CN1949041B - 制造液晶显示装置的方法 - Google Patents

Abstract

在一种制造液晶显示装置的方法当中，在对形成于液晶显示装置的基板上的光致抗蚀剂膜曝光和显影时，在所述基板上形成突起，以提高液晶显示装置的视角。尽管基板形成有由各中间膜导致的台阶差，但是，由于针对光致抗蚀剂膜的曝光量根据其上形成突起的基板的台阶差异而变化，因而所述突起可以具有相同的尺寸。因此，所述液晶显示装置可以具有提高的显示质量。

Description

制造液晶显示装置的方法

技术领域

本发明总体上涉及平板显示(FPD)装置的制造方法领域，更具体而言，涉及一种具有提高的显示质量的液晶显示(LCD)装置的制造方法。

背景技术

通常，液晶显示(LCD)装置采用液晶显示图像。液晶具有诸如介电常数各向异性、折射率各向异性等各种特性，因此，液晶根据其排列具有不同的光透射率。

为了扩大视角，将单个像素划分为几个区域，使得液晶沿互不相同的倾斜方向配向。根据液晶的配向方向形成多域像素。例如，第一区域内的液晶沿第一倾斜方向配向，第二区域内的液晶沿第二倾斜方向配向。因此，当用户从LCD的一侧观看屏幕时，第一区域的液晶没有透光，但是光透过了第二区域的液晶，由此增大了LCD的视角。

为了形成上述多域像素，在基板的表面上形成突起，所述基板表面面对液晶。通过突起改变作用于液晶上的电场的属性。结果，以突起作为边界的液晶沿不同倾斜方向排列。当液晶在突起的作用下发生倾斜时，我们称其为突起对液晶的控制能力，突起的控制能力根据突起的尺寸而不同。

通常，通过在基板上涂覆光致抗蚀剂膜并对所述光致抗蚀剂膜构图的过程形成突起。在构图过程中，突起的尺寸根据基板的表面粗糙度水平而不同。更具体而言，由于每一像素的表面粗糙度是不同的，因此，针对每一像素，突起具有根据每一像素而彼此不同的尺寸。此外，由于突起对液晶的控制能力根据突起尺寸而不同，因此，在各个像素中液晶都以不同的状态配向。在这种情况下，每一像素将相同的图像信息显示为不同的图像，从而劣化了显示器的图像质量。

发明内容

根据本发明的示范性实施例，提供了一种如下所述的制造液晶装置的方法。在基板表面上形成透明电极，所述表面形成有台阶差。在所述透明电极上形成光致抗蚀剂膜，对所述光致抗蚀剂膜曝光和显影以形成突起。在对所述光致抗蚀剂膜曝光时，所述光致抗蚀剂膜的曝光量根据其上将要形成所述突起的所述表面的台阶差而不同。

在所述基板和所述透明电极之间进一步形成滤色器，所述滤色器着有不同颜色，并且根据颜色形成为具有不同厚度。所述曝光量根据由所述滤色器之间的厚度差引起的台阶差而不同。

所述光致抗蚀剂膜为正类型，相对于所述光致抗蚀剂膜的曝光量随着所述突起在所述台阶差的作用下与所述基板的间距的加大而变小。

附图说明

从以下结合附图的描述可以更详细地理解本发明的示范性实施例，附图中：

图1A、1B、2A和2B是解释根据本发明的示范性实施例在基板上形成突起的过程的截面图；以及

图3A到图11B是解释根据本发明的示范性实施例的液晶显示装置的制造方法的图示。

具体实施方式

以下将参考附图详细描述本发明。始终以类似的附图标记指示类似的元件。

图1A、1B、2A和2B是解释根据本发明的示范性实施例在基板上形成突起的过程的截面图。图1A和图1B是解释采用正类型光致抗蚀剂膜形成突起的方法的图示，图2A和图2B是解释采用负类型光致抗蚀剂膜形成突起的方法的图示。

就图1A中的部分“A”而言，在基板1上形成中间膜2，在中间膜2的上表面上涂覆光致抗蚀剂膜3，以形成由虚线表示的突起4。中间膜2可以包括各种膜。液晶显示装置包括两个相互附着以形成液晶屏板的基板，所述两个基板作为所述液晶屏板的上部基板和下部基板。这两个基板中的任何一个都可以具有图1A所示的结构。就下部基板而言，中间膜2包括诸如栅极绝缘膜或保护膜的绝缘膜以及诸如像素电极膜的导电膜。就上部基板而言，中间膜2在不减小绝缘膜和导电膜的情况下包括诸如光阻挡膜图案、滤色器、公共电极等的各种膜。诸如公共电极和像素电极的透明电极作为顶层位于中间膜2上。

从制造工艺的角度来看，突起4主要形成于液晶显示器的上部基板上，而不是下部基板上。出于这一原因，需要额外的构图过程形成突起4，但是，可以在不向制造过程中添加额外的构图过程的情况下，形成带有切口部分的下部基板，所述切口部分起着与突起4相同的作用。换言之，为了将下部基板的像素电极与位于形成了所述像素电极的相邻像素区域内的相邻像素电极隔开，必须对所述像素电极实施构图过程。在向下部基板实施构图过程时，部分去除导电膜，由此形成切口部分，所述切口部分通过带有像素电极的导电膜形成的。因此，在形成像素电极的同时形成切口部分的工艺可能优于通过在下部基板上形成额外的光致抗蚀剂膜并对所述光致抗蚀剂膜构图而在下部基板上形成突起4的工艺。

如上所述，中间膜2包括各种膜。一些所述的各种膜可能仅形成于基板1的特定区域上，因此，中间膜2的垂直厚度是不均匀的。也就是说，如图1A所示，在基板1上形成的中间膜2具有台阶或高度差异。

尽管中间膜2存在台阶差异，但是，涂覆于中间膜2上的光致抗蚀剂膜3在其流动性的作用下可以具有平整的上表面。

但是，光致抗蚀剂膜3的上表面可能根据中间膜2的台阶差异的范围和光致抗蚀剂膜3的厚度而形成局部台阶差异。考虑到中间膜2的台阶差异度，光致抗蚀剂膜3的台阶差异将随着光致抗蚀剂膜3变厚而减小。

在涂覆光致抗蚀剂膜3之后，在光致抗蚀剂膜3上执行曝光过程和显影过程。在采用正类型光致抗蚀剂膜3作为光致抗蚀剂膜3时，通过显影过程从光致抗蚀剂膜3上去除通过曝光过程曝光的光致抗蚀剂膜3的曝光区域。根据本实施例，如图1A的部分“A”所示，由图1A中的不同长度的箭头表示的曝光量根据中间膜2的厚度而变化。例如，如果对于完全去除光致抗蚀剂膜3的部分曝光量为“100”，那么可以将形成突起4的部分的曝光量控制在大约70到大约90的范围内。更具体地说，根据形成于具有不同厚度的中间膜2上的光致抗蚀剂膜3的形成位置，位于中间膜2的左侧部分的具有薄厚度的光致抗蚀剂膜3的曝光量可以为70左右，位于中间膜2的中央部分的具有中等厚度的光致抗蚀剂膜3的曝光量可以为80左右，位于中间膜2的右侧部分的具有大厚度的光致抗蚀剂膜3的曝光量可以为90左右。

也就是说，根据曝光量按比例去除光致抗蚀剂膜3，因此，光致抗蚀剂膜3可以作为突起4保留在中间膜2的上表面上。换言之，尽管中间膜2形成有台阶差异，但是，突起4a、4b和4c可以具有基本相同的尺寸，即，如图1A所示，4a＝4b＝4c。

参考图1A中的部分“B”，在基板1`上形成中间膜2′，并在中间膜2′的上表面上涂覆光致抗蚀剂膜3′。针对光致抗蚀剂膜3′执行曝光和显影过程。在执行曝光过程时，将等量的光照射到将要形成突起4′的光致抗蚀剂膜3′的部分上，由此通过显影过程去除光致抗蚀剂膜3′，从而针对光致抗蚀剂膜3′的每一部分，从光致抗蚀剂膜3′的上表面去除等量的光致抗蚀剂膜3′。在本实施例中，突起4′包括多个突起4a′、4b′和4c′。但是，由于在中间膜2`的台阶差异的作用下，光致抗蚀剂膜3`的曝光部分的厚度彼此不同，因此，在去除了等量的光致抗蚀剂膜3′时，形成了具有不同尺寸的突起4a′、4b′和4c′。换言之，如图1B所示，随着中间膜2变厚，突起4a′、4b′和4c′的尺寸变小(4a′＜4b′＜4c′)。因此，控制液晶的突起4′的控制能力随着基板1的区域不同而变化，由此劣化了图像显示质量。

在本发明的示范性实施例中，由光源照射到光致抗蚀剂膜3上的光的量根据其内形成突起4a、4b和4c的基板1的曝光区域的不同而变化。此外，为了改变照射到光致抗蚀剂膜3上的光的量，可以采用光掩模调整照射到基板1上的光的量。

参考图1B中的部分“A”，采用光掩模5对光致抗蚀剂膜3曝光，光掩模5带有不透光的光阻挡区域5a、5b和5c。光阻挡区域5a、5b和5c具有彼此不同的宽度。在这种情况下，光无法经由光阻挡区域5a、5b和5c抵达光致抗蚀剂膜3，并且在其他的一些区域无遮挡地(barely)抵达光致抗蚀剂膜3。换言之，在光阻挡区域5a、5b和5c与位于光阻挡区域5a、5b和5c之间的光透射区域之间的边界处，光可能发生衍射，因此，可能有一些光照射到光致抗蚀剂膜3上。但是，如果光阻挡区域5a、5b和5c的宽度增大，受到光阻挡区域5a、5b和5c阻挡的光致抗蚀剂膜3的面积也增大，因此，也降低了提供至光致抗蚀剂膜3的被遮挡区的光的量。其结果为，如果控制光掩模5的光阻挡区域5a、5b和5c的宽度(5a＞5b＞5c)，可以控制光掩模5下的光致抗蚀剂膜3的曝光量。

考虑突起4的预期尺寸和中间膜2的台阶差异程度，确定光阻挡区域5a、5b和5c的宽度。换言之，光阻挡区域5a、5b和5c的宽度根据诸如便携式电话、计算机监视器、大型电视机等的各种电子设备所要求的屏幕尺寸而变化。突起4具有基本小于等于光阻挡区域5a、5b和5c的宽度，以及根据其宽度而按比例变化的厚度。在本实施例中，光阻挡区域5a、5b和5c的最小宽度和最大宽度之间的差值小于2微米。当中间膜2形成有台阶差异时，光阻挡区域5a、5b和5c的宽度小于等于2微米。

在图1B所示的部分“A”中，光阻挡区域5a、5b和5c的中央区域5b的宽度窄于左侧区域5a的宽度，即比其窄1微米。而且中央区域5b的宽度宽于右侧区域5c的宽度，即比其宽1微米。

图1B的部分“B”表明每一光阻挡区域5a、5b和5c具有相同宽度。在这种情况下，光均匀地照射到形成突起4a′、4b′和4c′的区域上，因此，在中间膜2的厚度差异的作用下，突起4a′、4b′和4c′具有彼此不同的尺寸(4a′＜4b′＜4c′)。

尽管图中未示出，但是可以采用狭缝掩模作为控制突起4的尺寸的方法，来替代控制光掩模5的光阻挡区域5a、5b和5c的宽度。狭缝掩模经配置用来通过控制狭缝之间的间隔改变光透射量。换言之，由于照射到光致抗蚀剂膜3上的光的量根据狭缝之间的间隔按比例增大，当光阻挡区域5a、5b和5c的宽度增大时，狭缝之间的间隔变窄。

在本实施例中，光致抗蚀剂膜3的厚度是突起4的厚度或高度的大约两倍到大约四倍。如果光致抗蚀剂膜3的厚度不比突起4的厚度大，将可能引起下述问题。当涂覆在中间膜2上的光致抗蚀剂膜3具有大约1.5微米的厚度，以形成厚度大约为1.2微米的突起4时，不易于通过去除光致抗蚀剂膜3，使得在从其上去除大约0.3微米的光致抗蚀剂膜3的同时，使对应于中间膜2的台阶差异的光致抗蚀剂膜3的部分具有不同的厚度。但是，在涂覆于中间膜2上的光致抗蚀剂膜3具有大约4微米的厚度，以形成具有大约1.2微米的厚度的突起4时，可以去除大约2.8微米的光致抗蚀剂膜。因此，易于去除光致抗蚀剂膜3，使得对应于中间膜2的台阶差异的光致抗蚀剂膜3的部分具有不同的厚度。

在负类型光致抗蚀剂膜30中，保留通过曝光过程被光照射的部分。如图2A的部分“A”所示，随着光致抗蚀剂膜30的厚度变厚，照射到光致抗蚀剂膜30上的光的量变大，这时，尽管中间膜20存在台阶差异，也会在中间膜20上形成具有相同尺寸的突起40a、40b和40c，即40a＝40b＝40c。但是，如图2A的部分“B”所示，如果光均匀地照射到光致抗蚀剂膜30′上，在中间膜20′的台阶差异的作用下，将形成具有不同尺寸的突起40a、40b和40c，即40a′＞40b′＞40c′。

如上所述，为了根据光致抗蚀剂膜30的每一区域改变光的量，采用光掩模50，如图2B所示。换言之，所采用的光掩模50具有透射用来对光致抗蚀剂膜30进行曝光的光的光透射区域50a、50b和50c。每一光透射区域50a、50b和50c具有不同的宽度，就本例而言，50a＜50b＜50c。例如，随着光致抗蚀剂膜30的厚度增大，光透射区域50a、50b和50c的宽度变宽，而用于对光致抗蚀剂膜30曝光的光的量则随着光透射区域50a、50b和50c的宽度变宽而增大。如果如部分“B”所示，所形成的光透射区域50a′、50b′和50c′的宽度是等同的，即50a′＝50b′＝50c′，那么照射到对应的光致抗蚀剂膜30′上的光是等同的，由此形成具有不同尺寸的突起40a′、40b′和40c′，例如40a′＞40b′＞40c′。

在下文中，将详细描述根据本发明的上述实施例的液晶显示装置的制造方法。根据本发明的示范性实施例的液晶显示装置包括上部基板、下部基板和位于所述上部基板和所述下部基板之间的液晶。在面对下部基板的上部基板的表面上形成突起。为了便于解释，将下部基板称为第一基板，将上部基板称为第二基板。

图3A到图11B是解释根据本发明的示范性实施例的液晶显示装置的制造方法的图示。具体地，图3A到图5B是解释第一基板的制造方法的图示，图6A到图10B是解释第二基板的制造方法的图示，图11A是示出了在组装第一基板和第二基板之后，形成于液晶显示装置上的像素区域的平面图，图11B是沿图11A的III-III′线得到的截面图。

参考图3A和图3B，在第一基板100上形成栅极线110、栅电极111和栅极绝缘膜120。可以采用诸如透明玻璃屏板或塑料屏板的绝缘基板作为第一基板100。通过采用铬(Cr)、铝(Al)等的溅射法淀积金属膜，之后对所述金属膜构图，由此形成栅极线110和栅电极111。栅极线110沿预定方向，例如，行方向延伸，栅电极111是从栅极线110分支出来的。可以采用等离子体化学气相淀积法由氮化硅膜形成栅极绝缘膜120，从而使栅极线110和栅电极111与相邻元件绝缘。

参考图4A和图4B，在栅极绝缘膜120上形成半导体图案130。在与栅电极111重叠的区域内，通过在栅极绝缘膜120上淀积非晶硅膜和n+非晶硅膜，并对所述非晶硅膜构图而形成半导体图案130。

通过与形成栅极线110类似的工艺在形成了半导体图案130的第一基板100上形成数据线140、源电极141和漏电极142。数据线140也沿预定方向，例如，列方向延伸，从而使数据线140与栅极线110交叉，由此界定像素区。源电极141从数据线140延伸出来，漏电极142与源电极141间隔一定距离。采用源电极141和漏电极142作为蚀刻掩模对包括n+非晶硅的半导体图案130的上层的一部分进行构图，由此完成图中所示的以虚线包围的薄膜晶体管T。

参考图5A和图5B，在第一基板100上形成用于薄膜晶体管T的保护膜150。对保护膜150构图以形成接触孔h，漏电极142通过所述接触孔h暴露。

像素电极160形成于保护膜150上，并通过接触孔h电连接至漏电极142。通过淀积具有氧化铟或氧化铟锡的膜并对所述膜构图而形成像素电极160。在对所述膜构图的过程中部分去除像素电极160，以形成切口部分161，切口部分161是穿过像素电极160形成的。

参考图6A和图6B，在第二基板200上形成光阻挡膜(未示出)。可以由铬膜或黑色有机膜形成光阻挡膜。对光阻挡膜构图以形成光阻挡膜图案210，通过所述光阻挡膜图案210形成多个开口部分211，使得第二基板200通过开口部分211部分暴露。按行和列的方向规则排列开口部分211，从而使开口部分211和像素区具有彼此一一对应的关系。因此，光阻挡膜图案210阻挡除了穿过对应于开口部分211的液晶以外的，穿过处于保留(remaining)区域内的不受像素电极160控制的液晶的光。

参考图7A和图7B，在第二基板200上形成滤色器以显示彩色。所述滤色器包括对应于光的三原色的红色、绿色和蓝色。在其上形成了光阻挡膜图案210的第二基板200上依次形成红色滤色器、绿色滤色器和蓝色滤色器。

例如，在第二基板200之上涂覆含有颜料的红色光致抗蚀剂材料，并采用光掩模实施曝光/显影工艺，以去除红色光致抗蚀剂材料的预期区域，由此形成红色滤色器220r。可以按各种布局排列红色滤色器。最近，条纹(stripe)法得到了广泛应用，如图7A所示，在所述方法中，在沿开口部分211的一个方向内排列红色滤色器220r。

参考图8A和图8B，采用与形成红色滤色器220r相同的方法形成绿色滤色器220g和蓝色滤色器220b。换言之，通过在第二基板200的表面之上涂覆绿色光致抗蚀剂材料，之后去除所述绿色光致抗蚀剂材料的预期区域而形成绿色滤色器220g。在这种情况下，在红色滤色器220r上也涂覆绿色光致抗蚀剂材料，但是，通过曝光/显影工艺将其全部去除。重复执行这些工艺几次，以形成蓝色滤色器220b。由此制毕滤色器220。

每一滤色器220根据其颜色具有不同的厚度。由于滤色器220是根据颜色而单独形成的，因此，尽管将每一滤色器220设计为具有与颜色无关的相同的厚度，也可能在实施针对滤色器220的工艺的过程中导致滤色器220之间的厚度差异。这是因为某些滤色器，例如绿色滤色器220g或蓝色滤色器，是在形成其他滤色器，例如红色滤色器220r之后形成的。也就是说，由于形成绿色滤色器220g和蓝色滤色器220b的条件与形成红色滤色器220r的条件不同，因此，绿色和蓝色滤色器220g和220b的厚度大于红色滤色器220r的厚度。类似地，蓝色滤色器220b的厚度大于红色和绿色滤色器220r和220g的厚度。而且，也可能有意形成根据颜色而具有不同厚度的滤色器，因为光的波长特性相对于每种颜色而各不相同。

参考图9A和图9B，在滤色器220上形成覆盖膜230和公共电极240。覆盖膜230可以包括丙烯酸树脂等，并且可以通过旋涂法形成，以保护滤色器220，并使由滤色器220之间的厚度差导致的第二基板200的参差不齐的上表面平面化。但是，如果滤色器220之间的厚度差大，那么可能无法对第二基板的非平坦上表面进行理想的平面化处理，那么可以省略覆盖膜230，以简化工艺。

在覆盖膜230上形成对应于图5A和图5B所示的第一基板100的像素电极160的公共电极240。采用与形成像素电极160相同的方法，通过淀积由氧化铟锌或氧化铟锡构成的膜而形成公共电极240。由于不用针对每一像素对公共电极构图，因此，与像素电极160相比可以省略独立的构图过程。

在公共电极240上涂覆光致抗蚀剂膜250。采用光致抗蚀剂膜250形成在功能上对应于像素电极160的切口部分161(参见图5A)的突起，光致抗蚀剂膜250是由正类型光致抗蚀剂或负类型光致抗蚀剂形成的。光致抗蚀剂膜250的厚度是突起厚度的大约两倍到四倍。在本实施例中，所形成的光致抗蚀剂膜250可能根据不同颜色的滤色器220之间的厚度差而具有不同厚度。换言之，如图9B所示，可以在全部依次紧密排列的蓝色滤色器220b、绿色滤色器220g和红色滤色器220r上形成光致抗蚀剂膜250。

参考图10A和图10B，对光致抗蚀剂膜250构图，以形成包括多个突起251a、251b和251c的突起251。在对光致抗蚀剂膜250构图的曝光/显影过程中，相对于其内形成突起251a、251b和251c的光致抗蚀剂膜的突起区域251的曝光量根据光致抗蚀剂膜250的厚度而不同。如上所述，通过控制用于曝光过程的光掩模的光透射区域和光阻挡区域的相应宽度而形成突起251a、251b和251c。于是，可以形成具有与厚度差，即滤色器220r、220g和220b之间的台阶差异无关的相同尺寸的突起251a、251b和251c(251a＝251b＝251c)。第二基板200的上表面上的台阶差异可能是由滤色器220r、220g和220b，以及形成于第二基板200上的不同膜引起的。即使在这种情况下，也可以通过采用光掩模控制曝光量而形成具有相同尺寸的突起251a、251b和251c。

在本实施例中，“突起251的尺寸”是指每一突起251所占据的空间的量，即“体积”。换言之，突起251的尺寸随着突起251在基板200上占据的面积，以及每一突起251从基板200突出的程度而变化。所述面积由每一突起251的左侧到右侧的宽度决定，其厚度由突起251的顶部到底部的厚度决定。使所形成的每一突起251的宽度和厚度之间具有与其总体尺寸无关的恒定比率。因此，可以通过控制光掩模的光透射区域和光阻挡区域的相应宽度形成针对第二基板200的每一区域都具有相同宽度和高度的突起251。

如图10B所示，在形成突起251时，基本同时形成柱间隔体252。提供柱间隔体252的目的在于保持第一基板100和第二基板200之间的空隙，即单元缝隙。单元缝隙影响液晶显示装置的总体工作特性，例如，响应速度、对比度、视角、亮度均匀度等。如果单元缝隙不是恒定的，那么由于无法在整个屏幕上显示均匀的图像，而使液晶显示装置的图像显示质量劣化。因此，采用间隔体防止图像显示质量的劣化。可以采用诸如柱间隔体252和珠形(bead)间隔体的各种类型的间隔体。通过对绝缘膜构图形成具有均匀高度的柱形柱间隔体252，通过将球面珠形间隔体转移到基板200上形成珠形间隔体。

在本实施例中，采用柱间隔体252，柱间隔体252形成于其上形成了突起251的第二基板200上。由于所涂覆的光致抗蚀剂膜250的厚度大于突起251的厚度，因此，光致抗蚀剂膜250的厚度足以形成柱间隔体252。因此，可以连同突起251一起形成柱间隔体252。这样做省略了形成柱间隔体252的额外过程，因而具有减少过程数量的优点。

参考图11A和11B，在制造了其上形成有各种膜的第一基板100和第二基板200之后，使第一基板和第二基板100和200相互贴附，使得第一基板100和第二基板200彼此相对。在第一和第二基板100和200之间注入液晶，并密封贴附的第一和第二基板100和200。

如图11A和图11B所示，布置第一基板100的切口部分161与第二基板200的突起251，使之不重叠或彼此相对。于是，在向公共电极240和像素电极160施加不同的电压时，将向液晶300施加由公共电极240和像素电极160之间的电压差导致的电场，由此改变液晶300的液晶分子的配向。由此改变液晶300的光透射率，以显示预期图像。突起251和切口部分161改变作用于液晶300上的电场。其结果为，液晶300在突起251和切口部分161的作用下沿不同方向倾斜，以形成如图11B所示的多域D₁、D₂、D₃和D₄，由此增大液晶显示装置的视角。

根据突起251的尺寸改变液晶300的倾斜角。根据本实施例，在第二基板200的每一像素区域内形成每一突起251a、251b和251c，使其具有与滤色器220之间的厚度差无关的相同尺寸。因此，突起251相对于液晶300的控制能力均匀地作用于每一像素区域内的液晶300上，从而使向其上施加了相同颜色的像素区域可以具有相同的彩色特性。此外，即使当第二基板200的表面上的台阶差异增大时，也可以通过省略覆盖膜220而完全一致地保持突起251的尺寸。

如上所述，通过对光致抗蚀剂膜构图而形成突起，从而提高液晶的视角。施加到光致抗蚀剂膜上的曝光量根据每一像素区域内基板和突起之间的滤色器的厚度而不同。因此，即使在基板的各个膜的影响下产生台阶差异，每一突起也可以具有相同的尺寸。

本领域的普通技术人员将理解，在不背离权利要求所述的本发明的精神和范围的情况下，可以在其中做出许多形式和细节上的替换和修改。因此，应当认识到，上述实施例仅起到例证说明的作用，而不应将其视为对本发明的限制。

本申请要求于2005年10月14日提交的韩国专利申请No.2005-97039的优先权，在此将其全文引入以供参考。

Claims (20)

1.一种制造液晶显示装置的方法，包括：

在基板表面上形成透明电极，所述透明电极的表面在高度上形成有台阶差；

在所述透明电极上形成正类型光致抗蚀剂膜；以及

对所述正类型光致抗蚀剂膜进行曝光和显影以形成突起，

其中，施加到所述正类型光致抗蚀剂膜上的曝光量随着所述突起在所述台阶差的作用下与所述基板的间距的加大而变小。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括在所述基板和所述透明电极之间形成滤色器，所述滤色器着有不同的颜色，并且根据所述颜色而形成为具有不同的相应厚度。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，在对所述正类型光致抗蚀剂膜曝光时，所述曝光量根据由滤色器之间的相应厚度差引起的台阶差而变化。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，在对所述正类型光致抗蚀剂膜曝光时，采用包括透光的光透射区域和不透光的光阻挡区域的光掩模，根据所述光阻挡区域的宽度控制对其上形成突起的区域的曝光量。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，对应于其上形成所述突起的区域的所述光阻挡区域之间的宽度差小于2微米。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述正类型光致抗蚀剂膜的厚度是所述突起的厚度的2倍到4倍。

7.一种制造液晶显示装置的方法，包括：

在基板的表面上形成透明电极，所述透明电极的表面在高度上形成有台阶差；

在所述透明电极上形成负类型光致抗蚀剂膜；以及

对所述负类型光致抗蚀剂膜进行曝光和显影以形成突起，

其中，施加到所述负类型光致抗蚀剂膜上的曝光量随着所述突起在所述台阶差的作用下与所述基板的间距加大而变小。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，在对所述负类型光致抗蚀剂膜曝光时，采用包括透光的光透射区域和不透光的光阻挡区域的光掩模，根据所述光透射区域的宽度控制对其上形成突起的区域的曝光量。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，对应于其上形成所述突起的区域的所述光透射区域之间的宽度差小于2微米。

10.根据权利要求7所述的方法，其中，所述负类型光致抗蚀剂膜的厚度是所述突起的厚度的2倍到4倍。

11.一种制造液晶显示装置的方法，包括：

在第一基板上形成栅极线和与所述栅极线交叉的数据线，以界定像素区；

在每一所述像素区内形成具有切口部分的像素电极；

在第二基板上形成着有不同的相应颜色的滤色器，其中所述滤色器具有不同的相应厚度并且根据每一所述像素区域而规则排列；

在所述滤色器上形成面对所述像素电极的公共电极，所述公共电极的表面在高度上形成有台阶差；

在所述公共电极上形成正类型光致抗蚀剂膜；

对所述正类型光致抗蚀剂膜进行曝光和显影以形成突起；以及

贴附所述第一和第二基板，使之彼此对应，

其中，在对所述正类型光致抗蚀剂膜曝光时，施加到所述正类型光致抗蚀剂膜上的曝光量随着所述突起在滤色器的厚度差的作用下与所述第二基板的间距的加大而变小。

12.根据权利要求11所述的方法，还包括在对所述正类型光致抗蚀剂膜曝光和显影的过程中，在形成所述突起的同时形成柱间隔体。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，所述滤色器包括蓝色滤色器、绿色滤色器和红色滤色器。

14.根据权利要求11所述的方法，其中，在对所述正类型光致抗蚀剂膜曝光时，采用包括透光的光透射区域和不透光的光阻挡区域的光掩模，根据所述光阻挡区域的宽度控制对其上形成所述突起的区域的曝光量。

15.根据权利要求11所述的方法，其中，当从所述第一基板和所述第二基板的上侧看时，所述切口部分与所述突起间隔开。

16.一种制造液晶显示装置的方法，包括：

在第一基板上形成栅极线和与所述栅极线交叉的数据线，以界定像素区；

在每一所述像素区内形成具有切口部分的像素电极；

在第二基板上形成着有不同的相应颜色的滤色器，其中所述滤色器具有不同的相应厚度并且根据每一所述像素区域而规则排列；

在所述滤色器上形成面对所述像素电极的公共电极，所述公共电极的表面在高度上形成有台阶差；

在所述公共电极上形成负类型光致抗蚀剂膜；

对所述负类型光致抗蚀剂膜进行曝光和显影以形成突起；以及

贴附所述第一基板和第二基板，使之彼此对应，

其中，在对所述负类型光致抗蚀剂膜曝光时，施加到所述负类型光致抗蚀剂膜的曝光量随着所述突起在所述滤色器的厚度差的作用下与所述第二基板的间距的加大而变小。

17.根据权利要求16所述的方法，其中，在对所述负类型光致抗蚀剂膜曝光时，采用包括透光的光透射区域和不透光的光阻挡区域的光掩模，根据所述光透射区域的宽度控制对其上形成所述突起的区域的曝光量。

18.根据权利要求16所述的方法，其中，从所述第一和第二基板的上侧来看，所述切口部分与所述突起隔开距离。

19.根据权利要求16所述的方法，其中，还包括在对所述负类型光致抗蚀剂膜曝光和显影的过程中，在形成所述突起的同时形成柱间隔体。

20.根据权利要求19所述的方法，其中，所述滤色器包括蓝色滤色器、绿色滤色器和红色滤色器。

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