CN202033556U - 液晶显示装置 - Google Patents

液晶显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN202033556U
CN202033556U CN2011201136034U CN201120113603U CN202033556U CN 202033556 U CN202033556 U CN 202033556U CN 2011201136034 U CN2011201136034 U CN 2011201136034U CN 201120113603 U CN201120113603 U CN 201120113603U CN 202033556 U CN202033556 U CN 202033556U
Authority
CN
China
Prior art keywords
sub
zone
liquid crystal
compensating layer
optical compensating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
CN2011201136034U
Other languages
English (en)
Inventor
王凯旋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Original Assignee
Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority to CN2011201136034U priority Critical patent/CN202033556U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN202033556U publication Critical patent/CN202033556U/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

本实用新型公开了一种液晶显示装置,涉及液晶显示技术领域,用以提高亚像素单元的光效均一性。本实用新型实施例中的液晶显示装置,包括液晶显示面板,该液晶显示面板中形成有多个亚像素区域,每个所述亚像素区域中包括中间楔形区域、边缘区域和普通区域;所述液晶显示面板包含一层形成有图案的光学补偿层,该光学补偿层的图案区域与每个亚像素区域中的中间楔形区域相对应;其中,所述图案区域为保留有光学补偿膜的区域。

Description

液晶显示装置
技术领域
本实用新型涉及液晶显示技术领域,尤其涉及一种液晶显示装置。
背景技术
高级超维场开关技术(Advanced-Super Dimensional Switching;简称:AD-SDS)通过同一平面内像素电极边缘所产生的平行电场以及像素电极层与对电极层间产生的纵向电场形成多维空间复合电场,使液晶盒内像素电极间、电极正上方以及液晶盒上方所有取向液晶分子都能够产生旋转转换,从而提高了平面取向系液晶工作效率并增大了透光效率。高级超维场开关技术可以提高TFT-LCD画面品质,具有高透过率、宽视角、高开口率、低色差、低响应时间、无挤压水波纹(push Mura)波纹等优点。
在现有的多维空间复合电场模式液晶显示装置中,在TFT(薄膜晶体管)阵列基板上沉积两层ITO(铟锡氧化物)。下层ITO采用透明设计以提高光透过率;上层ITO作为像素电极采用了梳状结构以形成多维空间复合电场,使得液晶分子在平行于基板的平面方向上发生旋转转换,从而提高液晶层的透光效率。
如图1所示,在多维空间复合电场模式的液晶显示装置的每个亚像素区域中大致包含三个区域:Area 1--普通区域(Normal Area)、Area 2--中间楔形区域(Wedge Area)及Area 3--边缘区域(Fringe Area)。
然而,在每个亚像素的中间楔形区域和边缘区域,由于多维空间复合电场分布不均匀,电场强度比普通区域小,导致液晶旋转不够充分,中间楔形区域和边缘区域的透光效率也比普通区域的透光效率要低,进而导致同一亚像素单元内不同区域的光效不一致。
实用新型内容
本实用新型的实施例提供一种液晶显示装置,用以提高亚像素单元的光效均一性。
为达到上述目的,本实用新型的实施例采用如下技术方案:
一种液晶显示装置,包括多维空间复合电场模式的液晶显示面板,该液晶显示面板中形成有多个亚像素区域,每个所述亚像素区域中包括中间楔形区域、边缘区域和普通区域;所述液晶显示面板包含一层形成有图案的光学补偿层,该光学补偿层的图案区域与每个亚像素区域中的中间楔形区域相对应;
其中,所述图案区域为保留有光学补偿膜的区域。
本实用新型实施例提供的液晶显示装置,在液晶显示面板上设置光学补偿层,且该光学补偿层中设有光学补偿膜的部分与液晶显示装置的亚像素区域的中间楔形区域相对应,用以增大亚像素区域的中间楔形区域的光透过率,缩小亚像素区域中普通区域与中间楔形区域之间的光透过率差异,进而提高亚像素区域的光效均一性。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有多维空间复合电场模式液晶显示装置中的亚像素结构的示意图;
图2为本实用新型实施例中的一种多维空间复合电场模式液晶显示装置中的亚像素结构的示意图;
图3为本实用新型实施例中的另一种多维空间复合电场模式液晶显示装置中的亚像素结构的示意图;
图4为本实用新型实施例一中的液晶显示装置的结构示意图;
图5为本实用新型实施例二中的液晶显示装置的结构示意图;
图6为本实用新型实施例三中的液晶显示装置的结构示意图;
图7为本实用新型实施例四中的液晶显示装置的结构示意图;
附图标记:1-彩膜基板;2-阵列基板;3-光学补偿层;11、21-偏光片;12、22-取向膜。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型实施例提供了一种多维空间复合电场模式液晶显示装置,包括液晶显示面板,该液晶显示面板中形成有多个亚像素区域,每个所述亚像素区域中包括中间楔形区域(Area 2)、边缘区域(Area 3)和普通区域(Area 1);所述液晶显示面板包含一层形成有图案的光学补偿层,如图2所示,该光学补偿层的图案区域与每个亚像素区域中的中间楔形区域相对应;
其中,所述图案区域为保留有光学补偿膜的区域。
本实用新型实施例提供的多维空间复合电场模式液晶显示装置,在液晶显示面板上设置光学补偿层,且该光学补偿层中设有光学补偿膜的部分与液晶显示装置的亚像素区域的中间楔形区域相对应,用以增大亚像素区域的中间楔形区域的光透过率,缩小亚像素区域中普通区域与中间楔形区域之间的光透过率差异,进而提高亚像素区域的光效均一性。
进一步地,本实用新型实施例在上述结构的基础上,还可以对所述光学补偿层做改进得到另一种多维空间复合电场模式液晶显示装置。如图3所示,在改进的多维空间复合电场模式液晶显示装置中,所述光学补偿层的图案区域还与每个亚像素区域中的边缘区域相对应;即所述光学补偿层中的图案区域包含两部分,一部分与亚像素区域中的中间楔形区域(Area 2)相对应,另一部分与亚像素区域中的边缘区域(Area 3)相对应。
在该改进后的多维空间复合电场模式液晶显示装置中,通过设置与亚像素的中间楔形区域和边缘区域相对应的光学补偿层,使得亚像素的中间楔形区域和边缘区域的光透过率增大,缩小亚像素区域中普通区域与中间楔形区域、边缘区域之间的光透过率差异,进一步提高亚像素区域的光效均一性,并防止色偏现象的发生。
上述两种多维空间复合电场模式液晶显示装置中的光学补偿层可以贴附在所述液晶显示面板中的彩膜基板上,也可以贴附在所述液晶显示面板中的阵列基板上。
所述光学补偿层在液晶显示装置中的具体位置可以通过以下实施例来实现。
实施例一:
如图4所示,液晶显示面板包括彩膜基板1和阵列基板2,在彩膜基板1的外侧还设置有偏光片11;光学补偿层3贴附在彩膜基板1的外侧,具体地设置在彩膜基板1和偏光片11之间。
在现有的彩膜工艺完成之后,还需要进行在彩膜基板1的外侧贴附一层增加光效的光学补偿层3的工艺。该光学补偿层3具有与亚像素中的中间楔形区域(Area 2)和边缘区域(Area 3)相对应的图案结构。
实施例二:
如图5所示,液晶显示面板包括彩膜基板1和阵列基板2,在彩膜基板1的内侧形成有取向膜12;光学补偿膜3贴附在彩膜基板1的内侧,具体地设置在彩膜基板1和取向膜12之间。
在现有的彩膜工艺完成之后,还需要进行在彩膜基板1的内侧贴附一层增加光效的光学补偿层3的工艺。具体地,由于光学补偿层3的图案区域均是对应于亚像素区域内,而隔垫物多是设置在亚像素区域以外的黑矩阵区域,因此在制作光学补偿层3时,可以是在形成有彩膜的基板上先设置隔垫物而后贴附光学补偿层3,也可以是先贴附光学补偿层3而后设置隔垫物;在隔垫物和光学补偿层3均制作完成之后,再进行取向膜12的制作过程。
其中,光学补偿层3具有与亚像素中的中间楔形区域(Area 2)和边缘区域(Area 3)相对应的图案结构。
实施例三:
如图6所示,液晶显示面板包括彩膜基板1和阵列基板2,在阵列基板2的外侧还设置有偏光片21;光学补偿层3贴附在阵列基板2的外侧,具体地设置在阵列基板2和偏光片21之间。
在现有的阵列工艺完成之后,还需要进行在阵列基板2的外侧贴附一层增加光效的光学补偿层3的工艺。该光学补偿层3具有与亚像素中的中间楔形区域(Area 2)和边缘区域(Area 3)相对应的图案结构。
实施例四:
如图7所示,液晶显示面板包括彩膜基板1和阵列基板2,在阵列基板2的内侧形成有取向膜22;光学补偿层3贴附在阵列基板2的内侧,具体地设置在阵列基板2和取向膜22之间。
在现有的阵列工艺完成之后,还需要进行在阵列基板2的内侧贴附一层增加光效的光学补偿层3的工艺,该光学补偿层3具有与亚像素中的中间楔形区域(Area 2)和边缘区域(Area 3)相对应的图案结构。在完成了光学补偿膜3的制作之后,再进行取向膜22的制作过程。
在本实用新型实施例中,所述光学补偿层可以采用与棱镜片等增亮膜相同的材质;例如,多元脂(Polyester)或聚碳酸脂(Polycarbonate)等较高折射率、较好透明度及透光率的聚合物。
在上述多维空间复合电场模式液晶显示装置中,增设了一层用以增加光效的光学补偿层,由于该光学补偿膜具有与亚像素中的中间楔形区域(Area 2)和边缘区域(Area 3)相对应的图案结构,也就相当于是为亚像素中的中间楔形区域和边缘区域增设了补偿膜以提高这两个区域的光透过率,进而缩小亚像素区域中普通区域与中间楔形区域、边缘区域之间的光透过率差异,提高亚像素区域的光效均一性,并防止色偏现象的发生。当然,在上述多维空间复合电场模式液晶显示装置中,增设的光学补偿层也可以仅具有与亚像素中的中间楔形区域(Area 2)相对应的图案结构。
以上所述,仅为本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (7)

1.一种液晶显示装置,包括多维空间复合电场模式的液晶显示面板,所述液晶显示面板中形成有多个亚像素区域,每个所述亚像素区域中包括中间楔形区域、边缘区域和普通区域;其特征在于,所述液晶显示面板包含一层形成有图案的光学补偿层,该光学补偿层的图案区域与每个亚像素区域中的中间楔形区域相对应;
其中,所述图案区域为保留有光学补偿膜的区域。
2.根据权利要求1所述的液晶显示装置,其特征在于,所述光学补偿层的图案区域还与每个亚像素区域中的边缘区域相对应。
3.根据权利要求1或2所述的液晶显示装置,其特征在于,所述液晶显示面板包括彩膜基板和阵列基板;所述光学补偿层贴附在所述彩膜基板上或者所述阵列基板上。
4.根据权利要求3所述的液晶显示装置,其特征在于,在所述彩膜基板的外侧设有偏光片;所述光学补偿层设置在所述彩膜基板和所述偏光片之间。
5.根据权利要求3所述的液晶显示装置,其特征在于,在所述彩膜基板的内侧形成有取向膜;所述光学补偿层设置在所述彩膜基板和所述取向膜之间。
6.根据权利要求3所述的液晶显示装置,其特征在于,在所述阵列基板的外侧设有偏光片;所述光学补偿层设置在所述阵列基板和所述偏光片之间。
7.根据权利要求3所述的液晶显示装置,其特征在于,在所述阵列基板的内侧形成有取向膜;所述光学补偿层设置在所述阵列基板和所述取向膜之间。 
CN2011201136034U 2010-12-28 2011-04-15 液晶显示装置 Expired - Lifetime CN202033556U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2011201136034U CN202033556U (zh) 2010-12-28 2011-04-15 液晶显示装置

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201020687200.6 2010-12-28
CN201020687200 2010-12-28
CN2011201136034U CN202033556U (zh) 2010-12-28 2011-04-15 液晶显示装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN202033556U true CN202033556U (zh) 2011-11-09

Family

ID=44895849

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2011201136034U Expired - Lifetime CN202033556U (zh) 2010-12-28 2011-04-15 液晶显示装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN202033556U (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015139448A1 (zh) * 2014-03-21 2015-09-24 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及显示装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015139448A1 (zh) * 2014-03-21 2015-09-24 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及显示装置
US9459496B2 (en) 2014-03-21 2016-10-04 Boe Technology Group Co., Ltd. Display panel and display device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10088720B2 (en) TFT array substrate and display device with tilt angle between strip-like pixel electrodes and direction of initial alignment of liquid crystals
US11378847B2 (en) Array substrate, display panel, and display device
CN202472183U (zh) 一种透明液晶显示面板及透明液晶显示器
CN103033978B (zh) 彩膜基板及其制作方法、显示装置
CN103323999A (zh) 显示面板及其制作方法与显示装置
WO2016078236A1 (zh) Uv2a像素结构
CN103217832A (zh) 彩色滤光片、彩色滤光片制作方法和显示装置
CN102629045B (zh) 一种阵列基板及液晶显示器
CN102629047B (zh) 像素单元、阵列基板、液晶面板及显示设备
CN104007590A (zh) Tft阵列基板结构
CN103472648A (zh) 一种电致变色器件及其制作方法和显示装置
CN103838044B (zh) 基板及其制造方法、显示装置
KR20110001600A (ko) 표시기판, 이의 제조 방법 및 이를 갖는 액정표시장치
CN201984265U (zh) 阵列基板和液晶显示器
CN109143690A (zh) 液晶显示面板及其制作方法
CN103869526A (zh) 显示基板及其制作方法、显示面板和显示装置
CN102629025A (zh) 彩膜基板及其制造方法和液晶显示面板
CN108983516A (zh) Tft阵列基板
CN102789093A (zh) 一种液晶显示器
CN102866543A (zh) 像素单元、阵列基板以及液晶显示装置
CN108363251A (zh) 一种阵列基板、液晶显示面板以及显示装置
TWI291764B (en) Liquid crystal display device and manufacturing process thereof
CN203232230U (zh) 一种阵列基板及显示装置
CN103235444A (zh) 一种显示装置、彩膜基板及其制作方法
CN103091898A (zh) 液晶显示屏及其制备方法、显示装置

Legal Events

Date Code Title Description
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: BEIJING BOE PHOTOELECTRICITY SCIENCE + TECHNOLOGY

Effective date: 20150703

Owner name: JINGDONGFANG SCIENCE AND TECHNOLOGY GROUP CO., LTD

Free format text: FORMER OWNER: BEIJING BOE PHOTOELECTRICITY SCIENCE + TECHNOLOGY CO., LTD.

Effective date: 20150703

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20150703

Address after: 100015 Jiuxianqiao Road, Beijing, No. 10, No.

Patentee after: BOE Technology Group Co., Ltd.

Patentee after: Beijing BOE Photoelectricity Science & Technology Co., Ltd.

Address before: 100176 Beijing economic and Technological Development Zone, West Central Road, No. 8

Patentee before: Beijing BOE Photoelectricity Science & Technology Co., Ltd.

CX01 Expiry of patent term
CX01 Expiry of patent term

Granted publication date: 20111109