CN1842746A - 用于形成光学图像的控制电路和方法 - Google Patents

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Abstract

光学图像是由多个子照射在辐射敏感层(5)中形成的，在每个子照射中，光阀阵列(21－25)和相应的会聚元件(43)的阵列(40)用于根据子图像图案在抗蚀剂层(5)中形成光点图案。在子照射之间，相对于该阵列(21－25、40)移动抗蚀剂层(5)。透镜阵列(40)可相对于扫描区域倾斜，以使得每个抗蚀剂层区域由多个光点扫描。此外，在垂直于扫描方向的方向上也出现一些光点重叠。通过有选择地降低该冗余光点中的一个或多个光点的强度或者切断所述冗余光点中的一个或多个光点以便改变设备特征的边缘的位置，即“细调”该位置，该光点冗余得到了利用。

Description

用于形成光学图像的控制电路和方法
本发明涉及一种在辐射敏感层中形成光学图像的方法，该方法包括下列步骤：
-提供辐射源；
-提供辐射敏感层；
-将多个单独受控的光阀放置在该辐射源和该辐射敏感层之间；
-将多个辐射会聚元件放置在所述多个光阀和该辐射敏感层之间，以使每个会聚元件对应于一个不同的光阀，并用于将来自对应光阀的辐射会聚在辐射敏感层的光点(spot)区域中；
-通过一方面扫描所述层，以及另一方面彼此相对地扫描相关的光阀/会聚元件对，并根据通过光阀所要写入的图像部分来将每个光阀在开和关状态之间切换，从而同时在辐射敏感层区域中写入图像部分。
本发明还涉及一种用于执行该方法的装置、一种供该方法使用的控制电路、以及一种使用这种方法制造设备的方法。
光阀和辐射会聚元件优选以二维阵列布置。光阀或光学快门的阵列被理解为指的是可以在两种状态之间切换的可控元件的阵列。在一种状态下，入射到这种元件上的辐射受到遮挡，而在另一种状态下，该入射辐射被透射或反射以沿着在装置中规定的路径行进，该阵列构成了该装置的一部分。
这种阵列可以是透射型或反射型的液晶显示器(LCD)或者数字反射镜器件(DMD)。该辐射敏感层例如是在光刻技术中使用的抗蚀剂层或者在印刷(printing)装置中使用的带静电的层。
这种方法和装置尤其可以用于制造诸如液晶显示器(LCD)面板、定制IC(集成电路)和PCB(印制电路板)之类的设备。目前，在这种设备的制造中使用接近式曝光(proximity printing)。接近式曝光是一种在设备衬底上的辐射敏感层中形成图像的快速而廉价的方法，该图像包括对应于将要在衬底层中配置的设备特征(feature)的特征。利用了以距衬底短距离(称作邻近间隙)布置的大的光掩模，并由例如紫外(UV)辐射经由该光掩模照射该衬底。该方法的重要优点是大的像场，从而可以在一个成像步骤中对大的设备图案进行成像。用于接近式曝光的传统光掩模的图案是衬底上所需图像的实际的一比一的复制，即这幅图像的每个像元(像素)与掩模图案中的对应像素相同。
接近式曝光具有有限的分辨率，即在衬底上的敏感层中再现作为独立实体的掩模图案的点、线等(通常是掩模图案的特征)的能力。这是由衍射效应造成的，这种衍射效应在特征尺寸相对于用于成像的辐射波长降低的时候出现。例如，对于近UV范围的波长以及100μm的邻近间隙的宽度，分辨率是10μm，这意味着可以将相互距离为10μm的图案特征成像为独立元件。
为了提高光刻技术中的分辨率，使用了一种实投影装置，即具有象透镜投影系统或反射镜投影系统之类的实投影系统的装置。这种装置的实例是晶片步进器或晶片步进和扫描仪。在晶片步进器中，通过投影透镜系统将整个掩模图案(例如IC图案)一次成像到衬底的第一IC区域上。然后使该掩模和衬底彼此相对移动(步进)，直到第二IC区域位于投影透镜之下为止。然后将掩模图案成像到第二IC区域上。重复这些步骤，直到衬底的所有IC区域都具有了掩模图案的图像为止。这是一个耗时的过程，原因在于移动、对准和照射的子步骤。在步进和扫描仪中，一次仅照射掩模图案的一小部分。在照射过程中，该掩模和衬底相对于照射光束同步移动，直到已经照射了整个掩模图案并且这个图案的完整图像已经形成在衬底的IC区域中为止。然后该掩模和衬底彼此相对移动，直到下一个IC区域位于投影透镜之下为止，并且再次扫描照射该掩模图案，从而在下一个IC区域上形成该掩模图案的完整图像。重复这些步骤，直到衬底的所有IC区域都具有了掩模图案的完整图像为止。该步进和扫描过程比步进过程甚至更耗费时间。
如果将1∶1的步进器即放大率为1的步进器用于印制LCD图案，那么可以获得3μm的分辨率，然而，这是以很多的成像时间为代价的。此外，如果该图案大并且必须分成独立成像的子图案的话，会出现缝合(stitching)的问题，这意味着相邻的子域不会精确地配合在一起。
制造光掩模是一个耗时而麻烦的工艺，这使得这种掩模变得昂贵。如果需要多次重新设计光掩模或者如果必须制造客户专用的设备(即相对较少量的相同设备)，那么利用光掩模的光刻制造方法是一种昂贵的方法。
D.Gil等人在2000年11月/12月的J.Vac.Sci.Technology B 18(6)第2881-2885页的论文“Lithographic patterning and confocal imaging
with zone plates(利用波带片的光刻构图和共焦成像)”描述了一种光刻方法，其中代替光掩模，使用了DMD阵列和波带片阵列的组合。如果该波带片阵列(也称作菲涅耳透镜)被照射，那么它在衬底上生成辐射光点阵列，在该论文所述的实验中为3×3的X射线光点阵列。光点大小约等于波带片的最小特征尺寸，即外部区域宽度。由DMD设备的微型机械装置来独立地开启和关闭对每个波带片的辐射，并借助通过波带片单元对衬底进行光栅扫描，可以写入任意的图案。这样，由于利用光点阵列进行并行写入，所以无掩模光刻技术的优点与高生产量被结合起来。
在许多灵活(flexible)光刻系统(即具有可改变的光图案的光刻系统)中，透镜阵列相对于扫描区域倾斜，使得每个衬底区域由大量光点扫描。此外，一些光点重叠也沿垂直于扫描方向的方向出现。这两种情况都对所得的光学图像的分辨率具有不利的影响，特别是在所制造的设备特征的边缘处，这对可由该设备实现的对准性能具有不利的影响。
本发明的目的是为了解决上述问题并提供一种准确且辐射高效的光刻成像方法。
根据本发明，提供了一种在辐射敏感层中形成光学图像的方法，该方法包括下列步骤：
-提供辐射源；
-提供辐射敏感层；
-将多个单独受控的光阀放置在该源和该辐射敏感层之间；
-将多个辐射会聚元件放置在所述多个光阀和该辐射敏感层之间，以使每个会聚元件对应于一个不同的光阀，并用于将来自对应光阀的辐射会聚在辐射敏感层的光点区域中；
-通过一方面扫描所述层，以及另一方面彼此相对地扫描相关的光阀/会聚元件对，并根据通过该光阀所要写入的图像部分来将每个光阀在开和关状态之间切换，从而同时在该辐射敏感层区域上写入图像部分，其中通过多个由相应的光阀/会聚元件对所产生的光点来扫描在该辐射敏感层中的至少一些光点区域；该方法的特征在于下述步骤：
-有选择地降低在所述辐射敏感层中扫描相同光点区域的所述多个光点的一个或多个光点的强度，或者切断所述多个光点的一个或多个光点，以便调整所述光学图像的边缘部分在所述辐射敏感层中的位置。
因此，写入该辐射敏感层的特征的边缘可被有效地“细调”，使得由辐射会聚元件的间距(pitch)和会聚元件组相对于衬底的角度所限定的写入栅格(grid)可以得到改善，并且可以获得更好的对准性能。
通常，在光刻技术中使用的抗蚀剂需要最小“剂量”(即光点强度)以“清除”(即写入图像部分)。因此，在这种情况下，特征的边缘由在阈值和施加到光点区域的总强度之间的交点(如果用图显示)所限定。因此，在优选实施例中，一个或多个光点被有选择地切断(或降低它们的强度)，同时维持在光点区域处的总强度等于或高于阈值。
本发明的该方法的进一步的特征在于，在连续的子照射之间，辐射敏感层和阵列彼此相对移动了一定距离，该距离至多等于在辐射敏感层中形成的光点的尺寸。
这样，可在整个特征上以恒定强度写入图像特征，即图案特征。根据该装置中存在的光束成形孔径的设计，该光点可具有圆形、方形、菱形或矩形形状。光点的大小被理解为指的是在这个光点内最大尺寸的大小。
如果将要写入的图像特征彼此非常接近，那么这些特征可以变宽并彼此混合，该现象被称为邻近效应。该方法的一个实施例防止了邻近效应的出现，其特征在于，在图像特征的边沿处的光点强度适合于在这个特征边沿与相邻特征之间的距离。
该方法可用于若干应用。第一个应用是在光刻领域。该方法的一个实施例适合于构成用于在衬底中制造设备的光刻过程的一部分，其特征在于，辐射敏感层是设置在衬底上的抗蚀剂层，并且其特征在于，图像图案对应于将要被制造的设备的特征图案。
该方法的这个实施例的进一步的特征在于，该图像被分成子图像，每幅子图像属于要被制造的设备的不同层，并且其特征在于，在形成不同子图像的过程中，抗蚀剂层表面被设置在距多个会聚元件(其可包括折射透镜阵列)不同的距离处。
该方法的这个实施例允许在衬底的不同平面上成像并从而制造多层设备。
第二个应用是在印刷领域。该方法的一个实施例适于构成用于印刷一张纸的过程的一部分，其特征在于，该辐射敏感层是带静电的材料层。
光阀和会聚元件优选以相应的二维阵列进行布置。
该方法的进一步的特征在于，放置光阀的二维阵列以直接面对会聚元件(例如折射透镜)的相应阵列。
两个阵列彼此接近地放置，而在它们之间没有布置成像装置，因此该方法可由紧凑装置执行。如果光阀阵列是调制入射辐射的偏振的LCD单元的阵列，那么将检偏器布置在LCD和会聚元件(例如衍射单元或折射透镜)阵列之间。
可选地，该方法的特征在于，将光阀阵列成像在会聚元件阵列上。
通过投影透镜将一个阵列成像在另一阵列上提供了在稳定性、热效应和串扰方面的优点。
本发明还涉及一种用于执行上述方法的装置。该装置包括：
-辐射源；
-定位装置，用于将辐射敏感层相对于该辐射源进行定位；
-多个单独可控的光阀，其被布置在该源和该辐射敏感层的位置之间；
-成像元件，其包括被布置在多个光阀和辐射敏感层的位置之间的多个辐射会聚元件，使得每个会聚元件对应于一个不同的光阀，并用于将来自对应光阀的辐射会聚在辐射敏感层的光点区域中；
-写入装置，用于通过一方面扫描所述层，以及另一方面彼此相对地扫描相关的光阀/会聚元件对，并根据通过该光阀所要写入的图像部分来将每个光阀在开和关状态之间切换，从而同时在该辐射敏感层区域上写入图像部分，其中通过多个由相应的光阀/会聚元件对所产生的光点来扫描在该辐射敏感层中的至少一些光点区域；
该装置的特征在于：
-控制装置，用于有选择地降低在所述辐射敏感层中扫描相同光点区域的所述多个光点的一个或多个光点的强度，或者切断所述多个光点的一个或多个光点，以便调整所述光学图像的边缘部分在所述辐射敏感层中的位置。
该装置的第一实施例适合于在衬底上的抗蚀剂层中形成图像，该图像包括对应于将要在所述衬底中配置的设备特征的特征，其特征在于，辐射敏感层是抗蚀剂层，以及其特征在于，该定位装置是由衬底台承载的衬底支架。
该实施例可适于允许子图像形成在衬底的不同平面中，于是其特征在于，它包括用于在形成不同子图像时调整(adapt)在抗蚀剂层表面和成像元件之间的距离的装置。
该装置的第二实施例适合于在一张纸上印刷数据，其特征在于，该辐射敏感层是带静电的辐射敏感材料的层，以及其特征在于，该定位装置是用于使所述层相对于光阀阵列和折射透镜阵列移动并用于将所述层保持在这些阵列的图像场位置处的装置。
术语“数据”被理解为包含可以印刷到纸上的所有可视信息，例如文本、图形、照片等。
该装置进一步的特征在于，该成像元件被布置在多个光阀(优选为光阀阵列)之后，而不干扰成像装置。
该间隙例如空气间隙可以非常小，以使本实施例具有夹层形状。如果光阀阵列是LCD，那么将检偏器布置在光阀阵列和成像元件之间。
该装置的一个实施例是夹层实施例的替代，其特征在于，将投影透镜布置在光阀阵列和成像元件之间。
该投影透镜将每个光阀成像在成像元件中与其相关的折射透镜上，从而消除了串扰、光学像差和温度效应。此外，成像元件的衬底可以相对较厚，以使该装置更稳定。
本发明还涉及一种在衬底的至少一个处理层上制造设备的方法，该方法包括以下步骤：
-在设置在该处理层上的抗蚀剂层中形成图像，该图像包括对应于将要在该处理层中配置的设备特征的特征；以及
-从该处理层的区域上除去材料或者向该区域添加材料，该区域是由在抗蚀剂层中形成的图像来描绘(delineate)的。
本方法的特征在于，利用如上所述的方法形成图像。
利用本方法和装置可制造的设备是液晶显示器、客户专用IC、电子模块、印制电路板和MOEMS(集成微光机电系统)等。这种设备的一个实例是集成光通信设备，其包括二极管激光器和/或检测器、光导、光开关以及可能是在光导和二极管激光器之间的透镜或检测器。
本发明还扩充至一种供在上述装置和方法中使用的控制电路，该控制电路的特征在于，它被配置为有选择地降低在该辐射敏感层中扫描相同区域的所述多个光点的一个或多个光点的强度，或者切断所述多个光点的一个或多个光点，以便调整边缘光学图像在该辐射敏感层中的位置。
通过非限定性实例的方式并参考下文所述的实施例，本发明的这些和其它方面是显而易见的，并将对其进行阐明。
现在将仅通过实例并参考附图来描述本发明的实施例，其中：
图1示意性地说明传统的接近式曝光装置；
图2示出根据本发明的成像装置的实施例；
图3示意性地说明光点重叠的出现；
图4示意性地说明如参考图3所述的光点重叠的表现形式；以及
图5用图说明典型的总光点区域强度与在辐射敏感层中光点的位置的关系曲线。
图1非常示意性地示出用于制造例如LCD设备的传统的接近式曝光装置。此装置包括用于承载衬底3的衬底支架1，所述设备将在该衬底上制造。该衬底涂敷了辐射敏感或抗蚀剂层5，在该层中将要形成具有对应于设备特征的特征的图像。图像信息被包含在掩模8中，该掩模被布置在掩模支架7中。该掩模包括透明衬底9，该衬底的下表面具有由透明和不透明的条带和区域构成的图案10，其代表图像信息。小的空气间隙11的间隙宽度w约为100μm，其将图案10与抗蚀剂层5分开。该装置还包括辐射源12。这种源可以包括例如汞弧灯的灯13和反射器15。这个反射器反射所述灯沿朝向掩模背面和侧面方向发出的辐射。该反射器可以是抛物面反射器，并且该灯可以位于反射器的焦点处，从而来自该辐射源的辐射束17基本上是准直光束。可以将其它的或者附加的光学元件例如一个或多个透镜布置在辐射源中以确保光束17基本上是准直的。这种光束相当宽并照射了整个掩模图案10，该图案的尺寸可以从7.5×7.5cm2到40×40cm2。例如，照射步骤的持续时间大约为10秒。在将掩模图案成像在抗蚀剂层中后，以公知的方式进行处理，即使该层显影并刻蚀，从而将光学图像转印到所处理的衬底层的表面结构中。
图1的设备具有相对简单的结构，并且非常适于将大面积的掩模图案一次成像到抗蚀剂层上。然而，光掩模是昂贵的部件，并且只有当制造大量相同设备时，利用这种掩模制造的设备的价格才能保持得比较低。掩模制造是一项专门的技术，只有相对较少量的掩模制造厂商掌握该项技术。设备制造商开发并制造新设备或者修改现有设备所需的时间主要取决于由掩模制造商设定的交货时间。特别是在设备的开发阶段，当需要经常重新设计该掩模时，该掩模是一种性能有限的元件。对于少量、客户专用设备的情况也是如此。
通过例如电子束写入器或激光束写入器在抗蚀剂层上直接写入图案可以提供所需的灵活性，但不是一种真正的可选方案，因为这个过程花费了太多的时间。
图2示出无掩模方法和装置的原理，利用这个原理能够在合理的时间内将任意的且轻易可变的图像图案形成到抗蚀剂层上。图2非常示意性地并以垂直横截面的形式示出用于执行该方法并构成该装置一部分的装置的一小部分。该装置包括用于容纳衬底3的衬底支架1，该衬底涂敷了抗蚀剂层5。参考数字20表示光阀设备，例如液晶显示器(LCD)，其目前被用于显示装置中来直观地或者以投影来显示信息。设备20包括大量光阀，其也被称作像素(像元)，在图2中仅示出几个，并用参考数字21到25表示。该光阀设备由计算机结构30(未按比例)控制，其中把将要在衬底层中配置的图案引入软件中。因此，该计算机确定在写入过程的任何时刻每个光阀是闭合的还是开启的，闭合即遮挡了入射到这个光阀上的照射光束17的部分，开启即将这部分光束传输到抗蚀剂层。成像元件40被布置在光阀阵列20和抗蚀剂层5之间。这个元件包括透明衬底41和辐射会聚元件43的阵列42。这些元件的数量对应于光阀的数量，并且该阵列42与光阀阵列对准，从而使每个会聚元件属于一个不同的光阀。
由于辐射源(其可能为紫外(UV)，但也可能为多种其它辐射类型之一)、衬底支架和掩模支架对理解本新方法具有较少的关系，因此对这些元件将不进行详细描述。
通常，透镜阵列42(以及光阀20)的布置相对于扫描方向是倾斜的，以使抗蚀剂层5中的至少一些光点区域由多个由透镜/光阀对所产生的光点扫描。换言之，冗余辐射(比方说UV)光点可用于将相同的扫描线覆盖在衬底3上。根据阵列42、20的倾斜，在正好相同位置处可获得多个(比方说3至20个)冗余光点。这些光点很可能大于“虚间距(virtual pitch)”，因此光点重叠也趋于在横向于扫描方向的方向出现，如图3中所示。
参考附图的图3，在由M×N个小透镜形成的倾斜的微透镜阵列中，每个小透镜沿X位移P.sin(Q)，假设Q为倾斜角。图4中示意性地示出光点的重叠。
落在抗蚀剂层中光点区域的总强度为各个光点强度之和。参考附图的图5，如果光点区域可由高斯曲线(ganssian)描绘，则总强度可由曲线500示出。
在光刻技术中使用的抗蚀剂通常需要最小剂量(即强度)以“清除”(即对于将要写入的图像部分)。因此，特征的边缘由所谓的“阀值”(线502)和总强度的交点所确定。如果所有的光点都为相等的强度，则总强度(曲线500)是对称的且处于与阈值502的交点处，该特征的边缘将产生。
然而，如果编号为3的光点(参见图4)被切断(或其强度低于其它光点)，则所得的曲线504(即这些光点的总强度)变得不对称。因此在左侧(由曲线504和阈值502之间的交点所限定)的特征边缘稍微地向右移动。在右侧的边缘不受影响，因为光点3距离该边缘足够远。
因此，上面所提供的实例说明：本发明提供了以精细的、高分辨率的方式(小于光点的间距)调整特征的位置的可能性，并且如果特征的宽度足够大，那么相对的边缘不会受到影响。
应当理解的是，可切断多于一个的光点(或降低其强度)以便调整边缘位置，只要剩余的总强度足够“清除”该特征。
本发明可应用于任何灵活的光刻系统，在所述光刻系统中，掩模由光阀阵列以及靠近衬底的相应的辐射会聚元件(优选为微透镜)阵列形成。
应当注意，上述实施例是说明而非限制本发明，并且本领域熟练技术人员能够设计大量可替换的实施例而不背离如由所附的权利要求书限定的本发明的范围。在权利要求书中，置于括号内的任何附图标记都不应被解释为限制该权利要求。词“包含”和“包括”及类似用词并不排除那些整体未列入任何权利要求或说明书中的元件或步骤的存在。对元件的单个引用并不排除对这种元件的多个引用，反之亦然。本发明可以借助包含若干不同元件的硬件以及借助适当编程的计算机来实现。在列举了若干装置的设备权利要求中，这些装置中的一些可由同一项硬件实现。仅仅在相互不同的从属权利要求中陈述了某些措施的事实并不表示这些措施的组合不能被有利地利用。

Claims (21)

1、一种在辐射敏感层(5)中形成光学图像的方法，该方法包括下列步骤：
-提供辐射源(17)；
-提供辐射敏感层(5)；
-将多个单独受控的光阀(21-25)放置在该辐射源(17)和该辐射敏感层(5)之间；
-将多个辐射会聚元件(43)放置在所述多个光阀(21-25)和该辐射敏感层(5)之间，以使每个会聚元件(43)对应于一个不同的光阀(21-25)，并用于将来自对应光阀的辐射会聚在辐射敏感层(5)的光点区域中；
-通过一方面扫描所述层(5)，以及另一方面彼此相对地扫描相关的光阀/会聚元件对，并根据通过该光阀(21-25)所要写入的图像部分来将每个光阀(21-25)在开和关状态之间切换，从而同时在该辐射敏感层区域中写入图像部分，其中通过多个由相应的光阀/会聚元件对所产生的光点来扫描在该辐射敏感层(5)中的至少一些光点区域；该方法的特征在于下述步骤：
-有选择地降低在所述辐射敏感层(5)中扫描相同光点区域的所述多个光点的一个或多个光点的强度，或者切断所述多个光点的一个或多个光点，以便调整所述光学图像的边缘部分在所述辐射敏感层(5)中的位置。
2、根据权利要求1的方法，其中特征的边缘部分由在阈值和施加于光点区域的辐射的总强度之间的交点来确定。
3、根据权利要求2的方法，其中所述阈值是在辐射敏感层(5)上形成该图像部分所需的辐射的最小强度，并且有选择地切断所述一个或多个光点(或降低其强度)，同时维持在光点区域处的总强度等于或高于该阈值。
4、根据权利要求1至3中任何一项的方法，其特征在于，在连续的子照射中，辐射敏感层(5)和光阀/会聚元件对彼此相对位移一定距离，该距离至多等于在辐射敏感层(5)中形成的光点的大小。
5、根据权利要求1至4中任何一项的方法，其特征在于，在图像特征的边沿处的光点的强度适于在该特征边沿和相邻特征之间的距离。
6、根据权利要求1至5中任何一项的方法，形成用于在衬底(3)中制造设备的光刻过程的一部分，其特征在于，该辐射敏感层(5)是设置在该衬底(3)上的抗蚀剂层，以及其特征在于，图像图案相应于将要制造的设备的特征的图案。
7、根据权利要求6的方法，其特征还在于，该图像被分成子图像，每幅子图像属于要被制造的设备的不同层，以及其特征在于，在形成不同子图像的过程中，该抗蚀剂层表面被设置在距多个会聚元件不同的距离处。
8、根据权利要求1至5中任何一项的方法，形成用于印刷一张纸的过程的一部分，其特征在于，该辐射敏感层(5)是带静电的材料层。
9、根据权利要求1至8中任何一项的方法，其中放置所述多个光阀(21-25)以直接面对所述多个会聚元件(43)。
10、根据权利要求1至9中任何一项的方法，其中所述光阀(21-25)和会聚元件(43)以相应的二维阵列进行布置。
11、根据权利要求1至8中任何一项或权利要求10的方法，其特征在于，所述多个光阀(21-25)被成像在所述多个会聚元件(43)上。
12、用于执行根据权利要求1至11中任何一项的方法的装置，该装置包括：
-辐射源(17)；
-定位装置，用于将辐射敏感层(5)相对于该辐射源(17)进行定位；
-多个单独可控的光阀(21-25)，其被布置在该源(17)和该辐射敏感层(5)的位置之间；
-成像元件(40)，其包括布置在多个光阀(21-25)和辐射敏感层(5)的位置之间的多个辐射会聚元件(43)，以使每个会聚元件(43)对应于一个不同的光阀(21-25)，并用于将来自对应光阀(21-25)的辐射会聚在该辐射敏感层(5)的光点区域中；
-写入装置，用于通过一方面扫描所述层(5)，以及另一方面彼此相对地扫描相关的光阀/会聚元件对，并根据通过该光阀(21-25)所要写入的图像部分来将每个光阀(21-25)在开和关状态之间切换，从而同时在该辐射敏感层区域上写入图像部分，其中通过多个由相应的光阀/会聚元件对所产生的光点来扫描在该辐射敏感层(5)中的至少一些光点区域；
该装置的特征在于：
-控制装置，用于有选择地降低在所述辐射敏感层(5)中扫描相同光点区域的所述多个光点的一个或多个光点的强度，或者切断所述多个光点的一个或多个光点，以便调整所述光学图像的边缘部分在所述辐射敏感层(5)中的位置。
13、根据权利要求12的用于在衬底(3)上的抗蚀剂层(5)中形成图像的装置，该图像包括对应于将要在所述衬底(3)中配置的设备特征的特征，其特征在于，该辐射敏感层(5)是抗蚀剂层，以及其特征在于，该定位装置是由衬底台承载的衬底支架(1)。
14、根据权利要求13的装置，其特征在于，它包括用于在衬底(3)的不同平面中形成不同的子图像时调整在该抗蚀剂层表面(5)和该成像元件(40)之间的距离的装置。
15、根据权利要求12的装置，用于在一张纸上印刷数据，其特征在于，该辐射敏感层(5)是带静电的辐射敏感材料层，以及其特征在于，该定位装置是用于使所述层(5)相对于所述多个光阀(21-25)和所述多个会聚元件(43)移动并用于将所述层(5)保持在所述光阀/会聚元件对的图像场位置的装置。
16、根据权利要求12至15中任何一项的装置，其特征还在于，该成像元件(40)被布置在所述多个光阀(21-25)之后而不干扰成像装置。
17、根据权利要求12至16中任何一项的装置，其中所述光阀(21-25)和会聚元件(43)以相应的二维阵列进行布置。
18、根据权利要求12至17中任何一项的装置，其中所述多个光阀(21-25)包括LCD，以及检偏器被布置在所述多个光阀(21-25)和该成像元件(40)之间。
19、根据权利要求12至17中任何一项的装置，其中投影透镜被布置在所述多个光阀(21-25)和该成像元件(40)之间。
20、一种在衬底(3)的至少一个处理层(5)中制造设备的方法，该方法包括下列步骤：
-在设置在该处理层上的抗蚀剂层中形成图像，该图像包括对应于将要在该处理层中配置的设备特征的特征；以及
-从该处理层的区域上除去材料或者向该区域添加材料，该区域是由在抗蚀剂层中形成的图像来描绘的，其特征在于，该图像通过根据权利要求1至11中任何一项的方法来形成。
21、一种供在根据权利要求1至11中任何一项的方法使用的控制电路，该控制电路的特征在于，它被配置为有选择地降低在该辐射敏感层(5)中扫描相同区域的所述多个光点的一个或多个光点的强度，或者切断所述多个光点的一个或多个光点，以便调整边缘光学图像在该辐射敏感层(5)中的位置。
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