CN201162218Y - 植草砖 - Google Patents
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Abstract
本实用新型是关于对植草砖的改进,其特征是砖厚度方向一层为大内凹面,一层有相间植草孔。铺设时将大凹面朝上,可以存储较多泥土,种子容易发芽,生长迅速,不仅有利于提高散播草籽成活率,并能将植草连成一片,具有整体植草功能,而且因泥土多植物根系发达,可以显著提高植草后与地面的抗拔能力,抗拔力可以较现有植草砖提高3-5倍。此外,二层泥土腔结构,还有利于根系左右交错生长,更是显著增强了砖块与地面的结合力。植草孔上大下小锥形设计,对提高植草后抗拔能力也是有利的。较现有植草砖,不仅不增加施工工作量,而且植草效率高,绿化迅速,植草后抗拔能力强,与地面结合力牢,防滑性好,不会造成滑移坍塌,固坡效果好,既绿化了坡面,又起到固坡作用。
Description
技术领域
实用新型是对铺地植草砖的改进,尤其涉及一种用于坡面抗拔能力强,防滑性好的植草砖。
背景技术
植草砖,作为一种铺砌地面又能种植花草绿化的植草用砖,主要用于铺设宾馆、酒店、飞机场、住宅小区等停车场及市民广场的地面铺设。现有技术植草砖,其砖型、惯通镂空植草孔型,虽有多种形式,但一个共同特点:植草孔均为上下同截面惯通结构(即相间等截面直通结构)。这种直通植草孔结构植草砖的不足是:植草孔相对较小,所盛装泥土较少,散播草籽成活率低,各孔植草相互独立,无牵连作用,整体性差,而且根系欠发达,为无交错的直通根系,因而与地面泥土间的抗拔能力差,只能用于平面铺设。用于斜坡面(例如公、铁路护坡,破坏山体护坡及堤坝、河岸护坡),则因植草根系差,根系束缚力低,抗拔能力差;以及自重产生沿斜坡下滑分力积累(坡度越陡,下滑分力积累压力越大);动物践踏;与砖体底层接触表土被雨水浸润,摩擦系数降低等因素影响,极易造成铺砖坍塌滑移,甚至引发滑坡事故。特别是用于坡度较陡的护岸河坡铺设,还因水浪冲击更是容易坍滑,因此此类植草砖基本不能用于坡面铺设绿化。
为提高植草砖在坡面的防滑性,中国专利CN1555674、CN1590657、CN2659967公开的防滑移护坡植草砖。它们均是采用在砖体上设有惯通的锚固孔,将砖体铺设土层后,用插条钉入土层固定,然后再在锚固孔表面抹砂浆封口,从而达到植草砖的固定防滑移。然而此种植草砖虽然具有在坡面使用防滑移,但锚固施工用工量较大,实际不可能。
实用新型内容
实用新型目的在于克服上述已有技术足,提供一种植草茂盛,与地面结合性好,抗拔能力强,不仅能用于平地,而且用于坡面防滑性好,又不增加铺设工作量的植草砖。
实用新型目的实现,主要改进是将植草砖按厚度方向分成具有二种储土结构,上层为大凹面储土腔,下层与通常植草砖相同,有相间的植草孔,通过增加植草砖泥土存储量,使植草茂盛,植草根系发达,从而增加了与地面锚固抗拔力,实现实用新型目的。具体说,实用新型植草砖,包括带植草孔的镂空砖体,其特征在于砖厚度方向一层为大内凹面,一层有相间植草孔。
实用新型植草砖,其砖形不限,例如可以是正方形、长方形、六角形、圆形、多边形、菱形、花辨形等,周边还可以采用榫口结构和斜面搭接结构,以提高铺设后的整体性;植草孔型也不限,例如可以为长条形、圆形、菱形、波纹形等。对于砖型较大的植草砖,其大凹面层还可以加设分隔条,分成二或若干大凹面,通过分隔以减少泥土流失。所说植草孔,一种更好形式是呈上大下小锥形结构,更有利于增强植草后的抗拔能力。
实用新型所说大凹面,是相对于植草孔截面而言,截面远较植草孔大,可以存放较多泥土。
此外,为进一步提高用于坡面抗斜坡滑移能力,一种较好还可以是在铺设底面制有下伸凸出脚和/或锯齿形,以增强与坡面防滑力。
实用新型植草砖,由于在厚度方向分成大凹面和通常植草孔二层结构,铺设时将大凹面朝上,上方大凹面可以存储较多泥土,播草种子容易发芽,且生长迅速,不仅有利于提高散播草籽成活率,使植草越长越茂盛,并且能不断衍生,能将植草连成一片,具有整体植草功能,而且因泥土多植物根系发达,可以显著提高植草后与地面的结合抗拔能力,抗拔力可以较现有植草砖提高3-5倍,特别适用于坡面绿化铺设及固坡。此外,二层泥土腔结构,还有利于根系左右交错生长,更是显著增强了植草砖与地面的结合力,提高了抗拔能力。铺设底部下伸凸出脚和/或锯齿形,更是增加了抗斜坡下滑能力。植草孔截面上大下小锥形结构,对提高植草后抗拔能力也是有利的,更能提高抗拔能力。实用新型植草砖,较现有技术植草砖,不仅不增加施工工作量,可以与现有技术植草砖同样铺设,而且植草效率高,绿化迅速,植草后抗拔能力强,与地面结合力牢,防滑性好,不需另行增加锚固措施,用于坡面不会造成滑移坍塌,固坡、护坡效果好,既绿化了坡面,又起到固坡、堤作用。
以下结合四个具体实施例,示例性说明及帮助进一步理解实用新型,但实施例具体细节仅是为了说明实用新型,并不代表实用新型构思下全部技术方案,因此不应理解为对实用新型总的技术方案的限定,一些在技术人员看来,不偏离实用新型构思的非实质性改动,例如具有相同或相似技术效果技术特征的简单改变或替换,均属实用新型护范围。
附图说明
图1为实用新型第一实施例俯视结构示意图。
图2为图1剖面结构示意图。
图3为实用新型第二实施例俯视结构示意图。
图4为图3剖面结构示意图。
具体实施方式
实施例1:参见图1、2,实用新型植草砖1,由砂石混凝土浇注成厚10cm的六边形,其中厚度方向上部5cm左右为无间隔的大凹面2,下部5cm有相间长条形植草孔3。
实施例2:参见图3、4,如实施例1,其中植草砖1呈正方形,底部有下伸凸出脚4,以增加抗斜坡下滑能力。
实施例3:如前述,厚度下部植草孔呈上大下小(近大凹面孔截面大)锥形孔结构,更可以提高植草后抗拔能力。
实施例4:如前述,对于较大面积植草砖,上部大凹面中还可以加设十字分隔,将大凹面分隔成4份。
此外,对于本领域技术人员来说,在实用新型构思启示下,能够从本专利公开内容直接导出或联想到的一些变形,例如植草砖周面有连接榫口和/或斜面搭接结构,底面还可以是锯齿形,砖形及植草孔形状变化,厚度、大小变化,制作砖材料变化……等等,不再一一举例细说,均具有相同技术效果,均应属于本专利保护范围。
Claims (7)
1、植草砖,包括带植草孔的镂空砖体,其特征在于砖厚度方向一层为大内凹面,一层有相间植草孔。
2、根据权利要求1所述植草砖,其特征在于大内凹面和相间植草孔约各占厚度1/2左右。
3、根据权利要求1所述植草砖,其特征在于大内凹面有隔断条分隔。
4、根据权利要求1所述植草砖,其特征在于所述植草砖底部有下伸凸出脚和/或锯齿形。
5、根据权利要求1、2、3或4或所述植草砖,其特征在于植草孔呈上大下小的锥形孔。
6、根据权利要求1、2、3或4所述植草砖,其特征在于植草砖周面有连接榫口和/或斜面搭接结构。
7、根据权利要求5所述植草砖,其特征在于植草砖周面有连接榫口和/或斜面搭接结构。
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CNU2008200315957U CN201162218Y (zh) | 2008-02-13 | 2008-02-13 | 植草砖 |
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2008
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