CN202013722U - 一种电性测试装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及显示器阵列基板测试领域,公开了一种电性测试装置,其包括:包括设置在设备平台上方的支架机构,以及安装在所述支架机构上且沿所述支架机构横向和纵向可移动的若干个调制器,所述设备平台上放置被测阵列基板;所述支架机构上还设置有至少一个光学扫描镜头,其沿所述支架机构横向和纵向可移动。本实用新型在大气环境下对阵列基板进行电性测试,装置维护和保养方便;在使用调制器进行电性测试之前,使用光学扫描镜头进行光学检查,可检测阵列基板上是否有大颗粒异物,提高了对阵列基板缺陷的检出率,同时可避免电性测试时大颗粒异物对调制器的损伤,降低了阵列基板生产成本。
Description
技术领域
本实用新型涉及显示器阵列基板测试领域,特别是涉及一种电性测试装置。
背景技术
在液晶面板制造过程中,阵列基板电性测试是一个重要的步骤,可以及时反应阵列基板制程状况,并且能提供给激光修补设备修补所需的缺陷情况,从而提升产品良率。
目前业界较常用的电性测试设备从原理上分主要有两种,一种是利用调制器模拟液晶盒的方式测试,另一种是电子束测试设备。
调制器测试设备的结构示意图如图1所示,阵列基板1.4放置在设备平台1.5上,设备平台1.5位于纵向支架1.3下方,纵向支架1.3上设置了可沿纵向支架1.3滑动的横向支架1.2,调制器1.1可滑动地安装在横向支架1.2上。在对阵列基板1.4进行电性测试时,横向支架1.2带动调制器1.1沿纵向支架1.3进行图中所示Y方向的移动,当调制器1.1运动至阵列基板1.4上方时,调制器1.1与阵列基板1.4上薄膜场效应晶体管(Thin Film Transistor,TFT)的像素电极及液晶分子组成一个液晶盒的结构。当给阵列基板1.4施加电压的时候,液晶分子会在上下电极形成的电场中偏转,从而反射光经由液晶分子后反射到采集摄像头的光线强度也会发生变化,在该过程中正常像素和异常像素所形成的电场强弱不同造成液晶分子偏转角度不同,最终造成反射到采集摄像头的光线强度不同,由此可以区分正常像素和异常像素,完成阵列基板1.4的电性测试。
电子束测试设备的结构示意图如图2所示,其原理是通过电子束激发阵列基板并接收反馈回来的2次电子的方式进行电性测试。电子束测试设备为真空测试环境,电子束测试头2.4固定在测试腔2.5上,阵列基板在测试腔内移动完成测试,阵列基板经进出门2.1进出缓冲区2.2,然后经开关门2.3进出测试腔。阵列基板进入测试腔2.5之后,电子束测试头2.4发射出电子束,经由偏转放大器控制偏转线圈从而控制电子束打到阵列基板的强度及位置。当电子束打到阵列基板的像素电极后,会产生一些二次电子,然后由二次电子接收器接收后再进行分析。因为正常像素和异常像素本身所带的电子状况不同,所以产生的二次电子也会不同,从而可以区分出阵列基板的良品与不良品。
但是以上两种测试设备都有较为明显的缺陷,调制器测试设备中调制器与阵列基板间隙较小,很容易损坏调制器,使得成本偏高;电子束测试设备为真空环境测试,真空设备维护及保养非常不便。
实用新型内容
(一)要解决的技术问题
本实用新型要解决的技术问题是如何提高电性测试装置对阵列基板的缺陷检出率,避免对电性测试装置或阵列基板的损坏,降低阵列基板生产的成本。
(二)技术方案
为了解决上述技术问题,本实用新型提供一种电性测试装置,包括设置在设备平台上方的支架机构,以及安装在所述支架机构上且沿所述支架机构横向和纵向可移动的若干个调制器,所述设备平台上放置被测阵列基板;所述支架机构上还设置有至少一个光学扫描镜头,其沿所述支架机构横向和纵向可移动。
其中,所述支架机构包括并列设置在所述阵列基板两侧的纵向支架,以及设置在所述纵向支架两端且沿纵向支架可滑动的横向支架。
其中,所述横向支架包括安装所述若干个调制器的第一横向支架和安装所述若干个光学扫描镜头的第二横向支架。
其中,所述支架机构上还设置有LED光源,对被测阵列基板测试区域打光。
其中,所述若干个调制器横向可移动地设置在所述第一横向支架上。
其中,所述若干个光学扫描镜头横向可移动地设置在所述第二横向支架上。
其中,所述第一横向支架和第二横向支架水平高度相等。
其中,所述LED光源设置在所述第二横向支架上,所述若干个光学扫描镜头位于所述LED光源发出的光线经阵列基板反射后的反射光线方向上。
(三)有益效果
上述技术方案所提供的电性测试装置,在大气环境下对阵列基板进行电性测试,装置维护和保养方便;在使用调制器进行电性测试之前,使用光学扫描镜头进行光学检查,可检测阵列基板上是否有大颗粒异物,提高了对阵列基板缺陷的检出率,同时可避免电性测试时大颗粒异物对调制器的损伤,降低了阵列基板生产成本。
附图说明
图1是现有技术中调制器测试设备的结构示意图;
图2是现有技术中电子束测试设备的结构示意图;
图3是本实用新型实施例的电性测试装置的结构示意图。
其中,1.1:调制器;1.2:横向支架;1.3:纵向支架;1.4:阵列基板;1.5:设备平台;2.1:进出门;2.2:缓冲区;2.3:开关门;2.4:电子束测试头;2.5:测试腔;3.1:调制器;3.2:光学扫描镜头;3.3:第二横向支架;3.4:LED光源;3.5:第一横向支架;3.6:纵向支架;3.7:阵列基板;3.8:设备平台。
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型,但不用来限制本实用新型的范围。
图3示出了本实用新型实施例的电性测试装置的结构示意图。如图所示,被测试的阵列基板3.7放置在设备平台3.8上,电性测试装置设置在设备平台3.8上方。电性测试装置包括支架机构以及设置在支架机构上的光学检查模块和电性测试模块,支架机构为环绕被测试阵列基板3.7的框架结构,光学检测模块和电性测试模块可以分别设置在框架结构的任意两条边框上,只要能够保证光学检测模块和电性测试模块在框架机构上可纵向和横向移动即可。为了简化电性测试装置的结构,本实施例优选的支架机构具体包括并列设置在阵列基板3.7两侧的纵向支架3.6,纵向支架3.6的两端分别设置第一横向支架3.5和第二横向支架3.3,第一横向支架3.5和第二横向支架3.3均垂直于纵向支架3.6设置且能够沿纵向支架3.6进行图示的Y方向的滑动,即纵向支架3.6作为导轨,使第一横向支架3.5和第二横向支架3.3沿该导轨滑动。因为第一横向支架3.5和第二横向支架3.3不同时沿纵向支架3.6滑动,所以可将第一横向支架3.5和第二横向支架3.3设置为相同的水平高度,当其中一个横向支架滑动时,将另一个横向支架保持在纵向支架3.6的端部即可,该种设置方式可以使支架机构的结构更简单。
在第二横向支架3.3上,设置有若干个光学扫描镜头3.2,光学扫描镜头3.2可移动地设置在第二横向支架3.3上,即第二横向支架3.3作为导轨,使光学扫描镜头3.2沿该导轨可进行图示的X方向的移动。第二横向支架3.3上还设置有LED光源3.4,LED光源3.4的作用是发出光线,照射在被测阵列基板3.7上,反射光线由光学扫描镜头3.2获取,由此对被被测阵列基板3.7进行缺陷分析,所以,光学扫描镜头3.2必须设置在LED光源3.4发出的光线经被被测阵列基板3.7反射后的反射光线方向上。LED光源3.4的上述设置方式,实现了光源随着扫描镜头的移动而移动,从而确保光学扫描镜头3.2对所扫描区域不漏扫,但是并不局限于上述设置方式,例如,LED光源3.4也可以设置在支架机构的其它支架上,只要实现光学扫描镜头3.2对被测阵列基板3.7全方位扫描即可。
在第一横向支架3.5上,设置有若干个调制器3.1,调制器3.1可移动地设置在第一横向支架3.5上,即第一横向支架3.5作为导轨,使调制器3.1沿该导轨可进行图示的X方向的移动。
使用上述带光学检查功能的电性测试装置对阵列基板3.7进行电性测试时,控制第二横向支架3.3沿纵向支架3.6进行Y方向滑动,以及控制光学扫描镜头3.2沿第二横向支架3.3进行X方向的移动,利用LED光源3.4和光学扫描镜头3.2对阵列基板3.7进行全方位的纵向和横向扫描,对阵列基板生产过程中,因不良产生的异物、金属残留和半导体残留等进行检查。光学扫描镜头3.2将扫描数据传递给外接数据处理系统,判断阵列基板3.7上是否有异物存在以及是否继续测试阵列基板3.7,从而避免大颗粒异物存在时对后续电性测试的调制器的损害。
光学扫描检查完成后,由第一横向支架3.5沿纵向支架3.6进行Y方向滑动,以及调制器3.1沿第一横向支架3.5进行X方向的移动,实现调制器3.1对阵列基板3.7全方位的纵向和横向测试,对阵列基板上线路不良、开路等情况进行测试,判断阵列基板是否存在缺陷。
由以上实施例可以看出,本实用新型实施例通过在原有电性测试设备上添加光学检查模块,既保证了在大气环境下对阵列基板进行电性测试,使装置维护和保养方便;又实现了在使用调制器进行电性测试之前,使用光学扫描镜头进行光学检查,可检测阵列基板上是否有大颗粒异物,提高了对阵列基板缺陷的检出率,同时可避免电性测试时大颗粒异物对调制器的损伤,降低了阵列基板生产成本。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型技术原理的前提下,还可以做出若干改进和替换,这些改进和替换也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (8)
1.一种电性测试装置,包括设置在设备平台上方的支架机构,以及安装在所述支架机构上且沿所述支架机构横向和纵向可移动的若干个调制器,所述设备平台上放置被测阵列基板;其特征在于,所述支架机构上还设置有至少一个光学扫描镜头,其沿所述支架机构横向和纵向可移动。
2.如权利要求1所述的电性测试装置,其特征在于,所述支架机构包括并列设置在所述阵列基板两侧的纵向支架,以及设置在所述纵向支架两端且沿纵向支架可滑动的横向支架。
3.如权利要求2所述的电性测试装置,其特征在于,所述横向支架包括安装所述若干个调制器的第一横向支架和安装所述若干个光学扫描镜头的第二横向支架。
4.如权利要求1至3任一所述的电性测试装置,其特征在于,所述支架机构上还设置有LED光源,对被测阵列基板测试区域打光。
5.如权利要求3所述的电性测试装置,其特征在于,所述若干个调制器横向可移动地设置在所述第一横向支架上。
6.如权利要求3所述的电性测试装置,其特征在于,所述若干个光学扫描镜头横向可移动地设置在所述第二横向支架上。
7.如权利要求3所述的电性测试装置,其特征在于,所述第一横向支架和第二横向支架水平高度相等。
8.如权利要求4所述的电性测试装置,其特征在于,所述LED光源设置在所述第二横向支架上,所述若干个光学扫描镜头位于所述LED光源发出的光线经阵列基板反射后的反射光线方向上。
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CN111474599A (zh) * | 2020-05-19 | 2020-07-31 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 玻璃基板的异物检测装置及其检测方法 |
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- 2011-05-03 CN CN2011201367645U patent/CN202013722U/zh not_active Expired - Lifetime
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