CN1942950A - 双层型光记录介质及其记录再现方法以及光记录再现装置 - Google Patents

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Abstract

本发明的目的在于，提供可以从2个含色素记录层得到良好的记录信号特性，大容量且可以高密度记录的单面双层记录再现型的双层型光记录介质及其记录再现方法、以及光记录再现装置。为此，本发明提供一种双层型光记录介质，其包括第1基板、第2基板、在该第1基板和该第2基板之间的第1信息层、中间层、以及第2信息层，从上述第1基板侧入射激光光线，进行信息的记录和再现的至少之一，其中，上述第1信息层从激光光线入射侧起至少依次具有第1含色素记录层以及第1反射层，上述第2信息层从激光光线入射侧起至少依次具有第2含色素记录层以及第2反射层，上述第1反射层含有Au、Ag以及Cu中的任意一种、和选自Au、Ag、Cu、Al、Ti、V、Cr、Ni、Nd、Mg、Pd、Zr、Pt、Ta、W、Si、Zn以及In中的至少一种的合金，同时，上述第1信息层的光透过率为15～60％，并且该第1信息层的光反射率为15～50％。

Description

双层型光记录介质及其记录再现方法以及光记录再现装置
技术领域
本发明涉及通过照射光束进行信息的记录和再现的至少之一的双层型光记录介质，特别是，涉及应用于具有2层含色素的记录层的双层型DVD(Digital Video Disc或者Digital Versatile Disc)的双层型光记录介质及其记录再现方法以及光记录再现装置。
背景技术
除了只读的DVD-ROM等光记录介质之外，可以记录的DVD(DVD+RW、DVD+R、DVD-R、DVD-RW、DVD-RAM等)已被实用化。该DVD+R、DVD+RW等位于以往的可以记录的CD-R、CD-RW(记录型微型光盘)技术的延长线上，因此，为了确保与再现专用DVD的再现互换性，设计了记录密度(轨道间距和信号标记长度)和基板厚度，并使之符合从CD条件到DVD条件。
例如，在DVD+R中，与CD-R同样采用以下结构：在基板上旋涂色素，设置光记录层，并将在其背后设置了金属反射层的信息记录用基板通过贴合材料与同形状的基板贴合。此时，使用色素类材料作为光记录层。CD-R的特征之一是具有满足CD标准的高反射率(65％)。但是，在上述结构中，为了得到高反射率，光吸收层必须在记录再现波长下满足特定的复数折射率，这是因为要适合色素的光吸收特性。这一点在DVD中是相同的。
可是，在只读DVD中，为了增大记录容量，提出了具有双层的信息层的只读DVD。
图1是示出这样的具有双层信息层的DVD的结构的剖面图。基板1和基板2通过夹入由紫外线固化树脂形成的中间层5而贴合。在基板1的内侧面上形成半透明层3，该半透明层3是形成了凹凸状的记录标记的第1信息层，在基板2的内侧面上形成作为第2信息层的反射层4。半透明层3采用介电体膜或薄金属膜而形成，反射层4由金属膜等形成。
在各信息层上记录的信息通过反射和干涉再现激光的效果来读取。由于从双层的信息层读取信号，可以得到最大8.5GB左右的存储容量。另外，基板1的厚度和基板2的厚度分别为0.6mm，中间层5的厚度约为40μm。半透明层3按照其反射率为30％左右的方式形成，为再现第2信息层的信息而照射的激光在第1信息层反射总光量的约30％而衰减之后，在作为第2信息层的反射层4反射，再在半透明层3受到衰减之后，从光盘射出。因此，调节作为再现光的激光以使焦点会聚在第1信息层或第2信息层上，通过检测反射光，可以再现各信息层的信号。另外，在DVD的情况下，用于记录再现的激光波长约为650nm。
但是，在上述的可以记录的DVD，即DVD+R或DVD-R、DVD-RW或DVD+RW等中，从单面读取的信息层只有一层，为了在这些光记录介质中得到更大的存储容量，有必要制成从两面再现的结构。其原因是，由于单面双层记录再现型的光记录介质有2层信息层，为将焦点会聚在内部的记录层上而从光学拾取器(ピックァップ)照射写入用激光来记录信号时，由于第1信息层使激光衰减，因此存在第2信息层的记录所必需的光吸收和光反射不能兼备的问题。
作为应对上述问题的技术，例如，在专利文献1中公开了一种单面双层记录再现型的光记录介质，其包括具有半透明反射膜的信息层和具有反射膜的信息层，其中，使用以Ag为主要成分并添加了Au等的合金的材料作为半透明反射膜的材料。但是，完全没有关于使用了含色素的记录层的光记录介质的具体说明，并且由于使半透过性的第1反射膜(相当于半透明反射膜)变薄时，树脂层的成分与含色素的记录层反应而使含色素的记录层劣化，因此，为了得到可以实用的介质，必须解决该问题，而对于这一点，也没有公开和暗示。
另外，在专利文献2中，公开了一种光记录介质，其具有以下结构：在记录时可以从光记录介质的一面对包含有机色素的二个信息层进行写入，而在再现时从光记录介质的一面进行二个信息层的读取，但作为具体例子，仍停留在以往的贴合基板面入射记录结构和记录膜面入射结构的2种基板的结构，并不能解决关于上述第2信息层的光吸收反射的问题。另外，对于有关上述含有色素的记录层的劣化的本发明的课题及其解决方法，没有公开和暗示。
专利文献1：特开2002-140838号公报
专利文献2：特开平11-66622号公报
发明内容
本发明的目的在于，提供可以从2个含色素记录层得到良好的记录信号特性，大容量且可以高密度记录的单面双层记录再现型的双层型光记录介质及其记录再现方法、以及光记录再现装置。
为了解决上述课题，本发明人等反复深入研究的结果发现，以往，由于第1信息层使激光衰减，因此存在难以兼备第2信息层的记录所必需的光吸收和光反射的问题。此时，考虑将半透过性的第1反射层变薄，但这样的情况下，连接第1反射层而设置的中间层、保护涂层(ォ一バ一コ一ト)等树脂层的成分会通过第1反射层与第1含色素记录层的有机色素反应，产生使第1含色素记录层的特性发生劣化的新问题。
因此，本发明人等进一步进行研究的结果发现，通过使用特定组成的合金作为第1反射层的材料，可以得到结晶粒微细化且耐腐蚀性优异的薄膜，因此，可以防止树脂层的成分和第1含色素记录层的有机色素的反应。另外发现，通过使用特定的材料的混合物，或者将辅助层叠层，可以抑制树脂层的成分和第1含色素记录层的有机色素的反应，从而防止第1含色素记录层的特性的劣化。
本发明就是本发明人基于上述发现而完成的，作为用于解决本发明的方法，如下所示。即：
<1>一种双层型光记录介质，其包括第1基板、第2基板、在该第1基板和该第2基板之间的第1信息层、中间层、以及第2信息层，从上述第1基板侧入射激光光线，进行信息的记录和再现的至少之一，其中，
上述第1信息层从激光光线入射侧起至少依次具有第1含色素记录层以及第1反射层，
上述第2信息层从激光光线入射侧起至少依次具有第2含色素记录层以及第2反射层，并且
上述第1反射层含有Au、Ag以及Cu中的任意一种、和选自Au、Ag、Cu、Al、Ti、V、Cr、Ni、Nd、Mg、pd、Zr、Pt、Ta、W、Si、Zn以及In中的至少一种的合金，同时，上述第1信息层的光透过率为15～60％，并且该第1信息层的光反射率为15～50％。
<2>上述<1>所述的双层型光记录介质，其中，第1信息层的光透过率为30～55％，并且该第1信息层的光反射率为15～35％。
<3>上述<1>～<2>中任意一项所述的双层型光记录介质，其中，第1反射层还含有选自金属氧化物、金属氮化物、准金属氧化物以及准金属氮化物中的至少一种。
<4>上述<1>～<2>中任意一项所述的双层型光记录介质，其中，第1反射层还含有选自金属、准金属、金属氧化物、金属氮化物、准金属氧化物以及准金属氮化物中的至少2种。
<5>一种双层型光记录介质，其包括第1基板、第2基板、在该第1基板和该第2基板之间的第1信息层、中间层、以及第2信息层，从上述第1基板侧入射激光光线，进行信息的记录和再现的至少之一，其中，
上述第1信息层从激光光线入射侧起至少依次具有第1含色素记录层以及第1反射层，
上述第2信息层从激光光线入射侧起至少依次具有第2含色素记录层以及第2反射层，
上述第1反射层含有金属、合金以及准金属中的任意一种，并且，上述第1信息层的光透过率为15～60％，该第1信息层的光反射率为9～35％，同时，具有连接于上述第1反射层的辅助层，该辅助层含有金属氧化物、金属氮化物、准金属氧化物以及准金属氮化物中的至少一种。
<6>上述<5>中所述的双层型光记录介质，其中，第1信息层的光透过率为30～55％，并且该第1信息层的光反射率为15～35％。
<7>上述<5>～<6>中任意一项所述的双层型光记录介质，其中，第1反射层中的合金是Au、Ag以及Cu中的任意一种、和选自Au、Ag、Cu、Al、Ti、V、Cr、Ni、Nd、Mg、Pd、Zr、Pt、Ta、W、Si、Zn以及In中的至少一种的合金。
<8>上述<5>～<7>中任意一项所述的双层型光记录介质，其中，第1反射层中的金属和准金属中的任意一种选自Au、Ag、Cu、Al、Ti、Cr、Mg、Ta、W、Si以及Zr中的至少一种。
<9>上述<5>～<8>中任意一项所述的双层型光记录介质，其中，辅助层中的金属氧化物和准金属氧化物中的任意一种是选自氧化铝、氧化钛、氧化铬、氧化镁、氧化锆、氧化钽、氧化硅、氧化钙、氧化锡、氧化铟以及氧化铟锡中的至少一种。
<10>上述<5>～<9>中任意一项所述的双层型光记录介质，其中，辅助层中的金属氮化物以及准金属氮化物中的任意一种是选自氮化铝、氮化钛、氮化硅、以及氮化锆中的至少一种。
<11>上述<1>～<10>中任意一项所述的双层型光记录介质，其中，第1反射层的厚度为5～30nm。
<12>上述<1>～<11>中任意一项所述的双层型光记录介质，其中，第1含色素记录层和第2含色素记录层含有选自酞菁色素、花青色素、偶氮色素、以及角鲨烷类(スクァリリゥム系)色素中的至少一种。
<13>上述<1>～<12>中任意一项所述的双层型光记录介质，其中，第1含色素记录层的厚度(A)和第2含色素记录层的厚度(B)满足下式B/A＝1.5～2.5。
<14>上述<1>～<13>中任意一项所述的双层型光记录介质，其中，第1基板中的槽深为100～200nm，并且槽宽为0.2～0.3μm。
<15>上述<1>～<14>中任意一项所述的双层型光记录介质，其中，第2基板中的槽深为20～60nm，并且槽宽为0.2～0.4μm。
<16>上述<1>～<15>中任意一项所述的双层型光记录介质，其中，在中间层和第2含色素记录层之间具有隔离层。
<17>一种双层型光记录介质的记录再现方法，其中，对上述<1>～<16>中任意一项所述的双层型光记录介质的各信息层从第1基板侧入射波长350～700nm的激光光线，进行信息的记录和再现的至少之一。
<18>一种光记录再现装置，该装置从光源向光记录介质照射激光光线，对该光记录介质进行信息的记录和再现的至少之一，其中，
上述光记录介质是上述<1>～<16>中任意一项所述的双层型光记录介质。
本发明的双层型光记录介质的第1种方式包括第1基板、第2基板、在该第1基板和该第2基板之间的第1信息层、中间层、以及第2信息层，从上述第1基板侧入射激光光线，进行信息的记录和再现的至少之一，其中，
上述第1信息层从激光光线入射侧起至少依次具有第1含色素记录层以及第1反射层，
上述第2信息层从激光光线入射侧起至少依次具有第2含色素记录层以及第2反射层，并且
上述第1反射层含有Au、Ag以及Cu中的任意一种、和选自Au、Ag、Cu、Al、Ti、V、Cr、Ni、Nd、Mg、Pd、Zr、Pt、Ta、W、Si、Zn以及In中的至少一种的合金，同时，上述第1信息层的光透过率为15～60％，并且该第1信息层的光反射率为15～50％。
本发明的双层型光记录介质的第2种方式包括第1基板、第2基板、在该第1基板和该第2基板之间的第1信息层、中间层、以及第2信息层，从上述第1基板侧入射激光光线，进行信息的记录和再现的至少之一，其中，
上述第1信息层从激光光线入射侧起至少依次具有第1含色素记录层以及第1反射层，
上述第2信息层从激光光线入射侧起至少依次具有第2含色素记录层以及第2反射层，
上述第1反射层含有金属、合金以及准金属中的任意一种，并且上述第1信息层的光透过率为15～60％，该第1信息层的光反射率为9～35％，同时，具有连接于上述第1反射层的辅助层，该辅助层含有选自金属氧化物、金属氮化物、准金属氧化物以及准金属氮化物中的至少一种。
在上述第1种方式和第2种方式涉及的双层型光记录介质中，通过采用上述结构，可以从2个含色素记录层得到良好的记录信号，从而实现大容量并且可以进行高密度记录。
本发明的双层型光记录介质的记录再现方法是，从第1基板侧对本发明的上述双层型光记录介质入射波长为350～700nm的激光光线，进行信息记录和再现的任意之一。本发明的双层型光记录介质的记录再现方法中，可以稳定而确实并且高效地进行信息记录和再现中的任意一种。
本发明的光记录再现装置是从光源对光记录介质照射激光，对该光记录介质进行信息的记录和再现的至少之一的光记录再现装置，上述光记录介质是本发明的上述双层型光记录介质。在本发明的光记录装置中，可以稳定而确实地进行信息的记录和再现的至少之一。
附图说明
[图1]图1是示出以往的具有双层信息层的DVD结构的概要图。
[图2]图2是示出双层型光记录介质的层结构的一例的概要图。
[图3]图3是示出本发明的双层型光记录介质的层结构(具有辅助层时)的另一例的概要图。
[图4]图4是示出本发明的双层型光记录介质的层结构(还具有第1保护涂层时)的另一例的概要图。
[图5]图5是示出本发明的双层型光记录介质的层结构(具有第1保护涂层和第2保护涂层时)的另一例的概要图。
[图6]图6是示出对本发明的双层型光记录介质的透过率的模拟结果的曲线图。
具体实施方式
(双层型光记录介质)
本发明的双层型光记录介质包括第1基板、第2基板，在该第1基板和该第2基板之间的第1信息层、中间层以及第2信息层，根据需要，还具有其它层。
上述第1信息层从激光光线入射侧起至少依次具有第1含色素记录层以及第1反射层，根据需要，还具有其它层。
上述第2信息层从激光光线入射侧起依次至少具有第2含色素记录层以及第2反射层，根据需要，还具有其它层。
在上述双层型光记录介质中，在第1种方式中，上述第1反射层含有Au、Ag以及Cu中的任意一种、和选自Au、Ag、Cu、Al、Ti、V、Cr、Ni、Nd、Mg、Pd、Zr、Pt、Ta、W、Si、Zn以及In中的至少一种的合金，同时，上述第1信息层的光透过率为15～60％，并且该第1信息层的光反射率为15～50％。
另外，在第1种方式中，上述第1反射层含有金属、合金以及准金属中的至少一种，并且，上述第1信息层的光透过率为15～60％，该第1信息层的光反射率为9～35％，同时，具有连接于上述第1反射层的辅助层，该辅助层含有金属氧化物、金属氮化物、准金属氧化物以及准金属氮化物中的至少一种。
在本发明中，所谓“准金属”是指显示金属和非金属的中间性质的单质和元素，可以举出，例如，B、C、Si、P、Ge、As、Se、Sn、Sb、Te、Bi、Po、At等。
上述第1种方式涉及的第1信息层中的对记录再现激光的光透过率为15～60％，优选30～55％，更为优选40～55％。另外，光反射率为15～50％，优选15～35％，更为优选20～30％。
上述第2种方式涉及的第1信息层中的对记录再现激光的光透过率为15～60％，优选30～55％，更为优选40～55％。另外，光反射率为9～35％，优选15～35％，更为优选20～30％。
上述第1信息层的光透过率以及光反射率偏离上述数值范围时，光透过率过低，难以进行第2含色素记录层的记录再现，或者，光反射率过低，难以进行第1含色素记录层的记录再现，有时难以进行良好的单面双层记录再现。
这里，上述第1信息层的光透过率和光反射率可以采用例如Steag公司制造的ETA-RT进行测定。
为了将上述第1信息层的光透过率和光反射率设定为上述数值范围，可以适当选择构成第1信息层的第1反射层和第1含色素记录层的材料，并且可以调整各层的厚度等。
另外，上述第1反射层的厚度优选5～30nm，更加优选7～20nm。上述厚度比5nm薄时，有时难以防止第1含色素记录层的特性的劣化，超过30nm时，有时难以满足上述光透过率。
作为上述第1反射层的材料，优选对激光波长的反射率高的物质，可以举出，例如，选自Au、Ag、Cu、Al、Ti、V、Cr、Ni、Nd、Mg、Pd、Zr、Pt、Ta、W、Si、Zn以及In中的至少一种金属和准金属，但其中优选的是，以Au、Ag、Cu中的任意一种为主要成分，并添加0.1～10质量％的选自Au、Ag、Cu、Al、Ti、V、Cr、Ni、Nd、Mg、Pd、Zr、Pt、Ta、W、Si、Zn、In中的至少一种的合金，特别优选In(这里，因为是合金，所以，当然地，Au和Au、Ag和Ag、Cu和Cu的组合除外)。
通过添加0.1质量％以上的选自Au、Ag、Cu、Al、Ti、V、Cr、Ni、Nd、Mg、Pd、Zr、Pt、Ta、W、Si、Zn以及In中的至少一种，可以得到结晶粒微细化并且耐腐蚀性优异的薄膜。但是，添加超过10质量％时，有时导致反射率降低。
作为第1反射层的母材，优选最为优选溅射速度(スパッタレ一ト)高的Ag，作为添加物，特别优选折射率n小并且吸收系数大的Au、Cu、Mg、In。
这里，在下述表1中，示出了Palik的Handbook of Optical Constants ofSolids(Academic，1985)中记载的各种单质的光学常数n、k及其测定波长、测定光子能量。另外，在图6中，示出在聚碳酸酯基板(n，k)＝(1.56，0)上叠层厚度为65nm的含色素记录层(n，k)＝(2.3，0.04)、半透过层、中间层(n，k)＝(1.56，0)，改变半透过层的n，k和厚度，将反射率调整为25时对n，k的透过率的曲线图。由该图6可知，半透过性反射层的折射率越小，光利用效率越高。由于Ag在所有元素中n最小，光利用效率最高，因此为了不损害其特性，特别优选使添加物的总量为5质量％以下。
表1
  材料   能量(θV)   λ(nm)   n   k
  Ag   1.9   653   0.14   4.15
  Al   1.9   653   1.56   7.66
  Cu   1.9   653   0.214   3.67
  Au   1.9   653   0.166   3.15
  Ir   1.9   653   2.57   4.68
  Pt   1.9   653   2.38   4.26
  Pd   1.9   653   1.8   4.5
  Mg   2   620   0.382   5.74
  Ti   1.937   640   2.22   2.99
  Mn   1.88   659   2.56   3.65
  Ni   1.9   653   2.02   3.82
  Mo   1.9   653   3.74   3.58
  Rh   1.9   653   2.2   5.76
  Cs   1.84   673   0.266   1.36
  W   1.9   653   3.70   2.94
  Os   1.9   653   3.81   1.75
  Ce   2.4   500   1.67   2.57
  Sm   1.91   650   1.31   1.39
  Tb   2   620   2.36   3.01
  Dy   2   620   2.58   3.11
  Er   2   620   2.09   2.77
  Yb   2   620   1.34   2.61
  Rh   1.9   653   3.54   2.5
  Sb   2   620   2.8   4.5
  In   1.91   650   0.9   5.42
  Ru   1.9   653   4.96   4.78
另外，如图4和图5所示，为对第1反射层13进行化学保护和物理保护，还可以设置第1保护涂层15。作为它们的材料，可以使用紫外线固化树脂(例如，丙烯酸类树脂)等。
在本发明中，含有有机色素的第1含色素记录层与包含树脂的中间层或第1保护涂层由于通过极薄的第1反射层相连接，因此树脂层的成分不会通过第1反射层与有机色素相溶或反应是必要的。如纯金属薄膜那样，在第1反射层的结晶粒大的情况下，薄膜易成为岛状，另外，由于树脂等容易从晶粒边界渗透，因此会导致第1含色素记录层的特性劣化。
作为上述第1反射层或辅助层中使用的金属或准金属的氧化物，可以举出，例如，氧化铝、氧化钛、氧化铬、氧化镁、氧化锆、氧化钽、氧化硅、氧化钙、氧化锡、氧化铟、氧化铟锡等。同样地，作为金属或准金属的氮化物，可以举出，例如，氮化铝、氮化钛、氮化硅、氮化锆等。
为了对含有色素的第2含色素记录层进行化学的或物理的保护，还可以在上述第2含色素记录层和中间层之间设置隔离层。作为用于隔离层的材料，可以举出，SiO、SiO2、MgF2、SnO2、ZnS、ZnS-SiO2等光透过性高的无机物质。
上述隔离层的厚度优选10～200nm(100～2000)的范围。
上述中间层优选作为粘接层使用，作为其材料，可以使用现有的丙烯酸酯类、环氧类、聚氨酯类的紫外线固化型或热固化型粘接剂等。另外，也可以是通过透明片贴合的方法。
另外，在隔离层和中间层之间，如图5所示，为了进行化学保护和物理保护，可以通过环氧类紫外线固化型树脂等设置第2保护涂层25。
作为上述半透过性的第1反射层的材料，在使用以Au、Ag、Cu中任意一种为主要成分的的合金时，可以使用在作为母材的高反射率金属中添加了1～10质量％的选自Au、Ag、Cu、Al、Ti、V、Cr、Ni、Nd、Mg、Pd、Zr、Pt、Ta、W、Si、Zn以及In中的至少一种的靶，在压力从0.01Pa到数Pa的Ar氛围下，通过以1～20W/cm2的功率进行溅射，形成合金反射层。
作为上述半透过性第1反射层的材料，使用上述的合金、和金属或准金属的氧化物和/或氮化物的混合物时，或者，使用选自金属或准金属的单质、氧化物、氮化物中的至少2种的混合物时，可以使用以特定比例混合各材料得到的靶通过溅射形成。另外，也可以将固定(セット)了混合物的各材料的多个靶同时放电，进行溅射，由此形成混合物薄膜。
在叠层含有上述金属或准金属的第1反射层和含有金属或准金属的氧化物或氮化物的辅助层时，首先，通过溅射形成含有Au、Ag、Cu、Al、Ti、Cr、Mg、Ta、W、Si、Zr等任意一种的膜。接着，可以通过采用了含有氧化铝、氧化钛、氧化铬、氧化镁、氧化锆、氧化钽、氧化硅、氧化钙、氧化锡、氧化铟等的至少一种的靶的溅射形成叠层膜，也可以将Al、Ti、Cr、Mg、Zr、Ta、Si、Ca、Sn、In、ITO等的至少一种作为靶，并通过使用了Ar、O2混合气体的反应性溅射形成氧化膜。
另外，同样地，可以将氮化铝、氮化钛、氮化硅、氮化锆等的至少一种作为靶，在上述含有金属或准金属的膜上叠层氮化膜，也可以将Al、Ti、Si、Zr等的至少一种作为靶，在Ar和N2混合气体下形成氮化膜。
另外，在上述含有以Au、Ag、Cu的任意一种为主要成分的合金的第1反射层上叠层与上述同样的辅助层时，首先，通过溅射形成含有合金的反射层，接着与上述同样地叠层辅助层。
这里，本发明的双层型光记录介质的层结构的一例示于图2。
图2的双层型光记录介质是，将第1信息层30和第2信息层40通过中间层50以叠层膜相互对置的方式以含色素记录层为内侧进行贴合，并通过从第1基板侧照射激光，对第1和第2含色素记录层进行信号信息的记录再现，所述第1信息层30在第1基板11的具有光导向槽的表面依次叠层了含有有机色素的第1含色素记录层12和半透过性的第1反射层13，所述第2信息层40在第2基板21的具有光导向槽的表面依次叠层了第2反射层23、含有有机色素的第2含色素记录层22、隔离层24。
通过用以Au、Ag、Cu中任意一种为主要成分的合金形成第1反射层，或者用合金和金属或准金属的氧化物或氮化物中的至少一种的混合物形成第1反射层，或者用选自金属或准金属的单质、氧化物、氮化物中的至少2种的混合物形成第1反射层，可以得到缺陷少、可靠性高的光记录介质。
对于第1信息层，通过制成将在第1基板上形成的第1含色素记录层、第1反射层与第2基板贴合的与以往的单一记录层介质(DVD+R、DVD-R等)同样的结构，并通过第1含色素记录层的上下两界面的多重干涉效果和标记形成时的基板变形而得到反射率和记录信号调制度(对比度)。
另外，对于与上述第1信息层结构不同的第2信息层，优选的是，通过基板槽形状和含有有机色素的第2含色素记录层的光吸收特性，得到反射率和记录信号调制度(对比度)，同时，通过在不易变形的无机层(第2反射层和隔离层)之间配置第2含色素记录层来调整记录标记形状。
为了得到上述效果，优选使第2含色素记录层的厚度为第1含色素记录层厚度的1.5～2.5倍。当记录层的厚度比脱离该范围时，由于记录标记的容易扩展程度不同，有时难以用相同的记录策略(记录激光的发光脉冲图案)记录二个记录层。另外，含有有机色素的记录层的成膜方法通常是旋涂溶解在涂布溶剂中的色素的方法，当成膜在形成了导向槽的基板上时，在槽部和槽间部产生色素厚度差异。
如图2所示，在第1基板和第2基板上形成的槽形状并不相同。在4.7GB、0.74μm间距的DVD+R、DVD-R的情况下，第1基板的槽形状的槽深度优选为100～200nm(1000～2000)、槽宽(底宽度)优选为0.2～0.3μm。在旋涂成膜时，存在向槽内填充色素的倾向，因此第1含色素记录层和第1反射层的界面形状根据该填充量和基板槽形状而决定，故为了利用界面反射，上述范围是合适的。
另一方面，上述第2基板的槽形状优选槽深为20～60nm(200～600)、槽宽为0.2～0.4μm。如图2所示，第2含色素记录层和第2反射层的界面形状由基板槽形状决定，因此，为了利用界面反射，上述范围是合适的。
上述第1基板和第2基板的槽深同时都比上述槽形状范围深时，反射率容易降低。另外，槽深比上述槽形状范围浅，或者槽宽偏离时，形成的记录标记的形状难以统一，容易增加抖晃。
这里，为了得到与DVD-ROM的再现互换，DVD+R通过被称为凹槽(groove)的寻轨用导向槽进行被称为摆动的蛇行，由此形成地址信号，摆动周期为数据时钟的32倍、即约818kHz。该摆动与数据扇区的关系是：在1个数字扇区内的26个EFM Sync Frame(8-14调制同步帧)中，93个摆动对应2个EFM Sync Frame。该93个摆动中的8个由被称为ADIP Unit(Adress InPre-groove Unit)的相位调制部分和85个单调摆动构成，并且是数据扇区的Sync部分位于第16个摆动的关系。另外，按照以下方式进行配置：在作为数据错误订正区块之一的ECC Block(错误更正代码区块)中，以ADIPWord(字符)这样的基本单位，放入4个地址。即，4个数据扇区中放入一个地址。另外，ADIP Word由一个ADIP Sync Unit(同步单元)和51个ADIP DataUnit(数据单元)构成，各个单元与上述93个摆动对应。上述51个ADIP DataUnit的详细的结构是：1bit(字节)是保留字节，2bit～23bit为地址信息的ADIPData bit，24bit～31bit的8bit是用于写入有关盘的各种信息的辅助数据，32bit～51bit的剩余的20bit是错误订正用Parity bit(校验位)。
另外，在DVD-R中，预格式化与DVD+R同样，是由摆动凹槽形成的连续槽并且是CLV的形式，但摆动信号是无调制的单一频率(186T周期)信号，另外，地址信号采用凹槽间的岸台预制坑(ランドプリピット)的方式。
上述第1含色素记录层的厚度(槽部)优选4～100nm(40～1000)。另外，在第2含色素记录层(槽间部)中，优选60～300nm(600～3000)。上述含色素记录层的厚度比该范围薄时，有时难以得到信号调制度(对比度)，过厚时，标记形状难以统一，容易增加抖晃。
如图3和图4所示，作为与图2的不同的层结构的例子，第1反射层13由金属或准金属的单质构成，或者由以上述Au、Ag、Cu中的任意一种为主要成分的合金构成，通过叠层含有光透过性高的金属或准金属的氧化物或氮化物膜的辅助层14并连接在第1反射层13上，与仅有非常薄的第1反射层的情况相比，可以更为有效地抑制第1含色素记录层的有机色素和中间层或保护涂层等的树脂的反应，并可以防止第1含色素记录层的特性的劣化。通过设置上述辅助层14，即使以金属或准金属的单质构成第1反射层，也可以得到满足本发明的课题的光记录介质，但如果在第1反射层中使用上述Au、Ag、Cu中任意一种作为主要成分的合金，则可以将第1反射层的厚度设置得更薄。
图3所示的双层型光记录介质是，将第1信息层30和第2信息层40通过中间层50以叠层膜相互对置的方式以含色素记录层为内侧进行贴合，并从第1基板侧照射激光，由此对第1和第2含色素记录层进行信号信息的记录再现的光记录介质，所述第1信息层30在第1基板11的具有光导向槽的表面上依次叠层含有有机色素的第1含色素记录层12和半透过性的第1反射层13和辅助层14，所述第2信息层40在第2基板21的具有光导向槽的表面上依次叠层第2反射层23、含有有机色素的第2含色素记录层22、隔离层24。
图4所示的双层型光记录介质是，将第1信息层30和第2信息层40通过中间层50以叠层膜相互对置的方式以含色素记录层为内侧进行贴合，并从第1基板侧照射激光，由此对第1和第2含色素记录层进行信号信息的记录再现的光记录介质，所述第1信息层30在第1基板11的具有光导向槽的表面依次叠层含有有机色素的第1含色素记录层12、半透过性的第1反射层13、辅助层14和第1保护涂层15，所述第2信息层40在第2基板21的具有光导向槽的表面依次叠层第2反射层23、含有有机色素的第2含色素记录层22、隔离层24。
另外，图5所示的双层型光记录介质是，将第1信息层30和第2信息层40通过中间层50以叠层膜相互对置的方式以含色素记录层为内侧进行贴合，并从第1基板侧照射激光，由此对第1和第2含色素记录层进行信号信息的记录再现的光记录介质，所述第1信息层30在第1基板11的具有光导向槽的表面依次叠层含有有机色素的第1含色素记录层12、半透过性的第1反射层13和第1保护涂层15，所述第2信息层40在第2基板21的具有光导向槽的表面依次叠层第2反射层23、含有有机色素的第2含色素记录层22、隔离层24和第2保护涂层25。
下面，对本发明的双层型光记录介质使用的材料具体地进行说明。
本发明的双层型光记录介质与DVD+R、CD-R同样，为通过含有有机色素的记录层的上下两界面的多重干涉效果来获得高反射率的结构，作为含有有机色素的记录层，优选在记录再现波长下折射率n大、吸收系数k比较小的光学特性。优选的范围是n＞2、0.03＜k＜0.2。这样的光学特性可通过利用含色素记录层的光吸收带的长波长端部的特性得到。
作为在第1和第2含色素记录层中使用的有机色素材料，可以举出，例如，花青类色素、酞菁类色素、吡喃类色素、硫代吡喃类色素、薁(ァズレニゥム)类色素、角鲨烷(スクァリリゥム)类色素、偶氮类色素、甲螯合物类色素、Ni、Cr等金属配位盐类色素、萘醌类色素、蒽醌类色素、靛酚类色素、靛苯胺类色素、三苯基甲烷类色素、三烯丙基甲烷类色素、胺类色素、diinmonium类色素、亚硝基化合物。
其中，作为膜的吸收光谱的最大吸收波长处于580～620nm、并且在DVD用激光波长(约650nm)下容易得到期望的光学特性的色素化合物，从采用溶剂涂布的成膜性、光学特性调整的容易程度来看，优选从酞菁色素、花青色素、偶氮色素、角鲨烷类色素选出的至少一种色素。
根据需要，还可以在上述含色素记录层中添加高分子材料、硅烷偶合剂、稳定剂(例如，过渡金属配位化合物)、分散剂、阻燃剂、润滑剂、抗静电剂、表面活性剂、增塑剂等。
作为上述含色素记录层的形成方法，没有特别的限制，可以根据目的适当选择，可以使用蒸镀、溅射、CVD、溶剂涂布等通常的方法，其中，特别优选涂布法。
在使用涂布法时，可以将上述染料等溶解在有机溶剂中，通过喷涂、辊涂、浸渍以及旋涂等常用的涂布法进行。
作为上述有机溶剂，可以举出，例如，甲醇、乙醇、异丙醇等醇类；丙酮、甲乙酮、环己酮等酮类；N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺等酰胺类；二甲亚砜等亚砜类；四氢呋喃、二烷、乙醚、乙二醇单甲醚等醚类；乙酸甲酯、乙酸乙酯等酯类；氯仿、二氯甲烷、二氯乙烷、四氯化碳、三氯乙烷等脂肪族卤代烃类；苯、二甲苯、一氯苯、二氯苯等芳香族类；甲氧基乙醇、乙氧基乙醇等溶纤剂类；己烷、戊烷、环己烷、甲基环己烷等烃类等。这些可以单独使用1种，也可以同时使用2种以上。
作为上述第1基板材料和第2基板材料，可以从以往的信息记录介质中使用的各种材料中任意选择，例如，可以举出，聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸类树脂；聚氯乙烯、氯乙烯共聚物等氯乙烯类树脂；环氧树脂、聚碳酸酯树脂、无定形聚烯烃树脂、聚酯树脂、钠钙玻璃等玻璃以及陶瓷。特别是，从尺寸稳定性、透明性、平面性等观点来看，优选聚甲基丙烯酸甲酯树脂、聚碳酸酯树脂、环氧树脂、无定形聚烯烃树脂、聚酯树脂、玻璃等，但从成型的容易性来看，最为优选聚碳酸酯树脂。
按照本发明，可以提供一种单面双层记录再现型光记录介质，该光记录介质在高灵敏度下、高温高湿环境下不会发生劣化，生产性或可靠性高，可以从2个信息层得到良好的记录信号特性，并且是大容量而且可以高密度记录。
(双层型光记录介质的记录再现方法)
在本发明的双层型光记录介质的再现方法中，从第1基板侧对本发明的上述双层型光记录介质的各信息层入射波长350～700nm的激光，进行信息的记录和再现的至少之一。
具体地，使光记录介质以规定的线速度或规定的恒定角速度旋转，同时，从第1基板侧通过物镜照射半导体激光(例如，650nm的激发波长)等用于记录的光。通过该照射光，第1含色素记录层和第2含色素记录层吸收该光，局部温度上升，例如，生成坑而改变光学特性，由此记录信息。上述记录的信息的再现可以通过一边以规定的线速度旋转光记录介质一边从第1基板侧照射激光光线并检测该反射光来进行。
(光记录再现装置)
本发明的光记录再现装置对光记录介质照射来自光源的光，从而对该光记录介质进行信息的记录和再现中的至少之一，并且使用本发明的上述双层型光记录介质作为光记录介质。
上述光记录再现装置没有特别的限制，可以根据目的适当选择，例如包括：作为发射激光光线的半导体激光器等光源的激光光源、将从激光光源射出的激光光线聚光在安装在轴上的光记录介质上的聚光透镜、检测从激光光源发射的激光光线的一部分的激光检测器、将从激光光源发射的激光光线导入到聚光透镜和激光检测器上的光学元件，以及根据需要具有的其它的装置。
上述光记录再现装置通过光学元件将从激光光源发射的激光光线导入到聚光透镜上，通过该聚光透镜将激光光线聚光照射在光记录介质上，对光记录介质进行记录和再现。此时，光记录再现装置将从激光光源发射的激光光线的一部分导入到激光检测器上，根据激光检测器的激光光线的检测量来控制激光光源的光量。
上述激光检测器将检测出的激光光线的检测量转换为电压或电流作为检测量信号输出。
作为上述其它装置，可以举出控制装置等。作为上述控制装置，只要可以控制上述各装置的运转即可，没有特别的限制，可以根据目的适当选择，例如，可以举出顺序控制器、计算机等仪器。
本发明的光记录再现装置由于装载了本发明的上述双层型光记录介质，因此可以实现大容量和高密度记录。
实施例
下面，通过实施例和比较例更为具体地说明本发明，但本发明并不受这些实施例的限制。
(实施例1)
-双层型光记录介质的制作-
准备第1基板，该基板是在直径120mm、厚度0.58mm的聚碳酸酯树脂制造的基板的表面上具有深度150nm、槽宽0.25μm、轨道间距0.74μm的导向槽凹凸图案的基板。
以质量比(角鲨烷色素∶甲螯合物色素)为7∶3的比例混合下述结构式(A)表示的角鲨烷色素和下式结构式(B)表面的甲螯合物色素，并溶解在2，2，3，3-四氟丙醇中，制成涂布液。通过旋涂将该涂布液涂布在第1基板上，设置第1含色素记录层。
得到的第1含色素记录层的最大吸收波长为609nm，在最大吸收波长下的吸光度(Abs)为0.65。此时的凹槽部的记录层厚度为60nm。
[化学式1]
Figure A20058001121300211
结构式(A)
[化学式2]
Figure A20058001121300212
结构式(B)
接着，以Ar作为溅射气体，使用Ag0.98Cu0.02组成的溅射靶通过溅射法在第1含色素记录层上形成第1反射层。溅射使用溅射装置(Unaxis公司制造，Big Sprinter)，在Ar流量20sccm、溅射功率0.5kW下进行，溅射速度为5.5nm/s。由此形成第1信息层。
接着，准备第2基板，该基板是在直径120mm、厚度0.60mm的聚碳酸酯树脂制造的基板的表面上具有深度20nm、槽宽0.25μm、轨道间距0.74μm的导向槽凹凸图案的基板。
以Ar作为溅射气体，通过溅射法将Ag设置成120nm的厚度，在第2基板上形成第2反射层。溅射与第1反射层同样使用溅射装置，在Ar流量20sccm、溅射功率3.5kW下进行，溅射速度为30nm/s。
接着，在第2反射层上，将用上述结构式(A)表示的角鲨烷色素旋涂成膜，并使其成为吸光度为1.6这样的厚度，形成第2含色素记录层。接着，以Ar为溅射气体，通过溅射法将ZnS-SiO2设置为100nm的厚度，在第2含色素记录层上形成隔离层。由此形成第2信息层。
接着，将形成了第1信息层的第1基板和形成了第2信息层的第2基板以第1和第2含色素记录层为内侧的方式用紫外线固化型粘接剂(日本化药公司制造KAYARAD DVD576M)贴合，形成中间层。由此，制作图2所示结构的双层型光记录介质。
(实施例2～32和比较例1～5)
-双层型光记录介质的制作-
在实施例1中，以Ar为溅射气体，使用与下述表2所示的第1反射层相同组成的溅射靶通过溅射法在第1含色素记录层上形成第1反射层，此外，与实施例1同样地，制作图2所示层结构的实施例2～32和比较例1～5的各双层型光记录介质。
<评价>
对得到的各双层型光记录介质，通过DVD用评价装置(パルステック公司制造，DDU1000、波长：657nm、NA：0.65)在记录线速度9.2m/s的条件下，记录DVD(8-16)信号，在3.8m/s的记录线速度下进行再现评价，得到下述表2所示的结果。另外，记录策略为(n-2)T的多重脉冲方式，多重脉冲宽度为10/16。
另外，使用上述DVD用评价装置测定在第1基板上形成了第1含色素记录层和第1反射层的第1信息层的光反射率。结果示于表2。
另外，使用Steag公司制造的ETA-RT测定在第1基板上形成了第1含色素记录层和第1反射层的第1信息层的光透过率。结果示于表2。
另外，将各双层型光记录介质在高温高湿(80℃、85％RH)条件下保存300小时后，测定Data to clock jitter(时钟抖晃数据)。结果示于表2。另外，评价基准是，◎为8％以下，○：不足9％，×：9％以上。
另外，观察在同样的条件下保存后的波形时，在比较例1、4和5中，发现部分的反射率降低(drop-out)，观测到反射层的劣化。在比较例2中，由于反射率过低，因此，不能用DVD-ROM驱动器再现。另外，在比较例3中，由于反射率过高，因此，到达第2含色素记录层的光太弱，不能向第2含色素记录层进行记录。
表2
               第1反射层          第1信息层   高温高湿保存性   灵敏度(mW)
组成   厚度(nm)   反射率(％) 透过率(％)
  实施例1   Ag0.98Cu0.02   5   15   52   ○   15
  实施例2   Ag0.98Cu0.02   10   18   49   ◎   17
  实施例3   Ag0.98Cu0.02   15   20   47   ◎   20
  实施例4   Ag0.98Cu0.02   30   50   16   ◎   24
  实施例5   Ag0.92Cu0.08   15   18   49   ◎   18
  实施例6   Ag0.92Cu0.08   15   16   51   ◎   17
  实施例7   Ag0.98Si0.02   15   19   48   ○   20
  实施例8   Ag0.98Au0.02   15   20   47   ◎   20
  实施例9   Ag0.98Al0.02   15   19   48   ○   21
  实施例10   Ag0.98V0.02   15   19   48   ○   21
  实施例11   Ag0.98Cr0.02   15   19   48   ○   20
  实施例12   Ag0.98Pd0.02   15   20   47   ◎   20
  实施例13   Ag0.98Pt0.02   15   20   47   ◎   20
  实施例14   Ag0.98Ta0.02   15   19   48   ○   19
  实施例15   Ag0.98Ti0.02   15   19   48   ○   19
  实施例16   Ag0.98Zn0.02   15   19   48   ◎   20
  实施例17   Ag0.98Zr0.02   15   20   47   ○   20
  实施例18   Ag0.98Nd0.02   15   19   48   ○   20
  实施例19   Ag0.98Ni0.02   15   19   48   ○   19
  实施例20   Ag0.98Mg0.02   15   20   47   ○   20
  实施例21   Ag0.985In0.005Cu0.01   15   20   47   ◎   20
  实施例22   Ag0.98In0.005Cu0.01Mg0.005   15   19   48   ◎   19
  实施例23   Ag0.98Pd0.01Cu0.01   15   20   47   ◎   20
  实施例24   Ag0.98Cu0.02   15   19   48   ◎   19
  实施例25   Cu0.98Ag0.02   15   18   49   ◎   20
  实施例26   Ag0.98Al2O30.02   15   18   49   ◎   21
  实施例27   Ag0.98Cu0.01Al2O30.01   15   19   48   ◎   21
  实施例28   Ag0.98Cu0.01SnO20.01   15   19   48   ◎   21
  实施例29   Ag0.98Cu0.01In2O30.01   15   19   48   ◎   21
  实施例30   Ag0.98Cu0.01Si3N40.01   15   18   49   ◎   20
  实施例31   Ag0.98Cu0.01Al2N30.01   15   19   48   ◎   21
  实施例32   Ag0.98Cu0.01TiN0.01   15   18   49   ◎   20
  比较例1   Ag0.98Cu0.02   3   10   58   ×   14
  比较例2   Ag0.88Cu0.12   15   12   55   ◎   18
比较例3 Ag0.98Cu0.02 35 55 10 ◎   30 ormore
  比较例4   Au   10   11   56   ×   17
  比较例5   Cu   10   12   55   ×   18
(实施例33～59)
-双层型光记录介质的制作-
在实施例1中，以Ar为溅射气体，使用与下述表3所示的第1反射层和辅助层相同组成的溅射靶通过溅射法在第1含色素记录层上依次形成第1反射层和辅助层，此外，与实施例1同样地，制作图3所示层结构的实施例33～59的各双层型光记录介质。
与实施例1同样，对得到的双层型光记录介质进行记录再现评价。结果示于表3。
另外，与实施例1同样地测定第1信息层的光反射率和光透过率。结果示于表3。
另外，在高温高湿(80℃、85％RH)条件下保存300小时后，对得到的各双层型光记录介质测定并评价Data to clock jitter(时钟抖晃数据)，其结果示于表3。另外，评价基准是，◎为8％以下，○：不足9％，×：9％以上。
另外，在保存后的任何一个双层型光记录介质中，未发现部分反射率降低(drop-out)，保存特性良好。另外，记录灵敏度全都在30mW以下。
表3
      第1反射层          辅助层         第1信息层   高温高湿保存性   灵敏度(mW)
组成   厚度(nm) 组成   厚度(nm)   反射率(％)   透过率(％)
  实施例33   Ag   10   ITO   5   20   47   ○   20
  实施例34   Ag   10   ITO   10   19   48   ○   19
  实施例35   Ag   10   ITO   30   12   55   ○   18
  实施例36   Ag   10   ITO   50   10   58   ○   18
  实施例37   Ag   10   ITO   70   9   59   ○   20
  实施例38   Ag   10   ITO   90   12   55   ○   22
  实施例39   Ag   10   ITO   150   20   47   ○   25
  实施例40   Ag   10   ITO   190   13   54   ○   28
  实施例41   Au   10   ITO   10   17   50   ○   19
  实施例42   Cu   10   ITO   10   18   49   ○   19
  实施例43   Al   5   ITO   10   18   49   ○   20
  实施例44   Si   5   ITO   10   16   51   ○   18
  实施例45   Ta   10   ITO   10   17   50   ○   19
  实施例46   Ti   10   ITO   10   18   49   ○   19
  实施例47   W   10   ITO   10   16   51   ○   20
  实施例48   Ag   10   SiO2   10   20   47   ○   20
  实施例49   Ag   10   Al2O3   10   21   46   ○   21
  实施例50   Ag   10   TiO2   10   20   47   ○   19
  实施例51   Ag   10   Cr2O3   10   19   48   ○   18
  实施例52   Ag   10   MgO   10   21   46   ○   21
  实施例53   Ag   10   ZrO2   10   19   48   ○   18
  实施例54   Ag   10   Ta2O5   10   20   47   ○   19
  实施例55   Ag   10   CaO   10   21   46   ○   21
  实施例56   Ag   10   Si2N3   10   18   49   ○   19
  实施例57   Ag   10   Al2N3   10   17   50   ○   19
  实施例58   Ag   10   TiN   10   17   50   ○   20
  实施例59   Ag   10   Zr2N3   10   18   49   ○   20
工业实用性
本发明的双层型光记录介质可以从2个含色素记录层得到良好的记录信号特性，并且可以实现大容量和高密度记录，因此，可以广泛地使用于各种光记录介质、特别是DVD-RAM、DVD-RW、DVD+RW等DVD类光记录介质。

Claims (18)

1.一种双层型光记录介质，包括第1基板、第2基板、在该第1基板和该第2基板之间的第1信息层、中间层、以及第2信息层，从上述第1基板侧入射激光光线，进行信息的记录和再现的至少之一，其中，
上述第1信息层从激光光线入射侧起至少依次具有第1含色素记录层以及第1反射层，
上述第2信息层从激光光线入射侧起至少依次具有第2含色素记录层以及第2反射层，并且，
上述第1反射层含有Au、Ag以及Cu中的任意一种、和选自Au、Ag、Cu、Al、Ti、V、Cr、Ni、Nd、Mg、Pd、Zr、Pt、Ta、W、Si、Zn以及In中的至少一种的合金，同时，上述第1信息层的光透过率为15～60％，并且该第1信息层的光反射率为15～50％。
2.权利要求1所述的双层型光记录介质，其中，第1信息层的光透过率为30～55％，并且该第1信息层的光反射率为15～35％。
3.权利要求1～2中任意一项所述的双层型光记录介质，其中，第1反射层还含有选自金属氧化物、金属氮化物、准金属氧化物以及准金属氮化物中的至少一种。
4.权利要求1～2中任意一项所述的双层型光记录介质，其中，第1反射层还含有选自金属、准金属、金属氧化物、金属氮化物、准金属氧化物以及准金属氮化物中的至少2种。
5.一种双层型光记录介质，包括第1基板、第2基板、在该第1基板和该第2基板之间的第1信息层、中间层、以及第2信息层，从上述第1基板侧入射激光光线，进行信息的记录和再现的至少之一，其中，
上述第1信息层从激光光线入射侧起至少依次具有第1含色素记录层以及第1反射层，
上述第2信息层从激光光线入射侧起至少依次具有第2含色素记录层以及第2反射层，
上述第1反射层含有金属、合金以及准金属中的任意一种，并且，上述第1信息层的光透过率为15～60％，该第1信息层的光反射率为9～35％，同时，具有与上述第1反射层连接的辅助层，该辅助层含有选自金属氧化物、金属氮化物、准金属氧化物以及准金属氮化物中的至少一种。
6.权利要求5所述的双层型光记录介质，其中，第1信息层的光透过率为30～55％，并且该第1信息层的光反射率为15～35％。
7.权利要求5～6中任意一项所述的双层型光记录介质，其中，第1反射层中的合金是Au、Ag以及Cu中的任意一种、和选自Au、Ag、Cu、Al、Ti、V、Cr、Ni、Nd、Mg、Pd、Zr、Pt、Ta、W、Si、Zn以及In中的至少一种的合金。
8.权利要求5～7中任意一项所述的双层型光记录介质，其中，第1反射层中的金属和准金属中的任意一种为选自Au、Ag、Cu、Al、Ti、Cr、Mg、Ta、W、Si以及Zr中的至少一种。
9.权利要求5～8中任意一项所述的双层型光记录介质，其中，辅助层中的金属氧化物和准金属氧化物中的任意一种为选自氧化铝、氧化钛、氧化铬、氧化镁、氧化锆、氧化钽、氧化硅、氧化钙、氧化锡、氧化铟以及氧化铟锡中的至少一种。
10.权利要求5～9中任意一项所述的双层型光记录介质，其中，辅助层中的金属氮化物以及准金属氮化物中的任意一种为选自氮化铝、氮化钛、氮化硅、以及氮化锆中的至少一种。
11.权利要求1～10中任意一项所述的双层型光记录介质，其中，第1反射层的厚度为5～30nm。
12.权利要求1～11中任意一项所述的双层型光记录介质，其中，第1含色素记录层和第2含色素记录层含有选自酞菁色素、花青色素、偶氮色素、以及角鲨烷类色素中的至少一种。
13.权利要求1～12中任意一项所述的双层型光记录介质，其中，第1含色素记录层的厚度(A)和第2含色素记录层的厚度(B)满足下式B/A＝1.5～2.5。
14.权利要求1～13中任意一项所述的双层型光记录介质，其中，第1基板中的槽深为100～200nm，并且槽宽为0.2～0.3μm。
15.权利要求1～14中任意一项所述的双层型光记录介质，其中，第2基板中的槽深为20～60nm，并且，槽宽为0.2～0.4μm。
16.权利要求1～15中任意一项所述的双层型光记录介质，其中，在中间层和第2含色素记录层之间具有隔离层。
17.一种双层型光记录介质的记录再现方法，其中，对权利要求1～16中任意一项所述的双层型光记录介质的各信息层从第1基板侧入射波长350～700nm的激光光线，进行信息的记录和再现的至少之一。
18.一种光记录再现装置，该装置从光源向光记录介质照射激光光线，对该光记录介质进行信息的记录和再现的至少之一，其中，
上述光记录介质是权利要求1～16中任意一项所述的双层型光记录介质。
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