CN1727423A - 纳米二氧化硅改性树脂粘结剂及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种纳米二氧化硅改性树脂粘结剂,主要用于磨具砂布的生产。由纳米二氧化硅5-10份、苯酚50-60份、甲醛25-30份、氧化铝0.5-1份经分散、合成、脱水制得。具有粘结强度高,耐高温、耐磨、耐水性能好的特点。
Description
技术领域
本发明属于一种粘结剂,特别涉及一种磨具砂布生产中使用的粘结剂及制备方法。
背景技术
目前市场上使用的涂附磨具,在生产中使用的胶均为酚醛树脂粘结剂,其缺点是生产出的磨具砂布不耐高温、抗冲击强度低、磨削强度低、不能满足磨削生产的技术要求。
发明内容
本发明的目的是提供一种纳米二氧化硅改性树脂粘结剂及其制造方法;使生产出的砂布具有耐高温,抗冲击强度高,磨削性能好。
实现本发明所采用的技术方案是:一种纳米二氧化硅改性树脂粘结剂,其特征是:由纳米二氧化硅、苯酚、甲醛、氧化铝经分散、合成、脱水制成,各原料的用量重量份为:
纳米二氧化硅 5-10份
苯酚 50-60份
甲醛 25-30份
氧化铝 0.5-1份
其中氧化铝为催化剂,也可以同类催化剂替代。
所述的粘结剂的方法,其特征是按如下步骤制备:
(1)按比例称取原料纳米二氧化硅、苯酚、甲醛、氧化铝;
(2)分散:将四种原料混合,边搅拌边加温至45-55℃;
(3)合成:将步骤(2)所得料冷却至40-45℃即完成合成;
(4)脱水后得成品纳米二氧化硅改性粘结剂。
本发明制备的粘结剂,经在生产中应用,生产出的砂布具有如下优点:
1)强度高,其拉伸强度与水溶性酚醛树脂砂布相比提高20%-40%。
2)韧性优良,其冲击强度提高1.5倍以上。
3)具有优良的耐热性,长期使用温度达285℃,短期使用温度可达400℃。
4)具有优良的耐水性能和耐化学溶剂性能。
5)耐磨性较强,由于纳米颗粒比一般晶粒小100-1000倍,将其添加进去使材料的光洁度大大改善,磨擦系数变小,本身强度又高,促使耐磨性大大增强。
6)生产工艺性能稳定,耐老化性能好,使用寿命长。因本产品通过对纳米适当配比可大量吸收紫外线,改变酚醛树脂的微观结构,从而达到延缓材料老化的目的。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明进一步详述。
实施例1:
纳米二氧化硅 5份
苯酚 55份
甲醛 25份
氧化铝 0.5份
制备方法:在釜内原料混合分散(45-55℃)→冷却合成(40-45℃)→将釜内采取抽真空的方法水得成品。
实施例1:
纳米二氧化硅 10份
苯酚 60份
甲醛 30份
氧化铝 1份
制备方法:在釜内原料混合分散(45-55℃)→冷却合成(40-45℃)→将釜内采取抽真空的方法脱水得成品。
试验例:
将实施例1和实施例2所得粘结剂用于砂布生产,生产工艺为:印刷→涂底胶→高压静电植砂→干燥→复胶→干燥→收卷→固化→时效处理→柔曲→分卷。同时用国产2123号胶,英国海沃斯公司生产的胶用同样的生产工艺作对比试验,结果见下表:
本发明与国内外同类产品经固化后性能指标比较
项目 | 国产(2123)# | 英国海沃斯公司产品 | 本发明产品 |
粘结强度(Mpa) | 20-22 | 22-26 | 28-30 |
冲击强度(J/M) | 5.2-7.6 | 6.7-8.5 | 8-9.8 |
使用耐热温度(℃) | 250 | 258 | 285-400 |
Claims (2)
1、一种纳米二氧化硅改性树脂粘结剂,其特征是:由纳米二氧化硅、苯酚、甲醛、氧化铝经分散、合成、脱水制成,各原料的用量重量份为:
纳米二氧化硅 5-10份
苯酚 50-60份
甲醛 25-30份
氧化铝 0.5-1份。
2、一种制备权利要求1中所述的粘结剂的方法,其特征是按如下步骤制备:
(1)按比例称取原料纳米二氧化硅、苯酚、甲醛、氧化铝;
(2)分散:将四种原料混合,边搅拌边加温至45-55℃;
(3)合成:将步骤(2)所得料冷却至40-45℃即完成合成;
(4)脱水后得成品纳米二氧化硅改性粘结剂。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US8940063B2 (en) | 2009-12-29 | 2015-01-27 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Coated abrasive backings with cloth treated with colloidal silicon oxide |
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2005
- 2005-07-28 CN CN 200510041295 patent/CN1727423A/zh active Pending
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PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |