CN1949043A - 液晶面板、液晶面板的制造方法及电子设备 - Google Patents

Abstract

本发明提供耐久性优良的液晶面板、该液晶面板的制造方法及电子设备。液晶面板(1)具有：TFT基板(17)；与TFT基板(17)相面对的液晶面板用对置基板(12)；与TFT基板(17)接合了的无机取向膜(3)；液晶面板用对置基板(12)；与液晶面板用对置基板(12)接合了的无机取向膜(4)；被封入了无机取向膜(3)和无机取向膜(4)的空隙的含有液晶分子的液晶层(2)。此外，在各无机取向膜(3、4)的与密封部(5)重合的区域，以填满细孔(30、40)内并且覆盖表面的方式，填充有包含具有与无机取向膜(3、4)的亲和性高的第一官能团、与密封部(5)的亲和性高的第二官能团的化合物的填充物(6)。

Description

液晶面板、液晶面板的制造方法及电子设备

技术领域

本发明涉及液晶面板、液晶面板的制造方法及电子设备。

背景技术

近年来，垂直取向型的液晶显示元件(液晶面板)在液晶电视(直视型显示装置)、液晶投影仪(投射型显示装置)等中已经被实用化。

作为这些垂直取向型的液晶显示元件中所用的垂直取向膜，例如在液晶电视中使用聚亚酰胺等有机取向膜。另外，在液晶投影仪中，多用无机取向膜。

另外，对于液晶面板的密封构造或密封材料，也进行了各种研究(例如参照专利文献1、2。)。

但是，在密封材料中，广泛地使用以有机材料作为主成分的粘接剂。由此，当取向膜为无机取向膜时，密封材料与取向膜的粘接强度或密接性低，水分等容易从它们的界面侵入。这样，当水分侵入液晶层时，液晶分子就会变质·老化，其结果是，有在液晶面板中产生显示不良的问题。

[专利文献1]特开2002-350874号公报

[专利文献2]特开2001-89568号公报

发明内容

本发明的目的在于，提供耐久性优良的液晶面板、该液晶面板的制造方法及电子设备。

此种目的可以利用下述的本发明来达成。

本发明的液晶面板的特征是，具有：

一对基板；

设于所述各基板的相面对的面侧，具有多个细孔的无机取向膜；

设于所述无机取向膜之间的液晶层；

在所述无机取向膜之间被沿着所述无机取向膜的外周部设置，将所述液晶层密封的密封部，

在所述各无机取向膜的与所述密封部重合的区域，以填满所述细孔内并且覆盖表面的方式，填充有包含具有与所述无机取向膜的亲和性高的第一官能团、与所述密封部的亲和性高的第二官能团的化合物的填充物。

根据本发明，可以防止水分等经过密封部与无机取向膜的界面或无机取向膜的细孔而侵入液晶层的情况，这样，就可以获得耐久性优良的液晶面板。

本发明的液晶面板最好所述第一官能团是与所述无机取向膜形成共价键的基。

这样，就可以进一步提高夹隔了填充物的无机取向膜与密封部的密接性。

本发明的液晶面板中，最好所述无机取向膜作为主材料由SiO₂或Al₂O₃构成，

所述第一官能团为烷基甲硅烷基或羟基。

这些官能团与存在于无机取向膜中的羟基的反应性高，可以实现填充物与无机取向膜的密接性的提高。

本发明的液晶面板中，最好所述无机取向膜为斜向蒸镀膜。

由斜向蒸镀膜形成的无机取向膜特别是由于细孔以高密度存在，因此如果在具备该无机取向膜的液晶面板中应用本发明，则可以更为明显地发挥防止水分等向液晶层的侵入的效果。

本发明的液晶面板中，最好所述第二官能团是与所述密封部形成共价键的基。

这样，就可以进一步提高夹隔了填充物的无机取向膜与密封部的密接性。

本发明的液晶面板中，最好所述密封部作为主材料由具有聚合性基的树脂材料构成，

所述第二官能团是与所述聚合性基聚合的基。

这样，就可以实现填充物与密封部的密接性的提高。

本发明的液晶面板中，最好所述填充物中的所述化合物的含量在50wt％以上。

通过在填充物中将所述化合物的含量(含有率)设为该范围，无论密封部的构成材料的种类或所述化合物的种类等如何，都可以获得密封部与填充物的充分的密接性。

本发明的液晶面板中，最好所述化合物的平均分子量为100～500。

由于该分子量的化合物在常温下为液状，或在比较低的温度下变为液状，因此容易处置，另外，在各种溶剂中的溶解性高。由此，在液晶面板的制造工序中使用的填充物组合物的调制或其处置就变得容易。

本发明的液晶面板的制造方法是制造具有：一对基板；设于所述各基板的相面对的面侧，具有多个细孔的无机取向膜；设于所述无机取向膜之间的液晶层；在所述无机取向膜之间被沿着所述无机取向膜的外周部设置，将所述液晶层密封的密封部的液晶面板的方法，其特征是，具有：

准备一对在一方的面侧具有所述无机取向膜的基板的第一工序；

在所述各无机取向膜的外周部，以填满其细孔内并且覆盖表面的方式，填充包含具有与所述无机取向膜的亲和性高的第一官能团、与所述密封部的亲和性高的第二官能团的化合物的填充物的第二工序；

向所述各无机取向膜的填充了所述填充物的区域内，供给用于形成所述密封部的液状的密封材料的第三工序；

在将所述一对基板以在它们之间形成间隙的方式，使所述密封材料之间接触地配置后，将所述密封材料硬化的第四工序；

向所述间隙中注入液晶组合物，形成所述液晶层的第五工序；

将在注入所述液晶组合物中所用的注入口密封的第六工序。

这样，就可以制造能够防止水分等经过密封部与无机取向膜的界面、无机取向膜的细孔而侵入液晶层的情况的液晶面板，即，可以制造耐久性优良的液晶面板。

本发明的液晶面板的制造方法中，最好在所述第二工序中，所述填充物的填充是通过将含有该填充物的液状的填充物组合物向所述各无机取向膜供给而进行的。

通过使用此种方法，即，通过使用液相过程，就可以进一步提高填充物向细孔中的填充率。

本发明的液晶面板的制造方法中，最好所述填充物组合物的粘度低于所述密封材料的粘度。

这样，就可以将足够量的填充物填充至无机取向膜的细孔的更深处。

本发明的电子设备的特征是，具备本发明的液晶面板。

这样，就可以获得可靠性高的电子设备。

附图说明

图1是示意性地表示本发明的液晶面板的实施方式的纵剖面图。

图2是将图1所示的液晶面板的外周部附近放大表示的纵剖面图。

图3是表示图1所示的液晶面板的制造方法中所用的真空蒸镀装置的构成的示意图。

图4是表示图1所示的液晶面板的制造方法中所用的处理装置的构成的示意图。

图5是示意性地表示应用了本发明的电子设备的投射型显示装置的光学系统的图。

其中，1……液晶面板，2……液晶层，3、4……无机取向膜，30、40……细孔，5……密封部，6……填充物，11……微透镜基板，111……附带微透镜用凹部基板，112……凹部，113……微透镜，114……表层，115……树脂层，12……液晶面板用对置基板，13……黑矩阵，131……开口，14……透明导电膜，17……TFT基板，171……玻璃基板，172……象素电极，173……薄膜晶体管，800……无机氧化物(原料)，810……蒸镀源，820……狭缝板，821……狭缝，830……驱动装置，900……处理装置，910……小室，920……容器，930……排气机构，931……排气管线，932……泵，933……阀，940……排液机构，941……排液管线，942……泵，943……阀，944……回收罐，950……台架，960……供液机构，961……供液管线，962……泵，963……阀，964……贮留罐，S……处理液，300……投射型显示装置，301……光源，302、303……积分透镜，304、306、309……反射镜，305、307、308……分色镜，310～314……聚光透镜，320……屏幕，20……光学模块，21……分色棱镜，211、212……分色镜面，213～215……面，216……出射面，22……投射透镜，23……显示组件，24～26……液晶灯泡

具体实施方式

下面将在参照附图的同时，对本发明的液晶面板、液晶面板的制造方法及电子设备进行详细说明。

图1是示意性地表示本发明的液晶面板的实施方式的纵剖面图，图2是将图1所示的液晶面板的外周部附近放大表示的纵剖面图。而且，图1中，将配线等的记载省略。另外，以下的说明中，将图1及图2中的上侧称为「上」，将下侧称为「下」。

图1所示的液晶面板(TFT液晶面板)1具有：TFT基板(液晶驱动基板)17、与TFT基板17接合了的无机取向膜3、液晶面板用对置基板12、与液晶面板用对置基板12接合了的无机取向膜4、被封入无机取向膜3与无机取向膜4的空隙中的含有液晶分子的液晶层2、设于液晶面板1的外周部的密封部(封口部)5、与TFT基板(液晶驱动基板)17的外表面(上面)侧接合了的偏光膜7、与液晶面板用对置基板12的外表面(下面)侧接合了的偏光膜8。

液晶面板用对置基板12具有：微透镜基板11；设于该微透镜基板11的表层114上，形成了开口131的黑矩阵13；在表层114上以覆盖黑矩阵13的方式设置的透明导电膜(公共电极)14。

微透镜基板11具有：设置了具有凹曲面的多个(多数)凹部(微透镜用凹部)112的附带微透镜用凹部基板111、在该附带微透镜用凹部基板111的设置了凹部112的面上被夹隔树脂层(粘接剂层)115而接合了的表层114。

另外，树脂层115中，利用填充于凹部112内的树脂形成有微透镜113。

附带微透镜用凹部基板111由平板状的母材(透明基板)制造，在其表面上，形成有多个(多数)凹部112。

凹部112例如可以利用使用了掩模的干式蚀刻法、湿式蚀刻法等来形成。

该附带微透镜用凹部基板111例如由玻璃等构成。

所述母材的热膨胀系数最好与玻璃基板171的热膨胀系数大致相等(例如两者的热膨胀系数的比为1/10～10左右)。这样，在所得的液晶面板1中，就可以防止在温度变化时因两者的热膨胀系数不同而产生的翘曲、弯曲、剥离等。

基于该观点，附带微透镜用凹部基板111、玻璃基板171最好由相同种类的材质构成。这样，就可以有效地防止由温度变化时的热膨胀系数的差异造成的翘曲、弯曲、剥离等。

特别是，在后述的TFT基板17中，优选使用特性很难随制造时的环境而变化的石英玻璃。由此，与之对应，最好将附带微透镜用凹部基板111用石英玻璃构成。这样，就可以获得难以产生弯曲等的、稳定性优良的液晶面板1。

在附带微透镜用凹部基板111的上面，设有覆盖凹部112的树脂层(粘接剂层)115。

在凹部112内，通过填充树脂层115的构成材料，形成微透镜113。

树脂层115例如可以用比附带微透镜用凹部基板111的构成材料的折射率更高的折射率的树脂(粘接剂)构成，例如可以用丙烯酸类树脂、环氧类树脂、丙烯酸环氧类这样的紫外线硬化树脂等理想地构成。

在树脂层115的上面，设有平板状的表层114。

表层(玻璃层)114例如可以用玻璃构成。该情况下，表层114的热膨胀系数最好设为与附带微透镜用凹部基板111的热膨胀系数大致相等的值(例如两者的热膨胀系数的比为1/1 0～10左右)。这样，就可以防止由附带微透镜用凹部基板111与表层114的热膨胀系数的差异产生的翘曲、弯曲、剥离等。当将附带微透镜用凹部基板111与表层114用同种材料构成时，此种效果可以更为有效地获得。

从获得必需的光学特性的观点考虑，表层114的平均厚度通常被设为5～1000μm左右，更优选设为10～150μm左右。

而且，表层(阻挡层)114例如也可以用陶瓷构成。而且，作为陶瓷，例如可以举出AlN、SiN、TiN、BN等氮化物类陶瓷、Al₂O₃、TiO₂等氧化物类陶瓷、WC、TiC、ZrC、TaC等碳化物类陶瓷等。

当将表层114用陶瓷构成时，表层114的平均厚度虽然没有特别限定，然而优选设为20nm～20μm左右，更优选设为40nm～1μm左右。

而且，此种表层114根据需要可以省略。

黑矩阵13具有遮光功能，例如可以由Cr、Al、Al合金、Ni、Zn、Ti等金属、分散了碳或钛等的树脂等构成。

透明导电膜14具有导电性，例如由铟锡氧化物(ITO)、铟氧化物(IO)、氧化锡(SnO₂)等构成。

TFT基板17是对液晶层2所含有的液晶分子进行驱动(取向控制)的基板，具有：玻璃基板171；设于该玻璃基板171上，被以矩阵状(行列状)配设的多个(多数)象素电极172；与各象素电极172对应的多个(多数)薄膜晶体管(TFT)173。

基于如前所述的理由，玻璃基板171最好由石英玻璃构成。

象素电极172通过在与透明导电膜(公共电极)14之间进行充放电，驱动液晶层2的液晶分子。该象素电极172例如由与所述的透明导电膜14相同的材料构成。

薄膜晶体管173被与附近的对应的象素电极172连接。另外，薄膜晶体管173被与未图示的控制电路连接，控制向象素电极172供给的电流。这样，就可以控制象素电极172的充放电。

在TFT基板17的外表面(图1中上面)侧，配置有偏光膜(偏振片、偏光薄膜)7。同样地，在液晶面板用对置基板12的外表面(图1中下面)侧，配置有偏光膜(偏振片、偏光薄膜)8。

作为偏光膜7、8的构成材料，例如可以举出聚乙烯醇(PVA)等。另外，作为偏光膜，也可以使用在所述材料中掺杂了碘的材料等。

作为偏光膜，例如可以使用将由所述材料构成的膜沿单轴方向延伸了的材料。

通过配置此种偏光膜7、8，就可以更为可靠地进行利用通电量的调节实现的光的透过率的控制。

偏光膜7、8的偏光轴的方向通常要根据无机取向膜3、4的取向方向(本实施方式中为电压施加时)来决定。

另外，在TFT基板17中，与象素电极172接合地设有无机取向膜3，在液晶面板用对置基板12中，与透明导电膜14接合地设有无机取向膜4。

本实施方式中，利用TFT基板17和无机取向膜3构成第一电子设备用基板，利用液晶面板用对置基板12和无机取向膜4构成第二电子设备用基板。

此外，在这些无机取向膜3和无机取向膜4之间夹插(设置)有液晶层2。液晶层2含有液晶分子(液晶材料)，该液晶分子的取向与象素电极172的充放电对应地变化。

作为液晶分子，例如可以举出苯基环己烷衍生物、联苯衍生物、联苯基环己烷衍生物、双环己烷衍生物、甲亚胺衍生物、嘧啶衍生物、二氧杂环乙烷衍生物、立方烷衍生物以及在这些衍生物中导入了氟基、三氟甲基、三氟甲氧基、二氟甲氧基等氟类取代基的材料等。

而且，如后所述，当使用无机取向膜3、4时，液晶分子容易垂直取向，而作为适于垂直取向的液晶分子，例如可以举出以下述化1～化3表示的化合物等。

[化1]

[化2]

[化3]

[式中，环A～I各自独立，表示环己烷环或苯环，R¹～R⁶各自独立，表示烷基、烷氧基或氟原子的某种，X¹～X¹⁸各自独立，表示氢原子或氟原子。]

无机取向膜(垂直取向膜)3、4具有限制液晶层2所含有的液晶分子的(无电压施加时的)取向状态的功能。

而且，对于这些无机取向膜3、4的构成，将在后面详述。

此种液晶面板1中，通常来说，1个微透镜113、与该微透镜113的光轴Q对应的黑矩阵13的1个开口131、1个象素电极172、与该象素电极172连接的1个薄膜晶体管173对应于1个象素。

从液晶面板用对置基板12侧射入的入射光L穿过附带微透镜用凹部基板111，在穿过微透镜113之时被聚光的同时，透过树脂层115、表层114、黑矩阵13的开口131、透明导电膜14、液晶层2、象素电极172、玻璃基板171。

此时，由于在微透镜基板11的入射侧设有偏光膜8，因此在入射光L透过液晶层2时，入射光L就变为直线偏振光。

此时，该入射光L的偏振光方向被与液晶层2的液晶分子的取向状态对应地控制。所以，通过使透过了液晶面板1的入射光L透过偏光膜7，就可以控制出射光的亮度。

像这样，液晶面板1具有微透镜113，而且穿过了微透镜113的入射光L被聚光而穿过黑矩阵13的开口131。

另一方面，黑矩阵13的未形成开口131的部分中，入射光L被遮挡。所以，液晶面板1中，可以防止不需要的光从象素以外的部分泄漏，并且可以抑制象素部分处的入射光L的衰减。由此，液晶面板1在象素部具有很高的光的透过率。

此外，无机取向膜3、4分别如图2所示，形成具有多个细孔30、40的构造，各细孔30、40的轴以相对于TFT基板17(液晶面板用对置基板12)的上面(形成有无机取向膜3、4的面)倾斜的状态单轴取向。

这里，所谓各细孔30、40的轴单轴取向是指，大多数的细孔30、40的轴基本上朝向相等的方向(细孔30、40的轴的平均的方向被控制)，在多个细孔30、40中，也可以包含轴的方向朝向与大多数的轴不同的方向的细孔30、40。

像这样，因各细孔30、40规则地排列，无机取向膜3、4就具有很高的构造规则性。

利用此种构成，液晶层2所含有的液晶分子就容易垂直取向(homeotropic取向)。所以，此种构成的无机取向膜3、4在VA(VerticalAlignment)型的液晶面板的构筑中十分有用。

另外，由于无机取向膜3、4具有很高的构造规则性，因此液晶分子的取向方向也会更为正确地统一为一定方向(垂直方向)。其结果是，可以实现液晶面板1的性能(特性)的提高。

而且，细孔30、40与TFT基板17或液晶面板用对置基板12的上面所成的角度(图2中角度θ)虽然没有特别限定，然而优选45～85°左右，更优选55～75°左右。这样，就可以更为可靠地使液晶分子垂直取向。

此种无机取向膜3、4可以由例如利用斜向蒸镀膜、电子束蒸镀膜、磁控管溅射法或离子束溅射法形成的膜等构成，然而特别优选利用斜向蒸镀膜构成。斜向蒸镀膜由于细孔30、40的取向性高，另外能够尺寸精度高地进行其形成，因此优选。

另外，利用斜向蒸镀膜形成的无机取向膜3、4特别是由于细孔30、40以高密度存在，因此通过将本发明的构成应用于具备该无机取向膜3、4的液晶面板1中，就可以更为明显地发挥后述的本发明的效果。

无机取向膜3、4优选作为主材料由无机氧化物构成。一般来说，无机材料与有机材料相比，具有更为优良的化学稳定性(光稳定性)。由此，无机取向膜3、4与由有机材料构成的取向膜相比，具有特别优良的耐光性。

另外，构成无机取向膜3、4的无机氧化物优选其介电常数比较低的材料。这样，就可以在液晶面板1中更为有效地防止烧附等。

作为此种无机氧化物，例如可以举出SiO₂、SiO之类的硅氧化物、Al₂O₃、MgO、TiO、TiO₂、In₂O₃、Sb₂O₃、Ta₂O₅、Y₂O₃、CeO₂、WO₃、CrO₃、GaO₃、HfO₂、Ti₃O₅、NiO、ZnO、Nb₂O₅、ZrO₂、Ta₂O₅等金属氧化物，可以将它们当中的1种或2种以上组合使用，然而特别优选以SiO₂或Al₂O₃作为主成分。SiO₂或Al₂O₃介电常数特别低，并且具有很高的光稳定性。

此种无机取向膜3、4显示出如下的倾向，即，细孔30、40所占的比例越多，也就是规则性地排列的细孔30、40越是高密度地存在，则对于液晶层2所含的液晶分子的取向性(依赖于无机取向膜的形状的取向性)就越是增大，然而，当细孔30、40所占的比例过多时，则在无机取向膜3、4的表面及细孔30、40的内面露出存在的活性的羟基的数目就会变多，随时间推移而产生各种杂质的附着、与液晶分子的反应，垂直锚定力降低，显示出容易产生取向异常的倾向。

所以，在无机取向膜3、4中，通过将细孔30、40所占的比例设定为适度的范围，就能够长期地发挥对液晶分子的优良的取向性。

而且，作为所述杂质，例如可以举出密封液晶层2的密封材料(封口材料)中的杂质及未反应成分、液晶层中的杂质及水分、制造过程中附着的污垢等。

这里，无机取向膜3、4中的细孔30、40所占的比例分别可以用无机取向膜3、4的表面积与TFT基板17的上面及液晶面板用对置基板12的上面，即无机取向膜3、4所形成的基板的一方的面的表面积的比作为指标。而且，所谓无机取向膜3、4的表面积的值是指将无机取向膜3、4的表面的面积、细孔30、40的内面的面积合计后的值。

该表面积的比的值越大，则无机取向膜3、4中的细孔30、40所占的比例就会越多。

在各表面积的测定方法中，分别优选使用BET(Brunauer-Emmett-Teller)法。作为表面积的测定法，有气体吸附法(BET法、Harkins-Jura的相对法)、液相吸附法、浸渍热法、透过法等，然而如果利用该BET法，则可以正确地测定复杂的形状的无机取向膜3、4的表面积，即，无机取向膜3、4的表面及细孔30、40的内面的全面积。

而且，该表面积的比的值也受到(依赖于)无机取向膜3、4的膜厚的影响而变动。

考虑到此种情况，本发明人反复进行了深入研究，结果发现，当无机取向膜3、4满足如下的关系时，则液晶分子的取向性就会极为良好。

即，当将利用BET法测定的TFT基板17、液晶面板用对置基板12的上面的表面积设为S₁[nm²]，将利用BET法测定的无机取向膜3、4的表面积设为S₂[nm²]，将无机取向膜3、4的平均厚度设为t[nm]时，则无机取向膜3、4最好满足0.55log_et≤S₂/S₁≤0.55log_et+4.4的关系。

这样，就可以防止因面积比S₂/S₁过小，即，因无机取向膜3、4中的细孔30、40所占的比例过小，使得初期的液晶分子的取向性明显降低的情况。另一方面，可以防止因面积比S₂/S₁过大，即，因无机取向膜3、4中所存在的活性的羟基的数目过多，使得液晶分子的取向性随时间推移而降低的情况。

在该BET法中，虽然无论是BET多点法、BET单点法的哪种都可以，然而优选使用BET多点法。如果利用BET多点法，则可以更为正确地测定无机取向膜3、4的表面积。

另外，作为BET法中所用的吸附气体，例如可以举出氪气、氖气之类的稀有气体、氮气等，然而优选使用稀有气体，特别优选使用氪气。如果利用使用氪气的BET法，则能够再现性尤为良好地并且正确地进行表面积的测定。

另外，虽然面积比S₂/S₁和平均厚度t只要满足0.55log_et≤S₂/S₁≤0.55log_et+4.4的关系即可，然而优选满足0.55log_et≤S₂/S₁≤0.55log_et+3.5的关系，更优选满足0.55log_et+0.5≤S₂/S₁≤0.55log_et+2的关系。

而且，无机取向膜3、4的表面积可以通过适当地设定无机取向膜3、4的成膜时的条件(例如如后所述的斜向蒸镀时的蒸镀装置内的真空度、蒸镀速度等各种条件)来调整。

平均厚度t的具体的值优选20～300nm左右，更优选20～150nm左右，进一步优选40～80nm左右。当无机取向膜3、4的厚度过薄时，则有可能无法充分地防止液晶分子直接与象素电极172(透明导电膜14)接触而短路的情况。另一方面，当无机取向膜3、4的厚度过厚时，则液晶面板1的驱动电压变高，消耗功率有可能变大。

另外，面积比S₂/S₁的具体的值优选2～5左右，更优选2.5～4左右。这样，就可以进一步提高液晶分子的取向性。

而且，所述说明中，虽然以无机取向膜3、4作为主材料由无机氧化物构成的情况为代表进行了说明，然而无机取向膜3、4例如可以将SiN之类的无机氮化物、MgF₂之类的无机氟化物等作为主材料，另外，可以将组合了无机氧化物、无机氮化物及无机氟化物当中的任意2种以上的材料作为主材料而构成。在这些情况下，面积比S₂/S₁和平均厚度t的关系、S₂/S₁及平均厚度t的具体的值也最好设为所述范围。

另外，当无机取向膜3、4作为主材料由无机氧化物构成时，最好对无机取向膜3、4，至少对其表面(优选表面及细孔30、40的内面)，实施羟基减少处理。

该羟基减少处理是使在无机取向膜3、4上存在(露出)的活性的羟基与能够和该羟基反应的化合物反应的处理。

利用该处理，可以减少在无机取向膜3、4中存在的活性的羟基的数目，可以防止各种杂质附着在无机取向膜3、4上的情况、无机取向膜3、4与液晶分子等反应的情况等。由此，例如就可以防止无机取向膜3、4的对液晶分子的垂直锚定力的降低等，作为其结果，可以更为可靠地防止在液晶分子中产生取向异常的情况。

特别是，通过使所述化合物也与存在于细孔30、40的内面的羟基化学结合，所述效果会变得更为明显。

而且，因无机取向膜3、4满足如前所述的关系(面积比S₂/S₁和平均厚度t的关系)，从而可以使所述化合物不仅与无机取向膜3、4的表面上，而且与细孔30、40的内面上所存在的羟基可靠地化学结合。

作为该化合物，优选使用醇。

该情况下，无机取向膜3、4被用相同组成(同种)的醇处理，虽然在无机取向膜3和无机取向膜4中，化学结合了的醇的平均分子量也可以相等，然而最好在无机取向膜3和无机取向膜4中，化学结合了的醇的平均分子量不同。

本实施方式中，设于TFT基板17侧的取向膜3的醇的平均分子量最好大于设于液晶面板对置基板12侧的取向膜4的醇的平均分子量。即，最好与无机取向膜4相比，在无机取向膜3上更多地化学结合分子量大的(碳数多的)醇。这样，就可以实现液晶面板1的特性的提高。

一般来说，从防止液晶面板1的烧附的观点考虑，由于当使液晶分子取向的力过强而达到必需程度以上时，则产生烧附的倾向变大，因此为了以某种程度减弱液晶分子和取向膜的分子间力，作为与无机取向膜3、4化学结合的醇，最好选择分子量比较小的(碳数比较少的)醇。

另一方面，从防止伴随着存在于无机取向膜3、4中的羟基与液晶分子的反应产生的液晶面板1的取向异常的发生(提高耐光性、耐久性)的观点考虑，为了使液晶分子尽可能远离残存于无机取向膜3、4的表面的羟基，作为与无机取向膜3、4化学结合的醇，最好选择分子量比较大的(碳数比较多的)醇。

但是，由于TFT基板17具备TFT173，因此相对于液晶面板用对置基板12容易达到高温，残存于无机取向膜3中的羟基因加热而使其活性进一步提高。由此，在无机取向膜3和液晶层2的界面上，液晶分子与活性的羟基反应而形成容易变质·老化的状态。所以，在TFT基板17侧的无机取向膜3中，使分子量更大的醇化学结合，对于可靠地防止液晶分子与无机取向膜3接触的情况特别有效。

另一方面，在液晶面板用对置基板12侧的无机取向膜4中，由于只要主要关注于防止烧附即可，因此最好积极地选择分子量小的醇。

而且，该情况下，在各无机取向膜3、4的醇中，只要在它们的平均分子量上存在差别即可，作为醇，也可以将高分子量的醇和低分子量的醇适当地组合。

特别是，当在应当使用高分子量的醇的无机取向膜3中组合使用低分子量的醇时，则可以使醇也与高分子量的醇之间的羟基、存在于细孔30的深处的羟基化学结合，从而也有可以更为可靠地减少残存于无机取向膜3中的羟基的数目的优点。

基于此种情况，本实施方式中，最好以使设于TFT基板17侧的无机取向膜3的醇的平均分子量大于设于液晶面板对置基板12侧的无机取向膜4的醇的平均分子量的方式选择处理中所用的醇。

这里，当分子量为醇X＞醇Y＞醇Z时，作为无机取向膜3的醇的平均分子量大于无机取向膜4的醇的平均分子量的组合，例如可以举出如下的组合。

I：无机取向膜3：X、     无机取向膜4：Y或Z

II：无机取向膜3：X+Y、  无机取向膜4：X+Y

(其中，X/Y：无机取向膜3＞无机取向膜4)

III：无机取向膜3：X+Y、 无机取向膜4：Y+Z

IV：无机取向膜3：X、    无机取向膜4：X+Z

另外，在无机取向膜3的醇及无机取向膜4的醇当中的任意一方为含有多种醇的材料，另一方为由一种醇构成的材料的情况下，一方的取向膜的醇最好含有与另一方的取向膜的醇同种的醇(参照所述IV)。

另外，在无机取向膜3的醇及无机取向膜4的醇双方都含有多种醇的情况下，无机取向膜3的醇及无机取向膜4的醇最好含有同种醇(参照所述III)。

像这样，因无机取向膜3的醇与无机取向膜4的醇含有同种的醇，当调整对液晶分子的垂直锚定力时，就可以防止在无机取向膜3、4的垂直锚定力中产生很大的差，换言之，可以容易地进行微小的力的差的控制。即，具有容易调整对液晶分子的垂直锚定力的优点。

无机取向膜3的醇的平均分子量优选l00～400左右，更优选120～400左右。这样，在液晶面板1中，可以更为可靠地延长在取向异常的发生中所需的时间，即，可以更为可靠地提高耐久性(耐光性)。

另外，无机取向膜3的醇优选以碳数6～30的醇(特别是碳数8～30的醇)作为主成分的。这样，所述效果就会变得更为明显。

另外，此种碳数的醇在常温下为液状，或者即使为半固体形状(固体形状)，也可以在比较低的温度下变为液状。由此，利用后述的处理液来处理无机取向膜3、4时的处置就很容易。另外，由于对液晶分子的亲和性高，因此可以可靠地增大对液晶分子的垂直锚定力。

作为此种醇，优选脂肪族醇、芳香族醇、脂环醇、多环醇、多元醇或它们的卤素取代体(特别是氟取代体)，它们当中，优选脂肪族醇、脂环醇或它的氟取代体(氟代醇)。通过使用脂肪族醇、脂环醇或其氟取代体，对液晶分子的垂直锚定力就会进一步增大，可以更为可靠地使液晶分子垂直取向。

另外，脂环醇或其氟取代体更优选具有类固醇骨架的。具有类固醇骨架的脂环醇或它的氟取代体由于具有平面性高的构造，因此在将液晶分子取向控制的功能方面特别优良。

基于这些情况，作为无机取向膜3的醇，优选以辛醇、壬醇、癸醇、十一醇、十二醇、十三醇、十四醇、十五醇、十六醇、十七醇、十八醇、二十醇、二十一醇、二十二醇、二十三醇、二十四醇等脂肪族醇；胆甾醇、表胆甾醇、胆甾烷醇、表胆甾烷醇、麦角固醇、表麦角固醇、粪甾醇、表粪甾醇、α-麦角固醇、β-谷甾醇、豆甾醇、菜油甾醇等脂环醇或它们的氟取代体为主的醇。

另外，脂肪族醇或其氟取代体的烃部分或氟化烃部分(主骨架部分)无论是形成直链状的部分、形成分支状的部分的哪种都可以。

另一方面，无机取向膜4的醇的平均分子量优选32～70左右，更优选32～60左右。这样，就可以更为可靠地防止液晶面板1的烧附。

另外，无机取向膜4的醇优选以碳数1～4的醇(特别是碳数1～3的醇)作为主成分的。这样，所述效果就会变得更为明显。

另外，此种碳数的醇由于分子尺寸小，因此可以可靠地浸透至细孔40的深处。另外，由于在常温下为液状，因此利用后述的处理液来处理无机取向膜4时的处置十分容易。

作为此种醇，可以举出脂肪族醇、多元醇或它们的卤素取代体(特别是氟取代体)，然而在它们当中，优选脂肪族醇或其氟取代体(氟代醇)。

基于此种情况，作为无机取向膜4的醇，优选以甲醇、乙醇、丙醇或它们的氟取代体为主的醇。

而且，在液晶分子中，由于被氟化了的物质很多，因此通过使用氟取代体，与液晶分子的亲和性提高，将液晶分子垂直取向的效果进一步提高。

另外，在无机取向膜3、4中，作为改变醇的平均分子量的目的，除了防止取向异常的发生或烧附的发生以外，例如还可以举出消除一对取向膜中的电学上的波动等。

另外，在羟基减少处理中，除了化学结合醇的处理以外，例如还可以举出化学结合具有如前所述的醇的烃部分的硅烷耦合剂等各种耦合剂的处理。在使用了化学结合该耦合剂的处理的情况下，也可以获得与前述相同的效果。

而且，由于醇可以容易并且廉价地获得，以及处置特别容易等，因此在羟基减少处理中，优选使用醇处理。

而且，根据需要，羟基减少处理也可以省略。

另外，液晶面板1中，如图1及2所示，在无机取向膜3、4之间，沿着它们的外周部，设有密封部5。

该密封部5将液晶层2密封，具有防止向液晶面板1的外部流出的功能。

作为密封部5的构成材料，例如可以举出环氧类树脂(环氧树脂、丙烯酸改性环氧树脂)、丙烯酸类树脂、乙烯类树脂之类的具有聚合性基的树脂材料、聚碳酸酯、聚亚酰胺、聚酰胺等。

本发明中，具有如下特征，即，在各无机取向膜3、4的与密封部5重合的区域，以填满充满细孔30、40内并且覆盖表面的方式，填充了包含具有与无机取向膜3、4的亲和性高的第一官能团、与密封部5的亲和性高的第二官能团的化合物的填充物6。

这样，就可以实现密封部5与各无机取向膜3、4的密接性的提高。由此，就可以防止水分等从密封部5与各无机取向膜3、4的界面(交界部)侵入液晶层2的情况。

另外，在各无机取向膜3、4的外周部，细孔30、40被填充物6填满。由此，就可以防止水分等穿过细孔30、40侵入液晶层2的情况。

基于此种原因，就可以防止因液晶层2中的液晶分子接触到水分而在短时间内变质·老化的情况。即，可以实现液晶面板1的长寿命化。

特别是，满足了如前所述的关系(面积比S₂/S₁与平均厚度t的关系)的无机取向膜3、4的细孔30、40所占的比例大。由此，虽然在具备该无机取向膜3、4的液晶面板1中，无法忽视水分等穿过了细孔30、40的向液晶层2的侵入，然而根据本发明，由于将细孔30、40填满填充物6，因此尽管使用此种细孔30、40所占的比例大的无机取向膜3、4，然而也可以可靠地防止水分等向液晶层2中的进入。

所以，如果在具备满足如前所述的关系(面积比S₂/S₁与平均厚度t的关系)的无机取向膜3、4的液晶面板1中应用本发明，则可以长期地发挥对液晶分子的优良的取向性，并且可以构筑难以产生液晶分子的变质·老化的液晶面板1，即，可以构筑长期地维持优良的特性的液晶面板1。

填充物6既可以是以所述化合物作为主成分的物质，也可以是所述化合物与其他的材料的混合物。

对于后者的情况，作为其他的材料，优选使用与所述化合物的反应性差的物质。作为该材料，例如可以举出聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚体、乙烯-醋酸乙烯共聚体(EVA)等聚烯烃、环状聚烯烃、变性聚烯烃、聚氯乙稀、聚偏氯乙烯、聚苯乙烯、聚酰胺、聚亚酰胺、聚酰胺亚酰胺、聚碳酸酯、聚-(4-甲基戊烯-1)、离聚物、丙烯酸类树脂、聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚体(ABS树脂)、丙烯腈-苯乙烯共聚体(AS树脂)、丁二烯-苯乙烯共聚体、聚甲醛、聚乙烯醇(PVA)、乙烯-乙烯醇共聚体(EVOH)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚环己烷对苯二甲酸酯(PCT)等聚酯类、苯乙烯类、聚烯烃类、聚氯乙烯类、聚氨酯类、聚酯类、聚酰胺类、聚丁二烯类、顺聚异戊二烯类、氟橡胶类、氯化聚乙烯类等各种热塑性弹性体、环氧树脂、酚醛树脂、脲醛树脂、密胺树脂、不饱和聚酯、硅树脂、聚氨酯之类的树脂材料等，可以使用它们当中的1种，或组合使用2种以上。

另外，填充物6中的所述化合物的含量虽然没有特别限定，然而优选50wt％以上，更优选70wt％以上。当在填充物6中所述化合物的含量(含有率)过低时，则由于密封部5的构成材料的种类或所述化合物的种类等的影响，会显示出密封部5与填充物6的密接性降低的倾向。

此种化合物中，第一官能团优选与无机取向膜3、4形成共价键的基，另一方面，第二官能团优选与密封部5形成共价键的基。这样，就可以进一步提高夹隔了填充物6的无机取向膜3、4与密封部5的密接性。其结果是，可以更为可靠地防止水分等向液晶层2中的侵入。

无机取向膜3、4如前所述，优选作为主材料由无机氧化物(特别是SiO₂或Al₂O₃)构成。该情况下，作为第一官能团，例如可以举出烷基甲硅烷基、卤化甲硅烷基、羟基、硫醇基、卤代基等，它们当中，特别优选烷基甲硅烷基或羟基。这些官能团与无机取向膜3、4中所存在的羟基的反应性高，可以实现填充物6与无机取向膜3、4的密接性的提高。

另一方面，当密封部5作为主材料由具有聚合性基的树脂材料构成时，第二官能团优选与所述聚合性基聚合的基。这样，就可以实现填充物6与密封部5的密接性的提高。

例如，当构成密封部5的树脂材料作为聚合性基具有环氧基时，作为第二官能团，可以举出环氧基、(甲基)丙烯酸基、乙烯基、氨基等，特别优选环氧基，当作为聚合性基具有(甲基)丙烯酸基时，作为第二官能团，可以举出(甲基)丙烯酸基、环氧基、(甲基)丙烯酸基、乙烯基等，特别优选(甲基)丙烯酸基或乙烯基。

此种化合物的分子量优选100～500左右，更优选130～400左右。该分子量的化合物由于在常温下为液状，或者在比较低的温度下变为液状，因此容易处置，另外，在各种溶剂中的溶解性高。基于此种情况，后述的填充物组合物的调制或其处置就变得容易。

另外，由于通过使用该分子量的化合物，当将填充物6设为与其他的材料的混合物时，就可以实现它们的均一的混合，因此优选。

作为此种化合物的具体例，例如可以举出乙烯基甲氧基硅烷、乙烯基乙氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、2-(3，4-环氧基环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、N，N’-双[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]乙烯二胺之类的硅烷类耦合剂；乙烯醇、N-(2-氨基乙基)3-氨基丙醇、3-氨基丙醇、3-环氧丙氧基丙醇、2-(3，4-环氧基环己基)乙醇、3-甲基丙烯酰氧基丙醇、N，N’-双[3-(羟基)丙基]乙烯二胺之类的醇类等，可以使用它们当中的1种，或组合使用2种以上。

此种液晶面板1例如可以如下所示地制造。

[1]首先，利用公知的方法制造TFT基板17和液晶面板用对置基板12，在TFT基板17上以覆盖象素电极172及TFT173的方式形成无机取向膜3，另一方面，在液晶面板用对置基板12的透明导电膜14上形成无机取向膜4(第一工序)。

由于无机取向膜3、4的形成方法(形成工序)相同，因此以下将以无机取向膜3的形成方法为代表进行说明。

这里，对利用斜向蒸镀法形成无机取向膜3的情况进行说明。

斜向蒸镀法中，如图3所示，在小室(未图示)内，设置收纳了无机氧化物(原料)800的蒸镀源810、TFT基板17，在它们之间配置形成了狭缝821的狭缝板820。

而且，TFT基板17被固定于驱动装置830上，能够在维持了后述的蒸镀角度(图3中为角度θ₂)的状态下平行移动。另外，TFT基板17能够利用未图示的加热机构来加热。

该状态下，利用设于蒸镀源810上的加热机构(未图示)加热无机氧化物800而使之蒸发(气化)。这样，就使无机氧化物800的蒸发粒子穿过狭缝板820的狭缝821而到达TFT基板17的上面(形成无机取向膜3的面)。

而且，此时，将TFT基板17利用前述的加热机构加热到规定的温度，利用驱动装置830以规定的速度将其平行移动。

这样，在TFT基板17上，就可以得到具有多个细孔30的无机取向膜3。

这里，通过适当地设定从蒸发源中气化了的无机氧化物(蒸发粒子)800到达TFT基板17的上面的蒸镀角度(图3中为角度θ₂)，就可以调整细孔30相对于TFT基板17的上面的角度。

另外，无机取向膜3的表面积S₂很大地依赖于气化了的无机氧化物800到达基板时所形成的构造(柱构造)的状态，可以通过适当地设定蒸镀时的小室内的真空度、蒸镀速度、TFT基板17的温度(基板温度)、蒸镀角度θ₂等各种条件来调整。

小室(蒸镀装置)内的真空度优选1×10^-5～1×10^-2Pa左右，更优选5×10^-5～5×10^-3Pa左右。

另外，蒸镀时的基板温度优选20～150℃左右，更优选50～120℃左右。

另外，蒸镀速度优选2.5～25/秒左右，更优选4～20/秒左右。

另外，蒸镀角度θ₂优选45～85°左右，更优选50～75°左右。

通过将各种条件分别设定为所述范围，就可以精度优良地形成所需的面积比S₂/S₁的无机取向膜3。

例如当将真空度设得较高时，则表面积S₂就显示出变小的倾向，当将基板温度设得较高时，则表面积S₂就显示出变小的倾向，当将蒸镀角度θ₂设得较大时，则因自投影(self-shadowing)效应，表面积S₂显示增大的倾向。

另外，通过适当地设定蒸镀源810和TFT基板17的方位角度(图3中为角度θ₁)、TFT基板17和蒸镀源810的分离距离(图3中为L)、狭缝板820的厚度(图3中为T)或狭缝821的宽度(图3中为W)等，就可以控制柱构造的方向均一性，即，可以控制无机取向膜3的取向性。

[2]然后，对无机取向膜3实施羟基减少处理。

该羟基减少处理例如可以使用如图4所示的处理装置900。

图4所示的处理装置900具有：小室910、设于小室910内的台架950、配置于台架950上的容器920、向容器920内供给处理液S的供液机构960、将容器920内的处理液S排出的排液机构940、进行小室910内的排气的排气机构930。

另外，在台架950上，例如设有加热器等加热机构(未图示)。

排气机构930由泵932、连通泵932和小室910的排气管线931、设于排气管线931的途中的阀933构成。

另外，排液机构940由回收处理液S的回收罐944、连通回收罐944和容器920的排液管线941、设于排液管线941的途中的泵942及阀943构成。

另外，供液机构960由贮留处理液S的贮留罐964、将处理液S从贮留罐964导向容器920的供液管线961、设于供液管线961的途中的泵962及阀963构成。

另外，在排液机构940及供液机构960上，分别设有未图示的加热机构(例如加热器等)，能够加热处理液S。

这里，在一个例子中对作为处理液S使用醇的情况进行说明。

[2-1]首先，将形成了无机取向膜3的TFT基板17浸渍于含有如前所述的醇的处理液S中。

具体来说，将小室910敞开，搬入形成了无机取向膜3的TFT基板17，设于容器920内。

然后，将小室910设为密闭的状态，使泵962动作，该状态下，通过打开阀963，就会将处理液S穿过供液管线961从贮留罐964向容器920内供给。

此后，当向容器920内供给规定量的处理液S时，即，供给TFT基板17完全被浸渍的量的处理液S时，即停止泵962，并且关闭阀963。

这里，作为醇，既可以是在常温下为常温的醇，也可以是在常温下为固体形状或半固体形状的醇。

当使用常温下为液状的醇时，在处理液S中，除了可以使用该醇本身(醇的含量基本上为100％的液体)以外，还可以在适当的溶剂中混合醇而使用。

另外，当使用常温下为固体形状或半固体形状的醇时，在处理液S中，除了可以使用通过加热该醇而形成液状的物质以外，还可以在适当的溶剂中溶解醇而使用。

当将醇混合或溶解于溶剂中时，对于溶剂，可以选择能够混合或溶解醇，并且极性低于醇的溶剂。这样，就可以防止溶剂妨碍无机取向膜3的羟基和醇的反应的情况，可以可靠地产生化学反应。

[2-2]然后，通过将小室910内(处理液S所设置的空间)减压，使处理液S向无机取向膜3的细孔30内浸透。

具体来说，将小室910设为密闭的状态，使泵932动作，在该状态下，通过打开阀933，就会将小室910内的气体经过排气管线931向处理装置900外排出。

因小室910内的压力慢慢地降低，处理液S中及无机取向膜3的细孔30内的气体(例如空气等)就被去除，处理液S向细孔30内浸透。

此后，当小室910内达到规定的压力时，即停止泵932，并且关闭阀933。

该小室910内(空间)的规定的压力，即，小室910内的真空度优选1×10^-4～1×10⁴Pa左右，更优选1×10^-2～1×10³Pa左右。这样，就可以从无机取向膜3的细孔30内将空气充分地去除，使处理液S充分地向细孔30内浸透。

然后，使泵942动作，该状态下，通过打开阀943，就会将容器920内的剩余的处理液S经过排液管线941回收到回收罐944中。

此后，当处理液S的大致全部被从容器920内回收时，即停止泵942，并且关闭阀943。

[2-3]然后，在无机取向膜3的表面及细孔30的内面化学结合醇。

具体来说，通过使设于台架950上的加热机构动作，将形成了无机取向膜3的TFT基板17加热。

这样，在存在于无机取向膜3的表面及细孔30的内面的羟基和醇所具有的羟基之间就会发生脱水缩合反应，在无机取向膜3的表面及细孔30的内面化学结合醇。

而且，在进行该加热之前，根据需要，也可以再次将小室910内减压。

TFT基板17的加热温度没有特别限定，然而优选80～250℃左右，更优选100～200℃左右。当加热温度过低时，则由于醇的种类、无机取向膜3的构成材料的种类等的影响，有可能在无机取向膜3上无法充分地化学结合醇，另一方面，即使使加热温度超过所述上限值，也无法期望在此以上程度的效果的增大。

如上所述，通过作为使存在于无机取向膜3的表面及细孔30的内面的羟基与醇反应的方法，使用利用加热的方法，就可以比较容易并且可靠地进行所述反应。

而且，所述反应并不限定于利用加热的方法，例如也可以利用紫外线的照射、红外线的照射等来进行。这些情况下，在处理装置900中设置为进行各处理而必需的机构(手段)。

而且，在作为醇使用多种醇的情况下，也可以在所述处理液S中同时混合多个醇。该情况下，与无机取向膜3化学结合的多种醇的比率例如可以通过适当地设定处理液中的多种醇的配合比、种类或分子量、处理条件等来调整。

另外，也可以准备分别含有各醇的多个处理液，依次使用各处理液，如前所述地处理TFT基板17。该情况下，最好从含有分子量最小的醇的处理液开始到含有分子量更大的醇的处理液地依次变更，处理TFT基板17。这样，就可以使低分子量的醇更为可靠地化学结合至细孔30的内部。

另外，在无机取向膜3的表面附近选择性地化学结合醇即可的情况下，只要使处理液S仅与无机取向膜3的表面接触即可。这样，就可以省略如前所述的处理装置900的使用，可以实现液晶面板1的制造工序的简略化或制造成本的降低。

作为使处理液S与无机取向膜3接触的方法，例如可以举出在无机取向膜3上涂布处理液S的方法(涂布法)、将形成了无机取向膜3的TFT基板17浸渍于处理液S中的方法(浸渍法)、将无机取向膜3暴露于处理液S的蒸气中的方法等，可以使用它们当中的1种，或组合使用2种以上。

而且，在涂布法中，例如可以使用旋转涂覆法、浇注法、微型凹版印刷法、凹版印刷法、棒涂覆法、辊涂法、拉丝锭涂覆法、浸渍涂覆法、喷雾涂覆法、丝网印刷法、苯胺印刷法、平版印刷法、喷墨印刷法等。

[3]然后，在无机取向膜3、4的外周部(形成密封部5的区域)中，以填满其细孔30、40并且覆盖表面的方式，填充含有如前所述的化合物的填充物6(第二工序)。

首先，准备含有填充物6的液状的填充物组合物。

当填充物6在常温下为液状时，填充物组合物可以将填充物6直接调制，或者溶解于适当的溶剂中而调制。另外，当填充物6为固体形状时，填充物组合物可以通过加热填充物6而变为液状，或者溶解于适当的溶剂中而调制。

然后，将该填充物组合物向无机取向膜3、4的外周部选择性地供给，其后，根据需要进行干燥。这样，就可以将填充物6以填满无机取向膜3、4的细孔30、40内并且覆盖表面的方式填充。

在将填充物组合物向无机取向膜3、4的外周部选择性地供给的方法中，可以举出利用喷墨印刷法(液滴喷出法)将填充物组合物作为液滴喷出的方法；在将设置液晶层2的区域(不需要将填充物6填充的区域)用掩模覆盖的状态下，利用旋转涂覆法或浸渍涂覆法等供给填充物组合物的方法等。

该填充物组合物的粘度最好尽可能低，最好低于后面工序[4]中所用的液状的密封材料的粘度。这样，就可以将足够的量的填充物6填充至无机取向膜3、4的细孔30、40的更深处。

具体来说，填充物组合物的粘度优选0.1～100cP左右，更优选0.5～50cP左右。

而且，虽然填充物6例如可以利用真空蒸镀法之类的物理的气相成膜法、化学的气相成膜法等气相过程向无机取向膜3、4供给，然而优选使用如前所述的液相过程。通过使用液相过程，就可以进一步提高填充物6向细孔30、40中的填充率。

另外，该填充物6的将无机取向膜3、4的表面覆盖的部分的平均厚度(图2中为m)虽然没有特别限定，然而优选1～25nm左右，更优选2～10nm左右。

而且，本工序[3]也可以在所述工序[2]之前进行。

[4]然后，向无机取向膜3、4的填充了填充物6的区域内，供给用于形成密封部5的液状的密封材料(第三工序)。

在该密封材料中，可以使用密封部5的构成材料或含有其前驱体的组合物。

密封材料的粘度最好被设定为高于所述填充物组合物的粘度，优选50～100000cP左右，更优选100～50000cP左右。

另外，作为密封材料的供给方法，可以使用与所述工序[3]相同的方法。

[5]然后，在将TFT基板17和液晶面板用对置基板12以在它们之间形成间隙的方式，使密封材料之间接触地配置后，使密封材料硬化(第四工序)。

具体来说，使无机取向膜3、4相面对，在将TFT基板17和液晶面板用对置基板12以离开规定的距离的方式使密封材料之间接触后，使密封材料硬化。

作为使该密封材料硬化的方法，例如可以举出干燥(脱溶剂或脱分散剂)、紫外线照射、加热等方法。

而且，所述工序[4]及本工序[5]是以在密封材料的硬化物的局部形成贯穿孔的方式进行的。该贯穿孔构成在后面工序[5(英文版中为6)]中用于将液晶组合物向由无机取向膜3、4和密封材料的硬化物包围的空间(间隙)中注入的注入口。

[6]然后，从注入口将液晶组合物向所述空间中注入，形成液晶层2(第五工序)。

[7]然后，将所述注入口密封(第六工序)。

作为该注入口的密封中所用的材料，既可以是与所述密封材料相同的材料，也可以是不同的材料。

经过以上的工序，可以制造出液晶面板1。

而且，在所述工序[2]之前，也可以对无机取向膜3、4进行将在形成它们之时附着的有机物或颗粒等污物除去的处理。这样，就可以实现填充物6与无机取向膜3、4的密接性的进一步的提高、羟基减少处理的高效率化。

作为除去有机物的处理，优选紫外线处理、等离子体处理或在图4所示的处理装置900中作为处理液S使用了清洗液(例如超纯水等)的清洗处理，作为除去颗粒的处理，优选所述清洗处理。

以上所说明的液晶面板1中，虽然作为液晶驱动基板使用了TFT基板，然而在液晶驱动基板中也可以使用TFT基板以外的其他的液晶驱动基板，例如TFD基板、STN基板等。

下面，作为本发明的电子设备的一个例子，对使用了所述液晶面板1的电子设备(液晶投影仪)进行说明。

图5是示意性地表示本发明的电子设备(投射型显示装置)的光学系统的图。

如同图所示，投射型显示装置300具有：光源301、具备了多个积分透镜的照明光学系统、具备了多个分色镜等的色分离光学系统(导光光学系统)、对应于红色的(红色用的)液晶灯泡(光阀？)(液晶快门阵列)24、对应于绿色的(绿色用的)液晶灯泡(液晶快门阵列)25、对应于蓝色的(蓝色用的)液晶灯泡(液晶快门阵列)26、形成了仅反射红色光的分色镜面211及仅反射蓝色光的分色镜面212的分色棱镜(色合成光学系统)21、投射透镜(投射光学系统)22。

另外，照明光学系统具有积分透镜302及303。色分离光学系统具有反射镜304、306、309、反射蓝色光及绿色光的(仅透过红色光的)分色镜305、仅反射绿色光的分色镜307、仅反射蓝色光的分色镜(或反射蓝色光的反射镜)308、聚光透镜310、311、312、313及314。

液晶灯泡25具备所述的液晶面板1。液晶灯泡24及26也形成与液晶灯泡25相同的构成。这些液晶灯泡24、25及26所具备的液晶面板1被分别与未图示的驱动电路连接。

而且，投射型显示装置300中，由分色棱镜21和投射透镜22构成光学模块20。另外，由该光学模块20、被相对于分色棱镜21固定地设置的液晶灯泡24、25及26构成显示组件23。

以下将对投射型显示装置300的作用进行说明。

从光源301中射出的白色光(白色光束)透过积分透镜302及303。该白色光的光强度(亮度分布)被积分透镜302及303均一化。从光源301中射出的白色光最好其光强度比较大。这样，就可以使形成于屏幕320上的图像更为鲜明。另外，投射型显示装置300中，由于使用耐光性方面优良的液晶面板1，因此即使在从光源301中射出的光的强度很大的情况下，也可以获得优良的长期稳定性。

透过了积分透镜302及303的白色光被反射镜304向图5中左侧反射，该反射光当中的蓝色光(B)及绿色光(G)分别被分色镜305向图5中下侧反射，红色光(R)透过分色镜305。

透过了分色镜305的红色光被反射镜306向图5中下侧反射，该反射光被聚光透镜310整形，射入红色用的液晶灯泡24。

被分色镜305反射了的蓝色光及绿色光当中的绿色光被分色镜307向图5中左侧反射，蓝色光透过分色镜307。

被分色镜307反射了的绿色光被聚光透镜311整形，射入绿色用的液晶灯泡25。

另外，透过了分色镜307的蓝色光被分色镜(或反射镜)308向图5中左侧反射，其反射光被反射镜309向图5中上侧反射。所述蓝色光被聚光透镜312、313及314整形，射入蓝色用的液晶灯泡26。

像这样，从光源301中射出的白色光由色分离光学系统分离为红色、绿色及蓝色这三原色，分别被导向、射入对应的液晶灯泡。

此时，液晶灯泡24所具有的液晶面板1的各象素(薄膜晶体管173和与之连接的象素电极172)被基于红色用的图像信号而动作的驱动电路(驱动机构)进行开关控制(ON/OFF)，即被变频。

同样地，绿色光及蓝色光分别射入液晶灯泡25及26，被各自的液晶面板1变频，这样就形成绿色用的图像及蓝色用的图像。此时，液晶灯泡25所具有的液晶面板1的各象素被基于绿色用的图像信号而动作的驱动电路进行开关控制，液晶灯泡26所具有的液晶面板1的各象素被基于蓝色用的图像信号而动作的驱动电路进行开关控制。

这样，红色光、绿色光及蓝色光分别被液晶灯泡24、25及26变频，分别形成红色用的图像、绿色用的图像及蓝色用的图像。

由所述液晶灯泡24形成的红色用的图像，即来自液晶灯泡24的红色光从面213射入分色棱镜21，被分色镜面211向图5中左侧反射，透过分色镜面212，从出射面216中射出。

另外，由所述液晶灯泡25形成的绿色用的图像，即来自液晶灯泡25的绿色光从面214射入分色棱镜21，分别透过分色镜面211及212，从出射面216中射出。

另外，由所述液晶灯泡26形成的蓝色用的图像，即来自液晶灯泡26的蓝色光从面215射入分色棱镜21，被分色镜面212向图5中左侧反射，透过分色镜面211，从出射面216中射出。

像这样，来自所述液晶灯泡24、25及26的各色的光，即由液晶灯泡24、25及26形成的各图像被分色棱镜21合成，由此就形成彩色的图像。该图像被投射透镜22向设于规定的位置的屏幕320上投影(放大投射)。

本实施方式的投射型显示装置300具有3个液晶面板，虽然对在它们的全部中应用了液晶面板1的情况进行了说明，然而只要它们当中的至少1个为液晶面板1即可。该情况下，最好至少在蓝色用的液晶灯泡中应用液晶面板1。

而且，本发明的电子设备除了图5的投射型显示装置以外，例如还可以举出个人计算机(便携式个人计算机)、携带电话机(包括PHS)、数字型照相机、电视机、摄影机、取景器型、监视器直视型的录像机、导航装置、寻呼机、电子记事簿(也包括带有通信功能)、电子辞典、电子计算器、电子游戏机、文字处理器、工作站、电视电话、防犯用电视监视器、电子望远镜、POS终端、设置了触摸面板的机器(例如金融机构的自动提款机、自动售货机)、医疗机器(例如电子体温计、血压计、血糖计、心电显示装置、超声波诊断装置、内窥镜用显示装置)、鱼群探测仪、各种测定机器、仪器类(例如车辆、航空器、船舶的仪器类)、飞行模拟器等。此外，在这些种类的电子设备的显示部、监视部所具备的液晶面板中当然也可以应用本发明。

以上虽然基于图示的实施方式对本发明的液晶面板、液晶面板的制造方法及电子设备进行了说明，然而本发明并不限定于此。

例如，本发明的液晶面板及电子设备中，各部的构成可以置换为发挥相同的功能的任意的构成的部分，另外，也可以附加任意的构成。

另外，本发明的液晶面板的制造方法中，也可以追加任意的1个或2个以上的工序。

[实施例]

下面，将对本发明的具体的实施例进行说明。

1.液晶面板的制造

(实施例1)

<1>首先，准备图1所示的TFT基板，在图3所示的真空蒸镀装置的小室内，以使基板面相对于蒸镀源的角度θ₁达到50°的方式固定。另外，狭缝板的厚度设为1.5cm，狭缝的宽度设为2.0cm，蒸镀角度θ₂设为60°，蒸镀距离设为1.5m，基板的动作速度(移动速度)设为2.5cm/分支。

此后，将小室内减压(1×10^-4Pa)，将基板温度设为110℃，将蒸镀速度设为10/秒，斜向蒸镀SiO₂，制作了附带无机取向膜TFT基板。

而且，所得的无机取向膜的细孔相对于TFT基板的上面的角度约为70°，平均厚度为45nm，细孔的平均开口直径为0.003μm。

另外，该无机取向膜的表面积S₂、TFT基板的表面积S₁的面积比S₂/S₁为2.85。

这是通过将与所述相同地制作的附带无机取向膜TFT基板切割为规定的尺寸(1.5cm×1.8cm)，将该切片分别在试管中封入5片，使用高精度全自动气体吸附装置(日本Bel公司制，BELSORP 36)，进行表面积的测定而得到的。

具体来说，在将封入了各切片的试管内用氦气置换后，在100℃下真空脱气。此后，使包括无机取向膜的各切片整体，在吸附温度77K(液氮温度)下吸附了氪气。测定范围为相对压(P/P0)＝0.0～0.4，相对于各平衡相对压以180秒作为平衡时间。而且，在表面积的测定中，应用了BET理论。从如此测定的各切片全部的表面积S中减去未形成无机取向膜的几何表面积s，算出了无机取向膜的表面积S₂。

另外，对于无机取向膜形成前的TFT基板，也相同地测定了表面积S₁。

此后，基于所测定的S₁及S₂的值，算出了面积比S₂/S₁。

<2>然后，将附带无机取向膜TFT基板在洁净烤炉中以200℃×90分钟进行加热，加热结束后，立即移动到干燥氮气气氛中，并原样放置。

<3>然后，对无机取向膜照射波长254nm、强度30mw/cm²的紫外线10分钟。

<4>然后，将附带无机取向膜基板搬入图4所示的处理装置内，在容器(聚四氟乙烯制)内，将无机取向膜4朝上地设置，将小室密闭。

此后，将准备好的超纯水(清洗液)向容器内供给，将附带无机取向膜基板浸渍于清洗液中。其后，将小室内减压到133Pa，将该状态维持10分钟。这样，就将无机取向膜的细孔内的气体置换为超纯水。

而且，超纯水的温度设为30℃。

然后，在使小室内恢复到大气压后，将超纯水从容器中排出。其后，在将小室内再次减压的同时，以200℃×90分钟加热基板。这样就将无机取向膜干燥。

加热结束后，在维持减压状态的同时，自然冷却。

<5>然后，准备1-辛醇(分子量：130)，使用过滤器将离子性杂质除去后，利用氮气鼓泡将微量含有的水分除去。

此后，使用图4所示的处理装置，与所述工序<3>相同地将无机取向膜的细孔内的气体置换为1-辛醇。

然后，在使小室内恢复到大气压后，将1-辛醇从容器中排出。其后，在将小室内再次减压到133Pa的同时，以150℃×1小时加热基板。这样就在无机取向膜的表面及细孔的内面化学结合了1-辛醇。

在加热结束后，在维持减压状态的同时，自然冷却。

<6>另一方面，除了准备图1所示的液晶面板用对置基板，取代1-辛醇而使用了2-丙醇(分子量：60)以外，与所述工序<1>～<5>相同地得到了附带无机取向膜液晶面板用对置基板。

<7>然后，沿着各无机取向膜的外周部，利用喷墨印刷法，作为填充物(填充物组合物)供给3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(分子量：220)，将细孔内填满，并且覆盖了表面。而且，覆盖了无机取向膜的表面的部分的平均厚度为5nm。

而且，填充物组合物的粘度为3cP。

<8>然后，在供给(填充)了3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷的部分，残留成为注入口的部分，印刷热硬化型粘接剂(日本化药公司制，「ML3804P」)，以80℃×10分钟进行加热，将溶剂除去。

而且，热硬化型粘接剂是混合了直径约为3μm的氧化硅球的环氧树脂，其粘度约为25000cP。

<9>然后，将无机取向膜设为内侧，在将2片基板压接的同时，通过以140℃×1小时进行加热而将其贴合。而且，2片基板是以使无机取向膜的取向方向相互达到180°的方式配置的。

<10>然后，向贴合2片基板而形成的内侧的空间中，从注入口利用真空注入法注入了氟类的负的介电各向异性液晶(Merck公司制，「MLC-6610」)。

<11>然后，对注入口使用丙烯酸类的UV粘接剂(Henkel Japan公司制，「LPD-204」)，照射3000mJ/cm²的波长365nm的UV而将其硬化，将注入口密封。

如上所示，制造了液晶面板。

(实施例2)

除了作为填充物，使用了2-(3，4-环氧基环己基)乙基三甲氧基硅烷(分子量：246)与乙烯-醋酸乙烯共聚体的混合物以外，与所述实施例1相同地制造了液晶面板。

而且，设为2-(3，4-环氧基环己基)乙基三甲氧基硅烷∶乙烯-醋酸乙烯共聚体＝70∶30(重量比)。

另外，将该混合物溶解于己烷中而调制填充物组合物，利用喷墨印刷法向无机取向膜供给。

而且，填充物组合物的粘度为20cP。

(比较例)

除了省略了填充物的填充以外，与所述实施例1相同地制造了液晶面板。

2.液晶面板的耐久性试验

将在各实施例及比较例中制造的液晶面板在高温多湿的环境(80℃、80％RH)中放置，随时间的推移而确认显示性能，测定了直至发生显示异常的时间。

其结果为，确认对于各实施例中制造的液晶面板，直至发生显示异常的时间都明显比在比较例中制造的液晶面板中直至发生显示异常的时间更长。

另外，取代SiO₂，使用Al₂O₃制作附带无机取向膜TFT基板及附带无机取向膜液晶面板用对置基板，与所述相同地制造液晶面板，与所述相同地进行了评价后，可以获得与所述相同的结果。

Claims (12)

1.一种液晶面板，其特征是，具有：

一对基板；

设于所述各基板的相面对的面侧，具有多个细孔的无机取向膜；

设于所述无机取向膜相互之间的液晶层；

在所述无机取向膜相互之间沿着所述无机取向膜的外周部设置，并将所述液晶层密封的密封部，

在所述各无机取向膜的与所述密封部重合的区域，以填满所述细孔内并且覆盖表面的方式，填充有包含具有与所述无机取向膜的亲和性高的第一官能团、和与所述密封部的亲和性高的第二官能团的化合物的填充物。

2.根据权利要求1所述的液晶面板，其中，所述第一官能团是与所述无机取向膜形成共价键的基。

3.根据权利要求2所述的液晶面板，其中，所述无机取向膜作为主材料由SiO₂或Al₂O₃构成，所述第一官能团为烷基甲硅烷基或羟基。

4.根据权利要求1至3中任意一项所述的液晶面板，其中，所述无机取向膜为斜向蒸镀膜。

5.根据权利要求1至4中任意一项所述的液晶面板，其中，所述第二官能团是与所述密封部形成共价键的基。

6.根据权利要求5所述的液晶面板，其中，所述密封部作为主材料由具有聚合性基的树脂材料构成，所述第二官能团是与所述聚合性基聚合的基。

7.根据权利要求1至6中任意一项所述的液晶面板，其中，所述填充物中的所述化合物的含量在50wt％以上。

8.根据权利要求1至7中任意一项所述的液晶面板，其中，所述化合物的平均分子量为100～500。

9.一种液晶面板的制造方法，是具有：一对基板；设于所述各基板的相面对的面侧，具有多个细孔的无机取向膜；设于所述无机取向膜相互之间的液晶层；在所述无机取向膜相互之间沿着所述无机取向膜的外周部设置并将所述液晶层密封的密封部的液晶面板的制造方法，其特征是，包括：

准备一对在一方的面侧具有所述无机取向膜的基板的第一工序；

在所述各无机取向膜的外周部，以填满其细孔内并且覆盖表面的方式，填充包含具有与所述无机取向膜的亲和性高的第一官能团、与所述密封部的亲和性高的第二官能团的化合物的填充物的第二工序；

向所述各无机取向膜的填充了所述填充物的区域内，供给用于形成所述密封部的液状的密封材的第三工序；

在将所述一对基板以在它们之间形成间隙的方式使所述密封材相互接触地配置后，将所述密封材硬化的第四工序；

向所述间隙中注入液晶组合物，形成所述液晶层的第五工序；

将用于注入所述液晶组合物的注入口密封的第六工序。

10.根据权利要求9所述的液晶面板的制造方法，其中，在所述第二工序中，所述填充物的填充是通过将含有该填充物的液状的填充物组合物向所述各无机取向膜供给而进行的。

11.根据权利要求10所述的液晶面板的制造方法，其中，所述填充物组合物的粘度低于所述密封材的粘度。

12.一种电子设备，其特征是，具备权利要求1至8中任意一项所述的液晶面板。

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