CN112934808A - 一种具有自动清洗烘干功能的硅片扩散设备 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种具有自动清洗烘干功能的硅片扩散设备，包括底座、吸料机构、电动阀门、滤罩和承载架，所述电动阀门贯穿底座的前端面与储水槽相贯通，所述输水管道的前侧与第一分支管道相连接，所述通水通道固定在第二支板之间，所述第三支板之间固定有通气通道，所述气泵的后侧通过输气管道与第二分支管道相连接，所述承载架固定在底座上端面的右侧，所述承载架的右侧和第一支板的外侧均设置有第四支板。该具有自动清洗烘干功能的硅片扩散设备，硅片在第二传送带装置的运转作用下向右移动的过程中，第一喷头向内侧喷水，方便对硅片进行清洗处理，第二喷头向内侧喷气，方便吹除硅片表面的水分，以便完成初步风干处理。

Description

一种具有自动清洗烘干功能的硅片扩散设备
技术领域
本发明涉及硅片相关技术领域，具体为一种具有自动清洗烘干功能的硅片扩散设备。
背景技术
地壳中含量达25.8％的硅元素，为单晶硅的生产提供了取之不尽的源泉，由于硅元素是地壳中储量最丰富的元素之一，对太阳能电池这样注定要进入大规模市场的产品而言，储量的优势也是硅成为光伏主要材料的原因之一，在加工硅片的过程中，为了将垒垛在一起的硅片分散开来，则需要使用到扩散设备，现有的扩散设备将垒垛在一起的硅片分散开来之后不便对每一个硅片进行清洗烘干处理，自动化程度不高，且整个操作过程不够连续高效。
发明内容
本发明的目的在于提供一种具有自动清洗烘干功能的硅片扩散设备，以解决上述背景技术中提出的现有的扩散设备将垒垛在一起的硅片分散开来之后不便对每一个硅片进行清洗烘干处理，自动化程度不高，且整个操作过程不够连续高效的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种具有自动清洗烘干功能的硅片扩散设备，包括底座、吸料机构、电动阀门、滤罩和承载架，
底座，所述底座上端面的左侧固定有第一支板，且前侧第一支板的前端面固定有控制面板，同时第一支板之间转动连接有第一传送带装置，所述第一传送带装置的右侧设置有支架，且支架固定在底座上，同时支架的顶部转动连接有转架；
吸料机构，所述吸料机构固定在转架的下端面上；
电动阀门，所述电动阀门贯穿底座的前端面与储水槽相贯通，且储水槽开设在底座的上端面，所述储水槽的底部放置有水泵，且水泵贯穿底座的后侧与输水管道相连接，所述输水管道的前侧与第一分支管道相连接，且第一分支管道贯穿后侧的第二支板与通水通道相连接，所述通水通道固定在第二支板之间，且第二支板的右侧设置有第三支板，同时第二支板和第三支板均固定在底座上端面的前后两侧，所述第三支板之间固定有通气通道，且上侧通气通道的顶部固定有气泵，所述气泵的后侧通过输气管道与第二分支管道相连接，且第二分支管道贯穿后侧的第二支板与通气通道相连接；
承载架，所述承载架固定在底座上端面的右侧，且承载架的内顶部和承载架的内侧均固定有电热板，所述承载架的右侧和第一支板的外侧均设置有第四支板，且第四支板固定在底座上，同时第一支板之间转动连接有第二传送带装置。
优选的，所述第一传送带装置的外表面固定有隔板，且隔板等距离分布。
优选的，所述支架的顶部内固定有电机，且电机的上侧通过电机轴转动连接有转架。
优选的，所述吸料机构包括电动伸缩住、吸泵和吸盘，且电动伸缩住固定在转架的下端面上，同时电动伸缩住均匀分布。
优选的，所述电动伸缩住的底部与吸泵相连接，且吸泵的底部固定有吸盘。
优选的，所述滤罩罩放在水泵的外侧，且滤罩固定在储水槽底部的后侧壁上。
优选的，所述通水通道的内端面贯穿有第一喷头，且每个通水通道上设置有五组第一喷头，同时每组第一喷头等距离分布。
优选的，所述通气通道的内端面贯穿有第二喷头，且每个通气通道上设置有五组第二喷头，同时每组第二喷头均匀分布。
优选的，所述第二传送带装置的表面呈多孔状，且第二传送带装置设置有五个，同时五个第二传送带装置等距离分布。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：该具有自动清洗烘干功能的硅片扩散设备，
(1)设置有第一传送带装置、隔板、转架、吸料机构和第二传送带装置，将垒垛在一起的硅片放置在第一传送带装置上并使硅片处在相邻两个隔板之间后，硅片可在第一传送带装置的运转作用下向右移动，当硅片移动至转架下端面左侧吸料机构的下方后，第一传送带装置暂停运转，每利用吸料机构吸起一个硅片之后，转架旋转45度，接着吸料机构降下并松开硅片，之后硅片可在对应第二传送带装置的运转作用下向右移动，以便完成后续的加工操作；
(2)设置有第一喷头、第二喷头和第二传送带装置，硅片在第二传送带装置的运转作用下向右移动的过程中，第一喷头向内侧喷水，方便对硅片进行清洗处理，第二喷头向内侧喷气，方便吹除硅片表面的水分，以便完成初步风干处理；
(3)设置有电热板，得到清洗风干处理后的硅片在向右移动的过程中可在电热板的作用下得到彻底的烘干处理，整个操作连续高效，自动化程度高；
(4)设置有储水槽、滤罩、水泵、输水管道、第一分支管道、通水通道和第一喷头，在使用该装置之前需要向储水槽内通水，之后储水槽内的水可在水泵的作用下依次经过输水管道、第一分支管道、通水通道和第一喷头喷出并流回至储水槽内，滤罩对储水槽内的水起到过滤的作用，方便循环使用。
附图说明
图1为本发明正视剖面结构示意图；
图2为本发明正视结构示意图；
图3为本发明左视剖面结构示意图；
图4为本发明右视剖面结构示意图；
图5为本发明俯视剖面结构示意图；
图6为本发明吸泵与吸盘连接结构示意图。
图中：1、底座，2、第一支板，3、控制面板，4、第一传送带装置，5、隔板，6、支架，7、电机，8、电机轴，9、转架，10、吸料机构，1001、电动伸缩住，1002、吸泵，1003、吸盘，11、储水槽，12、电动阀门，13、滤罩，14、水泵，15、输水管道，16、第一分支管道，17、第二支板，18、通水通道，19、第一喷头，20、第三支板，21、通气通道，22、气泵，23、输气管道，24、第二分支管道，25、第二喷头，26、承载架，27、电热板，28、第四支板，29、第二传送带装置。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-6，本发明提供一种技术方案：一种具有自动清洗烘干功能的硅片扩散设备，根据图1和图2所示，底座1上端面的左侧固定有第一支板2，且前侧第一支板2的前端面固定有控制面板3，同时第一支板2之间转动连接有第一传送带装置4，第一传送带装置4的外表面固定有隔板5，且隔板5等距离分布，隔板5对硅片起到分隔限位的作用，使垒垛在一起的硅片能够更加稳定摆放在相邻的隔板5之间，之后硅片可在第一传送带装置4的运转作用下向右移动，以便完成后续的扩散操作，第一传送带装置4的右侧设置有支架6，且支架6固定在底座1上，同时支架6的顶部转动连接有转架9，支架6的顶部内固定有电机7，且电机7的上侧通过电机轴8转动连接有转架9，转架9可在电机7和电机轴8的作用下转动，每利用吸料机构10吸气一个硅片之后，转架9旋转45度，方便将硅片分散至每个第二传送带装置29上。
根据图1、图2和图3所示，吸料机构10固定在转架9的下端面上，吸料机构10包括电动伸缩住1001、吸泵1002和吸盘1003，且电动伸缩住1001固定在转架9的下端面上，同时电动伸缩住1001均匀分布，吸泵1002可在电动伸缩住1001的伸缩作用下上下移动，方便升起或降下硅片，电动伸缩住1001的底部与吸泵1002相连接，且吸泵1002的底部固定有吸盘1003，吸盘1003对硅片起到吸附的作用，方便更加稳定的吸住升起硅片并完成后续的转运操作。
根据图1、图2、图3和图4所示，电动阀门12贯穿底座1的前端面与储水槽11相贯通，且储水槽11开设在底座1的上端面，滤罩13罩放在水泵14的外侧，且滤罩13固定在储水槽11底部的后侧壁上，滤罩13对储水槽11内的水起到过滤的作用，使储水槽11内的水能够得到循环使用，储水槽11的底部放置有水泵14，且水泵14贯穿底座1的后侧与输水管道15相连接，输水管道15的前侧与第一分支管道16相连接，且第一分支管道16贯穿后侧的第二支板17与通水通道18相连接，通水通道18的内端面贯穿有第一喷头19，且每个通水通道18上设置有五组第一喷头19，同时每组第一喷头19等距离分布，储水槽11内的水可在水泵14的作用下依次经过输水管道15、第一分支管道16、通水通道18和第一喷头19喷出，方便对硅片表面进行清洗处理，等距离分布的第一喷头19可使硅片的上下表面得到更加全面均匀的清洗处理。
根据图1、图2、图3、图4和图5所示，通水通道18固定在第二支板17之间，且第二支板17的右侧设置有第三支板20，同时第二支板17和第三支板20均固定在底座1上端面的前后两侧，第三支板20之间固定有通气通道21，且上侧通气通道21的顶部固定有气泵22，气泵22的后侧通过输气管道23与第二分支管道24相连接，且第二分支管道24贯穿后侧的第二支板17与通气通道21相连接，通气通道21的内端面贯穿有第二喷头25，且每个通气通道21上设置有五组第二喷头25，同时每组第二喷头25均匀分布，外部空气可在气泵22的作用下依次经过输气管道23、第二分支管道24、通气通道21和第二喷头25喷出，方便吹除硅片表面的水分，以便达到初步风干的效果。
根据图1、图2、图3、图4和图6所示，承载架26固定在底座1上端面的右侧，且承载架26的内顶部和承载架26的内侧均固定有电热板27，承载架26的右侧和第一支板2的外侧均设置有第四支板28，且第四支板28固定在底座1上，同时第一支板2之间转动连接有第二传送带装置29，第二传送带装置29的表面呈多孔状，且第二传送带装置29设置有五个，同时五个第二传送带装置29等距离分布，吸料机构10降下并松开硅片之后，硅片可在对应第二传送带装置29的运转作用下向右移动，以便完成后续的加工操作，多孔状的第二传送带装置29可更好的通水。
本实施例的工作原理：在使用该具有自动清洗烘干功能的硅片扩散设备时，接通至外部电源，通过操作控制面板3来控制整个装置的运作，首先打开底座1前端面上侧的电动阀门12，以此向储水槽11内通水，通完水后再关上电动阀门12，将垒垛在一起的硅片放置在第一传送带装置4上并使硅片处在相邻两个隔板5之间后，启动第一传送带装置4，第一传送带装置4运转，从而带动硅片向右移动，当硅片移动至转架9下端面左侧吸料机构10的下方后，第一传送带装置4暂停运转，每利用吸料机构10吸起一个硅片之后，启动电机7，电机7带动电机轴8转动，从而带动转架9旋转45度，接着吸料机构10降下并松开硅片，再启动第二传送带装置29，第二传送带装置29运转，从而带动其上的硅片向右移动，同时启动水泵14、气泵22和电热板27，储水槽11内的水依次经过输水管道15、第一分支管道16、通水通道18和第一喷头19喷出，以此对硅片表面进行清洗处理，外部空气在气泵22的作用下依次经过输气管道23、第二分支管道24、通气通道21和第二喷头25喷出，以此吹除硅片表面的水分，方便达到初步风干的效果，电热板27可对初步风干后的硅片进行彻底的烘干处理，在对硅片进行清洗风干处理的过程中，清洗水会流回至储水槽11内，滤罩13对储水槽11内的水起到过滤的作用，方便循环使用储水槽11内水，且本说明书中未作详细描述的内容属于本领域专业技术人员公知的现有技术。
尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种具有自动清洗烘干功能的硅片扩散设备，包括底座(1)、吸料机构(10)、电动阀门(12)、滤罩(13)和承载架(26)，其特征在于：
底座(1)，所述底座(1)上端面的左侧固定有第一支板(2)，且前侧第一支板(2)的前端面固定有控制面板(3)，同时第一支板(2)之间转动连接有第一传送带装置(4)，所述第一传送带装置(4)的右侧设置有支架(6)，且支架(6)固定在底座(1)上，同时支架(6)的顶部转动连接有转架(9)；
吸料机构(10)，所述吸料机构(10)固定在转架(9)的下端面上；
电动阀门(12)，所述电动阀门(12)贯穿底座(1)的前端面与储水槽(11)相贯通，且储水槽(11)开设在底座(1)的上端面，所述储水槽(11)的底部放置有水泵(14)，且水泵(14)贯穿底座(1)的后侧与输水管道(15)相连接，所述输水管道(15)的前侧与第一分支管道(16)相连接，且第一分支管道(16)贯穿后侧的第二支板(17)与通水通道(18)相连接，所述通水通道(18)固定在第二支板(17)之间，且第二支板(17)的右侧设置有第三支板(20)，同时第二支板(17)和第三支板(20)均固定在底座(1)上端面的前后两侧，所述第三支板(20)之间固定有通气通道(21)，且上侧通气通道(21)的顶部固定有气泵(22)，所述气泵(22)的后侧通过输气管道(23)与第二分支管道(24)相连接，且第二分支管道(24)贯穿后侧的第二支板(17)与通气通道(21)相连接；
承载架(26)，所述承载架(26)固定在底座(1)上端面的右侧，且承载架(26)的内顶部和承载架(26)的内侧均固定有电热板(27)，所述承载架(26)的右侧和第一支板(2)的外侧均设置有第四支板(28)，且第四支板(28)固定在底座(1)上，同时第一支板(2)之间转动连接有第二传送带装置(29)。
2.根据权利要求1所述的一种具有自动清洗烘干功能的硅片扩散设备，其特征在于：所述第一传送带装置(4)的外表面固定有隔板(5)，且隔板(5)等距离分布。
3.根据权利要求1所述的一种具有自动清洗烘干功能的硅片扩散设备，其特征在于：所述支架(6)的顶部内固定有电机(7)，且电机(7)的上侧通过电机轴(8)转动连接有转架(9)。
4.根据权利要求1所述的一种具有自动清洗烘干功能的硅片扩散设备，其特征在于：所述吸料机构(10)包括电动伸缩住(1001)、吸泵(1002)和吸盘(1003)，且电动伸缩住(1001)固定在转架(9)的下端面上，同时电动伸缩住(1001)均匀分布。
5.根据权利要求4所述的一种具有自动清洗烘干功能的硅片扩散设备，其特征在于：所述电动伸缩住(1001)的底部与吸泵(1002)相连接，且吸泵(1002)的底部固定有吸盘(1003)。
6.根据权利要求1所述的一种具有自动清洗烘干功能的硅片扩散设备，其特征在于：所述滤罩(13)罩放在水泵(14)的外侧，且滤罩(13)固定在储水槽(11)底部的后侧壁上。
7.根据权利要求1所述的一种具有自动清洗烘干功能的硅片扩散设备，其特征在于：所述通水通道(18)的内端面贯穿有第一喷头(19)，且每个通水通道(18)上设置有五组第一喷头(19)，同时每组第一喷头(19)等距离分布。
8.根据权利要求1所述的一种具有自动清洗烘干功能的硅片扩散设备，其特征在于：所述通气通道(21)的内端面贯穿有第二喷头(25)，且每个通气通道(21)上设置有五组第二喷头(25)，同时每组第二喷头(25)均匀分布。
9.根据权利要求1所述的一种具有自动清洗烘干功能的硅片扩散设备，其特征在于：所述第二传送带装置(29)的表面呈多孔状，且第二传送带装置(29)设置有五个，同时五个第二传送带装置(29)等距离分布。
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