CN201266004Y - 硅片脱水干燥机构 - Google Patents

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CN201266004Y CNU200820146768XU CN200820146768U CN201266004Y CN 201266004 Y CN201266004 Y CN 201266004Y CN U200820146768X U CNU200820146768X U CN U200820146768XU CN 200820146768 U CN200820146768 U CN 200820146768U CN 201266004 Y CN201266004 Y CN 201266004Y
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余仲
黄进权
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Shenzhen S. C New Energy Equipment Co., Ltd.
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SHENZHEN SC EXACT EQUIPMENT CO Ltd
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Abstract

本实用新型公开了一种高效的硅片脱水干燥机构，主要由慢排干燥槽组成，在慢排干燥槽上方左右两侧各设有自动密封盖，自动密封盖可绕铰接轴90度转动，当两自动密封盖边缘配合即构成封闭空间，自动密封盖中间设置有吹气管；在生产线上，根据工艺时间要求，可多工位设置，同时结合上下料传送机构，可实现自动化控制；本实用新型用慢排干燥槽和吹气管替代了传统的慢提机构和干燥隧道，降低了设备制造成本；在干燥处理时，硅片处于静止状态，同时由上往下平行于硅片吹气，有效提高了生产率；慢排干燥槽设置有自动密封盖，有利于保证干燥环境的洁净，减少二次污染。

Description

硅片脱水干燥机构
技术领域
本实用新型涉及一种脱水干燥机构，尤其涉及一种用于硅片生产中的硅片脱水干燥机构。
背景技术
随太阳能光伏发电技术的发展与推广，近年来制作太阳能电板的原材料-硅片的消耗量也大幅增加。同时伴随人们对太阳能电板高光电转换率的期求，生产厂商对原料硅片的质量要求也越来越高。如何提高硅片质量、保证较高的生产率同时有效控制成本，始终是原料供应商思索的问题。
现有在硅片生产中使用的硅片脱水干燥机构，包括机箱、连接机体内外的传送下料台、设置在机箱内的设置了干燥隧道和慢提机构，其中慢提机构还包括提供动力的电机和慢提托架。当放置有硅片的花篮到达脱水槽底部，电机驱动慢提机构使慢提托架缓慢上升，之后通过慢提作用使硅片脱水，硅片和花篮由传送下料台送出设备。这种结构的缺点是：在干燥隧道搬运及干燥过程易造成硅片二次污染，且复杂的慢提机构使干燥设备造价提高；干燥过程中慢提托架上升和下降消耗时间，设备使生产率降低。
实用新型内容
本实用新型为了解决现有技术易造成硅片二次污染、生产率较降低的缺点，提供一种硅片脱水干燥机构，它通过对现有设备的改进，有效提高生产率同时减少二次污染。
为解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案：硅片脱水干燥机构，主要由半封闭结构的慢排干燥槽组成，慢排干燥槽上方设有自动密封盖，自动密封盖上设置有吹气管。
所述慢排干燥槽上方左右两侧各带一个自动密封盖，自动密封盖可绕铰接轴90度转动，当自动密封盖保持水平时，同一工位慢排干燥槽上的两自动密封盖边缘配合，构成封闭空间。
所述吹气管设置于每块自动密封盖的中间，朝向慢排干燥槽内侧。
所述慢排干燥槽后侧设置有排风管道，利于湿气的抽出。
所述慢排干燥槽设置在机箱内，机箱中还设有连接箱体内外的传送下料台。
所述机箱内并排设置有两个或以上慢排干燥槽。
本实用新型用慢排干燥槽和吹气管结构替代传统的慢提机构和干燥隧道，降低了制造成本；在干燥处理时，硅片处于静止状态，同时由上往下平行于硅片吹气，有效提高了生产率；慢排干燥槽设置有自动密封盖，有利于保证干燥环境的洁净，减少二次污染。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型做进一步的说明：
图1为本实用新型优选实施例结构示意图；
图2为图1的左视图。
具体实施方式
如图1图2所示硅片脱水干燥机构优选实施例，它包括机箱1、连接机体内外的传送下料台6，在机箱1内并排设置有两个相同的慢排干燥槽2，慢排干燥槽上方设有自动密封盖4，自动密封盖上设置有吹气管3。所述慢排干燥槽2上方左右两侧各带一个自动密封盖4，自动密封盖可绕铰接轴90度转动，当两自动密封盖4均保持水平时，同一工位慢排干燥槽2上的两自动密封盖4边缘配合，构成封闭空间。所述吹气管3设置于每块自动密封盖4的中间，盖上后其朝向慢排干燥槽2内侧。
本设备工作时，硅片及花篮5(硅片放置在花篮内)由设备机械手搬送，放到慢排干燥槽2底部(此时槽内注满约70℃的热纯水)，排水阀打开进行排水，按约2mm/S速度排水，排完水后，自动密封盖4盖上，形成密封空间，之后吹气管3由上往下吹出热的洁净氮气或空气使硅片干燥，然后通过设备机械手搬送，由下料台将硅片及花篮5送出设备。
所述工位慢排干燥槽2后侧可设置有排风管道，利于湿气的抽出。
本实用新型采用慢排水方式脱水(由于排水速度慢，约2mm/S，此速度下，配以约70℃的热纯水，此时硅片表面的水由于表面张力已被克服，从而能把表面的水有效的拉下，形成水膜)，把硅片及花篮5上水滴拉下形成水膜(慢排和慢提方式原理一样，都是通过慢速把硅表面的水拉下，只是慢提是硅片及花篮是上提动作；慢排时水是动的，硅片及花篮是静止的)，吹气管3由上往下吹出热的洁净氮气或空气，顺着硅片的方向更有效地吹干硅片及花篮5表面水膜，加快了干燥速度。干燥在带有密封盖的槽内连续进行，更有利于保证干燥环境的洁净。由于减少了电动的慢提机构及干燥隧道，使得结构简单，维护方便。

Claims (6)

1、一种硅片脱水干燥机构，包括半封闭结构的慢排干燥槽(2)，其特征在于：所述慢排烘干槽(2)上方设有自动密封盖(4)，自动密封盖上设置有吹气管(3)。
2、根据权利要求1所述的硅片脱水干燥机构，其特征在于：所述慢排干燥槽(2)上方左右两侧各带一个自动密封盖(4)，当自动密封盖保持水平时，两自动密封盖(4)边缘配合。
3、根据权利要求1所述的硅片脱水干燥机构，其特征在于：所述吹气管(3)设置于每块自动密封盖(4)的中间，朝向慢排干燥槽(2)内侧。
4、根据权利要求1所述的硅片脱水干燥机构，其特征在于：所述慢排干燥槽(2)后侧还设置有排风管道。
5、根据权利要求1至4任一项所述的硅片脱水干燥机构，其特征在于：所述慢排干燥槽(2)设置在机箱(1)内，机箱中还设有连接箱体内外的传送下料台(6)。
6、根据权利要求5所述的硅片脱水干燥机构，其特征在于：所述机箱(1)内并排设置有两个或以上慢排干燥槽(2)。
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TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20110329

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Patentee after: Shenzhen Jiejiachuang Microelectronic Equipment Co., Ltd.

Address before: 518000 A13 building, oyster four woods slope pit Industrial Zone, Baoan District, Guangdong, Shenzhen

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C56 Change in the name or address of the patentee

Owner name: SHENZHEN S.C NEW ENERGY TECHNOLOGY CORPORATION

Free format text: FORMER NAME: SHENZHEN JIEJIA WEICHUANG MICROELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD.

CP03 Change of name, title or address

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Patentee after: Shenzhen S. C New Energy Equipment Co., Ltd.

Address before: 518000, Shenzhen Baoan District manhole Street oyster four Lin slope pit Industrial Zone, A4 building, first floor

Patentee before: Shenzhen Jiejiachuang Microelectronic Equipment Co., Ltd.

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