CN201848763U - 涡轮式纳米珠磨机 - Google Patents

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雷立猛
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PUHLER (GUANGZHOU) MACHINERY AND EQUIPMENT CO Ltd
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Abstract

本实用新型涉及涡轮式纳米珠磨机,包括横向设置在机架上的研磨筒和横向置于研磨筒中心由电机带动转动的转轴,研磨筒左端设有供物料流进的进料管,右端设有物料分离器,分离器与出料管连通,所述转轴上沿轴向设有至少一个随转轴转动的涡轮式研磨盘。本实用新型的研磨筒内物料流动引起研磨介质的运动方向与涡轮式研磨盘转动引起研磨介质的运动方向相反,导致大部分研磨介质在研磨筒内横向移动的速度部分抵消,甚至完全抵消,从而保证研磨介质在研磨筒内分布较均匀,有利于提高珠磨机的研磨效率。

Description

涡轮式纳米珠磨机
技术领域
本实用新型涉及研磨物料的珠磨机,具体说是一种涡轮式纳米珠磨机。
背景技术
现有的珠磨机一般通过研磨筒内的转轴带动安装在其上的研磨盘转动,研磨盘将机械能传递给研磨筒内的研磨介质,如氧化锆珠等,从而使物料和研磨介质一起高速旋转。在旋转过程中物料中的固体颗粒和研磨介质相互之间产生强烈的碰撞、摩擦和剪切作用,使物料达到一定的细度,然后物料经过分离器将研磨介质分离后从出料管流出。由于在研磨过程中,被研磨的物料从进料口向出料口方向横向移动,很容易使大部分研磨介质移动到研磨筒右端的出料口周围,而研磨筒左端较长一段研磨腔内的研磨介质很少,从而造成研磨介质分布不均匀,同时容易引起出料口堵塞。
实用新型内容
针对上述现有技术之不足,本实用新型所要解决的技术问题是提供一种在研磨过程中可使研磨介质分布较均匀、研磨效率较高的涡轮式纳米珠磨机。
本实用新型是这样实现的:涡轮式纳米珠磨机,包括横向设置在机架上的研磨筒和横向置于研磨筒中心由电机带动转动的转轴,研磨筒左端设有供物料流进的进料管,右端设有物料分离器,分离器与出料管连通,所述转轴上沿轴向设有至少一个随转轴转动的涡轮式研磨盘。
本实用新型还具有如下附加技术特征:
所述研磨盘包括沿转轴轴向平行设置的至少两转盘,相邻的两转盘通过沿转盘周向设置的数个叶片连接。
每一叶片沿转轴旋转方向反向倾斜。
相邻的两叶片与其两侧的转盘之间形成沿转轴径向方向相通的空腔。
研磨盘包括三个所述转盘,其中中间转盘上开具有安装转轴的通孔,另外两转盘上均开具有大于转轴直径的孔。
所述研磨筒筒壁内设有循环冷却水套。
本实用新型提供的涡轮式纳米珠磨机与现有技术相比具有如下优点:所述转轴上沿轴向设有至少一个随转轴转动的涡轮式研磨盘,所述研磨盘包括沿转轴轴向平行设置的至少两转盘,相邻的两转盘通过沿转盘周向设置的数个叶片连接,每一叶片沿转轴旋转方向反向倾斜。这种结构的珠磨机在工作时,研磨筒内物料流动引起研磨介质的运动方向与涡轮式研磨盘转动引起研磨介质的运动方向相反,导致大部分研磨介质在研磨筒内横向移动的速度部分抵消,甚至完全抵消,从而保证研磨介质在研磨筒内分布较均匀,有利于提高珠磨机的研磨效率。
附图说明
图1是本实用新型一种优选方式的主视示意图图;
图2是本实用新型中研磨盘的立体示意图;
图3是图1中A-A剖视示意图。
具体实施方式
参见图1至图3,示出本实用新型涡轮式纳米珠磨机的一种优选方式,其包括横向设置在机架1上的研磨筒2和横向置于研磨筒中心由电机带动转动的转轴3,研磨筒左端设有供物料流进的进料管4,右端设有物料分离器5,分离器与出料管6连通,分离器可采用大流量动态分离筒,此种独特的大流量动态分离筒,可确保在研磨筒内使用0.05到0.8mm的研磨介质,而且较大的装载功率可确保研磨介质的高填充率,从而保证纳米产品的研磨能量需求。在实施过程中,可在出料管的出料口加装双触点充油耐震温度表,实时控制研磨物料的温度。所述转轴上沿轴向设有至少一个随转轴转动的涡轮式研磨盘7,本实用新型设有三个研磨盘,可提高物料的研磨精度,并通过在转轴上设置隔套控制研磨盘之间的间距。所述研磨盘7包括沿转轴轴向平行设置的至少两转盘71,相邻的两转盘通过沿转盘周向设置的数个叶片72连接,在实施过程中,每一叶片与其两侧的转盘垂直连接,也可与转盘形成一定的夹角,且每一叶片沿转轴旋转方向反向倾斜,这样所有叶片在转盘上形成涡轮状分布。当珠磨机工作时,研磨筒内物料流动引起研磨介质的运动方向与涡轮式研磨盘转动引起研磨介质的运动方向相反,导致大部分研磨介质在研磨筒内横向移动的速度部分抵消,甚至完全抵消,从而保证研磨介质在研磨筒内分布较均匀,有利于提高珠磨机的研磨效率。
在本实施方式中,相邻的两叶片72与其两侧的转盘之间形成沿转轴径向方向相通的空腔73。本实用新型在工作时,研磨介质从空腔靠近转轴的一端进入,随着研磨盘的转动,研磨介质从空腔另一端被甩出,并与研磨筒内物料碰撞。这种结构可通过提高研磨介质的离开空腔的径向速度,使研磨介质与物料碰撞更激烈,从而保证产品的细度。本实用新型设有三个研磨盘7,其中两个研磨盘均包括三个所述转盘71,中间转盘上开具有安装转轴的通孔74,另外两转盘上均开具有大于转轴直径的孔,第三个研磨盘只包括两个转盘。这种结构设计合理,可使物料研磨更加均匀。所述研磨筒筒壁内设有循环冷却水套,可降低研磨筒的温度,进一步提高研磨效率并增加产品品质稳定性,这也是新型纳米新材料对研磨工艺的要求之一。本实用新型通过较小的研磨容积和理想的冷却效果确保了对温度敏感的新型纳米新材料产品顺利的研磨和品质的保证。
上述实施例仅供说明本实用新型之用,而并非对本实用新型的限制,有关技术领域的普通技术人员,在不脱离本实用新型的精神和范围的情况下,还可以作出各种变化和变型,因此所有等同的技术方案也应属于本实用新型的范畴,本实用新型的专利保护范围应由各权利要求限定。

Claims (6)

1.涡轮式纳米珠磨机,包括横向设置在机架(1)上的研磨筒(2)和横向置于研磨筒中心由电机带动转动的转轴(3),研磨筒左端设有供物料流进的进料管(4),右端设有物料分离器(5),分离器与出料管(6)连通,其特征在于:所述转轴(3)上沿轴向设有至少一个随转轴转动的涡轮式研磨盘(7)。
2.根据权利要求1所述的涡轮式纳米珠磨机,其特征在于:所述研磨盘(7)包括沿转轴轴向平行设置的至少两转盘(71),相邻的两转盘通过沿转盘周向设置的数个叶片(72)连接。
3.根据权利要求2所述的涡轮式纳米珠磨机,其特征在于:每一叶片(72)沿转轴旋转方向反向倾斜。
4.根据权利要求2所述的涡轮式纳米珠磨机,其特征在于:相邻的两叶片(72)与其两侧的转盘之间形成沿转轴径向方向相通的空腔(73)。
5.根据权利要求2所述的涡轮式纳米珠磨机,其特征在于:研磨盘(7)包括三个所述转盘(71),其中中间转盘上开具有安装转轴的通孔(74),另外两转盘上均开具有大于转轴直径的孔。
6.根据权利要求2所述的涡轮式纳米珠磨机,其特征在于:所述研磨筒(2)筒壁内和出料端盖内均设有循环冷却水套(21)。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104959196A (zh) * 2015-06-29 2015-10-07 广州派勒机械设备有限公司 具有双重分离系统的超级砂磨机
CN108212362A (zh) * 2018-03-15 2018-06-29 肇庆市格朗自动化科技有限公司 一种研磨分离装置及砂磨机
CN110678299A (zh) * 2017-05-12 2020-01-10 杰尼斯·彼得罗维奇 用于电动工具冷却空气清洁的灰尘清洁设备

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GR01 Patent grant
EE01 Entry into force of recordation of patent licensing contract

Assignee: Puhler Guangzhou Machinery and Equipment Co., Ltd.

Assignor: Lei Limeng

Contract record no.: 2011440001002

Denomination of utility model: Turbine type nanometer beads mill

Granted publication date: 20110601

License type: Exclusive License

Record date: 20111021

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20160229

Address after: 511495 Guangzhou, Panyu District, Zhong Cun street, the source of the road on the 1st

Patentee after: PUHLER (GUANGZHOU) MACHINERY AND EQUIPMENT CO., LTD.

Address before: Whampoa fengle North District of Guangzhou City, Guangdong Province, No. 84-88 building 510700 room 301-19

Patentee before: Lei Limeng

CX01 Expiry of patent term

Granted publication date: 20110601

CX01 Expiry of patent term