中产生的颗粒，或长时间运行后上电极剥落的颗粒会掉落到成膜表面上，影响基片的外观和质量。

现有技术的缺点是，操作人员手持通有压缩空气的管子对没有基片的空载板进行吹扫，(此时没有基片的空载板位置不是固定的，有时在卸载台，有时在装载台)直至把载板上的颗粒吹干净为止，因此既浪费人力，又浪费时间。另外，吹扫方式也是不规则的左右吹扫，导致不能把颗粒完全吹落。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决上述技术问题之一。为此，本实用新型的一个目的在于提出一种吹扫装置，该吹扫装置的结构简单、使用方便、清扫载板颗粒效果好、提高了基片的外观。

本实用新型的另一目的在于提出一种具有上述吹扫装置的等离子体增强化学气相沉积设备。

为实现上述目的，本实用新型第一方面提出的用于等离子体增强化学气相沉积设备的吹扫装置，包括：内管，所述内管的第一端敞开且所述内管的第二端封闭，所述内管的管壁上设有通孔；和外管，所述外管套设在所述内管外面以在所述外管与所述内管之间限定出环形空间，所述环形空间通过所述通孔与所述内管的内腔连通，所述环形空间的第一端和第二端封闭，所述外管的管壁上设有将所述环形空间与外界连通的分配孔。

根据本实用新型的用于等离子体增强化学气相沉积设备的吹扫装置，气体从内管的一端通入内管的内腔，内腔中的气体通过所述通孔进入所述环形空间，然后在环形空间中经过缓冲后的气体通过外管上的分配孔向外界吹送。环形空间缓冲气流压力，并起到均匀分配压缩空气的作用，因此，保证从分配孔吹向外界的气流更加平稳，提高吹扫效果。

另外，根据本实用新型的吹扫装置还可以具有如下附加的技术特征：

所述通孔为多个，所述多个通孔沿所述内管的轴向间隔分布。

所述通孔的开口方向与所述分配孔的开口方向之间的夹角α在90°＜α＜270°的范围内。

所述夹角α为180°。

所述内管与所述外管同轴。

所述分配孔为沿所述外管的轴向延伸的狭槽。

所述狭槽为矩形。

所述吹扫装置还包括第一密封件和第二密封件，所述第一密封件连接在所述内管和所述外管的第一端以密封所述环形空间的第一端，所述第二密封件连接在所述内管和所述外管的第二端以密封所述内管的第二端和所述环形空间的第二端。

所述第一和第二密封件与所述内管和所述外管分别螺纹连接。

本实用新型第二方面提出的等离子体增强化学气相沉积设备，包括：依次设置的装载台，预热腔、工艺腔、冷却腔和卸载台；返回装置，所述返回装置设置在所述卸载台与所述装载台之间以将所述卸载台上的载板输送到所述装载台上；吹扫装置，所述吹扫装置为根据本实用新型第一方面所述的吹扫装置，所述吹扫装置设在所述返回装置的支架上且位于所述返回装置上方用于吹扫所述返回装置上的所述载板；和气源，所述气源与所述吹扫装置的所述内管的第一端相连。

根据本实用新型的等离子体增强化学气相沉积设备，通过吹扫装置向载板吹送气体以清理载板表面的颗粒，保证载板所运载的基片外观不受颗粒影响，提高基片质量。另外，吹扫装置设置在载板从卸载台返回装载台的过程中，保证设备正常运行，提高设备使用率。

另外，根据本实用新型的等离子体增强化学气相沉积设备还可以具有如下附加的技术特征：

所述吹扫装置邻近所述装载台。

所述吹扫装置可旋转地设置在所述返回装置的支架上。

所述吹扫装置的所述外管上的分配孔的开口方向与所述返回装置的上表面之间的夹角β为锐角。

根据本实用新型的等离子体增强化学气相沉积设备还包括设置在所述气源与所述内管之间的电磁阀。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1A为本实用新型实施例的吹扫装置的纵截面示意图；

图1B为图1A所示吹扫装置的横截面示意图；

图2为本实用新型一个实施例的吹扫装置与载板的位置关系示意图；以及

图3为本实用新型实施例的等离子体增强化学气相沉积设备的流程图。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

以下结合附图1A-1B首先描述根据本实用新型实施例的吹扫装置。

如图1A所示，为本实用新型实施例的吹扫装置的纵截面示意图，图1B为本实用新型实施例的吹扫装置的横截面示意图。根据本实用新型实施例的吹扫装置100包括内管110和外管120。

其中，内管110的第一端(图1A中的左端)敞开且内管的第二端(图1A中的右端)封闭，内管110的管壁上设有通孔111。在本实用新型的一个示例中，如图1A所示，通孔111个数为4个，且4个通孔沿内管110的轴向((图1A中的左右方向)间隔分布。优选地，通过111可以为等间隔分布。当然，通孔111的个数并不限于4个，并且通孔111可以分别在内管110的整个长度上。此外，通孔111可以排列成直线，也可以螺旋分布。

外管120套设在内管110外面以在外管120与内管110之间限定出环形空间130。图1A中示出的内管110和外管120为圆管，然而，本实用新型并不限于此，例如也可以为扁管。优选地，内管110与外管120可以同轴，从而环形空间130与内管110和外管120同轴，进而气体在环形空间130内流动顺畅且更加均匀。

环形空间130通过通孔111与内管110的内腔112连通，环形空间130的第一端和第二端封闭，外管120的管壁上设有将环形空间130与外界连通的分配孔121。在本实用新型的一些实施例中，分配孔121例如为沿外管120的轴向延伸的狭槽，狭槽的长度应大于所清理的载板210的宽度，从而能够吹扫整个载板210。优选地，狭槽形状为矩形，由此，可以增加吹扫效果，并且便于加工。当然，本实用新型并不限于此，例如分配孔120可以为多个间隔分布的通孔。

根据本实用新型实施例的吹扫装置100，气体从内管110的第一端通入内腔112中，内腔112中的气体通过通孔111进入环形空间130，气体在环形空间130中缓冲后通过外管120上的分配孔121向外界吹送。环形空间130起到缓冲气流压力，均匀分配气体的作用，因此，保证从分配孔121吹向外界的气流更加平稳，由此提高吹扫效果。

如图2所示，在本实用新型的一个实施例中，通孔111的开口方向与分配孔121的开口方向之间的夹角α在90°＜α＜270°的范围内，避免气流经过该通孔111后迅速从分配孔121排出，由此可以保证气体在环形空间130内流经一定的距离，更好的缓冲气体，进一步提高从分配孔121吹向外界的气流的平稳性。优选地，在本实用新型的一些实施例中，通孔111的开口方向与分配孔121的开口方向之间的夹角为180°，如图1B所示的夹角α。使气体从通孔111经过环形空间130到达分配孔121的距离最长。

在本实用新型的一些实施例中，吹扫装置100还可包括第一密封件140和第二密封件150，第一密封件140连接在内管110和外管120的第一端以密封环形空间130的第一端，第二密封件150连接在内管110和外管120的第二端以密封内管110的第二端和环形空间130的第二端。在本实用新型的一个优选实施例中，第一密封件140和第二密封件150与内管110和外管120分别螺纹连接。

可选地，内管110的第一端与外管120的第一端也螺纹连接，内管110的第二端与外管120的第二端也螺纹连接，以便配合第一密封件140和第二密封件150起到封闭作用，提高密封效果，并且拆卸方便。

当然，在本实用新型并不限于此，例如第一密封件140和第二密封件150还可以为密封胶或者密封带。本领域的技术人员可以理解，只要将内管110的第二端以及环形空间130的第一端和第二端密封即可，对于具体的封闭形式没有限制。

以下结合附图3描述根据本实用新型实施例的等离子体增强化学气相沉积设备。

如图3所示，为本实用新型实施例的等离子体增强化学气相沉积设备的示意图。本实用新型实施例的等离子体增强化学气相沉积设备300包括依次设置的装载台310，预热腔320，工艺腔330，冷却腔340和卸载台350、返回装置360、吹扫装置100和气源(图中未示出)。在图3中，上述构成部件沿从左向右的方向依次设置。

其中，返回装置360设置在卸载台350与装载台310之间以将卸载台350上的载板210输送到装载台310上。吹扫装置100可以根据本实用新型上述实施例描述的吹扫装置，吹扫装置100设在返回装置360的支架(未示出)上且位于返回装置360上方，用于吹扫返回装置360上的载板210。

为保证载板210进入装载台310之前表面清洁，在本实用新型的一个优选实施例中，吹扫装置100邻近装载台310设置，从而保证载板210进入装载台310之前表面干净。气源与吹扫装置100的内管110的第一端相连，例如气源与吹扫装置100的内管110的第一端可以通过电磁阀(未示出)相连。电磁阀可以根据控制信号自动的开闭气源，需要清洁载板210时，打开气源，实现吹扫装置100的自动化一体。当然，也可以为其它装置连接气源与内管110，如开关等。

根据本实用新型实施例的等离子体增强化学气相沉积设备300，通过吹扫装置100向载板210吹送气体以清理载板210表面的颗粒，通过电磁阀控制吹扫装置100对载板210自动吹送以清理载板210表面的颗粒，从而保证载板210所运载的基片外观不受颗粒影响，提高基片质量。另外，吹扫装置100设置在载板210从卸载台350返回装载台310的路径上，保证设备正常运行，提高设备使用率。

如图3所示。在本实用新型的一些实施例中，吹扫装置100可旋转地设置在返回装置360的支架上。吹扫装置100旋转可以改变外管120上的分配孔121的开口方向与返回装置360的上表面上载板210之间的夹角β，从而改变吹扫装置100的分配孔121向载板210表面吹送气体的角度β。优选地，夹角β为锐角，从而吹扫效果更好。

根据本实用新型实施例的吹扫装置，结构简单，吹扫效果好，使用该吹扫装置的等离子体增强化学气相沉积设备，载板上的颗粒可以有效地被吹扫掉，提高了基片的外观，并且设备使用率高。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本实用新型的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由权利要求及其等同物限定。

Claims

1.一种吹扫装置，其特征在于，包括：

内管，所述内管的第一端敞开且所述内管的第二端封闭，所述内管的管壁上设有通孔；和

外管，所述外管套设在所述内管外面以在所述外管与所述内管之间限定出环形空间，所述环形空间通过所述通孔与所述内管的内腔连通，所述环形空间的第一端和第二端封闭，所述外管的管壁上设有将所述环形空间与外界连通的分配孔。

2.根据权利要求1所述的吹扫装置，其特征在于，所述通孔为多个，所述多个通孔沿所述内管的轴向间隔分布。

3.根据权利要求1所述的吹扫装置，其特征在于，所述通孔的开口方向与所述分配孔的开口方向之间的夹角α在90°＜α＜270°的范围内。

4.根据权利要求3所述的吹扫装置，其特征在于，所述夹角α为180°。

5.根据权利要求1所述的吹扫装置，其特征在于，所述内管与所述外管同轴。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的吹扫装置，其特征在于，所述分配孔为沿所述外管的轴向延伸的狭槽。

7.根据权利要求6所述的吹扫装置，其特征在于，所述狭槽为矩形。

8.根据权利要求1所述的吹扫装置，其特征在于，还包括第一密封件和第二密封件，所述第一密封件连接在所述内管和所述外管的第一端以密封所述环形空间的第一端，所述第二密封件连接在所述内管和所述外管的第二端以密封所述内管的第二端和所述环形空间的第二端。

9.根据权利要求8所述的吹扫装置，其特征在于，所述第一和第二密封件与所述内管和所述外管分别螺纹连接。

10.一种等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，包括：

依次设置的装载台，预热腔、工艺腔、冷却腔和卸载台；

返回装置，所述返回装置设置在所述卸载台与所述装载台之间以将所述卸载台上的载板输送到所述装载台上；

吹扫装置，所述吹扫装置为根据权利要求1-9中任一项所述的吹扫装置，所述吹扫装置设在所述返回装置的支架上且位于所述返回装置上方用于吹扫所述返回装置上的所述载板；和

气源，所述气源与所述吹扫装置的所述内管的第一端相连。

11.根据权利要求10所述的等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，所述吹扫装置邻近所述装载台。

12.根据权利要求10所述的等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，所述吹扫装置可旋转地设置在所述返回装置的支架上。

13.根据权利要求10所述的等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，所述吹扫装置的所述外管上的分配孔的开口方向与所述返回装置的上表面之间的夹角β为锐角。

14.根据权利要求10所述的等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，还包括设置在所述气源与所述内管之间的电磁阀。