CN201105991Y - 多晶硅氢还原炉 - Google Patents

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易正义
徐远林
张春林
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Abstract

本实用新型提供了一种多晶硅氢还原炉。包括壳体，炉支架，壳体上部设有封头，安装在炉支架上的底盘，底盘上设有电极和与电极一对应安装的硅芯棒，炉支架底盘下部安装有进、出气管，进、出气管分别与安装在底盘上表面的喷口和尾气出口连通，进气管上设有控制流量和压力的调节阀，电极和硅芯棒为各13对，即各26个，且在底盘上沿三个圆周均布，由内圆周向外圆周分别为第一圈5个、第二圈5个、第三圈16个；底盘的喷口为7个，其中1个喷口设置在底盘中心，其余6个喷口均布设置在第二和第三电极圈之间，尾气出口设置在底盘中心。本实用新型可有效提高多晶硅的产量，同时节能降耗。

Description

多晶硅氢还原炉
技术领域
本实用新型涉及一种多晶硅生产的装置，主要涉及多晶硅氢还原炉。
背景技术
多晶硅氢还原炉是制备多晶硅的专用设备，其本身对产品的质量影响很大，同时多晶硅氢还原炉又是一个高耗能的设备。因此，还原炉的好坏，以及是否节能，直接影响到产品的质量、性能和生产成本。过去使用氢还原炉一个对数少，另一个是进出气管要么集中在一起，要么分开后出气又与中心位置偏离，造成炉内气流分布不均匀，影响多晶硅的沉积速度和多晶硅的质量；以前还原炉普遍是常压或压力很低的操作方式，而我们采用的是0.6Mpa以上操作压力，这样会更加降低生产成本，加快多晶硅的沉积速率。
发明内容
本实用新型的目的在于克服上述技术缺陷，提供一种多晶硅氢还原炉。本实用新型可有效提高多晶硅的产量，同时节能降耗。
为实现上述发明目的，本实用新型采用的技术方案是：
多晶硅氢还原炉，包括壳体，炉支架，壳体上部设有封头，，安装在炉支架上的底盘，底盘上设有电极和与电极一一对应安装的硅芯棒，炉支架底盘下部安装有进、出气管，进、出气管分别与安装在底盘上表面的喷口和尾气出口连通，进气管上设有控制流量和压力的调节阀，其特征在于：所述电极和硅芯棒为各13对，即各26个，且在底盘上沿三个圆周均布，由内圆周向外圆周分别为第一圈5个、第二圈5个、第三圈16个；所述底盘的喷口为7个，其中1个喷口设置在底盘中心，其余6个喷口均布设置在第二和第三电极圈之间，所述尾气出口设置在底盘中心。
所述第一圈电极和第二圈电极通过电极板连接，并通过设置在电极上的硅芯棒分别串接组成电路回路；第三电极圈逐一间隔用电极板连接并通过设置在电极上的硅芯棒分别串接组成电路回路。
所述封头和壳体为相通的夹套式螺旋冷却结构，冷却介质进口设置在壳体下部，冷却介质出口设置在封头顶部。
所述电极也设有夹套式冷却结构，且每2-3组电极的冷却结构相互串接。
所述出气管设有夹套式冷却结构。
本实用新型的优点在于：
由于本实用新型是采用气态氯硅烷的化合物与氢气混合气，在还原炉中发生还原反应，还原反应沉积成多晶硅棒的原理，被还原的硅沉积在通过电极电控供电加热的硅芯棒上；本实用新型采用了电极和硅芯棒为各13对，即各26个，且在底盘上沿三个圆周均布，由内圆周向外圆周分别为第一圈5个、第二圈5个、第三圈16个的方式分布电极，由于电极分布均匀，并且电器控制每相合理，加之把7个喷口的分布方式，这样通过调节阀调节混合气体喷速和压力，合理且气体分布均匀，不仅满足了大直径、多对棒的生产需要，同时也能达到最佳电耗和最佳物料单耗。
附图说明：
图1为本实用新型多晶硅氢还原炉结构示意图。
图2为本实用新型电极和喷口在底盘上的分布示意图。
图中标记：1为冷却介质出口，2为视镜，3为壳体，4为电极和硅芯棒，5为冷却介质进口，6为底盘，7为炉支架，8为封头夹套，9为封头，10为壳体夹套，11为法兰，12为进气管，13为出气管，14为喷口，15为尾气出口。
具体实施方式
多晶硅氢还原炉，包括壳体3，炉支架7，壳体3上部设有封头9，封头9和壳体3为相通的夹套式螺旋冷却结构，冷却介质进口5设置在壳体3下部，冷却介质出口1设置在封头9顶部，安装在炉支架7上的底盘6，底盘6上设有电极和与电极一一对应安装的硅芯棒4，炉支架7的底盘6下部安装有进、出气管12、13，进、出气管12、13分别与安装在底盘6上表面的喷口14和尾气出口15连通，进气管12上设有控制流量和压力的调节阀，所述电极和硅芯棒4为各13对，即各26个，且在底盘6上沿三个圆周均布，由内圆周向外圆周分别为第一圈5个、第二圈5个、第三圈16个，第一圈电极和第二圈电极通过电极板连接，并通过设置在电极上的硅芯棒分别串接组成电路回路；第三电极圈逐一间隔用电极板连接并通过设置在电极上的硅芯棒分别串接组成电路回路。；所述底盘6的喷口14为7个，其中1个喷口设置在底盘6中心，其余6个喷口14均布设置在第二和第三电极圈之间，所述尾气出口15设置在底盘6中心。所述电极也设有夹套式冷却结构，且每2-3组电极的冷却结构相互串接。所述出气管13设有夹套式冷却结构。

Claims (5)

1、多晶硅氢还原炉，包括壳体(3)，炉支架(7)，壳体(3)上部设有封头(9)，安装在炉支架(7)上的底盘(6)，底盘(6)上设有电极和与电极一一对应安装的硅芯棒(4)，底盘(6)下部安装有进、出气管(12、13)，进、出气管(12、13)分别与安装在底盘(6)上表面的喷口(14)和尾气出口(15)连通，进气管(12)上设有控制流量和压力的调节阀，其特征在于：所述电极和硅芯棒(4)为各13对，即各26个，且在底盘(6)上沿三个圆周均布，由内圆周向外圆周分别为第一圈5个、第二圈5个、第三圈16个；所述底盘(6)的喷口(14)为7个，其中1个喷口(14)设置在底盘(6)中心，其余6个喷口(14)均布设置在第二和第三电极圈之间，所述尾气出口(15)设置在底盘中心。
2、根据权利要求1所述的多晶硅氢还原炉，其特征在于：所述第一圈电极和第二圈电极通过电极板连接，并通过设置在电极上的硅芯棒分别串接组成电路回路；第三电极圈逐一间隔用电极板连接并通过设置在电极上的硅芯棒分别串接组成电路回路。
3、根据权利要求1或2所述的多晶硅氢还原炉，其特征在于：所述封头(9)和壳体(3)为相通的夹套式螺旋冷却结构，冷却介质进口(5)设置在壳体(3)下部，冷却介质出口(1)设置在封头(9)顶部。
4、根据权利要求1所述的多晶硅氢还原炉，其特征在于：所述电极4也设有夹套式冷却结构，且每2-3组电极的冷却结构相互串接。
5、根据权利要求1所述的多晶硅氢还原炉，其特征在于：所述出气管(13)设有夹套式冷却结构。
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