CN202003044U - 一种反射膜层 - Google Patents

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赵志宏
刘丹丹
季一勤
庄克文
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Abstract

本实用新型属于镀膜技术领域，具体涉及一种反射膜层，目的是解决传统金属反射膜层不耐擦拭的问题，并可实现在较宽的光谱范围内膜层反射曲线的调制。该反射膜层包含真空蒸发沉积的过渡膜层和金属反射膜层，以及离子束溅射沉积的硬质保护膜层。本实用新型实现了更好的保护效果并耐擦拭。另外，通过沉积不同厚度的硬质膜层，可实现从可见至长波红外范围内反射膜层的反射光谱范围的调节。

Description

一种反射膜层
技术领域
本实用新型涉及一种膜层，特别是涉及一种复合的反射膜层。
背景技术
在光学零件表面镀制反射膜层，经常会采用镀制工艺相对简单的金属膜层，如金膜、银膜和铝膜等。但金属膜层较软，当膜层表面受到沾染时不利于清洁。传统的方法是在镀制金属膜层后再在其表面沉积一层保护膜层，但为了保证反射膜层的反射效率膜层很薄，不耐擦拭。如美国专利5036767“用于激光引爆装置的窗口”中涉及到的反射膜层。但该膜层仅能用于可见至近红外波段范围，且未充分考虑保护膜层的硬度及其光学性能。
发明内容
本实用新型的目的在于提供一种复合的反射膜层，解决传统金属反射膜层不耐擦拭的问题，并可实现在较宽的光谱范围内膜层反射曲线的调制。
本实用新型是这样实现的：
一种反射膜层，包括过渡膜层，金属反射膜层和保护膜层，其中：通过过渡膜层将金属反射膜层沉积于基底表面，再在金属反射膜层上沉积保护膜层。
如上所述的一种金属反射膜层，其中：过渡膜层的材料为铬。
如上所述的一种金属反射膜层，其中：以真空蒸发的方式沉积过渡膜层和金属反射膜层。
如上所述的一种金属反射膜层，其中：保护膜层的材料为克氏硬度不小于1000Kg/mm2，并且为在可见及红外波段均透光的材料。
如上所述的一种金属反射膜层，其中：以离子束溅射或离子束反应溅射的方式沉积保护膜层。
如上所述的一种金属反射膜层，其中：所述过渡膜层的厚度为30nm～500nm。
如上所述的一种金属反射膜层，其中：所述金属反射膜层的厚度为20nm～2000nm。
如上所述的一种金属反射膜层，其中：所述保护膜层的厚度为20nm～1000nm。
本实用新型的有益效果是：
本实用新型采用沉积过渡层的方法，使金属反射膜层能够牢固的附着于基底表面。在其上镀制的硬质保护膜层采用离子束溅射的方法沉积，而且因膜层厚度较大，故可以实现更好的保护效果并耐擦拭。另外，通过沉积不同厚度的硬质膜层，可实现从可见至长波红外范围内反射膜层的反射光谱范围的调节。
附图说明
图1是本实用新型的一种反射膜层的剖面示意图；
图中：1.基底，2.过渡膜层，3.金属反射膜层，4.保护膜层。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的一种反射膜层进行介绍：
图1中的基底1是金属、光学镜片材料等加工的、带有光学应用表面的零件，其作用是反射膜层的支撑结构，反射膜层是在基底表面沉积的。
在充分清洁待镀膜的基底表面后，将其放置入真空蒸发沉积装置内沉积过渡膜层2。过渡膜层2的膜层材料为铬，过渡膜层的厚度为30nm～500nm。该沉积过程为本领域技术人员的公知常识。对于金属基底，可以不沉积过渡膜层2；但对于光学镜片材料基底，则需要沉积过渡膜层2，增加反射膜层与基底1间的结合强度。
在充分清洁待镀膜的基底表面或沉积过渡膜层后，将其放置入真空蒸发沉积装置内沉积金属反射层3。金属反射膜层3的厚度为20nm～2000nm。上述过程为本领域技术人员的公知常识。
待沉积金属反射膜层3完毕的零件取出后，不擦拭其表面，直接放置入离子束溅射镀膜机中进行保护膜层4的沉积。沉积参数为，束流：50～700mA；束压：300～2000V。保护膜层4的厚度为20nm～1000nm。保护膜层4的材料为克氏硬度不小于1000Kg/mm2，并且为在可见及红外波段均透光的材料。
上述的金属指金、银和铝。
上述的基底表面指在金属、各种光学镜片材料上加工的、需镀制膜层的光学应用表面。过渡膜层是用于保证金属反射层牢固附着与基底表面的。金属反射层是用于反射光线的，为基底表面附着的一薄层金属。保护膜层是用于保护金属反射层的，同时还可通过调节其沉积厚度而达到不同的光学效果。

Claims (8)

1.一种反射膜层，包括过渡膜层(2)，金属反射膜层(3)和保护膜层(4)，其特征在于：通过过渡膜层(2)将金属反射膜层(3)沉积于基底(1)表面，再在金属反射膜层(3)上沉积保护膜层(4)。
2.根据权利要求1所述的一种反射膜层，其特征在于：过渡膜层(2)的材料为铬。
3.根据权利要求1所述的一种反射膜层，其特征在于：以真空蒸发的方式沉积过渡膜层(2)和金属反射膜层(3)。
4.根据权利要求1所述的一种反射膜层，其特征在于：所述保护膜层(4)的材料为克氏硬度不小于1000Kg/mm2，并且为在可见及红外波段均透光的材料。
5.根据权利要求1所述的一种反射膜层，其特征在于：以离子束溅射或离子束反应溅射的方式沉积保护膜层(4)。
6.根据权利要求1所述的一种反射膜层，其特征在于：所述过渡膜层(2)的厚度为30nm～500nm。
7.根据权利要求1所述的一种反射膜层，其特征在于：所述金属反射膜层(3)的厚度为20nm～2000nm。
8.根据权利要求1所述的一种金属反射膜层，其特征在于：所述保护膜层(4)的厚度为20nm～1000nm。
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