CN1916617B - 缓蚀剂浓度的测定方法 - Google Patents

缓蚀剂浓度的测定方法 Download PDF

Info

Publication number
CN1916617B
CN1916617B CN2005100367488A CN200510036748A CN1916617B CN 1916617 B CN1916617 B CN 1916617B CN 2005100367488 A CN2005100367488 A CN 2005100367488A CN 200510036748 A CN200510036748 A CN 200510036748A CN 1916617 B CN1916617 B CN 1916617B
Authority
CN
China
Prior art keywords
corrosion inhibitor
density
cyclic voltammetry
voltammetry curve
assay method
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN2005100367488A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1916617A (zh
Inventor
林知本
田民
顾大伟
张钢升
洪士毅
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen Futaihong Precision Industry Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen Futaihong Precision Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen Futaihong Precision Industry Co Ltd filed Critical Shenzhen Futaihong Precision Industry Co Ltd
Priority to CN2005100367488A priority Critical patent/CN1916617B/zh
Priority to US11/453,461 priority patent/US20070039833A1/en
Publication of CN1916617A publication Critical patent/CN1916617A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN1916617B publication Critical patent/CN1916617B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/26Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
    • G01N27/416Systems
    • G01N27/48Systems using polarography, i.e. measuring changes in current under a slowly-varying voltage
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N17/00Investigating resistance of materials to the weather, to corrosion, or to light
    • G01N17/02Electrochemical measuring systems for weathering, corrosion or corrosion-protection measurement

Landscapes

  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Biodiversity & Conservation Biology (AREA)
  • Ecology (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Environmental Sciences (AREA)
  • Testing Resistance To Weather, Investigating Materials By Mechanical Methods (AREA)
  • Investigating And Analyzing Materials By Characteristic Methods (AREA)

Abstract

一种缓蚀剂浓度的测定方法,包括以下步骤:提供一含有缓蚀剂的待测试剂;在该待测试剂中加入一预定量的能发生电极反应的金属离子溶剂;提供一电位扫描装置;在一预定电位区间内,利用该电位扫描装置,以一固定扫描速度测定该待测试剂的循环伏安曲线,该循环伏安曲线具有一峰电流值;在该预定电位区间内,以该固定扫描速度测定多组已知浓度的、含有该预定量金属离子溶剂的标准缓蚀剂溶液的循环伏安曲线,每一浓度的标准缓蚀剂溶液的循环伏安曲线具有一峰电流值,以该多组标准缓蚀剂溶液的缓蚀剂浓度值及其相对应的循环伏安曲线的峰电流值确定一线性方程;以该线性方程及该待测试剂的循环伏安曲线的峰电流值确定该待测试剂的缓蚀剂浓度值。

Description

缓蚀剂浓度的测定方法
【技术领域】
本发明是关于一种缓蚀剂浓度的测定方法,尤其是一种藉由循环伏安法定量测定缓蚀剂浓度的方法。
【背景技术】
化学抛光、电镀镍及蚀刻是表面处理工业中常见工艺,其可应用于装饰性薄膜、各种功能性薄膜镀覆以及半导体制造。缓蚀剂是上述工艺中的常用配料,其对工艺质量有重要影响。如化学抛光工艺中,添加缓蚀剂对控制工件表面腐蚀速度有重要作用。但缓蚀剂添加过量,会造成抛光不完全,以致制程良品率,缓蚀剂添加量不足,则不能达到缓蚀效果,使得工艺难以控制。现有技术中的化学抛光槽、电镀槽及蚀刻槽中缓蚀剂浓度确定主要是根据经验判断,误差较大。
【发明内容】
鉴于以上内容,有必要提供一种可快速、准确定量测定缓蚀剂浓度的方法。
一种缓蚀剂浓度的测定方法,其包括以下步骤:
提供一含有缓蚀剂的待测试剂;
在该待测试剂中加入一预定量的能发生电极反应的金属离子溶剂;
提供一电位扫描装置;
在一预定电位区间内,利用该电位扫描装置,以一固定扫描速度测定该待测试剂的循环伏安曲线,该循环伏安曲线具有一峰电流值;
在该预定电位区间内,以该固定扫描速度测定多组已知浓度的、含有该预定量金属离子溶剂的标准缓蚀剂溶液的循环伏安曲线,每一浓度的标准缓蚀剂溶液的循环伏安曲线具有一峰电流值,以该多组标准缓蚀剂溶液的缓蚀剂浓度值及其相对应的循环伏安曲线的峰电流值确定一线性方程;
以该线性方程及该待测试剂的循环伏安曲线的峰电流值确定该待测试剂的缓蚀剂浓度值。
相较现有的缓蚀剂浓度测定技术,所述缓蚀剂浓度的测定方法在待测试剂中加入一金属离子试剂,然后在一电位区间内,利用电位扫描装置,测定待测试剂中该金属离子的循环伏安曲线的峰电流值;然后利用缓蚀剂的浓度值与该金属离子的循环伏安曲线的峰电流值的线性关系确定该待测试剂的缓蚀剂浓度值。其操作简便,准确性好、杂质离子干扰小。
【附图说明】
图1为本发明较佳实施例所采用的电位扫描装置的结构示意图。
【具体实施方式】
缓蚀剂对金属离子的电极反应具有抑制作用,如铜离子、铁离子等。在具有缓蚀剂的金属离子溶液的电极反应体系中,缓蚀剂的浓度与金属离子的电极反应的电流密度有密切联系,缓蚀剂的浓度越大,其对金属离子的电极反应的抑制作用越强,金属离子的电极反应的电流密度就越弱。本发明进一步依据实验测定而知:在一特定电位区间内,以循环伏安法扫描时,金属离子试剂的循环伏安曲线的峰电流值与该金属离子试剂中缓蚀剂浓度呈线性关系。
请参照图1,本发明较佳实施例所述的缓蚀剂浓度的测定方法以测定化学抛光槽中的缓蚀剂硫尿为例进行说明。其具体包括以下步骤:
取适量化学抛光槽中的溶液,将其稀释1000倍后,取所述稀释后的溶液100ml,以其为待测试剂。
提供一电位扫描装置1,其包括一容器2、一恒电位仪3、一电位-电流记录仪4,该恒电位仪3具有一工作电极31、一辅助电极32及一参比电极33;工作电极31为玻璃碳电极,辅助电极32为铂丝电极,参比电极33为银/氯化银(Ag/AgCl)电极。该电位-电流记录仪4与恒电位仪3连接,其同步记录工作电极31的电流值与电位值。
将所述待测试剂置于容器2中,在容器2中滴加1mol/l的铜离子溶液2滴,同时滴加酸性或碱性试剂,控制容器2中的待测试剂的PH值为3.0~4.0,较佳PH值为3.7。藉由所述电位扫描装置1,对容器2中的待测试剂进行循环伏安扫描,其具体步骤为:将工作电极31、辅助电极32及参比电极33置于容器2中的待测试剂,设定恒电位仪3的电位扫描区间为0.4伏~-0.4伏,扫描速度为0.1伏/秒,开启该恒电位仪3,在所述电位扫描区间内循环扫描,记录工作电极31的电位值及与其相对应的电流值,电位-电流记录仪4根据所述的记录的数据同步绘制循环伏安曲线。本实施例中,工作电极31的电位值为0.4伏~-0.4伏之间时,会出现一个灵敏阴极峰,记录该阴极峰所对应的峰电流值Ip
配置多组已知浓度的标准缓蚀剂溶液,其中该多组标准缓蚀剂溶液的缓蚀剂浓度不同,在该多组标准缓蚀剂溶液滴加1mol/l的铜离子溶液2滴,且控制所述多组标准缓蚀剂溶液与所述待测试剂的PH值相同。利用电位扫描装置1在0.4伏~-0.4伏的电位扫描区间,扫描速度为0.1伏/秒的条件下,分别对所述多组标准试剂重复上述伏安扫描步骤,并记录所述多组标准试剂相对应的峰电流值。
依据所述多组标准缓蚀剂溶液的缓蚀剂浓度值及其相对应的峰电流值,可以发现,所述多组标准缓蚀剂溶液的缓蚀剂浓度值与其循环伏安曲线的峰电流值成一线性关系。因此,以该多组标准缓蚀剂溶液浓度值与相对应的循环伏安曲线的峰电流值可确定一线性方程。
将待测试剂所对应的循环伏安曲线的峰电流值代入该线性方程,以此确定该待测试剂的缓蚀剂浓度。将该待测试剂的缓蚀剂浓度还原放大1000倍,即为化学抛光槽中缓蚀剂浓度值。
如下表1及表2为验证本发明重现性、准确性及干扰离子影响度的实验记录数据。
表1
Figure GSB00000305698800031
(注:峰电流值Ip单位为mA)
表2
Figure GSB00000305698800032
(注:峰电流值Ip单位为mA)
表1所示为缓蚀剂浓度分别为7mg/l、14mg/l、28mg/l的标准缓试剂溶液,每种标准试剂取5组测试样品,PH值为3.0~4.0,在电位扫描区间为0.4伏~-0.4伏,扫描速度为0.1伏/秒的条件下,实施电位扫描时,各组标准试剂的缓蚀剂浓度值及对应的峰电流Ip值。
表2所示为缓蚀剂浓度为14mg/l的多组试剂,且该多组试剂分别含有铝离子1mg/l、5mg/l、10mg/l或含有磷酸离子100mg/l、500mg/l、1g/l,每种试剂取5组测试样品,PH值为3.0~4.0,在电位扫描区间为0.4伏~-0.4伏,扫描速度为0.1伏/秒的条件下,实施电位扫描时,各组试剂的缓蚀剂浓度值及对应的峰电流Ip的测试值。其中所述试剂采用工业产线中仿真化学抛光槽液稀释1000倍后的组分及浓度。
由表1数据可知,各组峰电流的测试值的相对平均偏差≤3.4%。结合表1及表2数据,含有各组干扰离子的试剂相对于所述标准试剂,其峰电流Ip测试值的相对误差≤4.3%。因此,本发明所述缓蚀剂浓度的测定方法操作简便,准确性好、杂质离子干扰小。

Claims (8)

1.一种缓蚀剂浓度的测定方法,其特征在于包括以下步骤:
提供一含有缓蚀剂的待测试剂;
在该待测试剂中加入一预定量的能发生电极反应的金属离子溶剂;
提供一电位扫描装置;
在一预定电位区间内,利用该电位扫描装置,以一固定扫描速度测定该待测试剂的循环伏安曲线,该循环伏安曲线具有一峰电流值;
在该预定电位区间内,以该固定扫描速度测定多组已知浓度的、含有该预定量金属离子溶剂的标准缓蚀剂溶液的循环伏安曲线,每一浓度的标准缓蚀剂溶液的循环伏安曲线具有一峰电流值,以该多组标准缓蚀剂溶液的缓蚀剂浓度值及其相对应的循环伏安曲线的峰电流值确定一线性方程;
以该线性方程及该待测试剂的循环伏安曲线的峰电流值确定该待测试剂的缓蚀剂浓度值。
2.如权利要求1所述的缓蚀剂浓度的测定方法,其特征在于:该金属离子为铜离子或铁离子。
3.如权利要求1所述的缓蚀剂浓度的测定方法,其特征在于:该金属离子的加入量为0.001mol/l。
4.如权利要求1所述的缓蚀剂浓度的测定方法,其特征在于:该待测试剂及该多组标准试剂PH值为3.0~4.0。
5.如权利要求1所述的缓蚀剂浓度的测定方法,其特征在于:该固定扫描速度为0.1伏/秒。
6.如权利要求1所述的缓蚀剂浓度的测定方法,其特征在于:该特定电位区间为0.4伏~-0.4伏。
7.如权利要求1所述的缓蚀剂浓度的测定方法,其特征在于:该电位扫描装置包括一恒电位仪及一电位-电流记录仪,其中该恒电位仪具有一工作电极、一辅助电极及一参比电极,该电位-电流记录仪与恒电位仪连接。
8.如权利要求7所述的缓蚀剂浓度的测定方法,其特征在于:该工作电极为玻璃碳电极,该辅助电极为铂丝电极,该参比电极为银/氯化银(Ag/AgCl)电极。
CN2005100367488A 2005-08-19 2005-08-19 缓蚀剂浓度的测定方法 Expired - Fee Related CN1916617B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2005100367488A CN1916617B (zh) 2005-08-19 2005-08-19 缓蚀剂浓度的测定方法
US11/453,461 US20070039833A1 (en) 2005-08-19 2006-06-14 Method for measuring corrosion inhibitor concentration

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2005100367488A CN1916617B (zh) 2005-08-19 2005-08-19 缓蚀剂浓度的测定方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1916617A CN1916617A (zh) 2007-02-21
CN1916617B true CN1916617B (zh) 2011-11-16

Family

ID=37737648

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2005100367488A Expired - Fee Related CN1916617B (zh) 2005-08-19 2005-08-19 缓蚀剂浓度的测定方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US20070039833A1 (zh)
CN (1) CN1916617B (zh)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5525499B2 (ja) * 2011-09-22 2014-06-18 株式会社日立ビルシステム 吸収液中のインヒビター濃度把握方法及び装置、並びにその装置を備えた吸収式冷温水機
EP3168611A1 (en) * 2015-11-12 2017-05-17 Total SA Corrosion or scale inhibitor dosage in industrial water
CN105891311B (zh) * 2016-04-07 2019-10-29 广东天承科技有限公司 化学铜药水中铜离子与甲醛浓度的快速测量方法
FI20196024A1 (en) * 2019-11-27 2021-05-28 Aabo Akademi Univ Method and device for detecting corrosion
CN113138215B (zh) * 2020-01-17 2023-10-03 先丰通讯股份有限公司 铜离子浓度监控方法
CN114591374A (zh) * 2022-02-14 2022-06-07 国网江西省电力有限公司电力科学研究院 一种化合物及其合成方法、检测锂电池中氢离子浓度的方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5192403A (en) * 1991-05-16 1993-03-09 International Business Machines Corporation Cyclic voltammetric method for the measurement of concentrations of subcomponents of plating solution additive mixtures
US20030201191A1 (en) * 2002-04-29 2003-10-30 Applied Materials, Inc. Electrochemical method for direct organic additives analysis in copper baths

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3957595A (en) * 1975-01-10 1976-05-18 Nalco Chemical Company Zinc electroplating
US6485831B1 (en) * 1999-05-13 2002-11-26 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Conductive powder and making process
JP3444276B2 (ja) * 2000-06-19 2003-09-08 株式会社村田製作所 無電解銅めっき浴、無電解銅めっき方法および電子部品

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5192403A (en) * 1991-05-16 1993-03-09 International Business Machines Corporation Cyclic voltammetric method for the measurement of concentrations of subcomponents of plating solution additive mixtures
US20030201191A1 (en) * 2002-04-29 2003-10-30 Applied Materials, Inc. Electrochemical method for direct organic additives analysis in copper baths

Also Published As

Publication number Publication date
US20070039833A1 (en) 2007-02-22
CN1916617A (zh) 2007-02-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1912610B (zh) 金属离子浓度的测定方法
EP1203950B1 (en) Plating bath analysis
Lubert et al. History of electroanalytical methods
CN1916617B (zh) 缓蚀剂浓度的测定方法
Lu et al. Voltammetric determination of mercury (II) in aqueous media using glassy carbon electrodes modified with novel calix [4] arene
ATE414901T1 (de) Messung der komplexbildnerkonzentration in einem stromlosen galvanisierungsbad
CN108344792B (zh) 一种水体中总砷快速检测方法
LINGANE Systematic Polarographic Metal Analysis Analysis of the Copper Group with the Aid of Electrolytic Separations
Ostapczuk et al. Determination of cadmium, lead and copper in wine by potentiometric stripping analysis
CN102879452A (zh) 一种测定表面处理溶液中微量氯离子含量的方法
Oldham Convolution of voltammograms as a method of chemical analysis
CN110376269A (zh) 确定输入信号持续时间的方法
CN112881587A (zh) 一种电镀锡溶液中游离酸和二价锡浓度联合测定方法及装置
CN101957336A (zh) 改善电化学活性金属离子的检测精确度的方法
CA2154535C (en) Potentiometric evaluation of substrate oxidation and coating porosity
CN114740070B (zh) 一种检测酸性镀铜液中的铜离子浓度的方法
CN114778640B (zh) 一种测定酸性镀铜液中氯离子浓度的方法
CN114778640A (zh) 一种测定酸性镀铜液中氯离子浓度的方法
CN104237342A (zh) 石墨基掺铈β—PbO2电极的制备方法及其应用
Petrovic et al. Analytical Electrochemistry
Zaytsev et al. SIMULTANEOUS DETERMINATION OF ZINC, CADMIUM, LEAD AND COPPER BY ANODIC STRIPPING VOLTAMMETRY AT A MERCURY FILM ELECTRODE.
Tzur et al. Consecutive titrations under non-equilibrium conditions.: A new mode of automatic titration
KR20190018510A (ko) 시약 기준선을 사용하여 화학종의 농도를 측정하는 방법
Favaron et al. Voltammetric determination of Zn (II) in Zn-Fe alloy electroplating baths using square-wave voltammetry
RU2330274C1 (ru) Вольтамперометрический способ определения серебра в водных средах

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20111116

Termination date: 20150819

EXPY Termination of patent right or utility model