CN201194231Y - 喷淋式扩散源输送装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种喷淋式扩散源输送装置,所述装置包括:石英扩散管和至少一根具有至少一个开孔的石英进气管,待扩散基片放置在石英扩散管内的石英舟内;所述石英进气管位于石英舟的上方、下方或上方和下方;石英进气管上开孔的位置与石英舟相对。利用本实用新型的装置可以减小石英扩散管内杂质源浓度分布的差异,避免基片对气流的运动产生阻挡。扩散后基片单片方块电阻均匀性与已有技术的进气方式相比,有了比较明显的提高,提升的幅度在5%左右。
Description
技术领域
本实用新型属于太阳能制造工业领域,具体涉及一种用于高温扩散设备的喷淋式扩散源输送装置。
背景技术
晶体硅太阳电池作为一种将太阳能直接转换为电能的半导体器件,其技术最成熟、应用最广泛,占据了90%以上的光伏电池市场份额。太阳能作为一种取之不尽、用之不竭的新型绿色能源已经成为全世界的共识。世界各国均在加大力度积极推进开发利用太阳能工程。高温扩散设备是制备晶体硅太阳电池的关键工艺设备,其技术水平的高低直接决定着电池的光电转换效率。硅片单片方块电阻的均匀性是衡量高温扩散设备效果的重要指标。因此,如何提高基片(硅片)单片方块电阻的均匀性得到了业内人士的广泛关注。
在太阳能制造工业中,石英扩散管内通入含杂质源的工艺气体(扩散源)在高温条件下对基片进行扩散。图1为已有技术的扩散源输送装置的示意图。按照已有技术扩散源输送装置的进气方式,工艺气体从石英扩散管1的尾部通入,从而对装载有待扩散基片的石英舟2中的基片(图中的虚线表示待扩散基片)进行处理。这样的进气方式会造成石英扩散管1内扩散源中杂质源的浓度不均匀;这是因为,基片对气流的运动产生阻挡作用,造成基片与基片之间杂质源浓度不同,基片中心的杂质源浓度低于周围的杂质源浓度,从而造成扩散后基片的单片方块电阻值不均匀。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种用于高温扩散设备的喷淋式扩散源输送装置,它可以提高整个石英扩散管内工艺气体杂质源浓度分布的均匀性,从而提高扩散后基片单片方块电阻均匀性。
本实用新型的喷淋式扩散源输送装置,包括:
石英扩散管;和
至少一根具有至少一个开孔的石英进气管,
其中待扩散基片放置在石英扩散管内的石英舟内,所述石英进气管位于石英舟的上方、下方或上方和下方,且石英进气管上开孔的位置与石英舟相对。
本实用新型的用于高温扩散设备的喷淋式扩散源输送装置的有益效果在于:可以减小石英管内杂质源浓度分布的差异,避免基片对气流的运动产生阻挡。扩散后基片单片方块电阻均匀性与已有技术的进气方式相比,有了比较明显的提高,提升的幅度在5%左右。
附图说明
图1为已有技术的扩散源输送装置的示意图。
图2为本实用新型一种喷淋式扩散源输送装置的示意图。
图3为本实用新型另一种喷淋式扩散源输送装置的示意图。
图4为本实用新型又一种喷淋式扩散源输送装置的示意图。
附图标记说明:
1:石英扩散管
2:装载有待扩散基片的石英舟
3:石英进气管
4:开孔
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的喷淋式扩散源输送装置进行详细说明。
本实用新型的喷淋式扩散源输送装置,包括:
石英扩散管;和
至少一根具有至少一个开孔的石英进气管,
其中待扩散基片放置在石英扩散管内的石英舟内,所述石英进气管位于石英舟的上方、下方或上方和下方,且石英进气管上开孔的位置与石英舟相对。
优选的,所述石英进气管位于石英舟的正上方、正下方或正上方和正下方。
本实用新型的喷淋式扩散源输送装置,当石英进气管为一根时,可以位于石英舟的上方,也可以位于石英舟的下方。
当石英进气管为多根时,可以全部位于石英舟的上方,也可以全部位于石英舟的下方,当然也可以部分位于石英舟的上方,部分位于石英舟的下方。
优选的,所述的石英进气管为一根,且位于石英舟的上方。
当石英进气管的开孔为一个时,石英进气管上开孔的位置与石英舟相对,优选地,位于石英舟中心的正上方。
当石英进气管的开孔为多个时,石英进气管上开孔的位置与石英舟相对,优选地,位于石英舟的正上方,且以石英舟中心为基准沿石英舟长度方向对称设置。
优选地,所述石英进气管的开孔至少两个,位于石英舟的正上方,且以石英舟中心为基准沿石英舟长度方向对称设置。
当然,为了提高基片单片方块电阻杂质源的均匀性,本领域技术人员可以根据需要和实际情况(例如石英舟的大小等因素),设置石英进气管上开孔的数目。当然,开孔的数目越多,杂质源的均匀性越好。
更有利的是,为了得到更均匀的扩散源浓度,扩散源喷淋的范围更广,在进气管的横截面上可以开多排开孔。
附带杂质源的工艺气体(扩散源)从石英进气管上的开孔进入到石英扩散管中,从而对石英扩散管中石英舟内的待扩散基片进行处理。上述的扩散源指的是工艺气体,杂质源是工艺气体中包含的杂质。
上述的石英舟用于盛放待扩散的基片。
上述的基片包含硅片。使用硅片进行描述也不应理解为对本实用新型的限制。
需要说明的是,虽然本发明的内容以及随后的附图中均出现石英舟和基片的描述,但是石英舟和基片并不是本发明装置的必需部分,这只是为了方便读者理解和申请人描述。
图2为本实用新型的一种喷淋式扩散源输送装置的示意图。石英进气管3置于石英舟2(盛放待扩散基片,图中的虚线表示待扩散基片)的正上方,在石英进气管3朝石英舟2的方向有开孔4,孔径≤5mm,以石英舟2放置的中心位置为基准沿其长度方向向两边开孔,开孔的数量>1个。当然,开孔的数量越多,对均匀性的提高越有帮助。扩散源从石英进气管3尾部通入石英扩散管1,再由石英进气管3上的开孔4喷淋到石英扩散管1内进行扩散。
图3为本实用新型的另一种喷淋式扩散源输送装置的示意图。石英进气管3置于石英舟2(盛放待扩散基片)的正下方,在石英进气管3朝石英舟2的方向有开孔4,孔径≤5mm,以石英舟2放置的中心位置为基准沿其长度方向向两边开孔,开孔的数量>1个。当然,开孔的数量越多,对均匀性的提高越有帮助。扩散源从石英进气管3尾部通入石英扩散管1,再由石英进气管3上的开孔4喷淋到石英扩散管1内进行扩散。
图4为本实用新型的另一种喷淋式扩散源输送装置的示意图。石英进气管3置于石英舟2(盛放待扩散基片)的正上方和正下方,在石英进气管3朝石英舟2的方向有开孔4,孔径≤5mm,以石英舟2放置的中心位置为基准沿其长度方向向两边开孔,开孔的数量>1个。当然,开孔的数量越多,对均匀性的提高越有帮助。扩散源从石英进气管3尾部通入石英扩散管1,再由石英进气管3上的开孔4喷淋到石英扩散管1内进行扩散。
Claims (5)
1.一种喷淋式扩散源输送装置,其特征在于,所述装置包括:
石英扩散管;和
至少一根具有至少一个开孔的石英进气管,
其中待扩散基片放置在石英扩散管内的石英舟内,所述石英进气管位于石英舟的上方、下方或上方和下方,且石英进气管上开孔的位置与石英舟相对。
2.根据权利要求1所述的喷淋式扩散源输送装置,其特征在于,所述石英进气管位于石英舟的正上方、正下方或正上方和正下方。
3.根据权利要求2所述的喷淋式扩散源输送装置,其特征在于,当石英进气管的开孔为一个时,石英进气管上开孔的位置与石英舟相对,且位于石英舟中心的正上方。
4.根据权利要求2所述的喷淋式扩散源输送装置,其特征在于,当石英进气管的开孔为多个时,石英进气管上开孔的位置与石英舟相对,位于石英舟的正上方,且以石英舟中心为基准沿石英舟长度方向对称设置。
5.根据权利要求1所述的喷淋式扩散源输送装置,其特征在于,其中的石英进气管为一根。
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CN103409803A (zh) * | 2013-08-22 | 2013-11-27 | 天威新能源控股有限公司 | 用于晶体硅扩散的匀流板及其晶体硅扩散工艺炉 |
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