CN202021541U - 抛光装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种抛光装置。其包括研磨盘,游星轮,研磨盘上设置至少两个固定套筒,每个套筒内放置一个抛光产品,套筒的尺寸与产品的尺寸相适配;产品上部设置压板。采用此种抛光装置进行研磨,每个产品的运动不受其它产品运动的影响,产品在游星轮里能够自由运动,而且对产品高度的一致性也没有要求。整个运动系统平稳、自由,研磨盘的表面几何形状易传递给产品,大大提高研磨产品表面质量和研磨一次合格率。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种研磨产品的抛光装置,尤其是一种机械球面密封件的抛光装置。
背景技术
现有的产品的抛光方式为一组研磨产品放置在研磨盘上,共用一个压板,在游星轮内旋转研磨。如世界著名的研磨机生产厂家瑞士Stähli公司编制的《The Technique of Lapping》一书以及其生产的研磨机都是采取此种研磨方式。
但此种研磨方式不但影响了产品在游星轮里的自由运动, 而且对产品高度的一致性有很高的要求。特别是采用此种研磨方式研磨球面密封件时,很难形成圆环形光带,而且研磨面易产生划痕,一次合格率极低。
发明内容
本实用新型的目的在于:针对上述存在的问题,提供一种研磨质量好,一次合格率高的抛光装置。
本实用新型采用的技术方案包括研磨盘,游星轮,研磨盘上还设置至少两个固定套筒,每个套筒内放置一个抛光产品,如密封环,特别是硬质合金密封环。套筒的尺寸与产品的尺寸相适配;产品上部设置压板。采用此种抛光装置进行产品研磨,游星轮带动产品做行星运动,同时产品在套筒里做自转运动。每个研磨产品之间均为独立旋转运动,产品在游星轮里运动时不受其它产品运动的影响,能够自由运动。而且这种抛光装置对产品高度的一致性也没有要求。整个运动系统平稳、自由,研磨盘的表面几何形状易传递给产品,大大提高研磨产品表面质量和研磨一次合格率。
更进一步的改进是,所述研磨盘为球形弧面研磨盘。由于本实用新型装置的研磨盘的表面几何形状易传递给产品,通过改变研磨盘的研磨表面,即可在抛光产品的研磨面上研磨出相对应的形状。研磨盘设置为球形弧面研磨盘,即可在抛光产品的研磨面上研磨出内凹的球形弧面。
更进一步的改进是,所述压板上设置压块。由于抛光产品存在尺寸差异,研磨量的差异,通过在压板上添加重量不等的压块,可以实现抛光装置的通用性。
附图说明
本实用新型将通过实施例并参照附图的方式进行说明,其中:
图1是本实用新型实施例的结构示意图。
图2是图1的A-A剖视图。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
如图1、2所示的抛光装置,其包括研磨盘6,游星轮5,研磨盘上放置有3个固定套筒1(根据研磨产品的数量和研磨盘的大小,套筒的数量可以根据需要设置多个),每个套筒内放置一个硬质合金密封环2,密封环为外径35mm,内径为23mm,高度为6.5mm,套筒的尺寸与密封环的尺寸相适配。为了在密封环的研磨面上研磨出凹球面,研磨盘设计为与密封环的内凹球面半径相适配的半径为R的球形弧面。密封环上部设置压板3。根据研磨需要,压板上还可以设置压块4,通过调整压块的重量来调节对密封环的研磨压力,实现较为理想的抛光效果。
采用传统的压板研磨产品,平面度的一次合格率仅为30%左右,采用改进后的抛光装置研磨产品,平面度一次合格率能达到95%,大大提高了一次合格率。实现了球面密封件批量化生产。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种抛光装置,包括研磨盘,游星轮,其特征在于:研磨盘上还设置至少两个固定套筒,每个套筒内放置一个抛光产品,套筒的尺寸与产品的尺寸相适配;产品上部设置压板。
2.如权利要求1所述的抛光装置,其特征在于:所述抛光产品为密封环。
3.如权利要求2所述的抛光装置,其特征在于:所述密封环为硬质合金密封环。
4.如权利要求1-3任一项所述的抛光装置,其特征在于:所述研磨盘为球形弧面研磨盘。
5.如权利要求1所述的抛光装置,其特征在于:所述压板上设置压块。
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2011
- 2011-02-01 CN CN2011200343501U patent/CN202021541U/zh not_active Expired - Lifetime
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GR01 | Patent grant | ||
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CX01 | Expiry of patent term |
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