CN1846259A - 象差调整装置、光拾取器、光信息记录介质装置、程序、存储介质和象差调整方法 - Google Patents
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Abstract
在光拾取器中,通过使准直透镜向光路方向移动等,使从作为光源的半导体激光器照射的激光中产生球面象差。在控制信号生成部中,从来自光盘的反射光中取得信息的再现信号(RF信号),并且取得对应于光盘的引导沟的形状的沟形状信息(摆动信号、LPP信号)。然后,根据该RF信号和摆动信号或者LPP信号,调整前述的球面象差,从而,即使在光点中存在非点象差的情况下,也可以对从沟得到的信号和信息信号两者保持适当的S/N。
Description
技术领域
本发明涉及用于在DVD等光信息记录介质中记录或者再现信息的优选的象差调整装置、光拾取器、光信息记录介质装置、程序、存储介质和象差调整方法。
背景技术
在特开2000-348371号中,公开了按照摆动信号实时地控制非点象差,从而调整对于光盘面的光点的技术。
在记录用的光盘上,为了表示同步信息(同步图案)和盘上的地址信息,形成如图1所示的摆动(蛇行沟)110和台前坑(land pre-pit)(LPP)111等(而且,标号112表示沟,标号113表示台,标号114表示坑)。微观地观察时,由于形成这些结构,在半径方向上为非周期的构造。
但是,如果从以轨道间隔周期形成轨道沟的观点看,则成为周期性的构造。
摆动信号和LPP信号来源于该非周期的构造,推挽信号等轨道信号来源于降低了频带的周期性构造。
如图2所示,通过两分割盘反射光上的轨道图案103的区域(光接收区域A)104和区域(光接收区域B)105的差动信号(A-B)来生成摆动信号和LPP信号。这成为在沟产生的所谓推挽信号上在高频带进行了重叠的信号。
因此,在聚光在记录面上的点的沟横断方向(半径方向、径向方向)的点径变大时,该方向的分辨能力(MTF)降低,从沟得到的信号(上述摆动和LPP)的C/N恶化。
于是,如果在被聚光在光盘的记录面上的光束中存在非点象差时,其波面成为鞍状,将其聚光的光点鞍的弯曲方向的光点径为最小的聚焦位置不同,在半径方向光点缩小的状态时,从沟得到的信号的C/N上升。
另一方面,对于信息信号,由于需要沟方向(切线方向)的MTF,所以在存在非点象差的光点中,乍一看,认为在切线方向上光点缩小的状态时为最好,但如果半径方向的光点径变大,则由于来自相邻轨道的串扰,信号质量降低。从经验上来说,在RF信号的振幅最大时,对于信息信号为最佳的聚焦位置。该位置与半径方向的光点径为最小的聚焦位置不同。这样,在光点中存在非点象差时,从沟得到的摆动信号和LPP信号为最佳的聚焦位置和信息信号为最佳的聚焦位置不同。
而且,该非点象差起因于包括LD(激光二极管)的光学部件,有可能由于温度而变化,所以有时由温度导致的上述不良情况的发生状况产生变化。
关于这一点,虽然在特开2000-348371号中公开了按照摆动信号实时地控制非点象差,从而调整对于光盘面的光点的技术,但是由于仅基于摆动信号,所以不能解决如前所述的课题。
发明内容
本发明的目的是用根据从DVD等光信息记录介质的沟得到的信号和信息信号两者而生成的控制信号,通过使对光信息记录介质照射的光的光点特性变化,即使在光点中存在非点象差等象差的情况下,也可以对于从沟得到的信号和信息信号两者保持合适的S/N。
上述目的通过以下象差调整装置达到,该装置具有:象差产生部件,使从光源照射的光产生象差;再现信号取得部件,从来自具有引导沟的光信息记录介质的反射光取得信息的再现信号;沟形状信号取得部件,从来自所述光信息记录介质的反射光取得与所述引导沟的形状对应的沟形状信号;以及象差调整部件,根据所述再现信号和所述沟形状信号,调整所述象差产生部件产生的所述象差。
而且,上述目的也通过可在计算机中读取的程序达到,该程序使对所述光信息记录介质照射光,从而进行信息的记录或者再现的光信息记录介质装置执行以下部件:象差产生部件,使从光源照射的光产生象差;再现信号取得部件,从来自具有引导沟的光信息记录介质的反射光取得信息的再现信号;沟形状信号取得部件,从来自所述光信息记录介质的反射光取得与所述引导沟的形状对应的沟形状信号;以及象差调整部件,根据所述再现信号和所述沟形状信号,调整所述象差产生部件产生的所述象差。
而且,上述目的也通过以下象差调整方法达到,该方法包含以下步骤:使从光源照射的光产生象差的步骤;从来自具有引导沟的光信息记录介质的反射光取得信息的再现信号的步骤;从来自所述光信息记录介质的反射光取得与所述引导沟的形状对应的沟形状信号的步骤;以及根据所述再现信号和所述沟形状信号,调整所述象差的步骤。
本发明的进一步的其它目的和特长可以通过与以下附图一起描述的说明来明确。
附图说明
图1是光盘的结构的说明图。
图2是在光盘装置的光接收元件中接受了激光的状态的平面图。
图3是作为本实施方式的光盘装置的电连接的方框图。
图4是表示包含光盘装置的主计算机的概略结构的方框图。
图5是光拾取器的光学系统的一个结构例的说明图。
图6(A)和图6(B)分别是摆动信号和LPP信号的波形图。
图7是在沟寻迹等中使用的推挽信号的波形图。
图8是用于说明本发明的课题的说明图。
图9(A)和图9(B)是用于说明本发明的课题的说明图。
图10是用于说明本发明的课题的说明图。
图11是用于说明本发明的课题的说明图。
图12(A)和图12(B)是作为用于实施本发明的最佳方式的光拾取器的光学系统的结构例的说明图。
图13(A)和图13(B)是对于非点象差和球面象差混合的情况的说明图。
图14(A)和图14(B)是光拾取器的光学系统的另一个结构例的说明图。
图15(A)和图15(B)是表示准直透镜位于规定的位置时,或者将对折射率可变元件施加的电压设为规定值时的聚焦位置(散焦量)、RF信号振幅和摆动信号振幅的关系的说明图。
图16是控制信号生成部、控制部的电路图。
图17是实施方式1中的状态设定处理的流程图。
图18是光盘装置执行的聚焦偏移处理的流程图。
图19是光盘装置执行的聚焦偏移处理的流程图。
图20是光盘装置执行的球面象差调整处理的流程图。
图21是光盘装置执行的球面象差调整处理的流程图。
图22是光盘装置执行的球面象差调整处理的流程图。
图23是光盘装置执行的球面象差调整处理的流程图。
图24是表示实施方式2中的状态设定处理的全体的处理概要的流程图。
图25是表示聚焦偏移设定处理的详细的处理的流程图。
图26是表示非点象差调整处理的详细的处理的流程图。
图27是表示非点象差调整处理的详细的处理的流程图。
图28是表示非点象差调整处理的详细的处理的流程图。
图29是表示非点象差调整处理的详细的处理的流程图。
图30是表示聚焦偏移设定处理的另一个处理的流程图。
具体实施方式
对用于实施本发明的最佳方式进行说明。
首先,对作为本实施方式中使用的光信息记录介质的光盘说明概略。DVD-RAM(WO)、DVD-R、DVD+R、DVD-RAM、DVD-RW、DVD+RW等光盘是可写入的(可记录)DVD(Digital Versatile Disc)。DVD-RAM(WO)、DVD-R、DVD+R是只能写入一次的DVD(而且,也被称为DVD Write Once)。而且,DVD-RAM、DVD-RW、DVD+RW是可写入数次的DVD。这些DVD+R和DVD+RW盘等,即光盘通过后述的光盘装置1可以进行信息的记录、再现。而且,当然也可以通过该光盘装置1进行DVD-ROM和DVD-Video、DVD-Audio等再现专用盘的再现。
〔实施方式1〕
接着,作为实施方式1说明本发明的一个实施方式。该实施方式以象差,特别是球面象差为主进行校正处理。
图3是对于本实施方式的光盘装置1,表示其主要结构的一例的功能方框图。在图3中,光盘装置1实施本发明的光信息记录介质装置,标号D表示光盘,标号2表示主轴电动机,标号3表示光拾取器,标号4表示电动机驱动器,标号5表示读放大器,标号6表示控制电动机驱动器4的伺服部件,标号7表示DVD解码器,标号8表示ADIP解码器,标号9表示激光控制器,标号10表示DVD编码器,标号11表示DVD-ROM编码器,标号12表示缓冲RAM,标号13表示缓冲管理器,标号14表示DVD-ROM解码器,标号15表示ATAPI/SCSI接口,标号16表示D/A变换器,标号17表示ROM,标号18表示CPU,标号19表示RAM,标号LB表示激光,“Audio”表示音频输出信号。
在图3中,箭头表示数据主要流动的方向,而且,为了简化附图,在集中控制图3的各块的CPU18中,仅附加粗线而省略与各块的连接。在ROM17中存储着用可由CPU18解读的码记述的控制程序。而且,如果光盘装置1的电源为导通状态,则前述程序被装载到未图示的主存储器中,前述CPU18按照该程序控制上述各部的动作,同时将控制所需要的数据等暂时保存在RAM19中。
光盘装置1的结构和动作如下所述。光盘D被主轴电动机2旋转驱动。该主轴电动机2通过电动机驱动器4和伺服部件6被控制为线速度或者角速度一定。该线速度或者角速度可以台阶性地变更。
光拾取器3内置半导体激光器、规定的光学系统、聚焦致动器、轨道致动器、光接收元件和位置传感器,将激光LB对光盘D照射。而且,该光拾取器3可以通过搜索电动机向锤击(sledge)方向移动。这些聚焦致动器、轨道致动器、搜索电动机根据从光接收元件和位置传感器得到的信号,通过电动机驱动器4和伺服部件6进行控制,使得激光LB的光点位于光盘D上的目的位置。而且,对于光拾取器的结构在后面详细叙述。
然后,在信息读取时,通过光拾取器3得到的再现信号被读放大器5放大从而被二值化后,被输入DVD解码器7。被输入的二值化数据在该DVD解码器7中被8/16解调。而且,记录数据每8比特汇总后被调制(8/16调制),在该调制中,将8比特变换为16比特。这时,附加结合比特,使得到此为止的“1”和“0”的数量平均相等。将其称为“DC分量的抑制”,被DC截止的再现信号的限制电平变动被抑制。
在被解调的数据中,进行去交织和差错校正处理。之后,该数据被输入DVD-ROM解码器14,为了提高数据的可靠性,进一步进行差错校正的处理。这里,进行了两次差错校正的处理的数据通过缓冲管理器13被暂时存储在缓冲RAM12中,在作为扇区数据一致的状态下,经由ATAPI/SCSI接口15被一次传送到主计算机(后述的信息处理装置21)。而且,在音乐数据的情况下,从DVD解码器7输出的数据被输入D/A变换器16,被作为模拟的音频输出信号Audio取出。
而且,在写信息时,通过ATAPI/SCSI接口15从未图示的主计算机(后述的信息处理装置21)发送来的数据,通过缓冲管理器13暂时被存储在缓冲RAM12中。之后,开始写动作,但是这时,在此之前需要使激光的光点位于写入开始地点。该地点在DVD+RW/+R中,通过预先在光盘D上由轨道的蛇行刻蚀的摆动信号而求出。而且,上述地点在DVD-RW/-R中不是通过摆动信号,而是通过台前坑求出,在DVD-RAM/RAM(WO)中通过前坑来求出。
在DVD+RW/+R盘中的摆动信号中,包含被称为ADIP(ADress InPre-groove)的地址信息,该信息通过ADIP解码器8取出。而且,通过该ADIP解码器8生成的同步信号被输入DVD编码器10,可以对光盘D上正确的位置进行数据的写入。缓冲RAM12的数据在DVD-ROM编码器11和DVD编码器10中进行差错校正码的附加和交织,经由激光控制器9、光拾取器3被记录在光盘D上。而且,也可以从台前坑和前坑得到地址信息。
图4是具有该光盘装置1的信息处理装置的概略图。该信息处理装置21为前述的主计算机,由主控制装置22、规定的接口23、记录数据的记录装置(HDD等)24、输入装置(键盘,鼠标等)25、显示装置26等构成。主控制装置22由微型计算机、主存储器(都未图示)等构成,集中地控制信息处理装置21的全体。
接口23是与光盘装置1的双方向的通信接口,符合ATAPI和SCSI等标准接口。接口23与光盘装置1的接口15连接。而且,各接口间的连接方式,不仅可以是使用通信电缆(例如SCSI电缆)等通信线的电缆连接,也可以是利用了红外线等的无线连接。
在记录装置(硬盘HDD)24中,存储以可由主控制装置22的微型计算机解读的码记述的程序。而且在信息处理装置21的驱动电源为接通状态时,该程序被装载到主控制装置22的主存储器中。
显示装置26例如具有CRT、液晶显示器(LCD)以及等离子体显示板(PDP)等显示部(未图示),显示来自主控制装置22的各种信息。
输入装置25例如具有键盘、鼠标以及指点器等中的至少一种输入介质(未图示),将从用户输入的各种信息通知主控制装置22。而且,来自输入介质的信息也可以以无线方式输入。而且,作为显示装置26和输入装置25一体化的装置,例如有附带触摸屏的CRT等。
而且,信息处理装置21装载操作系统(OS)。于是,构成信息处理装置21的全部设备由OS管理。
在图5中表示一般的光拾取器3的结构。如图5所示,从作为光源的半导体激光器(LD)41射出的发散光通过准直透镜42成为大致平行光,透过分光器43,并通过偏振光棱镜44将光路偏向45度,射入物镜45,并透过光盘D的透明基板,作为微小光点被聚光在其记录面上。透过该光点,进行对光盘D的信息的再现、记录或者消除。而且,物镜45通过寻迹线圈和聚焦线圈、永久磁铁等构成的公知的物镜45致动器48,可以向半径方向和聚焦方向移动。
由光盘D的记录面反射的光束通过物镜45再次成为大致平行光,通过偏振光棱镜44被偏转,通过分光器43被反射,通过聚光透镜47成为收敛光,到达光接收元件(PD)49。这样,从光接收元件49检测信息信号、伺服信号。
这里,光接收元件49如图2所示,被设置为将轨道图案至少进行两分割,根据其差动信号(推挽信号(PP信号))生成在光盘D的沟横断方向上来自非周期性的沟形状的信息信号分量,即摆动信号和LPP信号。通过带通滤波器从推挽信号中除去了RF分量和推挽分量的信号是如图6(A)所示的摆动信号61,和如图6(B)所示的LPP信号62。标号61是以在DVD+RW和DVD+R中利用的相位调制方式,形成信息轨道(沟)以记录地址信息等的例子。另一方面,LPP信号62是以DVD-RW和DVD-R中利用的LPP方式提取出记录着地址信息等的LPP信号的信号。实际上,LPP信号通过被重叠在摆动信号上的形状来检测(标号63)。相反,通过低通滤波器截止了高频分量的信号是在沟寻迹等中使用的推挽信号(图7)。
理想的情况,是光拾取器3在聚焦信号为零时,RF信号的振幅为最大,信息信号的差错率为最小,从摆动信号和LPP信号得到的信号最佳。因此,作为系统,例如使聚焦位置在±0.5μm的范围内振动,用内部电路测量这时的RF信号振幅,并用内部的CPU进行近似等,求RF信号振幅为最大的聚焦位置,进行使聚焦信号具有偏移等的控制,以始终聚焦控制为RF信号振幅最大的聚焦位置(图8)。
但是,在由于光拾取器3的光学部件组装误差和LD41自身的特性等在光点中存在非点象差时,在半径方向、切线方向的光点径为最小的聚焦位置不同,半径方向、切线方向的光点径为最小的聚焦位置向聚焦在光点峰值位置中心的前后位置分开(图9(A)和图9(B))。
另一方面,RF信号振幅为最大的位置不由于非点象差而变化,基本上光点峰值强度为最大的聚焦位置是RF信号振幅为最大的位置(图10)。
一般来说,在RF信号振幅为最大时,信息信号的差错率为最小,在径向光点径最小时,由摆动信号和LPP信号得到的信号最佳,所以作为系统,即使聚焦控制为RF信号振幅最大的聚焦位置,也存在从摆动信号和LPP信号得到的信号恶化的情况(图11)。
这样,在存在非点象差的情况下,例如还考虑不将RF信号振幅为最大的位置设为聚焦控制位置,而分别求RF信号振幅为最大的聚焦位置F1和摆动振幅为最大的聚焦位置F2,将它们的中间位置(=(F1+F2)/2)设为聚焦控制位置。
但是,这时如果非点象差大,则有可能由于设为了中间的位置而哪一个信号都不能成为良好的信号。
因此,在本光盘装置1中,为了解决相关的不良情况,具有以下那样的部件。在图12(A)和图12(B)中,表示用于上述装置的系统。与控制信号相当的信号,利用摆动信号和LPP信号的振幅(或者相当于这些信号的S/N,C/N的信号(它们由光盘装置1的规定的内部电路测量(生成))作为从光盘D的沟得到的信号,来自光盘D的标记的信号在RF信号中例如利用作为最长的标记长度的14T振幅(以下将其设为“RF信号振幅”)。
这里,如图13(A)和图13(B)所示,在非点象差和球面象差混合存在的情况下,半径方向径为最小的聚焦位置和切线方向径为最小的聚焦位置的差基本不变,但由于球面象差量,光点的峰值功率为最大的聚焦位置和半径方向径、切线方向径为最小的聚焦位置关系产生偏差。图13(A)和图13(B)是将准直透镜42的位置从理想位置偏差+0.3mm时的模拟结果。而且,圆点标记表示光点峰值强度,如图10所示,对于散焦量,进行与RF信号振幅对应的变化。而且,钻石形标记表示光点的半径方向的径,在最小时摆动信号为最大振幅。方形标记表示光点的切线方形的径。而且,+的方向在这时是沿着光路从半导体激光器41远离的方向,-的方向是沿着光路接近半导体激光器41的方向。
因此,求RF信号振幅为最大的聚焦位置(即,光点强度最大的聚焦位置)F1和摆动振幅为最大的聚焦位置(即,半径方向光点径为最小的聚焦位置)F2,利用上述关系进行控制,以便通过在F2的位置,利用规定的球面象差产生部件在光学系统中对从半导体激光器41射出的激光赋予球面象差,“F1-F2”小于等于某个值。
作为产生球面象差的部件,考虑使准直透镜42在激光的光轴方向可移动,通过规定的控制信号进行驱动。即,如图12(A)所示,根据光接收元件49接收的光信号,由控制信号生成部71生成控制信号,并通过该控制信号,由控制部72控制将准直透镜42在激光的光轴方向移动的致动器73,从而对激光赋予球面象差。
作为另一个结构例,还考虑如图12(B)所示,用多个透镜构成准直透镜,将其中一个或者多个利用为可在光轴方向移动的球面象差校正透镜,并进行与图12(A)的情况一样的控制。74相当于校正透镜。
如图14(A)所示,作为另一个产生球面象差的部件,考虑使用折射率可变元件75。由于其折射率可变,所以不需要作为元件的变移机构的致动器73。只要通过控制部72控制折射率就可以。例如,考虑利用了铌酸锂等双折射结晶的焦点可变透镜和折射率可变元件。但是,由于它们需要高电压这一点,一般不使用它们,所以作为更一般的元件还考虑平行平板状的液晶元件(如果需要,关于其细节,例如参照特开2000-3526号公报、特开2001-176108号公报)。
在将这样产生球面象差的元件配置在发散(会聚)光路中的情况下(图14(A)),仅通过使折射率变化,透过准直透镜74的光就具有球面象差。因此,在作为产生球面象差的元件使用液晶元件的情况下,液晶元件的电极全部用固态电极就可以。但是,由于在发散光路中,所以在光轴上倾斜地设置时,存在由于该元件自身而产生非点象差的不良情况。
因此,通过在通过准直透镜后的平行光路中进行设置(图14(B)),对于设置精度的容许值变得宽松。但是,为了产生球面象差状的象差,必须将电极设为同心圆状等,在元件自身中需要特别的手段,有可能提高制造成本。
图15(A)表示在准直透镜74位于规定的位置A时,或者将对折射率可变元件75施加的电压设为a时的聚焦位置(散焦量)、RF信号振幅和摆动信号振幅的关系。
图15(B)表示在准直透镜74位于规定的位置A时,或者将对折射率可变元件75施加的电压设为b时的聚焦位置(散焦量)、RF信号振幅和摆动信号振幅的关系。如果观察这些图,可知图15(B)与图15(A)的情况相比,RF信号振幅最大位置F1和摆动信号振幅最大位置F2的差小。即,可知通过球面象差的控制,可以缩小RF信号振幅最大位置F1和摆动信号振幅最大位置F2的差。
这里,利用图16详细地对控制信号生成部71和控制部72的电路结构及动作进行说明。
光接收元件49被分割为四个光接收区域a、b、c、d。这里,将光接收区域a、d合并的区域相当于图2的光接收区域104,将光接收区域c、d合并的区域相当于光接收区域105。光接收区域a、b、c、d将与接收的光量成比例的大小的电流ia、ib、ic、id分别输出到读放大器5内的控制信号生成部71。而且,在本例中使用将光接收区域分割为四个的光接收元件,但不需要限定于此,例如也可以使用对应于所谓3束法而分割为8个以上的光接收元件。
在控制信号生成部71中,电流ia、ib、ic、id被分别输入到电流/电压变换器902、903、904、905,被变换为电压信号Sa、Sb、Sc、Sd。加法器906将电压信号Sb和Sc相加,加法器907将电压信号Sa和Sd相加,加法器908将电压信号Sa和Sc相加,加法器909将电压信号Sb和Sd相加。而且,加法器910将来自加法器906的输出和来自加法器907的输出相加,输出再现信号(RF信号)。减法器911从来自加法器907的输出减去来自加法器906的输出,输出推挽(PP)信号。减法器912从来自加法器908的输出减去来自加法器909的输出,输出聚焦差错(FE)信号。
RF信号被输出到DVD解码器7等,同时被输入到峰值保持电路913。峰值保持电路913根据来自CPU18的指令保持并输出RF信号的极大值。而且,在本例中,控制部72通过以如图3所示的光盘装置1的CPU18为中心的控制系统来实现。而且,RF信号在通过反转电路914反转了极性后,被输入到峰值保持电路915。峰值保持电路915根据来自CPU18的指令保持并输出反转的RF信号的极大值。来自峰值保持电路913、915的输出通过加法器916相加。由此可以检测RF信号的振幅(正确地说是与极大值和极小值的差相当的值)电平。表示RF信号的振幅的来自加法器916的输出被输入到CPU18。
PP信号被输入具有规定的截止频率的低通滤波器电路917。低通滤波器电路917输出轨道差错(TE)信号,并被输入伺服部件6。而且,PP信号被输入带通滤波器电路918,得到摆动(WBL)信号(在DVD-RW/-R的情况下进而得到LPP信号)。而且,带通滤波器电路918为了正确地提取信号的相位调整部分,将高通滤波器电路和低通滤波器电路组合而构成的情况较多。为了对地址信息等进行解调,WBL信号被输出到未图示的地址检测电路(包括ADIP解码器8),同时也被输出到峰值保持电路919。峰值保持电路919根据来自CPU18的指示保持并输出WBL信号的极大值。而且,WBL信号通过反转电路920反转了极性后被输入到峰值保持电路921。峰值保持电路921根据来自CPU18的指令保持并输出反转的WBL信号的极大值。来自峰值保持电路919、921的输出通过加法器922相加。由此,可以检测WBL信号的振幅(正确地说是相当于极大值和极小值的差的值)电平。来自加法器922的输出被输入到CPU18。而且,在DVD-RW/-R的情况下,为了得到LPP信号,仅在极大值大于等于规定的值时保持,将该值直接输出到CPU18。
CPU18按照存储在ROM17内的控制程序控制伺服部件6。伺服部件6根据输入的FE信号和TE信号来控制物镜45致动器48,进行聚焦伺服和寻迹伺服。而且,通过与被输入的来自加法器916、922的输出对应的CPU18的指令,伺服部件6使控制准直透镜42或者74的致动器73动作(图12(A)和图12(B)),或者控制对折射率可变元件75(图14(A)和图14(B))施加的电压。这样,由CPU18、ROM17、伺服部件6(还间接地包含RAM19)构成控制部72。
通过这样的控制信号生成部71、控制部72实施本发明的象差调整装置。然后,通过控制信号生成部71、控制部72执行的处理,实现再现信号取得部件、沟形状取得部件、取得再现信号的步骤、取得沟形状信号的步骤。而且,通过后述的图17~图21的处理,如后面所述,实现合焦部件、合焦步骤、象差产生部件、象差调制部件、产生象差的步骤、调制象差的步骤。然后,本发明的存储介质通过ROM17实施,通过存储在该ROM17中的程序,实施本发明的程序。
接着,按照存储在ROM17中的程序,对CPU18执行的具体的状态设定的处理进行说明。
图17是表示状态设定处理的整体的概要的流程图。CPU18在该状态设定处理开始时,对伺服部件6提供指令,使物镜控制致动器48等动作,进行聚焦引入,使聚焦伺服打开(合焦部件)(步骤S101)。而且,在聚焦引入已经完成的情况下跳过该处理。接着,CPU18进行设定聚焦偏移的处理(步骤S102)。该处理的细节参照图18、图19在后叙述。而且,在不进行聚焦偏移的设定而进行球面象差的校正的情况下,跳过步骤S102的处理。然后,CPU18进行球面象差的调整(象差产生部件、象差调整部件、产生象差的步骤、调整象差的步骤)(步骤S103)。该处理的细节参照图20、图21在后叙述。
如果该步骤S103的处理结束,则状态设定处理结束。而且,在进行该步骤S103的处理时,可以使再现(RF)信号以及摆动(WBL)信号的检测精度提高,可以正确地进行对于光盘D的信息的再现、记录。而且,如果与步骤S102的处理一起进行,则由于非点象差的调整的目标的值在步骤S102求出,所以可以迅速地进行步骤S103中的调整。而且,也可以使步骤S103的处理在步骤102的处理中进行。
图18中记载的处理,是为了将RF信号的振幅电平为最大的位置作为物镜45的聚焦位置,在聚焦伺服信号中重叠偏移信号的处理(步骤S102)。
首先,CPU18作为准备阶段,将变量n的值复位设定为0(步骤S201)。然后,CPU18对伺服部件6发出指令,使得物镜45由聚焦打开(ON)的聚焦位置向远离光盘D的方向移动S[μm](例如0.5μm)(步骤S202)。即,S决定物镜45的初始位置。伺服部件6根据该指令对物镜控制致动器(聚焦线圈)48提供用于移动S[μm]的信号(电流)。
接着,CPU18判断n的值是否与规定值N(例如为11)一致(步骤S203)。该规定值N表示测量RF信号的振幅电平的次数。在判断为不一致的情况下(步骤S203的否),CPU18对峰值保持电路913、915提供指令,在该物镜45的位置取得RF信号的振幅电平rn。然后,CPU18将该振幅电平rn与这时的n的值一起存储在RAM19中(步骤S204)。而且,执行本处理的条件(测量位置、测量标记长度)在每次都需要一样。例如,通过规定地址中存在的标记检测RF信号振幅rn,或者在规则地记录着规定的标记的区域(测试区域)中进行RF信号振幅rn的检测。这时,尽可能地使用标记长度长者(例如作为最长标记长度的14T)可以增大振幅电平,可以进行高精度的电平检测。也可以在处理前在测试区域中记录规定标记,并根据该记录标记检测RF信号振幅rn。
然后,对伺服部件6发出指令,以使物镜45从该位置向接近光盘D的方向仅移动Q[μm](例如0.1μm)(步骤S205)。伺服部件6根据该指令对物镜控制致动器(聚焦线圈)48提供用于移动Q[μm]的信号。即,在物镜45的位置的Q[μm]标记处进行测量。
然后,使n的值仅增加1(步骤S206),返回步骤S203。然后,重复步骤S203~S206的处理,直到在步骤S203中CPU18判断n的值和规定值N的值一致。
在步骤S203中,CPU18判断出n的值和N的值一致的情况下(步骤S203的是),CPU18在存储于RAM19中的RF信号振幅电平测量值中求最大的值,求与该最大值对应的n的值(nrmax)(步骤S207)。求最大(最佳)值的方法除了求直接测量的值的最大值,也可以使用最小自乘法等近似方法求最大值。对于以下的最大值的求取方法也一样。
接着,CPU18对伺服部件6提供指令,以使物镜45从该位置向远离光盘D的方向仅移动“Q×(N-1-nrmax)[μm]”(步骤S208)。伺服部件6根据该指令,对物镜致动器(聚焦线圈)48提供用于仅移动“Q×(N-1-nrmax)[μm]”的控制信号。由此,可以使物镜45移动到RF信号振幅最大的位置。即,该信号的值(电流值)相当于聚焦偏移的值。在该处理结束时,聚焦偏移的设定处理结束。
而且,在本处理例中,一边使物镜45暂时远离光盘D后缓慢地靠近一边测量RF信号振幅,但不需要限定于此,也可以进行暂时接近光盘D后缓慢远离的处理。
而且,在进行着步骤S102的处理期间,准直透镜42、74被配置在后述的规定的基准位置(开始位置)和移动到离该开始位置最远的位置的中间位置(图12(A)和图12(B)的例子的情况)。在进行步骤S102的处理期间,对折射率可变元件75施加的电压设为规定的基准电压(开始电压)和最大施加电压的中间的电压(图14(A)和图14(B)的情况)。
图19中记载的处理是设定聚焦偏移的另一个处理例。这是为了将物镜45的聚焦位置设为RF信号的振幅电平最大的位置和WBL信号的振幅电平最大的位置的中间位置,对聚焦伺服信号重叠偏移信号的处理(步骤S102)。
首先,CPU18作为准备阶段,将变量n的值复位设定为0(步骤S301)。然后,CPU18对伺服部件6提供指令,以使物镜45从聚焦打开(ON)的聚焦位置向远离光盘D的方向移动S[μm](例如0.5μm)(步骤S302)。即,S决定物镜45的初始位置。伺服部件6根据该指令,对物镜控制致动器(聚焦线圈)48提供用于移动S[μm]的信号(电流)。
接着,CPU18判断n的值是否与规定值N(例如为11)一致(步骤S303)。该规定值N表示测量RF信号的振幅电平的次数。在判断为不一致的情况下(步骤S303的否),CPU18对峰值保持电路913、915、919、921提供指令,在该物镜45的位置取得RF信号和WBL信号的各振幅电平(在DVD-RW/R的情况下,为LPP信号电平)rn、wn。然后,CPU18将这些振幅电平(或者LPP信号电平)rn、wn与这时的n的值一起存储在RAM19中(步骤S304)。而且,执行本处理的条件(测量位置、测量标记长度)在每次都需要一样。例如,在规定地址检测RF信号振幅rn和WBL振幅wn,或者在规则地记录着规定的标记或空间的区域(测试区域)中,进行RF信号振幅rn和WBL信号振幅wn的检测。这时,尽可能地使用标记长度长者(例如作为最长标记长度的14T)可以增大RF信号振幅电平,可以进行高精度的电平检测。也可以在处理前在测试区域中记录规定标记,并根据该记录标记检测RF信号振幅rn。而且,WBL信号振幅的检测在没有标记的区域中进行也可以。这时,可以得到不被RF信号影响的WBL信号。
然后,对伺服部件6发出指令,以使物镜45从该位置向接近光盘D的方向仅移动Q[μm](例如0.1μm)(步骤S305)。伺服部件6根据该指令对物镜控制致动器(聚焦线圈)48提供用于移动Q[μm]的信号。即,在物镜45的位置的Q[μm]标记处进行测量。
然后,使n的值仅增加1(步骤S306),返回步骤S303。然后,重复步骤S303~S306的处理,直到CPU18判断n的值和规定值N的值一致。
在CPU18判断出n的值和N的值一致的情况下(步骤S303),CPU18在存储于RAM19中的RF信号振幅电平测量值中求最大的值,求与该最大值对应的n的值(nrmax)(步骤S307)。进而CPU18在存储于RAM19中的WBL信号振幅电平测量值中求最大的值,求与该最大值对应的n的值(nwmax)(步骤S308)。
接着,CPU18对伺服部件6提供指令,以使物镜45从该位置向远离光盘D的方向仅移动“Q×{N-1-(nrmax+nwmax)/2}[μm]”(步骤S309)。伺服部件6根据该指令,对物镜控制致动器(聚焦线圈)48提供用于仅移动“Q×{N-1-(nrmax+nwmax)/2}[μm]”的控制信号。由此,可以使物镜45移动到RF信号振幅最大的物镜45的位置和WBL信号振幅最大的物镜45的位置的中间位置。即,该信号的值(电流值)相当于聚焦偏移的值。在该处理结束时,聚焦偏移的设定处理结束。
而且,在本处理例中,一边使物镜45暂时远离光盘D后缓慢地靠近一边测量RF信号振幅,但也可以进行暂时接近光盘D后缓慢远离的处理。
接着,利用图20对球面象差的调整的处理进行说明。图20的各处理是与图12(A)和图12(B)的情况对应的处理。这是根据记录在ROM17中的程序CPU18执行的处理。
CPU18在处理开始时,在变量1中输入0的值(进行初始化)(步骤S401)。接着,CPU18对伺服部件6提供指令,以使准直透镜42、74移动到规定的位置(开始位置)(步骤S402)。伺服部件6接受该指令,进行控制,使得在致动器73中流过规定的电流,使准直透镜42、74的位置例如在规定范围内最靠近半导体激光器41。
接着,CPU18对伺服部件6发出指令,以使物镜45向远离光盘D的方向移动“J×(L-1)/2[μm]”(步骤S403)。这里,J是在准直透镜42、74一定的情况下每次测量RF信号和WBL信号的振幅时物镜45移动的距离。而且,L是在准直透镜42、74一定的情况下测量RF信号和WBL信号振幅的次数。伺服部件6根据该指令使物镜控制致动器48中流过电流,仅移动“J×(L-1)/2[μm]”。
接着,CPU18判断变量1的值是否与表示测量的次数的L(例如11)一致(步骤S404)。在不一致的情况下(步骤S404的否),CPU18对峰值保持电路913、915、919、921提供指令,在该物镜45的位置取得RF信号和WBL信号的振幅电平(在DVD-RW/R的情况下,为LPP信号电平)r1、w1。然后,CPU18将这些振幅电平(或者LPP信号电平)与这时的变量1的值一起存储在RAM19中(步骤S405)。而且,执行本处理的条件(测量位置、测量标记长度)在每次都需要一样。例如,在规定地址检测RF信号振幅r1和WBL振幅w1,或者在规则地记录着规定的标记或空间的区域(测试区域)中,进行RF信号振幅r1和WBL信号振幅w1的检测。这时,尽可能地使用标记长度长者(例如作为最长标记长度的14T)可以增大RF信号振幅电平,可以进行高精度的电平检测。也可以在处理前在测试区域中记录规定标记,并根据该记录标记检测RF信号振幅r1。而且,WBL信号振幅的检测在没有标记的区域中进行也可以。这时,可以得到不被RF信号影响的WBL信号。
然后,对伺服部件6发出指令,以使物镜45从该位置向接近光盘D的方向仅移动J[μm](例如0.1μm)(步骤S406)。伺服部件6根据该指令对物镜控制致动器(聚焦线圈)48提供用于移动J[μm]的信号。即,在物镜45的位置的J[μm]标记处进行测量。然后,使变量1的值仅增加1(步骤S407),返回步骤S404。然后,重复步骤S404~S407的处理,直到CPU18判断变量1的值和L的值一致。
在CPU18判断出变量1的值和L的值一致的情况下(步骤S404的是),CPU18在存储于RAM19中的RF信号振幅电平测量值中求最大的值,求与该最大值对应的变量1的值(lrmax)(步骤S408)。进而CPU18在存储于RAM19中的WBL信号振幅电平测量值中求最大的值,求与该最大值对应的变量1的值(lwmax)(步骤S409)。
接着,CPU18判断“lrmax-lwmax”的值是否比规定的值P小(步骤S410)。这里,P设为球面象差对再现/记录特性不产生影响的程度的值。即,P的值被设定为充分接近RF信号的振幅为最大的聚焦位置(物镜45的位置)和WBL信号的振幅为最大的聚焦位置(物镜45的位置)。
“lrmax-lwmax”的值大于等于规定的值P的情况下,为了变更准直透镜42、74的位置而再次进行RF信号和WBL信号的振幅的测量,进行步骤S411~S413的处理。即,首先,再次初始化变量1的值(设1=0)(步骤S411)。由于现在物镜45接近光盘D,所以CPU18对伺服部件6发出指令,使得物镜45向远离光盘D的方向仅移动“J×(L-1)[μm]”(步骤S412)。伺服部件6接受该指令,使致动器48中流过电流,以使物镜45仅移动“J×(L-1)[μm]”。通过该处理,物镜45的位置与测量前的位置相同。
然后,CPU18对伺服部件6发出指令,使得准直透镜42、74的位置沿着光路向一定方向,在本例中为远离半导体激光器的方向仅移动d[μm](步骤S413)。伺服部件6根据该指令,使致动器73中流过电流,使得仅移动d[μm]。
之后,CPU18重复步骤S404~S413的处理,直到在步骤S410的判断中“lrmax-lwmax”的值比规定的值P小。然后,在“lrmax-lwmax”的值比规定的值P小的情况下,作为球面象差已被调整而离开该处理。
之后,在重视RF信号的检测的情况下,CPU18对伺服部件6发出指令,使得物镜45移动到得到了lrmax的位置(即,准直透镜42、74的位置调整后的RF信号振幅为最大的物镜45的位置)。然后,伺服部件6接受该指令,使物镜45移动到得到lrmax的位置(提供新的偏移电流),进行之后的聚焦伺服控制。
另一方面,在重视WBL信号的检测的情况下,CPU18对伺服部件6发出指令,使得物镜45移动到得到了lwmax的位置(即,准直透镜位置调整后的WBL振幅为最大的物镜45的位置)。然后,伺服部件6接受该指令,使物镜45移动到得到lwmax的位置(提供新的偏移电流),进行之后的聚焦伺服控制。
取代上述处理,为了平衡地进行RF信号的检测和WBL信号的检测,也可以CPU18对伺服部件6发出指令,使物镜45移动到得到lrmax的位置(即,准直透镜42、74的位置调整后的RF信号振幅为最大的物镜45的位置)和得到lwmax的位置(即,准直透镜42、74的位置调整后的WBL振幅为最大的物镜45的位置)之间的位置,例如中间位置。伺服部件6接受该指令,使物镜45移动到得到lwmax的位置和得到lrmax的位置之间的位置(在本例的情况下为中间位置)(提供新的偏移电流),进行之后的聚焦伺服控制。
而且,在规定的时间,即使进行步骤S404~S413的处理,“lrmax-lwmax”的值也不比规定的值P小的情况下,也可以离开该处理,使准直透镜移动到最初的位置,或者“lrmax-lwmax”的值为最小的位置。由此,可以对应“lrmax-lwmax”的值长久地不能小于规定的值P的情况。
接着,参照图21,对球面象差的调整的处理的另一个例子进行说明。该处理为对应于图12(A)和图12(B)的结构的处理。它们是根据记录在ROM17中的程序,CPU18执行的处理。
这里,步骤S402~S409和步骤S411~S413的处理,进行与图20中记载的相同步骤S的处理一样的处理。因此,与这些处理有关的说明如上所述,这里省略说明。在步骤S414中,作为变量,CPU18除了1还格式化m。该变量m是表示使准直透镜42、74的位置移动的次数的变量。
在步骤S415中,CPU18判断lrmax和lwmax是否为相同的值。即,判断RF信号和WBL信号的振幅为最大的物镜45的位置是否相同。在判断为相同的情况下(步骤S415的是),将这时的准直透镜42、74的位置作为可以校正球面象差的位置而结束本处理。
另一方面,在判断为不相同的情况下(步骤S415的是),将这时的lrmax和lwmax的差与变量m的值一起存储在RAM19中(步骤S416)。然后,CPU18判断m的值是否与M一致(步骤S417)。这里,M的值是决定准直透镜42、74的移动次数的值,CPU18可以使准直透镜42、74每次d[μm]地仅移动M次。在步骤S417的判断中判断为不一致的情况下(步骤S417的否),作为变量m,将使其增加1的值作为新的m(步骤S418),重复步骤S404~S409、S415~S418、S411~S413的处理,直到在步骤S415的处理中,判断出lrmax和lwmax为相同的值,或者在步骤S417中判断出已使准直透镜42、74移动了M次。
在步骤S417中,在判断出已使准直透镜42、74移动了M次的情况下(步骤S417的是),CPU18从RAM19中存储的值中求lrmax和lwmax最小时的m的值(mmin)(步骤S419)。然后,使准直透镜42、74从开始位置沿着光路向一定方向,在本例的情况下为远离半导体激光器41的方向移动“mmin×d[μm]”,结束该处理。由此,可以设定与RF信号振幅和WBL信号振幅为最大的物镜45的位置最接近的准直透镜42、74的位置,可以校正球面象差。
之后,在经过步骤S419、S420的步骤S而结束的情况下,在重视RF信号检测时,CPU18对伺服部件6发出指令,使得物镜45移动到得到了lrmax的位置(即,准直透镜42、74的位置调整后的RF信号振幅为最大的物镜45的位置)。然后,伺服部件6接受该指令,使物镜45移动到得到lrmax的位置(提供新的偏移电流),进行之后的聚焦伺服控制。
另一方面,在重视WBL信号的检测的情况下,CPU18对伺服部件6发出指令,使得物镜45移动到得到了lwmax的位置(即,准直透镜42、74的位置调整后的WBL振幅为最大的物镜45的位置)。然后,伺服部件6接受该指令,使物镜45移动到得到lwmax的位置(提供新的偏移电流),进行之后的聚焦伺服控制。取代上述处理,为了平衡地进行RF信号的检测和WBL信号的检测,也可以CPU18对伺服部件6发出指令,使物镜45移动到得到lrmax的位置(即,准直透镜42、74的位置调整后的RF信号振幅为最大的物镜45的位置)和得到lwmax的位置(即,准直透镜42、74的位置调整后的WBL振幅为最大的物镜45的位置)之间的位置,例如中间位置。伺服部件6接受该指令,使物镜45移动到得到lrmax的位置和得到lwmax的位置之间的位置(在本例的情况下为中间位置)(提供新的偏移电流),进行之后的聚焦伺服控制。
另一方面,在步骤S415的判断为肯定(步骤S415的是),直接处理已经结束的情况下,CPU18对伺服部件6发出指令,使得物镜45移动到得到了lrmax和lwmax的位置(即,准直透镜42、74的位置调整后的RF信号和WBL信号振幅为最大的物镜45的位置)。然后,伺服部件6接受该指令,使物镜45移动到得到lrmax和lwmax的位置(提供新的偏移电流),进行之后的聚焦伺服控制。
接着,参照图22,对球面象差的调整的处理的另一例进行说明。图22的各处理是与图14(A)和图14(B)的结构对应的处理。它们是根据ROM17中记录的程序,CPU18执行的处理。
而且,由于图22的步骤S401是与图20、图21的处理的步骤S401、图22的步骤S403~S412是与图20、图21的处理的步骤S403~S412分别对应的处理相同的处理,所以省略详细的说明。
即,CPU18在步骤S402中对伺服部件6发出指令,以便对折射率可变元件75施加规定的基准电压(开始电压)。伺服部件6接受该指令,对折射率可变元件75施加开始电压。
在步骤S413中,CPU18对伺服部件6发出指令,以使对折射率可变元件75施加的电压增加v〔V(伏)〕。伺服部件6接受该指令,对折射率可变元件施加增加了v〔V〕的电压。通过进行这样的处理,可以使用折射率可变元件进行球面象差的校正。
之后,在重视RF信号的检测的情况下,CPU18对伺服部件6发出指令,使得物镜45移动到得到了lrmax的位置(即,对于折射率可变元件75的施加电压调整后的RF信号振幅为最大的物镜45的位置)。然后,伺服部件6接受该指令,使物镜45移动到得到lrmax的位置(提供新的偏移电流),进行之后的聚焦伺服控制。
另一方面,在重视WBL信号的检测的情况下,CPU18对伺服部件6发出指令,使得物镜45移动到得到了lwmax的位置(即,对于折射率可变元件75的施加电压调整后的WBL振幅为最大的物镜45的位置)。然后,伺服部件6接受该指令,使物镜45移动到得到lwmax的位置(提供新的偏移电流),进行之后的聚焦伺服控制。
取代上述处理,为了平衡地进行RF信号的检测和WBL信号的检测,也可以CPU18对伺服部件6发出指令,使物镜45移动到得到lrmax的位置(即,对于折射率可变元件75的施加电压调整后的RF信号振幅为最大的物镜45的位置)和得到lwmax的位置(即,对于折射率可变元件75的施加电压调整后的WBL振幅为最大的物镜45的位置)之间的位置,例如中间位置。伺服部件6接受该指令,使物镜45移动到得到lrmax的位置和得到lwmax的位置之间的位置(在本例的情况下为中间位置)(提供新的偏移电流),进行之后的聚焦伺服控制。
而且,在规定的时间,即使进行步骤S404~S413的处理,“lrmax-lwmax”的值也不比规定的值P小的情况下,也可以离开该处理,对新折射率可变元件施加最初的基准电源,或使“lrmax-lwmax”的值为最小的电压。由此,可以应对“lrmax-lwmax”的值长久地不能小于规定的值P的情况。
接着,参照图23对球面象差的调整处理的另一例进行说明。图23的各处理是与图14(A)和图14(B)的结构对应的处理。它们是根据记录在ROM17的程序,CPU18执行的处理。该处理例表示光盘D为不具有台前坑(LPP)111(参照图1)的DVD+RW、DVD+R、CD-R、CD-RW等的情况下的处理。
除了步骤S402、S413、S420的处理以外,与图21相同标号的步骤S与图21的处理相同。而且,步骤S402、S413与图22中说明的处理一样。因此,步骤S420的处理以外如上述说明的那样,这里省略说明。
在步骤S420中,CPU18对伺服部件6发出指令,以便对折射率可变元件施加对开始电压增加了“mmin×v〔V(伏)〕”电压的电压。伺服部件6接受该指令,对折射率可变元件施加增加了“mmin×v〔V(伏)〕”的电压。通过进行这样的处理,可以使用折射率可变元件75进行球面象差的校正。
之后,通过步骤S419、S420的步骤S而结束的情况下,在重视RF信号的检测的情况下,CPU18对伺服部件6发出指令,使得物镜45移动到得到了lrmax的位置(即,对于折射率可变元件75的施加电压调整后的RF信号振幅为最大的物镜45的位置)。然后,伺服部件6接受该指令,使物镜45移动到得到lrmax的位置(提供新的偏移电流),进行之后的聚焦伺服控制。
另一方面,在重视WBL信号的检测的情况下,CPU18对伺服部件6发出指令,使得物镜45移动到得到了lwmax的位置(即,对于折射率可变元件75的施加电压调整后的WBL振幅为最大的物镜45的位置)。然后,伺服部件6接受该指令,使物镜45移动到得到lwmax的位置(提供新的偏移电流),进行之后的聚焦伺服控制。
取代上述处理,为了平衡地进行RF信号的检测和WBL信号的检测,也可以CPU18对伺服部件6发出指令,使物镜45移动到得到lrmax的位置(即,对于折射率可变元件75的施加电压调整后的RF信号振幅为最大的物镜45的位置)和得到lwmax的位置(即,对于折射率可变元件75的施加电压调整后的WBL振幅为最大的物镜45的位置)之间的位置,例如中间位置。伺服部件6接受该指令,使物镜45移动到得到lrmax的位置和得到lwmax的位置之间的位置(在本例的情况下为中间位置)(提供新的偏移电流),进行之后的聚焦伺服控制。
另一方面,在步骤S415的判断为肯定(步骤S415的是),直接处理已经结束的情况下,CPU18对伺服部件6发出指令,使得物镜45移动到得到了lrmax和lwmax的位置(即,对于折射率可变元件75的施加电压调整后的RF信号和WBL信号振幅为最大的物镜45的位置)。然后,伺服部件6接受该指令,使物镜45移动到得到lrmax和lwmax的位置(提供新的偏移电流),进行之后的聚焦伺服控制。
而且,在上述的全部处理中,也可以通过近似运算和插补运算求RF信号和WBL信号的振幅的最大值,使物镜45或者准直透镜移动,或者调整折射率可变元件的施加电压,以成为通过该运算求出的最大值。
通过在对光盘装置1的光盘D的记录动作之前进行以上说明的控制,可以抑制由于记录动作之前上升的光盘装置1内的温度而产生的光学系统的偏差引起的非点象差导致的不良情况。
而且,通过在记录动作之后进行上述控制,可以抑制由于记录动作而上升的光盘装置1内的温度所产生的光学系统的偏差引起的非点象差导致的不良情况。
而且,通过在连续记录中,以特定的时间间隔(例如:每5分钟1次,记录1000轨道后1次等)进行上述控制,可以抑制由于记录动作而上升的光盘装置1内的温度所产生的光学系统的偏差引起的非点象差导致的不良情况。
此外,通过在光盘D的特定位置(例如,半径30mm、40mm、50mm)进行上述控制,可以抑制光盘D固有的弯曲等引起的非点象差导致的不良情况。
本发明的球面象差元件,也考虑一起使用用于对具有多个记录层的光盘(DVD的2层盘等)相关的基本厚度差导致的球面象差进行校正的球面象差元件。
〔实施方式2〕
接着,将本发明的一个实施方式作为实施方式2进行说明。该实施方式特别是主要进行校正非点象差的处理。
在实施方式1中说明的图7是在沟寻迹等中使用通过低通滤波器截止了高频分量的信号的推挽信号的波形的图。
理想的情况,是光拾取器在聚焦信号为零时RF振幅值为最大值,信息信号的差错率为最小,从摆动信号和LPP信号得到的信号也最好。
因此,作为光盘装置,例如使聚焦位置在±0.5μm的范围内振动,用内部电路测量这时的RF信号振幅,并用内部的CPU进行近似等处理,求RF信号振幅值为最大值的聚焦位置,进行使聚焦信号具有偏移等的控制,以始终聚焦控制为RF信号振幅值最大值的聚焦位置(参照图8)。
但是,在由于光拾取器的光学部件组装误差和光源LD自身的特性等在激光的点中存在非点象差时,在半径方向、切线方向的光点径为最小的聚焦位置不同,半径方向、切线方向的光点径为最小的聚焦位置向以光点峰值位置为中心聚焦的前后位置分开(参照图9(A))。
另一方面,RF信号振幅值为最大值的位置不由于非点象差而变化,基本上光点峰值强度为最大值的聚焦位置是RF信号振幅值为最大值的位置(参照图10)。
一般来说,在RF信号振幅值为最大值时,信息信号的差错率为最小,在径向光点径最小时,由摆动信号和LPP信号得到的信号最佳,所以作为系统,即使聚焦控制为RF信号振幅值为最大值的聚焦位置,也存在从摆动信号和LPP信号得到的信号恶化的情况(参照图11)。
这样,在存在非点象差的情况下,例如还考虑不将RF信号振幅值为最大值的位置设为聚焦控制位置,而求RF信号振幅值为最大值的聚焦位置F1和摆动振幅值为最大值的聚焦位置F2,将它们位置的中间:F=(F1+F2)/2设为聚焦控制位置。
这时,如果非点象差大,则有可能由于设为了中间的位置而哪一个都不行,即有可能得不到良好的信号。
因此,对在象差中主要抑制非点象差而得到良好的信号的结构进行说明。而且,在以下的说明中,对于与实施方式1相同的结构要素等,利用与实施方式1的说明一样的标号,省略详细的说明。
首先,光盘D的整体的结构与前述的图3、图4一样,而且,控制信号生成部71和控制部72的电路结构和动作也和利用图16的说明一样。于是,在本例中,在非点象差的调整中使用与实施方式1的图12(A)和图12(B)、图14(A)和图14(B)一样的装置。
首先,在图12(A)和图12(B)、图14(A)和图14(B)的装置中,与控制信号生成部71生成的控制信号相当的信号,利用摆动信号和LPP信号的振幅值(或者相当于这些信号的S/N,C/N的信号:它们由光盘装置1的内部电路测量(生成))作为从光盘D的沟得到的信号,来自标记的信号在RF信号中例如利用作为最长的标记长度的14T振幅值(RF振幅值)。
这里,控制规定的非点象差产生元件,以使RF振幅值为最大值的聚焦位置和从沟得到的控制信号为最佳的聚焦位置一致或者接近,对还包含了盘1的基板的光学系统的非点象差的量进行直接校正。
作为该非点象差产生元件(方法),如果是图12(A)和图12(B)的结构,则通过准直透镜控制致动器73,使准直透镜42可以在光轴方向上移动,控制信号生成部71根据聚焦位置和从沟得到的信息信号来生成非点象差控制信号并输出到控制部72,控制部72通过该非点象差控制信号驱动准直透镜控制致动器73。
而且,如果按照图14(B)的结构,将折射率可变元件75设置在发散(会聚)光路中的光源41和准直透镜42之间,控制信号生成部71根据从聚焦位置和沟得到的信息信号生成折射率控制信号并输出到控制部72,控制部72通过该折射率控制信号控制对折射率可变元件75的施加电压。
这种情况下有可以减小元件的优点。而且,即使在倾斜设置的情况下,由于还包含由此而产生的非点象差而可以进行校正,所以对于倾斜的设置精度也不是那么严格。
而且,如果按照图14(A)的结构,将折射率可变元件75设置在通过准直透镜42后的平行光路中的分光器43和偏振光棱镜44之间,控制信号生成部71根据从聚焦位置和沟得到的信息信号生成折射率控制信号并输出到控制部72,控制部72通过该折射率控制信号控制对折射率可变元件75的施加电压。
在这种情况下,容易附加球面象差和慧差等其它的象差校正功能,同时由于不论在平行光路中的哪里设置,该功能都不改变,所以有设置值的自由度增加的优点。
通过前述的控制信号生成部71、控制部72,本发明的象差调整装置被实施。于是,通过控制信号生成部71、控制部72执行的处理,实现再现信号取得部件、沟形状取得部件、取得再现信号的步骤、取得沟形状信号的步骤。而且,通过后述的图24~图30的处理,实现合焦部件、象差产生部件、象差调整部件、产生象差的步骤、调整象差的步骤。于是,通过ROM17实现本发明的存储介质,通过存储在该ROM17中的程序,实施本发明的程序。
接着,通过以上的装置结构,对按照存储介质的ROM17中存储的程序,CPU18执行的状态设定处理进行说明。
图24是表示状态设定处理的整体的处理概要的流程图。CPU18在开始状态设定处理时,在步骤S51中对伺服部件6发出指令,从而使物镜控制致动器48动作,进行聚焦引入(合焦部件)(步骤S501),将聚焦伺服打开(ON)。而且,在已经完成聚焦引入的情况下,跳过该处理。
接着,在聚焦偏移设定处理中,进行设定聚焦偏移的处理(步骤S502)。其细节在后面叙述。
而且,在不进行聚焦偏移的设定而进行非点象差的校正的情况下,跳过步骤S502的处理。
接着,在非点象差校正(非点象差调整)处理中进行非点象差的校正(调整)(象差产生部件、象差调整部件、产生象差的步骤、调整象差的步骤)(步骤S503)。其细节在后面叙述。而且,在上述的处理中,也可以在步骤S502的处理之前进行步骤S503的处理。
这样,在步骤S503的处理结束时,结束状态设定处理。
而且,如果进行步骤S503的处理,则可以提高再现(RF)信号和摆动(WBL)信号的检测精度,可以正确地进行对光盘D的数据的再现和记录。而且,如果与步骤S502的处理一起进行,则可以进一步实现检测精度的提高。
图25是表示图24所示的聚焦偏移设定处理(步骤S502)的详细的处理的流程图,该处理是为了将RF信号的振幅值(RF振幅值、振幅电平)为最大的位置作为物镜的聚焦位置,在聚焦伺服信号中重叠偏移信号的处理。
首先,CPU18作为准备阶段,将变量n的值设定为0(n=1)(步骤S511)。
然后,CPU18对伺服部件6发出指令,使得物镜45由聚焦打开的聚焦位置向远离光盘D的方向仅移动S[μm](例如0.5μm)(步骤S512)。
伺服部件6根据该指令对物镜控制致动器(聚焦线圈)48提供用于使物镜45由聚焦打开的聚焦位置向远离光盘D的方向移动S[μm]的信号(电流)。物镜控制致动器48使物镜45由聚焦打开的聚焦位置向远离光盘D的方向仅移动S[μm](例如0.5μm)。
接着,判断n的值是否与N(例如为11)一致(步骤S513)。在判断为不一致的情况下(步骤S513的否),对峰值保持电路(PH)71、73提供指令,在该物镜的位置(最初为仅移动上述S后的位置)测量RF信号的RF振幅值rn,并将该测量的RF振幅值rn与这时的n的值一起存储在RAM19中(步骤S514)。
而且,执行本处理的条件(测量位置、测量标记长度)在每次都需要一样。
例如,通过规定地址中存在的标记检测RF振幅值rn,或者在规则地记录着规定的标记的区域(测试区域)中进行RF振幅值rn的检测。
这时,尽可能地使用标记长度长者(例如作为最长标记长度的14T)可以增大RF振幅值的振幅电平,可以进行高精度的电平检测。而且,也可以在处理前在测试区域中记录规定标记,并根据该记录的规定标记检测RF振幅值rn。
然后,对伺服部件6发出指令,以使物镜45从该位置向接近光盘D的方向仅移动Q[μm](例如0.1μm)(步骤S515)。
伺服部件6根据该指令对物镜控制致动器(聚焦线圈)48提供用于使物镜45从该位置向接近光盘D的方向仅移动Q[μm]的信号。物镜控制致动器48使物镜45从仅移动上述S后的位置向接近光盘D的方向仅移动Q[μm](例如0.1μm)。
然后,使n的值仅增加1(n=n+1)(步骤S516),返回步骤S513的判断处理。
然后,重复步骤S513~S516的处理,直到判断n的值和N的值一致(步骤S513中的是)。
在步骤S513中,判断出n的值和N的值一致的情况下(步骤S513的是),在存储于RAM19中的RF振幅值(RF信号振幅电平测量值)中求最大值的RF振幅值,求与该RF振幅值对应的n的值(nrmax)(步骤S517)。
接着,对伺服部件6发出指令,以使物镜45从该位置向远离光盘D的方向仅移动Q×(N-1-nrmax)[μm](步骤S518)。
伺服部件6根据该指令,对物镜控制致动器(聚焦线圈)48提供用于使物镜45从该位置向远离光盘D的方向仅移动Q×(N-1-nrmax)[μm]的信号,对物镜控制致动器48使物镜45从该位置向远离光盘D的方向仅移动Q×(N-1-nrmax)[μm]。
由此,可以使物镜45移动到RF振幅值值为最大值的位置。
即,该信号的值(电流值)相当于聚焦偏移的值。在该处理结束时,聚焦偏移的设定处理结束。
而且,在本处理例中,一边使物镜45暂时远离光盘D后缓慢地靠近一边测量RF振幅值,但不限于该处理,也可以进行暂时接近光盘D后缓慢远离来测量RF振幅值的处理。
而且,在进行着图24所示的步骤S502的处理期间,准直透镜被配置在后述的规定的基准位置(开始位置)和移动到离该开始位置最远的位置的中间位置(图12(A)和图12(B)所示的结构的情况)。
在进行步骤S502的处理期间,对折射率可变元件施加的电压设为规定的基准电压(开始电压)和最大施加电压的中间的电压(图14(A)和图14(B)所示的结构的情况)。
接着,对图12(A)和图12(B)所示的结构中的非点象差调整处理进行说明。
图26和图27是表示图24所示的步骤S503的非点象差调整处理的详细的处理的流程图。
如图26所示,CPU18作为准备阶段将变量m的值设定为0(m=0)(步骤S521)。然后,对伺服部件6发出指令,使得准直透镜位于规定的基准位置(开始位置)(步骤S522)。伺服部件6根据该指令,对准直透镜控制致动器73提供用于使准直透镜42移动到开始位置的信号(电流),准直透镜控制致动器73使准直透镜42移动到开始位置。
而且,准直透镜控制致动器73由与聚焦致动器相同的结构来构成。
接着,判断m的值是否与M(例如11)一致(步骤S523),在不一致的情况下(步骤S523的否),对峰值保持电路(PH)913、915、919、921发出指令,在该准直透镜42的位置测量作为RF信号和WBL信号的各振幅电平(在DVD-R盘、DVD-RW盘的情况下为LPP信号电平(LPP信号值))的RF振幅值rm和WBL振幅值wm,将该测量出的RF振幅值和WBL振幅值(或者LPP信号值)与这时的m的值一起存储在RAM19中(步骤S524)。
而且,执行本处理的条件(测量位置、测量标记长度)在每次都需要一样。
例如,在规定地址检测RF振幅值rm和WBL振幅值wm,或者在规则地记录着规定的标记或空间的区域(测试区域)中,进行RF振幅值rm和WBL振幅值wm的检测。
这时,尽可能地使用标记长度长者(例如作为最长标记长度的14T)可以增大RF振幅值的振幅电平,可以进行高精度的电平检测。也可以在处理前在测试区域中记录规定标记,并根据该记录的规定标记检测RF振幅值rm。而且,WBL振幅值的检测在没有标记的区域中进行也可以。这时,可以得到不被RF信号影响的WBL信号。
然后,对伺服部件6发出指令,以使准直透镜42从其位置向沿着光路的方向(例如,向接近半导体激光器光源的方向)仅移动q[μm](例如0.1μm)。伺服部件6根据该指令对准直透镜控制致动器73提供用于使准直透镜42从该位置向沿着光路的方向仅移动q[μm]的信号,准直透镜控制致动器73使准直透镜42从该位置向沿着光路的方向仅移动q[μm](步骤S525)。
然后,使m的值仅增加1(m=m+1)(步骤S526),返回步骤S523的判断处理。
然后,重复步骤S523~S526的处理,直到判断m的值和M的值一致(步骤S523的是)。
在判断出m的值和M的值一致的情况下(步骤S523的是),在存储于RAM19中的RF振幅值(RF信号振幅电平测量值)中求最大值的RF振幅值,求与该RF振幅值对应的m的值(mrmax)(步骤S527)。
进而,在存储于RAM19中的WBL振幅值(WBL信号振幅电平测量值)中求最大值的WBL振幅值,求与该WBL振幅值对应的m的值(mwmax)(步骤S528),进入图27的步骤S529。
在图27所示的步骤S529中,判断对应于上述最大值的RF振幅值的m的值mrmax和对应于上述最大值的WBL振幅值的m的值mwmax是否一致,在mrmax和mwmax不一致的情况下(步骤S529的否),即,RF振幅值为最大的准直透镜42的位置和WBL振幅值为最大的准直透镜42的位置不同的情况下,对伺服部件6发出指令,使得准直透镜42从该位置向沿着光路的另一个方向(例如远离半导体激光器光源的方向)仅移动q×{M-1-(mrmax+mwmax)/2}[μm]。
伺服部件6根据该指令,对准直透镜控制致动器73提供用于使准直透镜42从该位置向沿着光路的另一个方向仅移动q×{M-1-(mrmax+mwmax)/2}[μm]的信号,准直透镜控制致动器73使准直透镜42从该位置向沿着光路的另一个方向仅移动q×{M-1-(mrmax+mwmax)/2}[μm](步骤S530)。
通过该处理,可以使准直透镜42移动到RF振幅值为最大的准直透镜42的位置和WBL振幅值为最大的准直透镜42的位置的中间位置。因此,可以减少非点象差的影响。
另一方面,在mrmax和mwmax一致的情况下(步骤S529的是),即,RF振幅值为最大的准直透镜42的位置和WBL振幅值为最大的准直透镜42的位置相同的情况下,对伺服部件6发出指令,使得准直透镜42从该位置向沿着光路的另一个方向(例如远离半导体激光器光源的方向)仅移动q×(M-1-mrmax)[μm]。
伺服部件6根据该指令,对准直透镜控制致动器73提供用于使准直透镜42从该位置向沿着光路的另一个方向移动q×(M-1-mrmax)[μm]的信号,准直透镜控制致动器73使准直透镜42从该位置向沿着光路的另一个方向移动q×(M-1-mrmax)[μm](步骤S531)。
由此,使准直透镜42移动到RF振幅值和WBL振幅值为最大的位置,可以调整非点象差。
而且,在步骤S529中,mrmax和mwmax不一致的情况下,在重视RF信号的检测的情况下,为了使准直透镜42移动到RF振幅值为最大的准直透镜42的位置,也可以对伺服部件6发出指令,使得准直透镜42从该位置向沿着光路的另一个方向(例如远离半导体激光器光源的方向)仅移动q×(M-1-mrmax)[μm]。
取而代之,即使在RF振幅值为最大的准直透镜42的位置和WBL振幅值为最大的准直透镜42的位置之间,也可以使准直透镜42移动到RF振幅值为最大的位置。
另一方面,在重视WBL信号的检测的情况下,为了使准直透镜42移动到WBL振幅值为最大的准直透镜42的位置,也可以对伺服部件6发出指令,使得准直透镜42从该位置向沿着光路的另一个方向(例如远离半导体激光器光源的方向)仅移动q×(M-1-mwmax)[μm]。
取而代之,即使在RF振幅值为最大的准直透镜42的位置和WBL振幅值为最大的准直透镜42的位置之间,也可以使准直透镜42移动到WBL振幅值为最大的位置。
这样,在对非点象差校正(调整)结束时,结束该非点象差校正处理。
接着,对图14(A)和图14(B)所示的结构(使用折射率可变元件的结构)中的非点象差调整处理进行说明。
图28和图29是表示图24所示的步骤S503的另一个非点象差调整处理的流程图。
如图28所示,CPU18作为准备阶段将变量m的值设定为0(m=0)(步骤S541)。然后,对伺服部件6发出指令,以便对折射率可变元件75施加规定的基准电压(开始电压)。伺服部件6根据该指令,对折射率可变元件75提供开始电压(步骤S542)。
接着,判断m的值是否与M(例如11)一致(步骤S543),在不一致的情况下(步骤S543的否),对峰值保持电路(PH)913、915、919、921发出指令,测量在该施加电压下的作为RF信号和WBL信号的各振幅电平(在DVD-R盘、DVD-RW盘的情况下为LPP信号电平(LPP信号值))的RF振幅值rm和WBL振幅值wm,将该测量出的RF振幅值rm和WBL振幅值wm(或者LPP信号电平)与这时的m的值一起存储在RAM19中(步骤S544)。
而且,执行本处理的条件(测量位置、测量标记长度)在每次都需要一样。
例如,在规定地址检测RF振幅值rm和WBL振幅值wm,或者在规则地记录着规定的标记或空间的区域(测试区域)中,进行RF振幅值rm和WBL振幅值wm的检测。
这时,尽可能地使用标记长度长者(例如作为最长标记长度的14T)可以增大RF振幅值的振幅电平,可以进行高精度的电平检测。而且,也可以在处理前在测试区域中记录规定标记,并根据该记录的规定标记检测RF振幅值rm。而且,WBL振幅值的检测在没有标记的区域中进行也可以。这时,可以得到不被RF信号影响的WBL信号。
然后,对伺服部件6发出指令,使得施加电压仅增加V[V]。伺服部件6根据该指令,使对折射率可变元件75施加的电压增加V[V](步骤S545)。然后,使m的值仅增加1(m=m+1)(步骤S546),返回步骤S543的判断处理。
然后,重复步骤S543~S546的处理,直到判断m的值和M的值一致(步骤S543的是)。
在判断出m的值和M的值一致的情况下(步骤S543的是),在存储于RAM19中的RF振幅值(RF信号振幅电平测量值)中求最大值的RF振幅值,求与该RF振幅值对应的m的值(mrmax)(步骤S547)。
进而,在存储于RAM19中的WBL振幅值(WBL信号振幅电平测量值)中求最大值的WBL振幅值,求与该WBL振幅值对应的m的值(mwmax)(步骤S548),进入图29的步骤S549。
在图29所示的步骤S549中,判断对应于上述最大值的RF振幅值的m的值mrmax和对应于上述最大值的WBL振幅值的m的值mwmax是否一致,在mrmax和mwmax不一致的情况下(步骤S549的否),即,RF振幅值为最大的施加电压和WBL振幅值为最大的施加电压不同的情况下,对伺服部件6发出指令,使得在步骤S550中从这时的(当前的)施加电压中仅减少V×{M-1-(mrmax+mwmax)/2}[V]。伺服部件6根据该指令,将对折射率可变元件75施加的电压仅降低V×{M-1-(mrmax+mwmax)/2}[V]。
通过该处理,可以将施加电压设定为RF振幅值最大的施加电压和WBL振幅值最大的施加电压的中间电压。因此,可以减少非点象差的影响。
另一方面,在mrmax和mwmax一致的情况下(步骤S549的是),即,RF振幅值为最大的施加电压和WBL振幅值为最大的施加电压相同的情况下,对伺服部件6发出指令,使得从当前的施加电压中仅减少V×(M-1-mrmax)[V]。伺服部件6根据该指令,将对折射率可变元件75施加的电压仅降低V×(M-1-mrmax)[V]。
由此,设定为RF振幅值和WBL振幅值为最大的施加电压,可以调整非点象差。
而且,在mrmax和mwmax不一致的情况下(步骤S549),在重视RF信号的检测的情况下,为了施加RF振幅值为最大的施加电压,也可以对伺服部件6发出指令,使得从当前的施加电压中仅减少V×(M-1-mrmax)[V]。
取而代之,即使在RF振幅值为最大的施加电压和WBL振幅值为最大的施加电压之间,也可以对折射率可变元件75施加接近于RF振幅值为最大的施加电压的施加电压。
另一方面,在重视WBL信号的检测的情况下,为了施加WBL振幅值为最大的施加电压,也可以对伺服部件6发出指令,使得从当前的施加电压中仅减少V×(M-1-mwmax)[V]。
取而代之,即使在RF振幅值为最大的施加电压和WBL振幅值为最大的施加电压之间,也可以对折射率可变元件75施加接近于WBL振幅值为最大的施加电压的施加电压。
这样,在对非点象差校正并结束时,结束该非点象差校正处理。
图30是表示图24所示的聚焦偏移设定处理(步骤S502)的详细的处理的流程图。
该处理是为了将物镜45的聚焦位置设为RF振幅值为最大值的位置(RF信号的振幅电平为最大的位置)和WBL振幅值为最大值的位置(WBL信号的振幅电平为最大的位置)的中间位置,对聚焦伺服信号重叠偏移信号的处理。
首先,CPU18作为准备阶段,将变量n的值设定为0(步骤S561)。然后,对伺服部件6发出指令,以使物镜45从聚焦打开(ON)的聚焦位置向远离光盘D的方向移动S[μm](例如0.5μm)。
伺服部件6根据该指令,对物镜控制致动器(聚焦线圈)48提供用于使物镜45从聚焦打开(ON)的聚焦位置向远离光盘D的方向仅移动S[μm]的信号(电流),物镜控制致动器48使物镜45从聚焦打开的聚焦位置向远离光盘D的方向仅移动S[μm](例如0.5μm)(步骤S562)。
接着,判断n的值是否与N(例如为11)一致(步骤S563)。在判断为不一致的情况下(步骤S563的否),对峰值保持电路(PH)913、915、919、921提供指令,在该物镜45的位置测量作为RF信号和WBL信号的各振幅电平(在DVD-R盘、DVD-RW盘的情况下,为LPP信号电平(LPP信号值))的RF振幅值rn和WBL振幅值wn,并将该测量的RF振幅值和WBL振幅值(或者LPP信号值)与这时的n的值一起存储在RAM19中(步骤S564)。
而且,执行本处理的条件(测量位置、测量标记长度)在每次都需要一样。
例如,在规定地址检测RF信号振幅值rn和WBL振幅值wn,或者在规则地记录着规定的标记或空间的区域(测试区域)中,进行RF振幅值rn和WBL振幅值wn的检测。这时,尽可能地使用标记长度长者(例如作为最长标记长度的14T)可以增大RF振幅值的振幅电平,可以进行高精度的电平检测。也可以在处理前在测试区域中记录规定标记,并根据该记录的规定标记检测RF振幅值rn。
而且,WBL振幅值的检测在没有标记的区域中进行也可以。
这时,可以得到不被RF信号影响的WBL信号。
然后,对伺服部件6发出指令,以使物镜45从该位置向接近光盘D的方向仅移动Q[μm](例如0.1μm)。伺服部件6根据该指令对物镜控制致动器(聚焦线圈)36提供用于使物镜45从该位置向接近光盘D的方向仅移动Q[μm]的信号。物镜控制致动器48使物镜45从该位置向接近光盘D的方向仅移动Q[μm](步骤S565)。
然后,使n的值仅增加1(n=n+1),返回步骤S563的判断处理(步骤S566)。
然后,重复步骤S563~S566的处理,直到判断n的值和N的值一致(步骤S563的是)。
在判断出n的值和N的值一致的情况下(步骤S563的是),在存储于RAM19中的RF振幅值(RF信号振幅电平测量值)中求最大值,求与该RF振幅值对应的n的值(nrmax)(步骤S567)。
进而,在存储于RAM19中的WBL振幅值(WBL信号振幅电平测量值)中求最大值,求与该WBL振幅值对应的n的值(nwmax)(步骤S568)。
接着,对伺服部件6发出指令,以使物镜45从该位置向远离光盘D的方向仅移动Q×{N-1-(nrmax+nwmax)/2}[μm]。伺服部件6根据该指令,对物镜控制致动器(聚焦线圈)48提供用于仅使物镜45从该位置向远离光盘D的方向移动Q×{N-1-(nrmax+nwmax)/2}[μm]的信号,物镜控制致动器48仅使物镜45从该位置向远离光盘D的方向移动Q×{N-1-(nrmax+nwmax)/2}[μm](步骤S569)。
由此,可以使物镜45移动到RF振幅值为最大的物镜45的位置和WBL振幅值为最大的物镜45的位置的中间位置。即,该信号的值(电流值)相当于聚焦偏移的值。
在该处理结束时,聚焦偏移的设定处理结束。
而且,在本处理例中,一边使物镜45暂时远离光盘D后缓慢地靠近一边测量RF振幅a,但不限于此,也可以进行暂时接近光盘D后缓慢远离来测量的处理。
而且,在上述的全部处理中,也可以通过近似运算和插补运算求RF信号和WBL信号的振幅的最大值,使物镜或者准直透镜移动,或者调整折射率可变元件的施加电压,以成为通过该运算求出的最大值。
通过在记录动作之前进行以上的控制,可以抑制由于记录动作之前上升的光盘装置内温度而产生的也包括光盘基板的光学系统的偏差引起的非点象差导致的不良情况。
而且,通过在记录动作之后进行上述控制,可以抑制由于记录动作而上升的光盘装置内的温度所产生的光学系统的偏差引起的非点象差导致的不良情况。
而且,通过在数据连续记录中,以特定的时间间隔(例如:每5分钟1次,记录1000轨道后1次等)进行上述控制,可以抑制由于记录动作而上升的驱动器内的温度所产生的光学系统的偏差引起的非点象差导致的不良情况。
此外,通过在光盘的特定位置(例如,半径30mm、40mm、50mm)进行上述控制,可以抑制光盘固有的弯曲等引起的非点象差导致的不良情况。
这样,为了抑制C/N(S/N)恶化,通过在从光源到光盘的光路中设置非点象差产生部件,并通过根据从沟得到的信号和信息信号两者生成的控制信号来进行控制,从而使点特性变化,即使在点中存在非点象差的情况下,也可以进行控制,以对从沟得到的信号和信息信号两者保持适当的S/N,可以使可靠性提高。
而且,作为象差生成部件,通过使用折射率可变部件,可以没有驱动机构地将非点象差产生部件固定配置在光学系统内,可以提高可靠性。
进而,通过使用一般的元件,可以增加控制的稳定性而提高可靠性,也可以降低装置的成本。
而且,将液晶的电极图案设为单一平面图案,并可以实现液晶元件的低成本化和液晶元件的设置精度的缓和。进而,可以实现液晶元件的设置精度的缓和。
再有,对于光拾取器的组装误差和随时间变化、温度变化产生的非点象差的变化,作为驱动器进行控制,以便对从沟得到的信号和信息信号两者保持适当的S/N,可以使驱动器的可靠性提高。
而且,在实施方式1、2中,作为折射率可变元件,除了前述的例子,也可以使用固态结晶元件构成的电光学元件等。
如以上说明的那样,实施方式1是在象差中主要调整球面象差的处理,实施方式2是主要调整非点象差的处理。而且,作为非点象差、球面象差以外的象差,已知有慧差、畸变象差、像面象差的赛德尔(Seidel)的5个象差。而且,除了赛德尔的5个象差以外,作为象差还有色象差。在本发明中,不限于球面象差、非点象差,在由于光学系统而产生这些象差的情况下,考虑一起降低这些象差的影响。
而且,本发明不限于上述实施例,不用说,在本发明的范围内可以进行各种改良和变更。
本发明在产业上的可利用性在于,如以上说明的那样,按照本发明,即使在对光信息记录介质照射的光点中存在非点象差、球面象差等象差的情况下,也可以对从沟得到的信号和信息信号两者保持适当的S/N。
Claims (18)
1、一种象差调整装置,具有:
象差产生部件,使从光源照射的光产生象差;
再现信号取得部件,从来自具有引导沟的光信息记录介质的反射光取得信息的再现信号;
沟形状信号取得部件,从来自所述光信息记录介质的反射光取得与所述引导沟的形状对应的沟形状信号;以及
象差调整部件,根据所述再现信号和所述沟形状信号,调整所述象差产生部件产生的所述象差。
2、如权利要求1所述的象差调整装置,具有:
合焦部件,使产生了所述象差的光合焦在所述光信息记录介质上。
3、如权利要求2所述的象差调整装置,
所述象差调整部件调整所述象差,使得所述再现信号的振幅为最大的合焦位置和所述沟形状信号的振幅为最大的合焦位置的差比规定值小。
4、如权利要求2所述的象差调整装置,
所述象差调整部件调整所述象差,使得所述再现信号的振幅为最大的合焦位置和所述沟形状信号的振幅为最大的合焦位置一致。
5、如权利要求2所述的象差调整装置,
所述合焦部件根据所述再现信号调整光的合焦位置。
6、如权利要求2所述的象差调整装置,
所述合焦部件根据所述再现信号和所述沟形状信号调整光的合焦位置。
7、如权利要求1所述的象差调整装置,
所述象差调整部件调整由所述象差产生部件产生的象差,使得所述再现信号和所述沟形状信号的振幅为最大。
8、如权利要求1所述的象差调整装置,
所述象差调整部件在所述再现信号和所述沟形状信号的振幅为最大的条件各自不同的情况下,调整由所述象差产生部件产生的象差,使其为各条件下的振幅的平均。
9、如权利要求1所述的象差调整装置,
所述象差产生部件通过设置在从所述光源照射光的光路中的准直透镜来产生所述象差,
所述象差调整部件使所述准直透镜向所述光路方向移动,从而调整所述象差。
10、如权利要求1所述的象差调整装置,
所述象差产生部件通过设置在从所述光源照射光的光路中的折射率可变元件来产生所述象差,
所述象差调整部件改变所述折射率可变元件的折射率来调整所述球面象差。
11、如权利要求10所述的象差调整装置,
所述折射率可变元件为液晶元件。
12、如权利要求11所述的象差调整装置,
所述液晶元件被配置在所述光路的发散或者会聚光路中。
13、如权利要求11所述的象差调整装置,
所述液晶元件被配置在所述光路的平行光路中。
14、一种光拾取器,具有象差调整装置,该象差调整装置具有:
象差产生部件,使从光源照射的光产生象差;
再现信号取得部件,从来自具有引导沟的光信息记录介质的反射光取得信息的再现信号;
沟形状信号取得部件,从来自所述光信息记录介质的反射光取得与所述引导沟的形状对应的沟形状信号;以及
象差调整部件,根据所述再现信号和所述沟形状信号,调整所述象差产生部件产生的所述象差,
通过由所述象差调整装置调整了球面象差的光对所述光信息记录介质进行信息的记录或者再现。
15、一种光信息记录介质装置,具有象差调整装置,该象差调整装置具有:
象差产生部件,使从光源照射的光产生象差;
再现信号取得部件,从来自具有引导沟的光信息记录介质的反射光取得信息的再现信号;
沟形状信号取得部件,从来自所述光信息记录介质的反射光取得与所述引导沟的形状对应的沟形状信号;以及
象差调整部件,根据所述再现信号和所述沟形状信号,调整所述象差产生部件产生的所述象差,
通过由所述象差调整装置调整了象差的光对所述光信息记录介质进行信息的记录或者再现。
16、一种可在计算机中读取的程序,该程序使对所述光信息记录介质照射光,从而进行信息的记录或者再现的光信息记录介质装置执行以下部件:
象差产生部件,使从光源照射的光产生球面象差;
再现信号取得部件,从来自具有引导沟的光信息记录介质的反射光取得信息的再现信号;
沟形状信号取得部件,从来自所述光信息记录介质的反射光取得与所述引导沟的形状对应的沟形状信号;以及
象差调整部件,根据所述再现信号和所述沟形状信号,调整所述象差产生部件产生的所述球面象差。
17、一种存储可在计算机中读取的程序的存储介质,该程序使对所述光信息记录介质照射光,从而进行信息的记录或者再现的光信息记录介质装置执行以下部件:
象差产生部件,使从光源照射的光产生球面象差;
再现信号取得部件,从来自具有引导沟的光信息记录介质的反射光取得信息的再现信号;
沟形状信号取得部件,从来自所述光信息记录介质的反射光取得与所述引导沟的形状对应的沟形状信号;以及
象差调整部件,根据所述再现信号和所述沟形状信号,调整所述象差产生部件产生的所述球面象差。
18、一种象差调整方法,包含以下步骤:
使从光源照射的光产生象差的步骤;
从来自具有引导沟的光信息记录介质的反射光取得信息的再现信号的步骤;
从来自所述光信息记录介质的反射光取得与所述引导沟的形状对应的沟形状信号的步骤;以及
根据所述再现信号和所述沟形状信号,调整所述象差的步骤。
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