CN1818626A - 排列薄膜检查传感器阵列的光学设备及方法和装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种排列薄膜检查传感器阵列的光学设备及相关方法和装置，其中用于检查薄膜图案的传感器阵列在没有依照检查物体的独立的校正图案膜的情况下被排列。在用于排列薄膜图案传感器阵列的光源设备中，光闸控制从光发射元件阵列前进到传感器阵列的光束的宽度。校正图案滑板被安装在光闸的上部分和光闸的表面的任一固定位置以可移动。

Description

排列薄膜检查传感器阵列的光学设备及方法和装置

本申请要求2005年1月10日申请的第10-2005-0002193号韩国专利申请的利益，其通过引用包括在此。

技术领域

本发明涉及检查形成在基底上的薄膜图案的装置，更具体地说涉及用于排列传感器阵列的光学设备，该传感器阵列用于对每条谱线的薄膜图案的连续照相。

背景技术

薄膜以设计成多层的形式形成在裸基底、晶圆或玻璃基底上以获得印刷电路板、半导体集成电路和驱动诸如液晶显示板和等离子显示板的显示器件的像素单元的像素驱动电路。在用化学刻蚀处理或激光束构图处理使形成在基底上的薄膜构成图案的过程中，会在薄膜图案上产生几个微米或更小的微小缺陷或污点。

通过对基底的表面照相检测薄膜图案上诸如微小缺陷或污点的缺陷以了解照过像的薄膜图案的状态。用于检测薄膜图案上的此类缺陷的检查装置包括对每条谱线的基底表面照相以缩短检查时间的传感器阵列。该传感器阵列包括电荷耦合器件(下文中称为“CCD”)和用于控制每一CCD的聚焦条件的透镜。为了使薄膜图案检查装置包括传感器阵列以准确地检测薄膜图案上的微小缺陷，依照检查分辨率设置传感器阵列的最佳聚焦条件，以及将由传感器阵列产生的图像的坐标系和真实检查物体的坐标系被绘制成相同，此外传感器阵列应排列成使传感器阵列的入射光均匀。

如图1所示，作为以最佳条件排列薄膜图案传感器阵列的方法，印刷电路板检查装置使用图案膜10，其中第一黑条12和第二黑条14被印制成以平行方向混和。在其表面上的第一黑条12表示逻辑值‘2’且第二黑条14表示逻辑值‘5’。该方法依照图案膜10的表面条件控制包括在传感器阵列中的每一CCD和透镜的位置和姿势，在将图案膜10与检查印刷电路板的传感器阵列的照相方向相反的方向进给的同时，用传感器阵列对图案膜10照相。在该方法中，由于不能获得相对于CCD对每一像素的的焦距和图像的起始位置所示的坐标值“RθΦ”，需要有用于单独的微调的排列处理。

不同于检查印刷电路板的传感器阵列的排列方法，作为根据CCD对每一像素的焦距和图像起始位置有可能极小规模地排列传感器阵列的方法，有一种用于检查显示器件的传感器阵列的排列方法，该方法使用了图2中示出的校正图案膜20。校正图案膜20包括在其表面的左边缘上以固定的间隙形成的具有固定宽度的刻度的分辨率测量图案22；以及在分辨率测量图案22的右侧形成的具有细条和粗条的左右旋转校正图案24。此外，用于另一检查目的图案26形成在校正图案膜20上的左右旋转校正图案24的右侧的剩余区域。如图3中所示，在检查显示器件的传感器阵列的排列装置的光照射平面上，用与照相方向相反的方向进给校正图案膜20，从而依照被传感器阵列照相的校正图案膜的状态，能够控制包括在阵列传感器中的每一CCD的姿势和位置以及每一透镜的位置。

此外，如图3所示，使用图2的校正图案膜20的、检查显示器件的传感器阵列的排列装置包括传感器阵列30和光源32，它们对称地位于照射基准面36的右侧和左侧。照射基准面36位于光照射平面34上的校正目标区域38中，垂直于光照射平面34。在检查显示器件的薄膜图案时，光照射平面34引导显示器件的薄膜基底，并且它还引导图2的校正图案膜20，在排列传感器阵列时图案膜20从光源32进给到传感器阵列30。

在排列传感器阵列30时，在检查显示器件的传感器阵列的排列装置的光照射平面34上，用与传感器30的照相方向相反的方向进给图2的校正图案膜20，从而依照被传感器阵列照相的校正图案膜的状态，能够控制包括在阵列传感器中的每一CCD的姿势和位置以及每一透镜的位置。分辨率测量图案22允许调节器(或调节处理器)确认被传感器阵列30的每一CCD照相的图案校正膜20的表面尺寸，从而能控制分辨率。左右旋转校正图案24允许调节器(或调节处理器)确认第一个被传感器阵列30的每个CCD照相的点，从而能够校正传感器阵列30对校正图案膜20的相对位置和校正传感器阵列中在X轴方向的每一CCD的位置及每一CCD对于X轴方向的旋转量RθΦ。在这里，在X轴和Y轴的值确定要从物体获得的图像的起始位置，在Z轴的值确定图像的焦距。这些值是均匀出现在传感器阵列的整个区域的测量量值，从而基于物体调节传感器阵列的位置和姿势以调节这些数值。

这样，用于排列检查薄膜图案的传感器阵列的现有方法和装置需要依照检查物体和检查物体所需的分辨率分别制造的校正图案膜20。对传感器阵列30的最佳排列而言，从光源32发射的光的分布应当被均匀地保持在从光源32的一端到它的另一端的截面中。然而，如图4A所示，在现有的检查显示器件的传感器阵列的排列装置中，从光源32的一端到另一端的照射在截面中的光不是均匀地分布的。除此之外，如图4B所示，在从光源32照射在光照射平面34上校正目标区域38的光的分布，很难在从校正目标区域的一端到其另一端的所有截面上被均匀地保持。当薄膜图案被制成大尺寸时，光分布和校正图案膜20的均匀度变得更糟，因为液晶显示板和等离子板是大尺寸的。

发明内容

因此，本发明的一个目的是提供一种用于排列传感器阵列的光源设备，其中用于检查薄膜图案的传感器阵列在没有依照检查物体的独立的校正图案膜的情况下被排列。

本发明的另一目的是提供一种用于对薄膜图案的传感器阵列的方法和装置，该方法和装置在没有依照检查物体的独立的校正图案膜的情况下能够排列传感器阵列。

本发明的一个方面的实施例涉及用于排列薄膜图案检查传感器阵列的光源设备。本发明的另一方面的实施例涉及用于排列薄膜图案传感器阵列的方法和装置。

为了实现本发明的这些和其它目的，根据本发明的一个方面的用于排列薄膜图案传感器阵列的光源设备包括用于发射光的光发射元件阵列；用于控制从光发射元件前进到传感器阵列的光束的宽度的光闸；以及安装成在光闸的上部分和光闸的表面的任一固定位置中可移动的校正图案滑板。

光发射元件阵列包括片型LED被串联排列的片型LED阵列。片型LED能够单独地调节发射光的数量。

光源设备还包括用于将从光发射元件阵列发射的光前进到光闸的聚焦部件。

聚焦部件包括具有半圆横截面的丙烯和光纤中的任何一个以覆盖光发射元件阵列的聚焦部件。

光源设备还包括用于使光的分布均匀的散射板。来自光发射元件阵列平行前进到光闸。

根据本发明的另一个方面的实施例的薄膜图案传感器阵列排列装置包括用于连续地感测每一谱线的薄膜图案的传感器阵列；以及安装在由传感器阵列感测的薄膜图案所在的区域中且发射调节传感器阵列的位置和姿势所需的光的自动光源设备。

根据本发明的再一个方面的实施例的排列薄膜图案传感器阵列的方法包括以下步骤：将自动光源设备安装在由传感器阵列感测的薄膜图案所在的区域中；根据来自传感器阵列的输出调节光闸的间隙和调节传感器阵列的旋转量；以及在移动校正图案滑板的时候根据来自传感器阵列的输出，调节传感器阵列在X、Y和Z轴上的位置。

根据用于排列如上所述配置的本发明的传感器阵列的光源装置，能够去除依照检查物体被分开使用的校正排列图案膜，并且在自动光源设备的谱线光发射区域的整个截面照射光的分布被均匀地维持。

除此以外，根据用于排列薄膜图案传感器阵列的方法和装置，自动光源设备位于光照射平面上的检查物体被照相的校正目标区域中，从而减小了排列设备的尺寸。

本发明的目标和其它目标将通过下面的详细描述变得显而易见。然而，即使以仅仅说明本发明的优选实施例或特定数量的例子的方式做出详细说明，对本领域的普通技术人员而言应当理解，在不背离本发明的精神的情况下根据详细的说明对本发明做出各种变化和修改是可能的。

附图说明

参照附图，根据下面对本发明的实施例的详细说明，本发明的这些和其它目的将会变得明显，其中：

图1是现有的印刷电路板检查设备中使用的传感器阵列排列图案膜；

图2是现有的显示器件检查设备中使用的传感器阵列排列校正图案膜；

图3是示出用于排列在显示器件检查设备中的传感器阵列的现有薄膜检查传感器阵列排列装置的示意图；

图4A是说明光源设备的发射光分布的示意图；

图4B是说明发射到目标校正谱线的光的分布的示意图；

图5是示出根据本发明实施例的光源设备的示意图；

图6是从光源设备的光发射平面发射的光的分布图；

图7是简要示出根据本发明实施例的显示器件检查传感器阵列排列装置的光学系统的示意图；

图8是用于驱动图7中示出的光源设备的驱动电路的方框图；以及

图9是逐步说明根据本发明实施例的显示器件检查传感器阵列的排列方法的流程图。

具体实施方式

图5是简要示出根据本发明实施例的用于排列薄膜图案传感器阵列的光源设备的示意图。该光源设备位于图3的现有传感器阵列排列设备的校正目标区域，即位于在检查薄膜图案时传感器阵列对薄膜图案照相的区域，以将光直接发射到传感器阵列，从而调节传感器阵列的位置和姿势。

根据本发明实施例的光源设备包括设置在聚焦部件中的片型LED阵列50；安装在聚焦部件52的平面中的散射板54；和以固定间距面对散射板54安装的缝型光闸56。片型LED阵列50、聚焦部件52、散射板54和缝型光闸56都具有与传感器阵列相同的长度。

片型LED阵列50包括以与传感器阵列中的CCD阵列相同的方式串联排列的多个片型LED。在片型LED阵列50中的每一片型LED被电气地控制以使其能够控制要被发射到传感器阵列的光的数量。片型LED各自被电气地控制，如图6所示，在片型LED阵列50的纵向的发射光的分布是均匀的。

聚焦部件52使来自片型LED阵列50的光以一个方向前进，即，到传感器阵列。为此，聚焦部件52由其横截面是半圆形的光纤或聚丙烯杆制成。聚丙烯杆或光纤将来自片型LED阵列50的光反射到平坦的孔径平面以使光仅向传感器阵列前进。

散射板54将从片型LED阵列50前进的光散射到传感器阵列，以使通过它自身的平面的光被均匀地分布成平面状。散射板54可以一定的间距面对聚焦部件52的平面安装。

在聚焦部件52的上面的部分，以固定的间距面向散射板54安装的缝型光闸56调节在纵向形成的缝隙的间隔，从而控制从散射板54前进到传感器阵列的线型光束的宽度。传感器阵列中的每一CCD对X轴、Y轴和Z轴的旋转通过由缝型光闸56形成的缝隙来做细微调节，并且调节传感器阵列中的透镜的位置，从而使传感器阵列的姿势得以校正。依照传感器阵列需要的姿势的精度调节由缝型光闸56形成的间隙的宽度。此外，为了提高光的效率，缝型光闸56被期望制成圆柱型以环绕聚焦部件52。

光源设备还包括校正图案滑板58。校正图案滑板58安装在缝型光闸56的上面的部分或表面以使其能被移动。校正图案滑板58通过电气控制在纵向也能被移动以使位置和姿势按顺序地且以固定数量的单元从CCD阵列的一侧端点的CCD到另一侧端点的CCD被校正，该位置和姿势与包括在传感器阵列中的CCD阵列的每一CCD的分辨率有关。使用校正图案滑板58，它的依照分辨率具有不同刻度距离的刻度在分开的区域中被标记，或可以用被另一图案部件代替的形式使用该滑板，该图案部件被印制成依照分辨率刻度距离是不同的多种刻度。

缝型光闸56和可移动的校正滑板58去除了由相关技术的传感器阵列排列设备依照分辨率和光学精度所分别要求的校正图案膜。此外，能够单独地控制照射光的数量的片型LED被串联地排列，从而，如图6所示，在从线性光源的一端到另一端的整个截面，发射光的分布变得均匀。

参照图7，根据本发明实施例的薄膜检查传感器阵列排列装置的光学系统包括位于检查物体的给进平面64的上部分的传感器阵列60；位于检查物体的给进平面64上的或其下部分的自动光源(self-light)设备62。传感器阵列60以固定的间距安装在照射基准面的右侧以使来自自动光源设备62的光倾斜地入射。照射基准面66位于自动光源设备62中以和检查物体的进给平面64形成直角。自动光源设备62位于相关的图3的传感器阵列排列设备中的校正目标区域，即，位于在检查薄膜图案时传感器阵列60对薄膜照相的区域。

传感器阵列60包括多个CCD以串联排列的CCD阵列60A；位于CCD阵列60A的下部分的透镜60B。CCD阵列60A是长的，例如，长度为1500mm或更长，适合于对每条谱线的大屏幕的薄膜图案连续地照相。包括在CCD阵列60A中的每一CCD相结合以极小地向前、向后、向左和向右以及向上和向下移动，以使其能够为自动光学设备62调节相对位置和姿势。

透镜60B安装在CCD阵列60A的下部分，以使其能够在CCD阵列60A和自动光源62之间移动，使得来自自动光源62的光被聚焦到CCD阵列60A的每一CCD。为此，透镜60B被制成与CCD阵列60A具有相同的长度。

CCD阵列60A和透镜60B之间的距离通过透镜60B的移动来调节，从而粗略地控制CCD阵列60A中的每一CCD的焦距。随后，对自动光源设备62的每一CCD的姿势和位置，通过CCD阵列60A中的每一CCD向前、向后、向右、向左、向上和向下的微小运动做出细微地调节，因此在对检查物体照相时，被照相的像素区域和排列被调节。

自动光源设备62被制成具有与传感器阵列60相同的长度，即，和CCD阵列60A及透镜60B具有相同的长度，以使在调节传感器阵列60的位置和姿势时，照射到传感器阵列60的光是均匀的。此外，自动光源设备62能够调节传感器阵列60的照相分辨率和像素区域以及它的排列。

参照图8，驱动薄膜图案传感器阵列排列装置的光学系统的驱动电路包括被公共连接到处理器70的光量测量部分72、光量控制部分74和位置控制部分76。

光量测量部分72从来自传感器阵列60中的CCD阵列60A的光检测信号计算光量以供给处理器70。此时，光量测量部分72在处理器70的控制下顺序地计算由包括在CCD阵列60A中的所有CCD照相的光量，以将计算值顺序地供给处理器70，或者，光量测量部分72计算由在被划分为每一固定部分之后的指定部分中的CCD照相的光量，使得将计算值供给处理器70。为了计算由处理器70指定的CCD的光量，光量测量部分72接收来自处理器70的CCD地址，其中CCD地址指示CCD阵列60A中的每一CCD。

光量控制部分74在处理器70的控制下，电气地调节由处理器70指定的片型LED阵列50的每一片型LED的发射光量。为此，光量控制部分74从处理器70接收指示片型LED阵列60中的片型LED的光量控制值和LED地址。

位置控制部分76在处理器70的控制下，细微地调节X、Y和Z轴上CCD阵列60A中的每一CCD的位置和在每一轴上的旋转量，并且它调节透镜60B的位置。位置控制部分76能够仅接收指示CCD阵列60A、透镜60B和片型LED阵列50的模式地址，或它能够接收指示CCD阵列60A中的每一CCD的CCD地址或指示片型LED阵列50中的每一片型LED的LED地址。除此以外，该位置控制部分76从处理器70接收在X.Y和Z轴上的每一CCD的位置的控制值、每一轴上的旋转量及透镜60B的位置的控制值。

处理器70输入从光量测量部分72入射到CCD阵列60A中的每一CCD的光量的值，并根据它的光量值通过光量控制部分74调节LED片型阵列50中的每一片型LED的发射光量，从而使在从自动光源设备的一端到另一端的整个截面中发射光的分布变得均匀。此外，处理器70输入从光量测量部分71入射到CCD阵列60A中的每一CCD的光量的值，从而根据该光量值通过位置控制部分76调节透镜60B的位置和X、Y和Z轴上CCD阵列60A中的每一CCD的位置，以及在每一轴上的旋转姿势。对这样的控制，处理器70根据图9的流程图示出的顺序执行操作。

图9是说明根据本发明的实施例的薄膜图案检查传感器阵列排列方法的流程图。

根据图9，如图5中示出的光源设备，更具体地说，自动光源设备62安装在由操作者用传感器阵列60对薄膜图案照相的位置，即，校正目标区域。(步骤80)已安装的自动光源设备62使它的姿势被调节以使能够沿着照射基准面68照射光。(步骤82)排列操作者在自动光源设备62的发射方向安装激光光源以驱动激光光源。(步骤84)随后，排列操作者通过使用左右调节杆调节自动光源设备62的水平，直到激光束发射到自动光源设备62的光发射区域。(步骤86)通过传感器阵列这样的调节和监控被一起进行。这样，如果激光束发射到自动光源设备62的光发射区域，排列操作者旋转自动光源设备62以使自动光源设备62的光发射方向与传感器阵列60的中心的光发射方向一致。(步骤88)

在步骤88之后的步骤90到120通过处理器70被自动地执行。处理器70通过光量控制部分74驱动自动光源设备62中的片型LED阵列50以使光发射到传感器阵列60。(步骤90)处理器70输入来自光量测量部分72由传感器阵列60照相的光量和根据输入的光量通过位置控制部分76的传感器阵列60的旋转RθΦ，从而传感器阵列60和自动光源设备62的大致位置、传感器阵列60中透镜60B的位置、传感器阵列60A中的每一CCD在X、Y和Z轴上的位置和每一轴上的旋转姿势被调节。(步骤92)在调节步骤中，处理器70将它的调节结果值显示给监视器(未示出)。显示在监视器上的值以图表和数字值显示，并且是以相等的距离打印的图案之间的距离值。如果不是水平值而是倾斜值显示在图表上，通过位置控制部分76调节传感器阵列60的位置和姿势直到水平值被计算。在被这样调节之后，用于相同图案的亮度值图表显示在监视器上，并且该亮度值也应当具有包括在固定范围中的水平值。

随后，校正图案部分58被排列操作者安装在自动光源设备62中(步骤94)，处理器70通过光量控制部分74再一次驱动自动光源设备62中的片型LED阵列50，以使光发射到传感器阵列60。(步骤96)当排列操作者将安装在自动光源设备62中的校正图案部分58从自动光源设备62的一端移动到另一端，处理器70输入来自光量测量部分72由传感器阵列照相的光量，从而根据通过位置控制部分76输入的光量，调节与CCD阵列60A中的每一CCD在X、Y和Z轴上的分辨率和位置有关的传感器阵列60中的透镜60B的位置。(步骤98)。

接下来，处理器70计算用于CCD阵列60A中的每一CCD、传感器阵列60中的透镜60B和自动光源设备60的变形的校正数据(步骤100)，该计算出的校正数据被反映在用于检查薄膜图案的图案检查程序中。(步骤102)

通过这样的排列顺序，将光学系统调节成具有固定的分辨率以及正确地执行传感器阵列60的自动光源设备62的光发射。在设置光学系统中，千分尺被安装在调节部分中以使能微调。

另一方面，缝隙型光闸56在受控的第一个地方被充分地打开使光以较低的强度照射到宽阔的表面，从而在传感器阵列和自动光源设备62之间设置大致标准的位置。随后，缝隙型光闸56被逐渐地关闭以使光以逐渐变高的强度发射到变得更窄的区域，从而增加每一CCD在CCD阵列60A中和透镜60B在传感器阵列中的排列程度。

如上所述，通过使用缝隙型光闸和可移动校正图案滑板，根据本发明的实施例的薄膜图案传感器阵列排列能够去除(或防止)使用在排列传感器阵列时依照检查物体应当独立使用的校正图案膜。此外，根据本发明的实施例的薄膜图案传感器阵列排列光源设备通过使用片型LED局部地控制发射在谱线光发射区域中的光量，从而均匀地维持在光源设备的谱线光发射区域的整个截面中的发射光分布。

通过使用具有缝隙型光闸和可移动校正图案滑板的光源设备，根据本发明实施例的用于排列薄膜图案传感器阵列的方法和装置能够去除(或防止)使用在排列传感器阵列时依照检查物体应当独立使用的校正图案膜。此外，根据本发明的实施例的薄膜图案传感器阵列排列光源设备通过使用具有片型LED的光源设备，局部地控制发射在谱线光发射区域中的光量，从而均匀地维持在光源设备的谱线光发射区域的整个截面中的发射光分布。此外，光源设备位于光照射平面上的对检查物体照相的校正目标区域，从而减小尺寸。

虽然通过在上述附图中示出的实施例说明了本发明，对本领域的普通技术人员它应当被理解成本发明不局限于这些实施例，而在不背离本发明的精神下有可能对本发明做出各种变化和修改。因此，本发明的范围应当仅仅通过附加的权利要求及其等效物来确定。

Claims (16)

1、一种用于排列薄膜图案传感器阵列的光源设备，包括：

用于发射光的光发射元件阵列；

用于控制从光发射元件前进到传感器阵列的光束的宽度的光闸；以及

安装成在光闸的上部分和光闸的表面的任一固定位置可移动的校正图案滑板。

2、如权利要求1所述的用于排列薄膜图案传感器阵列的光源设备，其特征在于，还包括：

用于将从所述光发射元件阵列发射的光前进到所述光闸的聚焦部件。

3、如权利要求2所述的用于排列薄膜图案传感器阵列的光源设备，其特征在于，所述聚焦部件包括具有半圆横截面的丙烯和光纤中的任何一个以覆盖线性光发射器件。

4、如权利要求2所述的用于排列薄膜图案传感器阵列的光源设备，其特征在于，还包括：

使光的分布均匀的散射板，其中所述光从所述光发射元件阵列前进到所述所述光闸。

5、如权利要求2所述的用于排列薄膜图案传感器阵列的光源设备，其特征在于，所述光发射元件阵列包括：

片型LED被串联排列的片型LED阵列，其中所述片型LED能够单独地调节发射光量。

6、如权利要求1所述的用于排列薄膜图案传感器阵列的光源设备，其特征在于，还包括：

使光的分布均匀的散射板，其中所述光从所述光发射元件阵列前进到所述所述光闸。

7、如权利要求1所述的用于排列薄膜图案传感器阵列的光源设备，其特征在于，还包括：

片型LED被串联排列的片型LED阵列，其中所述片型LED能够单独地调节发射光量。

8、一种薄膜图案传感器阵列排列装置，包括：

用于连续地感测每条谱线的薄膜图案的传感器阵列；以及

安装在由传感器阵列感测的薄膜图案所在的区域中和发射调节所述传感器阵列的位置和姿势所需的光的自动光源设备。

9、如权利要求8所述的薄膜图案传感器阵列排列设备，其特征在于，所述自动光源设备包括：

用于把光发射到所述传感器阵列的光发射元件阵列；

用于控制从所述光发射元件前进到所述传感器阵列的光束的宽度的光闸；以及

安装成在所述光闸的上部分和所述光闸的表面的任一固定位置可移动的校正图案滑板。

10、如权利要求9所述的薄膜图案传感器阵列排列设备，其特征在于，还包括：

用于使所述光发射元件阵列发射的光前进到所述光闸的聚焦部件。

11、如权利要求10所述的薄膜图案传感器阵列排列设备，其特征在于，所述聚焦部件包括具有半圆横截面的丙烯和光纤中的任意一个，以覆盖所述光发射元件阵列。

12、如权利要求10所述的薄膜传感器阵列排列设备，其特征在于，还包括：

用于使光的分布均匀的散射板，其中来自所述光发射元件阵列的光前进到所述光闸。

13、如权利要求10所述的薄膜传感器阵列排列设备，其特征在于，所述光发射元件阵列包括：

片型LED被串联排列的片型LED阵列，其中所述片型LED能够单独地调节发射的光量。

14、如权利要求9所述的薄膜传感器阵列排列设备，其特征在于，还包括：

用于使光的分布均匀的散射板，其中来自所述光发射元件阵列的光前进到所述光闸。

15、如权利要求9所述的薄膜传感器阵列排列设备，其特征在于，所述光发射元件阵列包括：

片型LED被串联排列的片型LED阵列，其中所述片型LED能够单独地调节发射的光量。

16、一种通过使用传感器阵列，以及具有用于控制从光发射元件阵列前进到传感器阵列的光束宽度的自动光源设备和安装成在光闸上可以移动的校正图案滑板，用于连续地感测每一谱线的薄膜图案的排列薄膜图案传感器阵列的方法，包括以下步骤：

将所述自动光源设备安装在由所述传感器阵列感测的所述薄膜图案所在的区域中；

根据来自所述传感器阵列的输出调节所述光闸的间隙和调节所述传感器阵列的旋转量；以及

在移动所述校正图案滑板的时候根据来自所述传感器阵列的输出调节所述传感器阵列在X、Y和Z轴上的位置。

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