CN201770771U - 用于卷绕式镀膜机的膜厚实时监控系统 - Google Patents

用于卷绕式镀膜机的膜厚实时监控系统 Download PDF

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Abstract

本实用新型公开了一种用于卷绕式镀膜机的膜厚实时监控系统,包括由计算机控制的光谱仪和光源,其特征在于:所述实时监控系统还包括支架、光源发射器和光束接收器,所述光源发射器和光束接收器分别设在卷绕基材膜的双侧并安装在支架上;所述支架与导膜辊平行,支架设置在收卷辊与水冷辊上方的导膜辊之间。本实用新型由计算机实时监控,采用非接触式光源发射器和光束接收器,镀膜工作者根据界面观察产品的光谱曲线与计算机中预存的目标曲线的吻合程度,来调整镀膜工艺参数,从而减少了操作误差,有效地提高了产品的合格率,该装置结构简单,成本低廉,解决了一直以来卷绕镀膜机没有有效的膜厚监控手段的问题。

Description

用于卷绕式镀膜机的膜厚实时监控系统
技术领域
本实用新型是涉及一种用于卷绕式镀膜机的膜厚实时监控系统。
背景技术
薄膜产品特别是光学薄膜产品,膜层厚度的精度是产品的重要指标,因此在镀制过程中的膜厚监控极为重要。目前,在卷绕镀膜机上尚没有有效的膜厚实时监控手段,使得产品一致性差,合格率低,造成很大的浪费。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种用于卷绕式镀膜机的膜厚实时监控系统,采用光谱分析原理,测试精度高,响应速度快,满足在线实时监控的要求,从而使产品的一致性和合格率大大提高。
本实用新型所要解决的技术问题是通过以下技术方案来实现的:
一种用于卷绕式镀膜机的膜厚实时监控系统,包括由计算机控制的快速光谱仪和光源,其特征在于:所述实时监控系统还包括支架、光源发射器和光束接收器,所述光源发射器和光束接收器分别设在卷绕透明基材膜的双侧并安装在支架上;所述支架与导膜辊平行,支架设置在收卷辊与水冷辊上方的导膜辊之间。
所述支架固定在镀膜机的真空室腔体壁上。
所述光源发射器通过光纤连线与光源连接。
所述光束接收器通过光纤连线与光谱仪连接。
所述卷绕透明基材膜设在支架中间。
本实用新型具有如下优点:
本实用新型由计算机实时监控,当蒸发材料沉积在基材上时,薄膜的透射率随沉积厚度的增加而变化,镀膜工作者可根据界面观察到的产品光谱曲线与计算机中预存的目标曲线的吻合程度,来调整镀制工艺参数,减少了制作误差,有效地提高了产品的一致性和合格率,该装置结构简单,成本低廉,解决了一直以来卷绕镀膜机没有有效的膜厚实时监控手段的问题。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图
图2为本实用新型的监控装置位置图
如图所示,1-计算机,2-快速光谱仪,3-光源,4-光源发射器,5-光束接收器,6-支架,7-卷绕基材膜,8-真空室腔体壁,9-光纤连线,10-收卷辊,11-导膜辊,12-水冷辊,13-放卷辊。
具体实施方式
下面结合说明书附图对本实用新型作进一步说明。
如图1和图2所示一种用于卷绕式镀膜机的膜厚实时监控系统,包括由计算机1控制的快速光谱仪2和光源3,其特征在于:所述实时监控系统还包括支架6、光源发射器4和光束接收器5,所述光源发射器4和光束接收器5分别设在卷绕基材膜7的双侧并安装在支架6上;所述支架6与导膜辊11平行,支架6设置在收卷辊10与水冷辊12上方的导膜辊11之间。
所述支架6固定在镀膜机的真空室腔体壁8上。
所述光源发射器4通过光纤连线9与光源3连接。
所述光束接收器5通过光纤连线9与快速光谱仪2连接。
所述卷绕基材膜7设在支架6中间。
当蒸发材料沉积在基材上时,薄膜的透射率随厚度的增加而变化,镀膜工作者可根据界面观察到的产品光谱曲线与目标曲线的吻合程度,来调整镀膜工艺参数,减少了制作误差,有效地提高了产品的一致性和合格率。

Claims (5)

1.一种用于卷绕式镀膜机的膜厚实时监控系统,包括由计算机控制的快速光谱仪和光源,其特征在于:所述实时监控系统还包括支架、光源发射器和光束接收器,所述光源发射器和光束接收器分别设在卷绕透明基材膜的双侧并安装在支架上;所述支架与导膜辊平行,支架设置在收卷辊与水冷辊上方的导膜辊之间。
2.如权利要求1所述的用于卷绕式镀膜机的膜厚实时监控系统,其特征在于:所述支架固定在镀膜机的真空室腔体壁上。
3.如权利要求1所述的用于卷绕式镀膜机的膜厚实时监控系统,其特征在于:所述光源发射器通过光纤连线与光源连接。
4.如权利要求3所述的用于卷绕式镀膜机的膜厚实时监控系统,其特征在于:所述光束接收器通过光纤连线与光谱仪连接。
5.如权利要求1所述的用于卷绕式镀膜机的膜厚实时监控系统,其特征在于:所述卷绕透明基材膜设在支架中间。
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C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C53 Correction of patent for invention or patent application
CB03 Change of inventor or designer information

Inventor after: Li Zhengping

Inventor after: Guo Jiguang

Inventor after: Jiang Guohui

Inventor before: Li Zhengping

Inventor before: Guo Jiguang

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Free format text: CORRECT: INVENTOR; FROM: LI ZHENGPING GUO JIGUANG TO: LI ZHENGPING GUO JIGUANG JIANG GUOHUI

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