CN1726537A - 光学记录介质以及光学记录介质的记录/读取方法和装置 - Google Patents

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Abstract

在具有多个记录层的单面入射型光学记录介质中,可以根据各个记录层即时地切换记录/读取条件,例如循轨极性、记录脉冲策略、记录推荐功率等,并且可以在适合于各个记录层的记录/读取条件下准确可靠地进行对信息的记录或读取。控制单元从光学记录介质的一个记录层读出层信息,在所述光学记录介质中在多个记录层的每一个中记录有层信息,在所述多个记录层上可以通过从其一侧照射激光束来进行对信息的记录或读取(层信息读取步骤),并进行控制以使得在适合于根据层信息指定的记录层的记录/读取条件下进行记录或读取(记录控制步骤)。

Description

光学记录介质以及光学记录介质的记录/读取方法和装置
技术领域
本发明涉及一种具有多个记录层的可以通过从其一侧照射激光束在其上进行对信息的记录和读取的光学记录介质(例如DVD-R等),以及用于该光学记录介质的记录/读取方法和记录/读取装置。
背景技术
作为诸如计算机的信息处理装置的外部存储设备,诸如CD-R、CD-RW、MO等的各种光学记录介质得到广泛认识和普及,因为它们可以存储大量信息并可以被容易地随机访问。随着处理的信息量的增加,需要提高记录密度。
在各种光学记录介质中,具有含有机染料的记录层(也称为含染料的记录层)的光学记录介质(光盘)(例如CD-R、DVD-R、DVD+R等)尤其得到了广泛使用,因为它们相对较便宜并与只读光盘兼容。
代表具有含染料的记录层的光盘的诸如CD-R的介质例如为层叠结构,该层叠结构在透明的盘基片上依次具有含染料的记录层和反射层,以及覆盖含染料的层和反射层的保护层。利用激光束透过基片来进行记录和读取。
同样作为代表的DVD-R具有层叠结构,其中在第一透明盘基片上按顺序形成有含染料的记录层、反射层以及覆盖它们的保护层,并在保护层上通过或不通过粘合层形成有作为第二盘基片的所谓的哑盘(其可以为透明或不透明)以及形成在该第二盘基片上的反射层。利用来自盘的一侧透过第一透明盘基片的激光束进行记录和读取。该哑盘可以仅为透明或不透明的盘基片,或者可以设置有不同于反射层的层。同时,DVD+R具有与DVD-R几乎相同的结构,下面以DVD-R来代表对其的说明。
为了大幅提高光学记录介质的记录容量,将如上的两个单面DVD-R贴合在一起以形成具有两个记录层的介质,其公知为双面DVD-R(双面、双层DVD-R)。通过将激光束从两侧照射到各个记录层上来进行记录和读取(即,从介质的一侧照射激光束以在较靠近该侧的记录层上进行记录和读取,同时从介质的另一侧照射激光束以在较靠近所述另一侧的另一记录层上进行记录和读取)。
除此之外,诸如CD-RW、DVD-RW等的具有相变记录层的光学记录介质(光盘)也是广为人知的。具有相变记录层的可重写光学记录介质通常在记录层之上和之下具有保护层。
对于具有多个记录层的光学记录介质,近年来,需要如下的单面入射型光学记录介质(例如,单面入射型DVD-R):在该介质上,可以通过从一侧照射激光束来在多个记录层上进行记录和读取,以避免记录/读取装置的大小和复杂性的增加,并使得能够从该多个记录层连续进行读取。
为了满足以上需求,例如提出了一种具有两个记录层的双层型单面入射型DVD-R,作为具有以下结构的单面入射型光学记录介质(例如,参见日本未审专利公报No.HEI 11-66622)。
例如,通过在第一透光基片上按顺序层叠如下多层来形成双层型单面入射型DVD-R:由有机染料制成的第一记录层,可以通过照射记录激光束来在其上对信息进行光学记录;由半透光反射膜制成的第一反射层,其可以透过读取激光束的一部分;中间层,其可以透过记录激光束和读取激光束;由有机染料制成的第二记录层,可以通过照射记录激光束来在其上对信息进行光学记录;第二反射层,反射读取激光束;以及第二透光基片。
在诸如双层单面入射型DVD-R等的具有多个记录层的单面入射型光学记录介质中,最佳记录/读取条件(例如记录脉冲策略(记录策略、写入策略)、记录功率、读取功率等)取决于各个记录层而显著不同。
为此,希望在具有多个记录层的单面入射型光学记录介质的各个记录层上进行对信息的记录或读取的记录/读取装置例如可以切换诸如记录脉冲策略、记录功率、读取功率等的记录/读取条件,由此准确可靠地进行对信息的记录或读取。
具体地,为了使记录/读取装置可以对光学记录介质的各个记录层进行随机访问以记录或读取信息,必须根据记录层即时地切换记录/读取条件。
例如存在这样的方法:对多个记录层连续提供地址信息,记录/读取装置根据所读取的地址信息来确定相关层是哪个记录层。然而,这种方法在即时地分辨相关记录层是哪个记录层方面仍然具有困难。
发明内容
考虑到以上问题,本发明的目的是提供一种光学记录介质、用于该光学记录介质的记录/读取方法、以及用于该光学记录介质的记录/读取装置,其中,可以根据光学记录介质中的要在其上记录信息或要从其读取信息的记录层来即时地切换诸如记录脉冲策略、记录功率、读取功率等的记录/读取条件,在所述光学记录介质中通过从其一侧照射激光束来在多个记录层上进行对信息的记录或读取。
本发明的另一目的是在适合于光学记录介质中的要在其上记录信息或要从其读取信息的记录层的记录/读取条件(例如,循轨极性(trackingpo1arity)、记录脉冲策略、记录功率、读取功率等)下准确可靠地记录或读取信息,在所述光学记录介质中通过从其一侧照射激光束来在多个记录层上进行对信息的记录或读取。
根据本发明的用于光学记录介质的记录/读取方法包括以下步骤:层信息读取步骤,通过控制单元从光学记录介质的一个记录层读取层信息,在所述光学记录介质中,在可以通过从其一侧照射激光束来向其上记录信息或从其中读取信息的多个记录层中的每一个上都记录有所述层信息;以及记录控制步骤,通过控制单元进行控制,以使得在适合于根据层信息指定的记录层的记录/读取条件下进行记录或读取。
优选地,该方法还包括记录/读取条件读取步骤,通过控制单元读取记录在光盘记录介质中的对于各个记录层的记录/读取条件。
根据本发明的用于光学记录介质的记录/读取装置包括:层信息读取单元,用于从光学记录介质的一个记录层读取层信息,其中,在可以通过从其一侧照射激光束来向其上记录信息或从其中读取信息的多个记录层中的每一个上都记录有所述层信息;以及记录/读取控制单元,用于进行控制以使得在适合于根据层信息指定的记录层的记录/读取条件下进行记录或读取。
优选地,所述记录/读取装置还包括记录/读取条件读取单元,用于读取记录在光学记录介质中的对于各个记录层的记录/读取条件。
根据本发明的以根据权利要求1所述的用于光学记录介质的记录/读取方法在其上进行记录或读取的光学记录介质包括多个记录层,可以通过从其一侧照射激光束在所述多个记录层上记录信息或者从其读取信息,在各个记录层上都记录有层信息。
优选地,层信息记录在各个记录层的几乎整个表面上。具体地,优选地层信息被记录为地址信息的一部分。
优选地,通过使记录层的地址信息中包括的保留位的值互不相同来记录层信息。
此外,优选地,通过使多个记录层中的相邻两个记录层中的任一个的地址信息中包括的同步图案反转来记录层信息。
此外,优选地,通过如下方式中的任一种来记录层信息:对多个记录层中的两个相邻记录层中的任一个的地址信息的最高有效位进行反转、对一个记录层的整个地址信息的所有位进行反转,以及通过二的补码(complement)来表示一个记录层的整个地址信息。
优选地,光学记录介质具有两个记录层作为所述多个记录层。
此外,优选地,对各个记录层的记录/读取条件中的至少一个进行记录。
记录/读取条件包括循轨信息。
优选地,记录/读取条件包括记录脉冲策略和/或记录推荐功率。
此外,优选地,记录/读取条件记录在多个记录层中最接近激光束入射侧的层上。
优选地,各个记录层是含染料的记录层。
根据本发明的光学记录介质、用于该光学记录介质的记录/读取方法、以及用于该光学记录介质的记录/读取装置提供了如下优点:可以根据要在其上记录信息或从其中读取信息的记录层来即时地切换记录/读取条件,如记录脉冲策略、记录功率、读取功率等。
本发明提供的另一优点是:可以在适合于要在其上记录信息或要从中读取信息的记录层的记录/读取条件(例如,循轨极性、记录脉冲策略、记录功率、读取功率等)下准确可靠地进行对信息的记录或读取。
附图说明
图1是代表性地示出了根据本发明实施例的光学记录介质(类型1)的整体结构的图;
图2是代表性地示出了根据本发明实施例的光学记录介质(类型2)的整体结构的图;
图3是代表性地示出了根据本发明实施例的光学记录介质的记录/读取装置的整体结构的图;
图4是表示根据本发明实施例的光学记录介质的记录/读取装置的控制单元执行的处理的流程图;
图5是表示根据本发明实施例的光学记录介质的记录/读取装置的控制单元执行的记录处理的流程图;以及
图6是表示根据本发明实施例的光学记录介质的记录/读取装置的控制单元执行的读取处理的流程图。
具体实施方式
下面参照图1至图6对根据本发明实施例的光学记录介质(一次写入(write-once)型光学记录介质)、用于该光学记录介质的记录/读取方法和记录/读取装置进行说明。
根据本实施例的光学记录介质是具有多个记录层的单面入射型光学记录介质,可以通过从其一侧照射光(激光束)来进行对信息的记录或读取。
在本实施例中,将以例如具有两个记录层的单面入射型的双层DVD-R(一次写入型光学记录介质)作为单面入射型光学记录介质的示例(单面入射型DVD-R)来进行说明。
(1)光学记录介质的结构
首先,作为根据本实施例的光学记录介质,对具有不同层叠结构的两种类型的光学记录介质(光盘)进行说明。
(A)类型1
图1是代表性地示出了根据本实施例的光学记录介质(类型1;层叠型的单面入射型光学记录介质)的剖视图。
根据本实施例的类型1的光学记录介质在盘状透明(可透光)的第一基片(第一基片,第一可透光基片)1上按顺序具有:含染料的第一记录层(第一记录层,第一含染料的记录层)2、半透明的第一反射层(下文中称为半透明反射层)3、中间树脂层(中间层)4、含染料的第二记录层(第二记录层,第二含染料的记录层)5、第二反射层6、粘合层7、以及第二基片(第二基片)8。从第一基片1侧照射光束(激光束)以进行记录或读取。
在本实施例中,“透明(可透光)”表示“对于用于在光学记录介质上进行记录或从光学记录介质进行读取的光束为透明(可透光)”。透明(可透光)层包括或多或少地吸收用于进行记录或读取的光束的层。例如,当该层对于用于进行记录或读取的光束的波长的透光率不小于50%(优选地不小于60%)时,认为该层实际上可透光(透明)。
在透明的第一基片1和中间树脂层4上形成有凹部和凸部(岸(land)和沟(groove))。利用凹部和/或凸部形成记录轨道。这里,透明第一基片1上的记录轨道11由第一基片1的沟部,即相对于入射光的方向的凸部形成。中间树脂层4上的记录轨道12由中间树脂层4的沟部,即相对于入射光的方向的凸部形成。此外,记录轨道11和12可以由相对于入射光的方向的凹部形成,或者可以由相对于入射光的方向的凹部和凸部这二者形成。通常,优选地,记录轨道由相对于入射光的方向的凸部形成。在本发明中,除非特别说明,否则凹部和凸部是相对于用于进行记录或读取的入射光的方向而定义的。
这些记录轨道11和12被构成为以预定幅度和频率沿半径方向略微蛇形(这称为“摆动(wobble)”)。例如,在接近轨道11或轨道12的岸上按照特定规则形成多个孤立的坑(地址坑)(这称为“岸预制坑(LandPre-Pit)”;LPP)。利用岸预制坑来预先记录地址信息。可以对其它信息形成预制坑。也可以反转摆动方向或对频率进行调制,由此记录该信息。
接下来,将对各层进行说明。
(a)对于第一基片1
希望第一基片1具有优异的光学特性,即,第一基片1是透明的、具有小的双折射率等。还希望第一基片1具有优异的成型性质,即,可以以注射成型法容易地形成第一基片1。当第一基片1具有小的吸湿性时,这种性质是所希望的,因为可以减少基片的弯曲(倾斜),并且可以实现良好的机械特性。
此外,希望第一基片1具有形状稳定性,以使得光学记录介质具有一定程度的刚性。当第二基片8具有足够的形状稳定性时,不需要第一基片1具有大的形状稳定性。
作为这种材料,可以使用树脂(例如丙烯酸树脂、异丁烯酸树脂、聚碳酸酯树脂、聚烯烃树脂(具体地,非晶聚烯烃)、聚酯树脂、聚苯乙烯树脂、环氧树脂等)和玻璃。第一基片1可以包括多层。可以在由玻璃、树脂等制成的基片上设置由诸如UV硬化树脂等的放射线硬化树脂制成的树脂层。此外,“放射线”是光线(紫外线、可见光、红外线等)、电子束等的总称。
同时,从光学性质、诸如成型性等的高生产率、成本、低吸湿性、形状稳定性等角度来看,聚碳酸酯为优选。从耐化学品性、低吸湿性等角度来看,非晶聚烯烃为优选。从高速响应性等角度来看,玻璃基片为优选。
第一基片1优选地是薄的。第一基片1的厚度优选地为2mm或更小,更优选为1mm或更小。物镜与记录层之间的距离越小并且基片越薄,彗形像差(coma aberration)就越小,这有利于提高记录密度。为了获得充分的光学性质、吸湿性、成型性质和形状稳定性,需要一定的厚度。因此,优选地,第一基片1的厚度通常为10μm或更大,更优选地为30μm或更大。
为了在该光学记录介质的第一记录层2和第二记录层5上均良好地进行记录和读取,希望适当地调整物镜与这两个记录层之间的距离。例如,优选地,将物镜的焦点设置在两个记录层之间的大致中间点处,因为使得对两层的访问变得容易。
更具体地,在DVD-ROM和DVD-R系统中,当基片的厚度为0.6mm时将物镜与记录层之间的距离调节为最合适。
当该层结构与DVD-ROM兼容时,最为优选地,第一基片1的厚度为从0.6mm中减去中间树脂层4的膜厚度的一半而得到的。如果这样,则两层之间的大致中间点为大约0.6mm,由此可以在两个记录层上容易地进行聚焦伺服控制。
当在第二记录层5与第一反射层3之间存在诸如缓冲层、保护层等的其它层时,最优选地,第一基片1的厚度为从0.6mm中减去该层和中间树脂层4的厚度之和的一半而得到的。
在第一基片1上螺旋状地或者同心状地形成有凹部和凸部以形成沟和岸。通常,以这些沟和岸作为记录轨道,将信息记录在第一记录层2上并从第一记录层2中读取信息。在所谓的DVD-R盘(在其上通过用数值孔径为0.6到0.65的物镜对波长为650nm的激光束进行聚光来进行记录和读取)的情况下,通常通过旋涂来形成第一记录层2,从而第一记录层2的膜在沟部厚,这适于记录和读取。
在该光学记录介质中,优选地,第一基片1的沟部(即,相对于入射光束的方向的凸部)用作记录轨道11。这里,凹部和凸部是相对于入射光束的方向凹进和凸出的部分。通常,沟的宽度为大约50到500nm,沟的深度为大约10到250nm。当记录轨道为螺旋形时,轨道间距优选地为大约0.1至2.0μm。第一基片1可以根据需要具有凹坑或凸坑,如岸预制坑等。
从成本的角度看,优选地,在注射成型过程中,由具有凹部和凸部的压模(stamper)来制造具有这种凹部和凸部的基片。当在由玻璃等制成的基片上形成由诸如UV硬化树脂等的放射线硬化树脂制成的树脂层时,可以在该树脂层上形成诸如记录轨道等的凹部或凸部。
(b)对于第一记录层2
通常,第一记录层2的敏感度几乎与单面记录介质(“单面”例如表示CD-R、DVD-R、DVD+R等)中使用的记录层的敏感度相等。
为了实现良好的记录/读取性能,优选地第一记录层2含有具有高折射率的低发热染料。
此外,优选地,第一记录层2和第一反射层3的组合在光的反射、透射和吸收的适当范围之内,由此,提高了记录敏感度并降低了记录期间的热干扰。
作为这种有机染料材料,存在大环氮杂轮烯类染料(酞菁染料、萘酞菁染料、卟啉染料等)、吡咯亚甲基类染料、多次甲基类染料(菁染料、部花青染料、斯夸鎓(squalirium)染料等)、花醌(anthoraquinone)类染料、薁鎓(azulenium)类染料、金属络合物偶氮类染料、金属络合物靛苯胺类染料等。
在上述各种有机染料中,优选金属络合物偶氮类染料,因为它们具有优异的记录敏感性、耐久性和耐光性。具体来说,优选如下通式(I)或(II)所代表的化合物:
(其中,A1环和A2环是含氮芳香杂环,其各自可以独立地具有取代基;B1环和B2环是芳香环,其各自可以独立地具有取代基;X是1至6个碳被至少两个氟原子取代的烷基)。
用于这种光学记录介质的记录层中的有机染料优选为在大约350至900nm的可见光到近红外线的范围内具有最大吸收波长λmax并且适合用蓝色到近微波的激光进行记录的染料化合物。更为优选的是适合用以下激光进行记录的染料:通常用于CD-R的波长为约770至830nm(典型为780nm、830nm等)的近红外激光,用于DVD-R的波长为约620至690nm的红色激光(典型为635nm、650nm、680nm等);或波长为410或515nm的所谓蓝色激光。
可以用一种染料,或者混合两种或更多种相同或不同种类的染料并使用它们。此外,可以联合使用适合用多种波长的记录光束进行记录的染料,以实现可用多波段的激光束进行记录的光学记录介质。
记录层可以含有过渡金属螯合物(例如,乙酰丙酮螯合物、联苯基二硫醇(bisphenyldithiol)、水杨醛肟、双二硫代-α-二酮等)作为单态氧(singlet oxygen)淬灭剂以使记录层稳定或改进耐光性,或者含有记录增敏剂(例如金属系化合物等)以改进记录敏感度。在此,所述金属系化合物是化合物中含有原子、离子或团簇等形式的诸如过渡金属等的金属。作为这种金属系化合物,例如存在有机金属化合物,如乙二胺络合物、偶氮次甲基络合物、苯基羟胺络合物、菲咯啉络合物、二羟基偶氮苯络合物、二肟络合物、亚硝基氨基酚络合物、吡啶基三嗪络合物、乙酰丙酮络合物、金属茂络合物、卟啉络合物等。对于金属原子没有限制,但是优选为过渡金属。
此外,还可以一起使用粘合剂、均化剂(leveling agent)和消泡剂等,以根据需要制成该光学记录介质的记录层。作为优选的粘合剂,存在聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、硝化纤维素、醋酸纤维素、酮树脂、丙烯酸树脂、聚苯乙烯树脂、聚氨酯树脂、聚乙烯醇缩丁醛、聚碳酸酯、聚烯烃等。
记录层的膜厚度没有具体限制,因为合适的膜厚度根据记录方法等的不同而不同。然而,为得到足够的调制幅度,通常,膜厚度优选为5nm或更大,更优选为10nm或更大,特别优选为20nm或更大。然而,为了在该光学记录介质中适当地透光,要求记录层不能过厚。因此,记录层的膜厚度通常为3μm或更小,优选为1μm或更小,更优选为200nm或更小。记录层的膜厚度从沟部到岸部不同。在这种光学记录介质中,记录层的膜厚度为基片的沟部处的厚度。
作为制造记录层的方法,可以应用通常进行的薄膜淀积,例如真空蒸发(vacuum evaporation)、溅射法、刮刀法、浇注(cast)法、旋涂、浸渍法等。从生产率和成本的角度来看,旋涂法为优选。真空蒸镀法比涂布法更为优选,因为其可以产生膜厚度均匀的记录层。
在记录层是通过被旋涂而制成的情况下,旋转速度优选为10至15000rmp。在旋涂之后,可以进行退火或施加溶剂蒸汽的处理。
对于用涂布法(例如刮刀法、浇注法、旋涂法、浸渍法等)形成记录层时所使用的涂布溶剂,对该溶剂的类型没有限制,因此,可以使用任何溶剂只要它不侵蚀基片。例如有:酮醇类溶剂,如二丙酮醇、3-羟基-3-甲基-2-丁酮等;溶纤剂类溶剂,例如甲基溶纤剂、乙基溶纤剂等;链烃类溶剂,例如正己烷、正辛烷等;环烃类溶剂,例如环己烷、甲基环己烷、乙基环己烷、二甲基环己烷、正丁基环己烷、叔丁基环己烷、环辛烷等;全氟烷醇类溶剂,例如四氟丙醇、八氟戊醇、六氟丁醇等;羟基羧酸酯类溶剂,例如乳酸甲酯、乳酸乙酯、甲基-2-羟基异丁酸等;等等。
在真空蒸发的情况下,例如,将有机染料以及具有需要的诸如各种添加剂等的染料放入设置在真空室内的坩锅内,通过适当的真空泵将真空室的内部抽空至大约10-2到10-5Pa,之后,对坩锅加热以使染料和其它添加剂蒸发,使记录层成分淀积在对着坩锅放置的基片上,由此形成记录层。
(c)对于第一反射层3
第一反射层3是具有一定的透光性的反射层。即,第一反射层3是具有小吸收率、不小于40%的透光率以及适当的反光率(通常不小于30%)的反射层。例如,通过设置具有高反射率的薄金属膜,可以提供适当的透光率。希望第一反射层3具有一定的抗蚀性。此外,希望半透明的反射层3具有遮断性,以使得第一记录层2不受第一反射层3的上层(这里为中间树脂层4)的渗透的影响。
为了确保高透射率,第一反射层3的厚度通常优选为50nm或更小。第一反射层3的厚度更优选为30nm或更小,且进一步优选为25nm或更小。然而,需要第一反射层3有一定厚度,以避免第一记录层2上的第一反射层3的上层的影响。由此,第一反射层3的厚度一般为3nm或更大,更优选为5nm或更大。
作为第一反射层3的材料,可以使用纯金属或合金形式的金属和半金属,如Au、Al、Ag、Cu、Ti、Cr、Ni、Pt、Ta、Pd、Mg、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、Mn、Re、Fe、Co、Rh、Ir、Zn、Cd、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi和稀土金属,其对于读取光束的波长具有适当的高反射率。其中,Au、A1和Ag具有高反射率,因此适合作为第一反射层3的材料。半透明的反射层3可以包含上述成分之外的其它成分作为主成分。
包含Ag作为主要成分的材料由于其成本低且反射率高而特别优选。这里,主要成分表示含量不少于50%的材料。
因为第一反射层3的膜厚度薄,所以膜的大晶粒引起读取噪声。因此,优选地使用具有小晶粒的材料。由于纯银通常具有大晶粒,所以优选地使用合金形式的Ag。
具体地,优选地包含Ag作为主要成分,并包含0.1至15原子%的从包括Ti、Zn、Cu、Pd、Au和稀土金属的组中选择的至少一种元素。当包含了Ti、Zn、Cu、Pd、Au和稀土金属中的两种或更多种时,它们中的每一个可以为0.1至15原子%。然而,它们的和优选地为0.1至15原子%。
一种特别优选的合金组成是包含如下成分的组成:作为主要成分的Ag、0.1至15原子%的从包括Ti、Zn、Cu、Pd和Au的组中选出的至少一种元素,以及0.1至15原子%的至少一种稀土元素。在稀土金属中,钕为特别优选。更具体地,AgPdCu、AgCuAu、AgCuAuNd、AgCuNd等为优选。
作为第一反射层3,仅由Au制成的层为优选,因为其具有小晶粒和抗蚀性,但它比Ag合金贵。
另选地,可以使用由Si制成的层作为第一反射层3。
可以将由非金属的材料制成的低反射率的薄膜与高反射率的薄膜相互层叠以形成多层,并将它们用作反射层。
作为形成第一反射层3的方法,例如可以采用溅射、离子镀敷、化学蒸发、真空蒸发等。可以在第一基片1与第一记录层3之间设置无机或有机中间层和粘合层,以提高反射率、记录性能和粘合性。例如,可以将中间层(或粘合层)、第一记录层2、以及中间层(或粘合层)和第一反射层3按顺序层叠在第一基片1上,以提供第一基片1与第一记录层2之间的中间层(或粘合层),并提供第一记录层2与第一反射层3之间的中间层(或粘合层)。
(d)对于中间树脂层4
中间树脂层4需要是透明的,并可以通过凹部和凸部在其上形成沟和坑。优选地,中间树脂层4具有强粘合性并在其硬化并粘合时收缩率小,这对介质的形状提供了更高的稳定性。
希望中间树脂层4由不损坏第二记录层5的材料制成。中间树脂层4和第二记录层5在通常情况下是相互可溶的,因为中间树脂层4通常由与第二记录层5的染料材料可溶的树脂制成。为此,希望在这两层之间设置稍后所述的缓冲层,以防止中间树脂层4溶解第二记录层5并防止对其造成损坏。
此外,希望中间树脂层4由不损坏第一反射层3的材料制成。可以在这两层之间提供稍后所述的缓冲层以避免损坏。
在该光学记录介质中,优选地,对中间树脂层4的膜厚度进行准确控制。通常,中间树脂层4的膜厚度优选为5μm或更大。必须在两个记录层之间设置一定的距离,以对两个记录层分别进行聚焦伺服控制。虽然中间树脂层4的膜厚度取决于聚焦伺服机制,但是其通常需要为5μm或更大,优选地为10μm或更大。通常,由于物镜具有较大的数值孔径,所以两个记录层之间的距离可以较小。然而,当中间树脂层4过厚时,要花费长时间来调整对两个记录层的聚焦伺服并且必须使物镜移动长距离,因此这是不希望的。此外,过厚的层需要长时间来硬化,这导致生产率的下降。因此,中间树脂层4的膜厚度优选地为100μm或更小。
在中间树脂层4上形成螺旋形或同心形的凹部和凸部,以形成沟和岸。通常,这些沟和岸用作记录轨道来在第二记录层5中记录信息或从其中读取信息。由于第二记录层5是以旋涂形成的,所以其膜在沟处厚,由此适于记录和读取。在该光学记录介质中,优选地使用中间树脂层4的沟(即相对于入射光束的方向的凸部)作为记录轨道12。这里,凹部和凸部是相对于入射光束的方向的凹部和凸部。通常,沟宽度为大约50到500nm,其深度为大约10到250nh。当记录轨道为螺旋形时,轨道间距优选为大约0.1到2.0μm。可以根据需要形成凹坑或凸坑,如岸预制坑。
从成本的角度,优选地,通过将来自具有凹部和凸部的树脂压模等的凹部和凸部转印到硬化树脂(例如光硬化树脂和其它种类的树脂)来制造这种凹部和凸部。下文中,有时将这种方法称为2P方法(光聚合法)。
作为中间树脂层4的材料,例如可以用热塑树脂、热硬化树脂、电子束硬化树脂、紫外线硬化树脂(包括延迟硬化型)等。
可以通过将热塑树脂、热硬化树脂等溶解在适当的溶剂中以制备涂布溶液、应用该溶液、并对该溶液进行干燥(加热)来形成中间树脂层4。在紫外线硬化树脂的情况下,可以通过按原样溶解树脂或者将树脂溶解在适当的溶剂中以制备涂布溶液、涂布该涂布溶液、并照射紫外线以使树脂硬化来形成中间树脂层4。存在各种类型的紫外线硬化树脂。然而,可以使用其中的任何一种,只要它是透明的。可以使用这些材料中的一种,或者可以将它们中的一些混合在一起来使用。不仅可以采用单层而且可以采用多层。
作为涂布方法,与记录层一样,可以采用诸如旋涂、浇注法等的涂布方法。在这些方法中,旋涂是优选的。可以以丝网印刷(screen print)等来涂布具有高粘性的树脂。优选地,使用在温度20到40℃具有低粘性的紫外线硬化树脂,因为涂布该树脂不需要溶剂。优选地,以使其粘度为20到4000mPa·s的方式制备树脂。
作为紫外线硬化粘合剂,存在基团型紫外线硬化粘合剂和阳离子型紫外线硬化粘合剂,这两种都是可用的。
作为基团型紫外线硬化粘合剂,所有已知的组合物都是可用的。使用包含紫外线硬化化合物和光聚合引发剂作为必要组分的组合物。作为紫外线硬化化合物,可以用单官能(甲基)丙烯酸酯和多官能(甲基)丙烯酸酯作为聚合性单体组分。它们可以单独使用,或者其中的两种或更多种结合使用。在本发明中,丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯统称为(甲基)丙烯酸酯。
例如,以下是可以用于这种光学记录介质的聚合性单体。作为单官能(甲基)丙烯酸酯,例如存在具有以下基团作为取代基的(甲基)丙烯酸酯等,所述基团有甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、2-乙基己基、辛基、壬基、十二烷基、十六烷基、十八烷基、环己基、苯甲基、甲氧基乙基、丁氧基乙基、苯氧基乙基、壬基苯氧基乙基、四氢糠基、缩水甘油基、2-羟基乙基、2-羟基丙基、3-氯-2羟基丙基、二甲基氨基乙基、二乙基氨基乙基、壬基苯氧基乙基四氢糠基、己内酯变性的四氢糠基、异冰片基、二环戊基、二环戊烯基、二环戊烯氧乙基等。
作为多官能(甲基)丙烯酸酯,存在下列物质的二(甲基)丙烯酸酯:1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、3-甲基-1,5-戊二醇、1,6-己二醇、新戊二醇、1,8-辛二醇、1,9-壬二醇、三环癸烷基二甲醇、乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、二丙二醇、三丙二醇、聚丙二醇等;三(2-羟乙基)异氰尿酸酯的二(甲基)丙烯酸酯;通过将4摩尔或更多的环氧乙烷或环氧丙烷加到1摩尔新戊二醇中而获得的二醇的二(甲基)丙烯酸酯;通过将2摩尔环氧乙烷或环氧丙烷加成到1摩尔双酚A而获得的二醇的二(甲基)丙烯酸酯;通过将3摩尔或更多的环氧乙烷或环氧丙烷加成到三羟甲基丙烷中而获得的三醇的二或三(甲基)丙烯酸酯;通过将4摩尔或更多的环氧乙烷或环氧丙烷加成到1摩尔双酚A而获得的二醇的二(甲基)丙烯酸酯;三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、五赤藓醇三(甲基)丙烯酸酯、二(五赤藓醇)的聚(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷变性的磷酸(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷变性的烷基化磷酸(甲基)丙烯酸酯等。
可以作为聚合性低聚物与聚合性单体一起使用的物质是:聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯、聚氨酯(甲基)丙烯酸酯等。
作为用于这种光学记录介质的光聚合引发剂,可以使用任何一种可以使由聚合性低聚物和/或聚合性单体所代表的所使用紫外线硬化化合物硬化的已知引发剂。作为光聚合引发剂,分子裂变型或氢夺取型是合适的。
作为这种光聚合引发剂,适合使用的有安息香(bensoin)异丁醚、2,4-二乙基噻吨酮、2-异丙基噻吨酮、苯甲基、2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、2-苯甲基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉基苯基)-丁-1-酮、双(2,6-二甲氧基苯甲酰基)-2,4,4-三甲基苯基氧化膦等。作为与此不同的分子裂变型,还可以结合使用:1-羟基环己基苯基酮、苯偶姻乙醚、苯甲基二甲基缩酮、2-羟基-2-甲基-1-苯丙基-1-酮、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基丙基-1-酮、2-甲基-1-(4-甲基苯硫基)-2-吗啉基丙-1-酮等。此外,可以结合使用以下氢夺取型光聚合引发剂:二苯酮、4-苯基二苯酮、异酞苯酮(isophthalphenone)、4-苯甲酰基-4′-甲基-二苯硫等。
作为对光聚合引发剂的敏化剂,可以使用不会引起与上述聚合成分的加成反应的胺,例如三甲基胺、甲基二羟甲基胺、三乙醇胺、对二乙基胺基苯乙酮、对二甲基胺基乙基苯甲酸酯、对二甲基胺基异戊基苯甲酸酯、N,N-二甲基苯甲胺、4,4′-双(二乙基胺基)二苯甲酮等。优选地,选择并使用对紫外线硬化化合物具有优异的可溶解性且不阻碍紫外线透光性的上述光聚合引发剂和敏化剂之一。
作为阳离子型紫外线硬化粘合剂,可以用任何已知的组合物。含有阳离子聚合型的光聚合引发剂的环氧树脂对应于此。作为阳离子聚合型的光引发剂,存在锍盐、碘鎓盐、重氮盐等。
作为碘鎓盐的示例,存在:六氟磷酸二苯基碘鎓盐、六氟锑酸二苯基碘鎓盐、四氟硼酸二苯基碘鎓盐、四(五氟苯基)硼酸二苯基碘鎓盐、六氟磷酸双(十二烷基苯基)碘鎓盐、六氟锑酸双(十二烷基苯基)碘鎓盐、四氟硼酸双(十二烷基)碘鎓盐、四(五氟苯基)硼酸双(十二烷基苯基)碘鎓盐、六氟磷酸4-甲基苯基-4-(1-甲基乙基)苯基碘鎓盐、六氟锑酸4-甲基苯基-4-(1-甲基乙基)苯基碘鎓盐、四氟硼酸4-甲基苯基-4-(1-甲基乙基)苯基碘鎓盐、四(五氟苯基)硼酸4-甲基苯基-4-(1-甲基乙基)苯基碘鎓盐等。
作为环氧树脂,双酚A-表氯醇类、环氧脂环族、长链脂族、溴化环氧树脂、缩水甘油酯类、缩水甘油醚类、杂环体系等中的任何一种都是可用的。
作为环氧树脂,优选使用具有少量游离氯和氯离子的环氧树脂,以避免该树脂损坏反射层。氯的量优选地不大于1重量%,更优选地不大于0.5重量%。
每100重量%的阳离子型紫外线硬化树脂中,阳离子聚合型光引发剂的比率通常为0.1重量%至20重量%,优选0.2重量%至5重量%。为了更有效地使用近红外线区域或紫外线光源波段中的可见辐射区的波长,可以结合使用已知的光敏化剂。作为这种光敏化剂,存在蒽、吩噻嗪、苯甲基甲缩酮、二苯甲酮、苯乙酮等。
为了提高紫外线硬化粘合剂的各种性质,可以根据需要添加作为其它添加剂的热聚合抑制剂,以受阻酚、受阻胺、亚磷酸盐等为代表的抗氧化剂,增塑剂,以环氧硅烷、巯基硅烷、(甲基)丙烯基硅烷为代表的硅烷耦合剂等。在这些添加剂中,选择并使用对于紫外线硬化化合物具有优异的可溶解性且不阻碍紫外线透光性的添加剂。
(e)对于第二读取层5
第二记录层5通常具有比用于单面记录介质(“单面”例如表示CD-R、DVD-R、DVD+R等)的记录层更高的敏感度。在该光学记录介质中,由于第一记录层2和第一反射层3等的存在使入射光束的功率降低,所以以一半的功率进行记录。因而,第二记录层5需要具有特别高的敏感度。
为了实现优良的记录/读取性能,希望染料产生较少热量并具有大折射率。
此外,希望第二记录层5与第二反射层6的组合提供光反射和吸收的适当范围。由此,可以增加记录敏感度,并可以消除记录期间的热干扰。
第二记录层5的材料和淀积方法与第一记录层2的材料和淀积方法几乎相同,因此下面只说明它们之间的不同。
第二记录层5的膜厚度并不受具体限制,因为合适的膜厚度根据记录方法等而不同。为了获得充分的调制幅度,第二记录层5的膜厚度通常优选为10nm或更大,更优选为30nm或更大,特别优选为50nm或更大。然而,为了获得适当的反射率,需要该膜不能过厚,膜厚度通常为3μm或更小,优选为1μm或更小,更优选为200nm或更小。
用于第一记录层2和第二记录层5的材料可以彼此相同或不同。
(f)对于第二反射层6
要求第二反射层6具有高反射率。希望反射层6高度耐用。
为了确保高反射率,第二反射层6的厚度通常优选为20nm或更大,更优选为30nm或更大,进一步优选为50nm或更大。为了缩短制造的节拍时间和降低成本,优选地第二反射层6薄到一定程度。因此,膜厚度通常为400nm或更小,更优选为300nm或更小。
作为第二反射层6的材料,例如可以以纯金属或合金的形式使用在读取光的波长具有足够高的反射率的金属,如Au、Al、Ag、Cu、Ti、Cr、Ni、Pt、Ta和Pd。在这些金属中,Au、Al和Ag由于其高反射率而适于作为第二反射层6的材料。除了作为主要成分的这些金属外,第二反射层6可以包含以下成分作为其它成分。作为其它成分的示例,存在诸如Mg,Se,Hf,V,Nb,Ru,W,Mn,Re,Fe,Co,Rh,Ir,Cu,Zn,Cd,Ga,In,Si,Ge,Te,Pb,Po,Sn,Bi和稀土金属的金属,以及半金属。
包含Ag作为主要组分的膜由于其成本低而特别优选,该膜提供了高反射率,并且当进一步设置下文所述的印刷接收层时提供了美丽的白底色。这里,“主要成分”表示其含有率不小于50%的成分。
为了确保第二反射层6的高耐用性(高抗蚀性),优选地使用合金形式而不是作为纯银的Ag。
在这些合金中,包含Ag作为主要成分并包含0.1至15原子%的从包括Ti、Zn、Cu、Pd、Au和稀土金属的组中选择的至少一种元素的合金是优选的。当该合金包含Ti、Zn、Cu、Pd、Au和稀土金属中的两种或更多种时,它们中的每一个可以被包含为0.1至15原子%。然而,优选地,这些元素之和为0.1至15原子%。
该合金的特别优选的组成为:包含Ag作为主要成分;包含0.1至15原子%的从包括Ti、Zn、Cu、Pd、和Au的组中选择的至少一种元素;并且包含0.1至15原子%的至少一种稀土元素。在这些稀土元素中,钕是特别优选的。更具体地,AgPdCu、AoogCuAu、AgCuAuNd、AgCuNd等是优选的。
作为第二反射层6,仅由Au制成的层因其高耐用性(高抗蚀性)是优选的,但是比仅由Ag合金制成的层更贵。
可以将均由非金属材料制成的具有低反射率的薄膜与具有高反射率的薄膜相互层叠以形成多层,并将其用作第二反射层6。
作为形成第二反射层6的方法,例如存在溅射、离子镀敷、化学汽相淀积、真空蒸发等。可以在第二反射层6的上表面和下表面上设置已知的无机或有机中间层或粘合层,以改进反射率、记录性能、粘合性等。
(g)对于粘合层7
粘合层7无需透明。粘合层7的高粘合性和其硬化和粘合时的小收缩性使得介质形状具有稳定性,这是优选的。
优选地,粘合层7由不损坏第二反射层6的材料制成。可以在这两层之间设置已知的无机或有机的保护层,以避免对反射层7的损坏。
在该光学记录介质中,粘合层7的膜厚度通常优选地为2μm或更大。为了获得预定的粘合性,需要一定的膜厚度。更优选地,粘合层7的膜厚度为5μm或更大。通常,优选地,粘合层7的膜厚度为100μm或更小,以使光学记录介质尽可能薄。这是因为厚的膜需要较长时间来硬化,这导致生产率下降。
粘合层7的材料可以与中间树脂层4的材料相同,或者可以为压敏的双面带等。通过将压敏双面带放在第二反射层6与第二基片8之间并对其按压,可以形成粘合层7。
(h)对于第二基片8
优选地,第二基片8具有形状稳定性,以使得光学记录介质具有一定的刚性。即,优选地,第二基片8具有高的机械稳定性和大的刚性。此外,优选地,第二基片8对于粘合层7具有大粘合性。
当第一基片1不具有上述的充分的形状稳定性时,特别需要第二基片8具有大的形状稳定性。考虑到此,优选地,第二基片8具有低的吸湿性。第二基片8无需透明。第二基片8可以为镜面基片,其上无需具有凹部和凸部。由此,第二基片8无需在注射成型过程中总是具有良好的转印性。
作为该材料,可以使用与用于第一基片1的材料相同的材料。除此之外,可以使用诸如Al-Mg合金等的含有Al作为主要成分的Al合金基片,诸如Mg-Zn合金等的含有Mg作为主要成分的Mg合金基片,由硅、钛和陶瓷中的任一种制成的基片,或者由其组合制成的基片。
从诸如成型性等的高生产率、成本、低吸湿性、形状稳定性等角度出发,聚碳酸酯是优选的。从抗化学品性、低吸湿性等的角度出发,非晶聚烯烃是优选的。从高速响应性等的角度出发,玻璃基片是优选地。
为了使光学记录介质具有足够的刚性,优选地第二基片8厚至一定程度,具有不小于0.3mm的厚度。然而,由于第二基片8越薄就越有利于使记录/读取装置变薄,所以第二基片8的厚度优选为3mm或更小,更优选为1.5mm或更小。
第二基片8可以为其上不具有凹部和凸部的镜面基片。从容易制造的角度,优选地,以注射成型来制造第二基片8。
第一基片1与第二基片8的优选组合的示例为第一基片1和第二基片8由相同材料制成,并具有相同厚度。这样,第一基片1和第二基片8的刚性相同,这提供了良好的机械平衡性。由此,介质不会由于环境变化而易变形,这是优选的。在这种情况下,优选地,在环境变化的情况下,各基片的变形发生在同一方向并且程度相同。
作为该组合的另一优选示例,第一基片1薄约0.1mm,而第二基片8厚约1.1mm。这样,物镜可以容易地接近记录层,由此可以容易地提高记录密度。因此,这是优选地。在这种情况下,第一基片1可以是片状形状。
(i)对于其它层
在该层化结构中,可以根据需要将另一层随意放在这些层中。另选地,可以在该介质的最外表面上随意设置另一层。具体地,例如可以在第一反射层3与中间树脂层4之间、中间树脂层4与第二记录层5之间、或者第二反射层6与粘合层7之间设置缓冲层作为中间层。
缓冲层用于防止两层互相溶解并防止两层互相混合。缓冲层可以具有防止溶解现象的功能之外的其它功能。此外,可以根据需要放置另一中间层。
需要缓冲层的材料不与第二记录层5或中间树脂层4相溶合,并具有一定的透光性。可以对缓冲层使用已知的无机或有机材料。从性质的角度,优选使用有机材料。例如,可以使用(i)金属或半导体,(ii)金属或半导体的氧化物、氮化物、硫化物、三硫化物、氟化物或碳化物,以及(iii)非晶碳等。其中,由几乎透明的介电材料制成的层或非常薄的金属层(包括合金)是优选的。
具体地,诸如氧化硅(特别地,二氧化硅)、氧化锌、氧化铈、氧化钇等的氧化物;诸如硫化锌、硫化钇等的硫化物;诸如氮化硅等的氮化物;碳化硅;氧化物和硫的混合物(三硫化物);以及稍后所述的合金是优选的。比率为大约30∶70到90∶10的氧化硅和硫化锌的混合物是优选的。硫、二氧化钇和氧化锌的混合物(Y2O2S-ZnO)也是优选的。
作为金属或合金,银或者包含银作为主要成分并包含0.1至15原子%的从钛、锌、铜、钯、金组成的组中选择的至少一种元素的合金是优选的。包含银作为主要成分并包含0.1至15原子%的至少一种稀土元素的合金也是优选的。作为稀土元素,钕、镨、铈等是优选的。
另选地,可以使用任何树脂层,只要当制作缓冲层时其不会溶解记录层中的染料。具体地,可以以真空蒸发或CVD方法来制造的高分子膜是有用的。
缓冲层的厚度优选为2nm或更大,更优选为5nm或更大。当缓冲层过薄时,不能充分防止上述混和现象。缓冲层的厚度优选地为2000nm或更小,更优选为500nm或更小。过厚的缓冲层不仅对于防止混和是不必要的,而且导致透光率下降。当该层是由无机物质制成的时,层的膜淀积需要较长时间,这导致生产率地下降,或者膜应力增加。由此,膜厚度优选为200nm或更小。具体地,由于由金属制成的膜过度降低透光率,所以膜厚度优选为约20nb或更小。
可以设置保护层来保护记录层或反射层。保护层的材料并不受具体限制,而是可以用任何材料,只要其保护记录层或反射层不受外力影响。作为保护层的有机材料,存在热塑树脂、热硬化树脂、电子束硬化树脂、紫外线硬化树脂等。作为保护层的无机材料,存在氧化硅、氮化硅、MgF2、SnO2等。
可以通过将热塑树脂、热硬化树脂等溶解在适当的溶剂中以制备涂布溶液、并应用该溶液并对其进行干燥从而形成保护层。在紫外线硬化树脂的情况下,可以通过制备紫外线硬化树脂自身的涂布溶液或者通过将紫外线硬化树脂溶解在适当的溶液中而获得的涂布溶液、应用该涂布溶液、对溶液照射UV光以使其硬化,从而形成保护层。作为紫外线硬化树脂,存在丙烯酸树脂,如聚氨酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸脂等。可以单独使用这些材料或者可以混和使用。此外,不仅可以使用单层而且可以使用多层。
作为形成保护层的方法,存在诸如旋涂、浇注等的涂布方法、溅射、化学蒸发等。在这些方法中,旋涂是优选的。
保护层的膜厚度通常在0.1至100μm的范围内。在该光学记录介质中,保护层的膜厚度优选为3到50μm。
根据需要,可以在并非记录/读取光束入射的表面的表面上设置印刷接受层,可以通过诸如喷墨转印体(printer)、热转印体等的各种转印体或各种写入工具在其上进行写入(印刷)。
另选地,可以设置其它记录层来形成具有三个或更多个记录层的光学记录介质。可以将具有该层结构的两个光学记录介质以第一基片1在外侧的方式贴合在一起,以形成具有4个记录层的更大容量的介质。
(B)类型2
图2是代表性地表示根据本实施例的光学记录介质(类型2的光学记录介质)的剖视图。
根据本实施例的类型2的光学记录介质(贴合的单面入射型的光学记录介质)在盘状形状的透明(可透光)第一基片(第一基片、第一可透光基片)21上按顺序具有:含有染料的第一记录层(第一记录层、第一含有染料的记录层)22、半透明的第一反射层(下文中称为半透明的反射层)23、透明的粘合层(中间层)24、缓冲层28、含有染料的第二记录层(第二记录层、第二含有染料的记录层)25、第二反射层26、透明的盘状形状的第二基片(第二基片)27。从第一基片21侧照射光束以进行记录/读取。在本实施例中,“透明”表示对用于在光学记录介质上进行记录和从光学记录介质读取的光束透明。
在第一基片21和第二基片27上形成有凹部和凸部,以形成各记录轨道。第一基片21上的记录轨道31是以相对于入射光束的方向的凸部形成的,而第二基片27上的记录轨道32是以相对于入射光束的方向的凹部形成的。
同时,记录轨道31可以由第一基片21的沟(即,相对于入射光束的方向的凹部)形成,而记录轨道32可以由第二基片27的沟(即,相对于入射光束的方向的凸部)形成。通常,优选地,记录轨道31由相对于入射光束的方向的凸部形成,而记录轨道32由相对于入射光束的方向的凹部形成。可以根据需要设置与以上不同的凹坑或凸坑。在本实施例中,除非特别说明,否则凹部和凸部是相对于用于记录或读取的入射光束方向的而定义的。
接下来将对各层进行说明。
根据本实施例的类型2的光学记录介质的第一基片21、第一记录层22、第一反射层23、第二记录层25、以及第二反射层26几乎与类型1的光学记录介质的第一基片1、第一记录层2、第一反射层3、第二记录层5和第二反射层6相同。
除了无需以凹部和凸部来形成沟和坑之外,作为中间层的透明粘合层24几乎与类型1的光学记录介质的中间树脂层4几乎相同。此外,在类型2的光学记录介质中,以上的沟和坑形成在稍后描述的第二基片27上。
作为中间层的缓冲层28在结构与以上在第一实施例中所述的缓冲层几乎相同。可以仅在需要时形成缓冲层。
优选地,第二基片27是透明的并具有形状稳定性,以使得光学记录介质具有一定的刚性。即,优选地,第二基片27具有高机械稳定性和大的刚性。
作为这种材料,可以使用诸如丙烯酸树脂、甲基丙烯酸树脂、聚碳酸酯树脂(特别地,非晶聚烯烃)、聚酯树脂、聚苯乙烯树脂、环氧树脂等的树脂和玻璃。
在第二基片27上,螺旋形或同心形地形成有凹部和凸部,以形成沟和岸。通常,这些沟和/或岸用作记录轨道以在第二记录层25上记录信息或从其读取信息。由于第二记录层25通常是用涂布形成的,所以其膜厚度在沟部大,从而沟部适于记录和读取。优选地,在该光学记录介质中,指定第二基片27的沟部(即,相对于入射光束的方向的凹部)作为记录轨道32。这里,“凹部”和“凸部”表示相对于入射光束的方向的“凹部”和“凸部”。通常,沟的宽度为约50到500nm,深度为约10到250nm。当记录轨道为螺旋形时,优选地,轨道间距为约0.1到2.0μm。根据需要,第二基片27可以具有诸如岸预制坑的凹/凸坑。
从成本的角度,优选地,具有这种凹部和凸部的第二基片27由树脂制成,并利用具有凹部和凸部的压模以注射成型来制造。当在玻璃等制成的基片体上形成由诸如光硬化树脂等的放射线硬化树脂制成的树脂层时,可以在树脂层上形成用于记录轨道等的凹部和凸部。
到此为止,对包含有染料的具有如上结构的记录层的一次写入型光学记录介质(DVD-R)进行了说明,光学记录介质并不限于该示例,本发明可以应用于任何光学记录介质,只要该光学记录介质具有多个可以通过从其一侧照射激光束来在其上记录和读取信息的记录层。例如,本发明可以应用于具有相变记录层的可重写光学记录介质(例如,DVD-RW、DVD+RW、DVD-RAM等),所述相变记录层是其中晶体状态的部分用作未记录状态/擦除状态而非晶状态的部分用作记录状态的记录层,本发明还可以应用于例如以磁记录层作为记录层的磁光记录介质。
当光学记录介质是DVD-RW时,可以像上述DVD-R一样,通过岸预制坑预先记录地址信息。当光学记录介质为DVD+RW时,可以将地址信息预先叠加在摆动上并进行记录(这称为ADIP:预制沟中的地址)。
当将本发明应用于含有相变记录层的可重写光学记录介质时,上述实施例中的光学记录介质的第一记录层和第二记录层各自包括:第一保护层、信息记录层和第二保护层。
作为该信息记录层的材料,优选地使用其光学常数(折射率n、消光系数k)由于照射激光束而变化的材料。作为该材料,例如存在基于Te或Se的硫族化物,如含有Ge-Sb-Te,Ge-Te,Pd-Ge-Sb-Te,In-Sb-Te,Sb-Te,Ag-In-Sb-Te,Ge-Sb-Bi-Te,Ge-Sb-Se-Te,Ge-Sn-Te,Ge-Sn-Te-Au,Ge-Sb-Te-Cr,In-Se,In-Se-Co等作为主要成分的合金,以及在以上合金中适当添加了氮、氧等的合金。
作为第一保护层和第二保护层的材料,优选地使用物理和化学稳定、比信息记录层具有更高熔点并具有高软化温度、并且不与信息记录层的材料互溶的材料,以抑制由于在照射激光束时对保护基片、信息记录层等的热损坏而引起的噪声增加,并调节对激光束的反射率和吸收率以及反射光的相位等。作为该材料,例如存在:Y、Ce、Ti、Zr、Nb、Ta、Co、Zn、Al、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、Bi、Te等的氧化物;Ti、Zr、Nb、Ta、Cr、Mo、W、B、Al、Ga、In、Si、Ge、Sn、Pb等的氮化物;Ti、Zr、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Si等的碳化物;Zn、Cd等的硫化物;硒化物;碲化物;Mg、Ca等的氟化物等;C、Si、Ge等的单体;由这些物质的混合物制成的电介质;以及以与电介质相同的方式处理的材料。对于第一保护层和第二保护层,可以根据需要使用不同的材料,或者可以使用相同材料。
在具有多个(这里为2个)记录层2和5(22和25)的单面入射型光学记录介质(例如,双层型的单面入射型DVD-R)中,通过从其一侧照射激光束来在各层上记录信息或从各层读取信息,(最佳)记录/读取条件(例如循轨极性、记录脉冲策略、记录功率、读取功率等)根据各记录层而显著变化。
具体地,对层2和5以及层22和25的记录条件进行优化是重要的。即使记录条件少许偏离也几乎不会无法读取。然而,当记录条件并非最佳时,可能实际上无法记录信息。或者,即使可以记录信息,当读取信息时信号质量有时也不佳。
为此,希望可以在适合于要进行信息的记录和读取的记录层2或5(22或25)的记录/读取条件(例如,循轨极性、记录脉冲策略、记录功率、读取功率等)下准确可靠地记录和读取信息。
具体地,在类型1的光学记录介质中,第一基片1的沟(即相对于入射光束的方向的凸部)用作记录轨道11,而中间树脂层4的沟(即相对于入射光束的方向的凸部)用作记录轨道12,由此第一记录层2和第二记录层5具有相同的循轨极性。另一方面,在类型2的光学记录介质中,第一基片21的沟(即相对于入射光束的方向的凸部)用作记录轨道31,而第二基片27的沟(即相对于入射光束的方向的凹部)用作记录轨道32,由此第一记录层22和第二记录层25具有相反的循轨极性。
即使将第一记录层和第二记录层具有相同循轨极性的光学记录介质与第一记录层和第二记录层具有相反循轨极性的光学记录介质一起使用时,也希望以适合于光学记录介质的结构的循轨极性来准确可靠地记录并读取信息。
根据本实施例,将光学记录介质的各个记录层2和5(22和25)的至少一个记录/读取条件记录在光学记录介质中。
这里,记录/读取条件包括关于循轨极性(例如,推挽信号的极性)或岸记录/沟记录的信息(表示是否以岸还是沟进行循轨的信息)(以下,这些统称为循轨极性或循轨信息)、记录脉冲策略(记录策略、写入策略;适合于各记录层的激光输出控制图案)、记录功率、读取功率等。此外,记录/读取条件包括诸如循轨极性、记录脉冲策略(写入策略)、记录功率等的记录条件,以及诸如循轨极性、读取功率等的读取条件。
在这些记录/读取条件中,除了循轨极性之外的记录/读取条件(例如记录脉冲策略、记录功率和读取功率等)可以记录在构成光学记录介质的记录层2和5(22和25)的每一个中,或者可以记录在记录层2或5(22或25)中的任一个中。
存在如下的想法:在上述记录/读取条件中,将并非驱动器最先访问的记录层(例如,最靠近激光束入射侧的记录层)的记录层的循轨极性记录在驱动器最先访问的记录层中。换言之,循轨极性可以仅记录在驱动器最先访问的记录层中(即,多个记录层中的仅仅一层)。
在循轨极性与记录层不匹配的情况下,无法读取记录的信息。为此,必须预先确定驱动器最先访问的记录层(例如,最接近激光束入射侧的记录层)的循轨极性(岸记录或沟记录)。
在具有两个记录层的DVD-R中,预先确定信息记录在第一记录层(相对于激光束入射侧的记录层)2(22)上的相对于入射光束方向的凸部上(岸记录),并且驱动器最先访问第一记录层2(22)。通过将其它记录层(第二记录层5(25))的循轨极性与层信息相关联,并将它们记录在第一记录层2(22)中,驱动器可以通过读出这些信息来识别出第二记录层5(25)的循轨极性。
另选地,可以像第一记录层2(22)一样,预先确定第一记录层2(22)之外的第二记录层5(25)的循轨极性。在这种情况下,无需将第二记录层5(25)的循轨极性记录在第一记录层2(22)中。
即使预先确定记录层5(25)的循轨极性时,也可以将第二记录层5(25)的循轨极性记录在第一记录层2(22)上,驱动器可以将其读出并改变预定的循轨极性。由此,可以随意改变除了驱动器最先访问的记录层之外的记录层的循轨极性。
因此,优选地,记录/读取条件仅记录在记录层2与5(22与25)之间的最接近激光束入射侧的层中,因为驱动器(记录/读取装置)通常最先访问最接近激光束入射侧的层。由此,这种结构的驱动器可以快速读取记录/读取条件。
具体地,优选地,通过预制坑(岸预制坑)或摆动将记录/读取条件记录在记录层2或5中的任一个的记录管理区(RMA;例如,控制轨道,最内周部分)中。
在具有以下结构的类型2的光学记录介质中,对诸如循轨极性、记录脉冲策略、记录推荐功率、读取推荐功率等的记录/读取条件的记录是有效的。在类型2的光学记录介质中,将循轨极性包含在记录/读取条件中是特别重要的。
即,优选应用本发明的类型2的光学记录介质具有:第一信息记录体,通过至少将含有第一染料的记录层和半透明反射层依次层叠在具有导沟的第一基片上而形成;以及第二信息记录体,通过至少将反射层和含有第二染料的记录层依次层叠在具有导沟的第二基片上而形成。通过将第一信息记录体和第二信息记录体以使得形成有记录层的侧通过透光粘合层相互面对的方式相互贴合,从而形成类型2的光学记录介质。从第一基片侧照射激光束以对信息进行光学记录或读取。
在对具有多个记录层的单面入射型光学记录介质的各个记录层2和5(22和25)上的信息进行记录和读取的记录/读取装置(驱动器)中,希望可以根据记录层2或5(22或25)来切换诸如记录脉冲策略、记录功率、读取功率等的记录/读取条件,并可以准确可靠地进行信息的记录和读取。由于使记录条件最佳尤其重要,所以希望可以根据记录层2或5(22或25)将记录条件切换到最佳条件从而可以准确可靠地记录信息。
在这种情况下,存在如下想法:对多个记录层2和5(22和25)连续地附加地址信息、并在记录/读取装置中根据读取的地址信息来分辨哪层是哪层。然而,仍然难以即时地分辨哪层是哪层。
根据本实施例,将层信息(关于记录层号的信息;层0、层1)记录在光学记录介质的各记录层2和5中,以使得可以根据要进行信息记录或读取的记录层2或5即时地切换诸如记录脉冲策略(记录策略、写入策略)、记录功率、读取功率等的记录/读取条件。
作为对层信息的记录方法,例如可以考虑下面(i)和(ii)中所示的方法。
(i)例如以预制坑(岸预制坑)或摆动将层信息记录在各个记录层2和5(22和25)的记录管理区(RMA;例如,控制轨道、最内周部分)中。
(ii)例如以预制坑(岸预制坑)或摆动将层信息记录在各个记录层2和5(22和25)的记录区的几乎整个表面上。
这里,“记录在几乎整个表面上”包括“记录在包括各个记录层2和5(22和25)的记录管理区的记录区的几乎整个表面上(例如,将层信息作为地址的一部分记录在记录管理区上)”、“将层信息记录在除各个记录层2和5(22和25)的记录管理区之外的记录区的整个表面上”等。具体地,当层信息不能记录在记录管理区中时,将层信息记录在除记录管理区之外的记录区的整个表面上是有效的。这对于信息记录或读取的随机访问的情况也是有效的。
例如,可以将层信息作为摆动或预制坑(岸预制坑)的地址信息的一部分来进行记录。由此,可以通过简单的方式将层信息记录在各个记录层2和5(22和25)上。将层信息作为地址信息的一部分来进行记录可以提供以下优点:当根据地址信息进行随机访问以记录或读取信息时,仅通过访问所希望的地址并在其上进行聚焦伺服控制就可以读出层信息。由此,可以根据层信息即时地切换记录/读取条件,例如记录脉冲策略、记录功率、读取功率等。
作为将层信息作为地址信息的一部分来进行记录的方法,例如可以考虑下面的(i)到(v)中所述的方法。
(i)作为将层信息作为摆动中的地址信息(例如,ADIP;预制沟中的地址)的一部分来进行记录的方法,例如将两个记录层2和5(22和25)中的任一个上的摆动中的地址信息(例如,ADIP;预制沟中的地址)中包括的同步图案(同步图案)进行反转。
例如,将第二记录层5(25)的ADIP中包括的同步图案(同步图案)的方向相对于第一记录层2(22)的ADIP中包括的同步图案(同步图案)的方向进行反转(使其相反)。
(ii)作为将层信息作为各记录层2和5(22和25)的记录区(包括记录管理区)中形成的摆动或岸预制坑中的地址信息的一部分进行记录的方法,使记录层2和5(22和25)中的保留位的值互不相同。
例如,使第一记录层2(22)的记录区(包括记录管理区)中形成的摆动或LPP中的地址信息的保留位的值不同于第二记录层5(25)的记录区(包括记录管理区)中形成的摆动或岸预制坑中的地址信息的保留位的值。
这里,“保留位”表示存在于其中记录有地址信息的区域中的目前未使用的部分的位。对保留位中的信息记录可以采用与用于地址信息的调制系统或记录系统的相同调制系统或记录系统。当介质具有多个记录层时,必须根据记录层的层数增加要使用的保留位的数量。例如,当介质具有两个记录层时,使用一位作为保留位,可以根据该位的值是0还是1来区分第一层与第二层。当使用两位作为保留位时,因为可以以两位来表示4个值(即,00、01、10和11),所以可以将四个记录层彼此区分开来。类似地,当使用三位作为保留位时,因为可以表示8个值,所以可以将8个记录层彼此区分开来。即,当使用n位作为保留位时,可以区分2n个记录层。如果将该方法与诸如上述方法(i)或下述方法(iii)到(v)的其它方法相组合,则可以减少要使用的保留位的数量。
(iii)作为将层信息作为在各个记录层2和5(22和25)的记录区(包括记录管理区)中形成的摆动或岸预制坑中的地址信息的一部分来进行记录的方法,存在将两个记录层2和5(22和25)中的任一个中的摆动或岸预制坑中的整个地址信息的位进行反转的方法。
例如,当将地址3000-4FFF(十六进制)放入第一记录层2(22)并将地址5000-6FFF(十六进制)放入第二记录层5(25)时,仅将第二记录层5(25)中的位反转,以产生地址AFFF-9000(十六进制)。
这里,为了简化说明,通过16位(在16进制表示法的情况下为4位)来进行说明。因为加上裕量,例如在DVD-R中地址信息实际以48位(16进制表示法中为12位)来表示,所以第一记录层2(22)的地址为000000003000-000000004FFFF(Hex),而第二记录层5(25)的地址为FFFFFFFFAFFF-FFFFFFFF9000(Hex)。
同时,必须向驱动器给出表示哪个地址范围属于哪层的关系信息,由此驱动器当读出地址时驱动器可以区分出层。
(iv)作为将层信息作为各记录层2和5(22和25)的记录区(包括记录管理区)中形成的摆动或预制坑中的地址信息的一部分来进行记录的方法,存在通过二的补码(使全部位反转+1)来表示两个记录层2和5(22和25)中的任一个上的摆动或岸预制坑中的整个地址信息的方法。
例如,当将地址3000-4FFF(十六进制)放入第一记录层2(22)并将地址5000-6FFF(十六进制)放入第二记录层5(25)中时,通过二的补码(使全部位反转+1)表示第二记录层5(25),由此地址为B000-9001(十六进制)。
这里,为了简化说明,通过仅仅16位(16进制表示法中的4位)来进行说明。因为加上裕量,例如在DVD-R中地址信息实际以48位(16进制表示法中为12位)来表示,所以第一记录层2(22)的地址为000000003000-000000004FFF(十六进制),而第二记录层5(25)的地址为FFFFFFFFB000-FFFFFFFF9001(十六进制)。
同时,必须向驱动器给出表示哪个地址范围属于哪层的关系信息,由此驱动器当读出地址时驱动器可以区分出层。
(v)作为将层信息作为各记录层2和5(22和25)的记录区(包括记录管理区)中形成的摆动或岸预制坑中的地址信息的一部分来进行记录的方法,存在将层信息记录在两个记录层2和5(22和25)中的任一个的摆动或岸预制坑中的地址信息的最高有效位中的方法。
例如,将通过将第一记录层2(22)或者第二记录层5(25)上的摆动或岸预制坑中的地址信息的最高有效位的值反转而得到的值放在另一记录层上的摆动或岸预制坑中的地址信息的最高有效位。
实际上,例如,当将地址000000003000-000000004FFF(十六进制)放在第一记录层2(22)并将地址000000005000-000000006FFF(十六进制)放在第二记录层5(25)时,仅使第二记录层5(25)中的最高有效位反转。
当在二进制数中对一位进行反转时,“0”变成“1”。当其表示为16进制数(十六进制)时,在这种情况下“0”变成“8”。因此,第一记录层2(22)中的地址为000000003000-000000004FFF(十六进制),而第二记录层5(25)中的地址为800000005000-800000006FFF(十六进制)。此外,驱动器需要识别地址的最高有效位作为层信息。
至此,通过将本发明应用于具有两个记录层的可以通过从其一侧照射激光束来记录或读取信息的的光学记录介质的示例进行了说明。然而,本发明不限于该示例。例如,可以将以上层信息记录方法独立地或组合地应用于具有3个或更多个记录层的可以通过从其一侧照射激光束来记录或读取信息的光学记录介质。在这种情况下,上述层信息记录方法可以应用于多个记录层中的相邻两个记录层。
(2)光学记录介质记录/读取方法
以下,将如上构成的光学记录介质的记录/读取方法的概况进行说明。
通过从第一基片1或21侧将聚焦在约0.5到1μm直径上的激光束照射在记录层上,来进行在如上获得的光学记录介质上的记录。在激光束照射的部分中,由于吸收激光束能量而发生记录层的热变形,如分解、放热反应、溶解等,由此其光学性质发生变化。
通过用激光束读取光学性质发生变化的部分与光学性质保持不变的部分之间的反射率之差来进行对记录信息的读取。
通过以下方式在两个记录层的每一个上进行记录和读取。可以通过使用以刀缘(knife edge)法、像散法、傅科(Foucault)法等获得的聚焦误差信号来区分聚焦激光束的聚焦位置是在第一记录层2或22上还是在第二记录层5或25上。即,当用于聚焦激光束的物镜在垂直方向移动时,根据激光束的聚焦位置是在第一记录层2或22上还是在第二记录层5或25上而获得不同的S形曲线。可以通过选择使用哪个S形曲线来选择要进行记录或读取的第一记录层2或22或者第二记录层5或25。
在类型1的光学记录介质中,优选地,在第一基片1和中间树脂层4上形成凹部和凸部,并将第一基片1的凸部和中间树脂层4的凸部用作记录轨道来进行记录和读取,如图1所示。由于通常以涂布来形成染料记录层,所以其膜在沟部厚,由此沟部适于记录和读取。在类型1的光学记录介质中,优选地,第一基片1的沟部(即相对于入射光束的方向的凸部)用作记录轨道11,而中间树脂层4的沟部(即相对于入射光束的方向的凸部)用作记录轨道12。
在类型2的光学记录中,优选地,在第一基片21和第二基片27上形成凹部和凸部,并且将第一基片21的凸部和第二基片27的凹部用作记录轨道以进行记录和读取,如图2所示。此外,存在第一记录层22上的循轨伺服控制的极性与第二记录层25上的循轨伺服控制的极性相反的情况。在类型2的光学记录介质中,优选地,第一基片21的沟部(即相对于入射光束的方向的凸部)用作记录轨道31,而第二基片27的沟部(即相对于入射光束方向的凹部)用作记录轨道32。
作为用于该光学记录介质(类型1的光学记录介质和类型2的光学记录介质)的激光束,可以使用N2、He-Cd、Ar、He-Ne、红宝石、半导体、染料激光等。其中,半导体激光由于其重量轻、紧凑、方便等而优选。
优选地,所使用的激光束的波长尽可能短,以进行高密度记录。具体地,波长为350到530nm的激光束是优选的。作为这种激光束的典型示例,存在中心波长为405nm、410nm和515nm的激光束。
可以使用405nm或410nm蓝色高功率半导体激光或515nm浅蓝色高功率半导体激光来获得波长范围为350到530nm的激光束的示例。除此之外,可以通过用二次谐波生成单元(SHG)对(a)可以以740到960nm的基本振荡波长连续振荡的半导体激光、或者(b)被半导体激光激励从而能以740到960nm的基本振荡波长连续振荡的固态激光进行波长调制,从而获得激光束。
作为上述SHG,可以使用任何没有反转对称性的压电元件,但是KDP、ADP、BNN、KN、LBO以及化合半导体是优选的。作为二次谐波的实际示例,在基本振荡波长为860nm的半导体激光的情况下,存在作为860nm的倍频波的430nm,在半导体激光等激励的固态激光的情况下,存在作为掺Cr的LiSrAlF6晶体(基本振荡波长为860nm)的860nm的倍频波的430nm。
(3)光学记录介质的记录/读取装置
光学记录介质的记录/读取装置的结构如下,该记录/读取装置在其上记录有关于各记录层的记录层号的信息(层信息)的光学记录介质上进行信息的记录和读取。
记录/读取装置(驱动器)只需在光学记录介质上记录信息或者从光学记录介质读取记录在其中的信息。例如,记录/读取装置包括:记录装置(写入器),仅用于进行记录;读取装置(读取器),仅用于进行读取;以及记录/读取装置(读取器/写入器),用于既然进行记录又进行和读取。
如图3所示,记录/读取装置60包括:主轴电机51,用于驱动和旋转光学记录介质50;电机驱动器52,用于驱动主轴电机51;光学读写头(pickup)53;光学读写头驱动器54,用于驱动光学读写头53;伺服处理器55,用于进行各种伺服控制;信号处理单元(读取处理单元)56,用于处理光学读写头53检测到的信号;数据处理单元(记录处理单元)57,用于处理从另一计算机等发出的信息(数据);以及控制单元58(例如,具有CPU 58A和存储器58B的微计算机),用于控制这些装置。
光学读写头53例如包括:激光二极管、光学检测器(例如,光检测器)、用于聚焦或循轨的读写头致动器等。
如图3所示,光学读写头驱动器54包括:驱动激光二极管的激光驱动器(激光二极管驱动器)54A、驱动读写头致动器的聚焦驱动器54B;以及驱动读写头致动器的循轨驱动器54C。
激光驱动器54A包括:读取激光驱动器54Aa,其驱动读取激光二极管;和记录激光驱动器54Ab,其驱动记录激光二极管。
伺服处理器55包括:聚焦伺服电路55A,用于进行聚焦伺服控制;和循轨伺服电路55B,用于进行循轨伺服控制。
信号处理单元56包括:前置放大器56A,用于放大光学读写头53检测到的信号;矩阵电路56B;用于根据前置放大器56A放大的检测信号生成聚焦误差信号、循轨误差信号、摆动或岸预制坑的地址信号[地址信息(包括层信息)]、以及包括关于记录/读取条件(例如记录脉冲策略、记录功率、读取功率、循轨极性等)的信息的数据信号(信息);以及解调电路56C,用于对矩阵电路56B生成的地址信号[地址信息;包括记录层号(层信息)]进行解调。此外,通过二进制编码电路、解调电路等对矩阵电路56B生成的数据信号进行处理,然后将其发送到计算机等。
在制造光学记录介质50的过程中利用预制坑(ROM坑)来记录包括层信息的地址信息以及关于记录/读取条件(例如记录脉冲策略、记录推荐功率、读取推荐功率、循轨极性等)的信息的情况下,信号处理单元56可以包括:矩阵电路、二进制编码电路和调制电路。
数据处理电路57包括:调制电路57A,用于对从另一计算机等发送的数据以及地址信息进行调制;以及记录策略电路(写入策略电路)57B,用于根据经调制数据对要发送到记录激光驱动器54Ab的记录脉冲进行控制(对记录脉冲的多脉冲调制)。
接下来,将参照图4到图6来说明通过控制单元58执行预定程序而针对如上构成的光学记录介质的记录/读取装置60进行的处理(对于光学记录介质的记录/读取方法、记录方法、读取方法)。
以下,将以将信息记录在具有两个记录层2和5(22和25)的其中层信息记录在记录层的几乎整个表面上的光学记录介质50上(或从其读取信息)的情况为示例进行说明。
首先,将参照图4对包括层信息读取步骤和记录/读取控制步骤的记录/读取方法[第一记录/读取方法]进行说明。然后,将参照图5和图6对除了上述步骤之外还包括记录/读取条件读取步骤的记录/读取方法[第二记录/读取方法]进行说明。
[第一记录/读取方法]
(光学记录介质的记录方法)
在用于光学记录介质的记录/读取装置(驱动器)60中,如图4所示,当从诸如个人计算机等的计算机(或者通过驱动器本身配备的诸如按钮的输入单元)输入记录指令时,控制单元58访问介质的记录区中包括的内容信息区,以确定可以在哪个地址进行写入。控制单元58根据确定为可以在其进行写入的地址,确定要在哪一层上进行记录(步骤S10)。在控制单元58在介质被设置在驱动器中时预先访问内容信息区以读出内容信息的情况下,控制单元58可以根据预先读出的内容信息来确定可以在哪个地址写入信息。
在层信息包括在地址信息中的情况下,可以通过检测地址信息中包括的层信息来确定可以在哪个记录层上写入信息。在向驱动器提供保持有彼此关联的地址信息和层信息的表的情况下,可以使用该表根据地址信息确定层信息。
另一方面,当从诸如个人计算机等的计算机(或者通过驱动器本身配备的诸如按钮的输入单元)输入读取指令时,控制单元58根据读取指令中包括的地址信息确定在哪个记录层上记录信息(步骤S10)。
在这种情况下,当将介质设置在驱动器中时,可以从介质读出内容信息(表示哪条信息记录在哪个地址的信息),例如在计算机屏幕上显示图标,并且可以当用户点击图标时向驱动器输入包括地址信息的读取指令。
当输入了记录指令(或读取指令)时,控制单元58指定要在其上进行记录(或读取)的记录层。控制单元58的此功能称为记录层确定单元(记录层指定单元)。
当输入了记录指令(或读取指令)时,控制单元58指示聚焦伺服电路55A进行聚焦伺服控制。响应于此,聚焦伺服电路55A通过聚焦驱动器54和读写头致动器来控制光学读写头53,以对第一记录层2(22)或第二记录层5(25)进行聚焦伺服控制(步骤S20)。控制单元58的此功能称为聚焦伺服控制单元。
在层信息作为地址信息的一部分记录在光学记录介质50的各个记录层2和5(22和25)的几乎整个表面的情况下,聚焦伺服电路55A可以在光学读写头53根据地址信息访问希望地址的情况下进行聚焦伺服控制。在层信息记录在光学记录介质50的记录管理区的情况下,聚焦伺服控制电路55A可以在该记录管理区中进行聚焦伺服控制。
当在具有多个记录层的光学记录介质上记录信息(或从其读取信息的情况下),可以对所述多个记录层中的任一个进行聚焦伺服控制。
接下来,控制单元58通过作为信号处理单元56的前置放大器56A、矩阵电路56B和解调电路56C读出记录在已对其进行了聚焦伺服控制记录层的层信息(步骤S30)。控制单元58的此功能称为层信息读取单元。
控制单元58判断根据在步骤S30读出的层信息而指定的记录层是否是在步骤S10指定的作为要在其上记录信息或从其读取信息的记录层的记录层(步骤S40)。控制单元58的此功能称为记录层判断单元。
作为判断结果,当控制单元58判断出根据读出的层信息指定的记录层是被指定作为要在其上进行记录的记录层的记录层(要在其上进行记录的特定记录层)时,控制单元58通过数据处理单元57和记录激光驱动器54Ab向光学读写头53给出记录指令。响应于此,激光二极管被驱动以在适合于记录层(根据层信息而指定的记录层)的记录条件(记录/读取条件)(例如记录脉冲策略、记录功率等)下将从个人计算机或另一设备发送的信息(数据)记录在根据对其进行了聚焦伺服控制的记录层的地址信息而指定的地址上,同时通过循轨伺服电路55B和循轨驱动器54C进行循轨控制(步骤S50)。控制单元58的此功能称为记录控制单元(记录/读取控制单元)。
同时,可以通过读取预先记录在光学记录介质上的记录/读取条件来根据这些条件确定记录/读取条件,或者可以根据作为层信息预先存储在记录/读取装置中的记录/读取条件来确定记录/读取条件。例如,可以在光学记录介质上记录记录推荐功率或读取推荐功率,驱动器可以将其读出并据此确定记录功率或读取功率。
另选地,可以将根据层信息的记录推荐功率或读取推荐功率存储在驱动器中,可以据此读出适合于层信息的记录推荐功率或读取推荐功率,并可以根据所读出的推荐记录功率或推荐读取功率确定记录功率或读取功率。
根据情况,可以在读出记录推荐功率后进行OPC(最佳功率控制),并可以确定记录功率。
当控制单元58判断出根据读出的层信息而指定的记录层是被指定为要从其中进行读取的记录层的记录层(要从其中进行读取的特定记录层)时,控制单元58通过读取激光驱动器54Aa向光学读写头53给出读取指令,以通过信号处理单元56在适合于该记录层(根据层信息而指定的记录层)的诸如读取功率等的读取条件(记录/读取条件)下对记录在根据对其进行了聚焦伺服控制的记录层的地址信息而指定的地址中的信息进行读取,同时通过循轨伺服电路55B和循轨驱动器54C进行循轨控制(步骤S50)。控制单元的此功能称为读取控制单元(记录/读取控制单元)。
当控制单元58判断出根据在步骤S40读出的层信息而指定的记录层不是要在其上进行记录(或从其进行读取)的记录层时,控制单元58返回到步骤S20,对另一记录层进行聚焦伺服控制,并重复类似的处理(步骤S20到S40),直到控制单元58判断出根据读出的层信息指定的记录层是要在其上进行记录(或从其进行读取)的记录层。
[第二记录/读取方法]
(介质加载时的处理)
根据本实施例,当光学记录介质加载到记录/读取装置(驱动器)时,根据来自控制单元58的指令读出与层信息相关联地记录在光学记录介质50上的各个记录层2和5(22和25)的记录/读取条件,如记录脉冲策略、记录推荐功率、读取推荐功率、循轨极性等(记录/读取条件读取步骤,记录/读取条件读取单元),将这些记录/读取条件与各个记录层2和5(22和25)的层信息相关联并存储在存储器58B中。
例如,在记录/读取条件仅记录在记录层2和5(22和25)之间的最靠近激光束入射侧的一层[第一记录层2(22)]上并且驱动器首先访问第一记录层2(22)的情况下,当加载介质时驱动器访问第一记录层2(22)并读出记录/读取条件。在这种情况下,预先确定第一记录层2(22)的循轨极性,并且从第一记录层2(22)读出的循轨极性是第二记录层5(25)而不是第一记录层2(22)的循轨极性。除了循轨极性之外的记录/读取条件是各个记录层2和5(22和25)的记录/读取条件。此外,当预先确定了并非第一记录层的第二记录层5(25)的循轨极性时,无需在第一记录层2(22)上记录该条件。
根据本实施例,具体地,将关于记录/读取条件(例如记录脉冲策略、记录推荐功率、读取推荐功率、循轨极性等)的信息记录为摆动或岸预制坑。为此,在诸如矩阵电路56B、解调电路56C等的信号处理单元56中对光学读写头53检测到的信息进行处理,并将其存储在控制单元58的存储器58B中。
当将关于记录/读取条件(例如记录脉冲策略、记录推荐功率、读取推荐功率、循轨极性等)的信息记录为ROM坑或记录坑时,在诸如矩阵电路、二进制编码电路、解调电路等的信号处理单元中对光学读写头53检测到的该信息进行处理,并将其存储在控制单元58的存储器58B中。
(光学记录介质的记录方法)
在用于光学记录介质的记录/读取装置(驱动器)60中,当从诸如个人计算机等的计算机(通过驱动器本身配备的诸如按钮等的输入单元)输入记录指令时,控制单元58访问介质的记录区中包括的内容信息区,并确定可以在哪个地址进行写入,如图5所示。控制单元58根据确定为可以在其进行写入的地址,确定要在哪个记录层上进行记录(步骤A10)。在控制单元58在介质被设置在驱动器上时访问内容信息区并预先读取内容信息的情况下,控制单元58可以根据预先读出的内容信息确定可以在哪个地址进行写入。
在层信息包括在地址信息中的情况下,控制单元58可以通过检测包括在地址信息中的层信息来确定可以在哪个记录层上进行记录。在向驱动器给出保持有彼此关联的地址信息和层信息的表的情况下,控制单元58可以利用该表根据地址信息确定层信息。
当输入了记录指令时,如上所述,控制单元58根据层信息指定要在其上进行记录的记录层。控制单元58的此功能称为记录层确定单元(记录层指定单元)。
接下来,控制单元58根据关于在步骤A10指定的记录层的层信息,从存储器58B读出记录脉冲策略(步骤A20),并对记录策略电路57B的记录脉冲策略进行设置(步骤A30)。
控制单元58根据关于在步骤A10指定的记录层的层信息,从存储器58B读出记录推荐功率(步骤A40),并根据所读取的记录推荐功率对记录激光驱动器54Ab的输出设置值进行设置(步骤S50)。
控制单元58进一步根据关于在步骤A10指定的记录层的层信息,从存储器58B读出循轨极性(步骤A60),并对循轨伺服电路55B的循轨极性进行设置(步骤A70)。
在如上所述设置了记录条件(记录/读取条件)之后,控制单元58向聚焦伺服电路55A给出聚焦伺服控制指令。响应于此,聚焦伺服电路55A通过聚焦驱动器54B和读写头致动器控制光学读写头53,以对第一记录层2(22)或者第二记录层5(25)进行聚焦伺服控制(步骤A80)。控制单元58的此功能称为聚焦伺服控制单元。
根据本实施例,由于将循轨伺服电路55B的循轨极性设置为适合于在步骤A10指定的记录层的循轨极性,所以以适合于在步骤A10指定的记录层的循轨极性进行循轨伺服控制。
在层信息作为地址信息的一部分记录在光学记录介质50的各个记录层2和5(22和25)的几乎整个表面的情况下,可以用控制单元58根据地址信息访问想要的地址来进行聚焦伺服控制。在层信息记录在光学记录介质50的记录管理区中的情况下,可以在记录管理区中进行聚焦伺服控制。
在信息记录在具有多个记录层的光学记录介质的情况下,可以对所述多个记录层中的任一个进行聚焦伺服控制。
接下来,控制单元58通过作为信号处理单元56的前置放大器56A、矩阵电路56B和解调电路56C读出记录在对其进行了聚焦伺服控制的记录层的层信息(步骤A90)。控制单元58的此功能称为层信息读取单元。
控制单元58判断根据在步骤A90读出的层信息而指定的记录层是否是在步骤A10指定的记录层(步骤A100)。即,控制单元58判断在步骤A90读取的层信息与在步骤A10指定的记录层的层信息是否一致。控制单元58的此功能称为记录层判断单元(层信息判断单元)。
作为判断结果,当控制单元58判断出根据读取的层信息而指定的记录层是在步骤A10指定的记录层(要在其上进行记录的特定记录层)(即,控制单元58判断出两条层信息相互一致)时,控制单元58通过记录激光驱动器54Ab对从激光二极管输出的激光束进行最佳功率控制(OPC)(步骤A110)。即,控制单元58以各种功率的激光束在设置在对其进行了聚焦伺服控制的记录层的内周侧(或外周侧)的功率校准区(PCA,试写区)中进行试写,由此将激光功率调整到适合于在步骤A10指定的记录层的最佳功率。
根据本实施例,将记录激光驱动器54Ab的输出设置值设置为适合于记录层的预定记录推荐功率,由此可以快速进行最佳功率控制。
另一方面,当控制单元58判断出根据在步骤A100读出的层信息而指定的记录层不是要在其上进行记录的记录层(即,控制单元58判断出两条层信息不相互一致)时,控制单元58返回到步骤A80,对另一记录层进行聚焦伺服控制,并重复类似处理,直到控制单元58判断出根据层信息指定的记录层是要在其上进行记录的记录层(步骤A80到A100)。
在如上所述进行了最佳功率控制之后,控制单元58通过数据处理单元57和记录激光驱动器54Ab向光学读写头53给出记录指令。响应于此,激光二极管被驱动以在适合于记录层的记录条件(记录/读取条件)下将例如从个人计算机或其他设备发送的信息(数据)记录在根据对其进行了聚焦伺服控制的记录层的地址信息而指定的地址中(步骤A120)。控制单元58的此功能称为记录控制单元(记录/读取控制单元)。
根据本实施例,由于如上所述地将记录策略电路57B的记录脉冲策略(记录脉冲调制模式)设置为适合于在步骤A10指定的记录层的记录脉冲策略,所以以适合于要在其上进行记录的记录层的记录脉冲策略进行了对信息的记录。
根据本实施例,如上所述地将从记录激光驱动器54Ab输出的激光束的功率(记录功率)控制到适合于在步骤A10指定的记录层的最佳功率,以适合于要在其上进行记录的记录层的激光功率进行了对信息的记录。
(光学记录介质的读取方法)
在用于光学记录介质的记录/读取装置(驱动器)60中,当从诸如个人计算机等的计算机(通过驱动器自身配备的诸如按钮的输入单元)输入了读取指令时,控制单元58根据读取指令中包括的地址信息确定要读取哪个记录层,如图6所示(步骤B10)。
在这种情况下,当将介质设置到驱动器时,可以读出内容信息(表示在哪个地址记录了什么信息的信息),例如可以在计算机的屏幕上显示图标,并且当用户点击该图标时可以向驱动器输入包括地址信息的读取指令。
当如上所述地输入了读取指令时,控制单元58指定要从其中进行读取的记录层。控制单元58的此功能称为记录层确定单元(记录层指定单元)。
接下来,控制单元58根据在步骤B10指定的记录层的层信息,从存储器58B读出循轨极性(步骤B20),并设置循轨伺服电路55B的循轨极性(步骤B30)。
在如上所述地设置了读取条件(记录/读取条件)之后,控制单元58向聚焦伺服电路55A发出聚焦伺服控制指令。响应于此,聚焦伺服电路55A通过聚焦驱动器54B和读写头致动器对光学读写头53进行控制,以对第一记录层2(22)或者第二记录层5(25)进行聚焦伺服控制(步骤B40)。控制单元58的此功能称为聚焦伺服控制单元。
根据本实施例,由于如上所述地将循轨伺服电路55B的循轨极性设置为适合于在步骤B10指定的记录层的循轨极性,所以以适合于要从其进行读取的记录层的循轨极性进行循轨控制。
在层信息被作为地址信息的一部分记录在光学记录介质50的各个记录层2和5(22和25)的几乎整个表面上的情况下,可以用控制单元58根据地址信息访问希望地址来进行聚焦伺服控制。在层信息记录在光学记录介质50的记录管理区中的情况下,可以在该记录管理区中进行聚焦伺服控制。
在具有多个记录层的光学记录介质上进行信息读取的情况下,可以在所述多个记录层中的一个上进行聚焦伺服控制。
接下来,控制单元58通过作为信号处理单元56的前置放大器56A、矩阵电路56B和解调电路56C读出记录在对其进行了聚焦伺服控制的记录层的层信息(步骤S50)。控制单元58的此功能称为层信息读出单元。
控制单元58判断根据在步骤B50读出的层信息而指定的记录层是否是在步骤B10指定的记录层(步骤B60)。即,控制单元58判断在步骤B50读出的层信息与在步骤B10指定的记录层的层信息是否一致。控制单元58的此功能称作记录层判断单元(层信息判断单元)。
作为该判断的结果,当控制单元58判断出根据读取的层信息而指定的记录层是在步骤B10指定的记录层(要从其中进行读取的特定记录层)(即,控制单元58判断出两条层信息相互一致)时,控制单元58通过读取激光驱动器54Aa向光学读写头53给出读取指令。响应于此,激光二极管被驱动以在适合于记录层的记录条件(记录/读取条件)下通过信号处理单元56对记录在根据对其进行了聚焦伺服控制的记录层的地址信息而指定的地址中的信息进行读取(步骤B70)。控制单元58的此功能称作读取控制单元(记录/读取控制单元)。
根据本实施例,由于将从读取激光驱动器54Aa输出的激光束的功率(读取功率)控制到适合于在步骤B10指定的记录层的最佳功率,所以以适合于要从其进行读取的记录层的激光功率进行了对信息的读取。
当控制单元58在步骤B60判断出根据读取的层信息而指定的记录层不是要从其进行读取的记录层(即,控制单元58判断出两条层信息相互不一致)时,控制单元58返回到步骤B40,对另一记录层进行聚焦伺服控制,并重复类似处理(步骤B40到B60),直到控制单元58判断出根据读取的层信息而指定的记录层是要从中进行读取的记录层(即,两条记录信息相互一致)。
根据本实施例的光学记录介质、用于该光学记录介质的记录/读取方法和记录/读取装置的优点是:因为层信息记录在光学记录介质上,所以可以根据要在其上记录信息或者从其读取信息的记录层来即时地切换记录/读取条件,如记录脉冲策略、记录功率、读取功率等。
还可以在适合于要在其上进行信息的记录或读取的记录层的记录/读取条件(例如,循轨极性、记录脉冲策略、记录功率、读取功率等)下准确可靠地进行对信息的记录或读取。
注意,本发明并不限于以上示例,而是可以在不脱离本发明范围的情况下以各种方式进行修改。
本申请基于2002年12月17日提交的日本专利申请No.2002-365542,2003年8月20提交的日本专利申请No.2003-295988,以及2002年12月17日提交的日本专利申请No.2002-365541,在此通过引用并入其全部内容。

Claims (16)

1、一种用于光学记录介质的记录/读取方法,所述光学记录介质具有可以通过从其一侧照射激光束来在其上记录信息或从其中读取信息的多个记录层,所述记录/读取方法包括以下步骤:
层信息读取步骤,通过控制单元从所述多个记录层中的一个读取记录在所述多个记录层中的每一个上的层信息;以及
记录/读取控制步骤,通过所述控制单元进行控制,以使得在适合于根据所述层信息而指定的记录层的记录/读取条件下进行记录或读取。
2、根据权利要求1所述的用于光学记录介质的记录/读取方法,还包括以下步骤:
记录/读取条件读取步骤,通过所述控制单元读取记录在所述光学记录介质中的针对所述记录层中的每一个的记录/读取条件。
3、一种用于光学记录介质的记录/读取装置,所述光学记录介质具有可以通过从其一侧照射激光束来在其上记录信息或从其中读取信息的多个记录层,所述记录/读取装置包括:
层信息读取单元,用于从所述多个记录层中的一个读取记录在所述多个记录层中的每一个上的层信息;以及
记录/读取控制单元,用于进行控制,以使得在适合于根据所述层信息而指定的记录层的记录/读取条件下进行记录或读取。
4、根据权利要求3所述的用于光学记录介质的记录/读取装置,还包括:
记录/读取条件读取单元,用于读取记录在所述光学记录介质中的针对所述记录层中的每一个的记录/读取条件。
5、一种光学记录介质,在其上以根据权利要求1所述的用于光学记录介质的记录/读取方法进行记录或读取,所述光学记录介质包括:
多个记录层,可以通过从其一侧照射激光束在其上记录信息或从其中读取信息;
所述记录层的每一个,其上记录有层信息。
6、根据权利要求5所述的光学记录介质,其中,所述层信息被记录在所述记录层中的每一个的几乎整个表面上。
7、根据权利要求5或6所述的光学记录介质,其中,所述层信息被记录为地址信息的一部分。
8、根据权利要求5到7中任一项所述的光学记录介质,其中,所述层信息是通过使所述记录层的地址信息中包括的保留位的值互不相同而被记录的。
9、根据权利要求5到7中任一项所述的光学记录介质,其中,所述层信息是通过将所述多个记录层中的相邻两个记录层中的任一个的地址信息中包括的同步图案反转而被记录的。
10、根据权利要求5到7中任一项所述的光学记录介质,其中,所述层信息是通过以下方式中的任意一种而被记录的:将所述多个记录层中的两个相邻记录层中的任一个的地址信息的最高有效位反转、将一个记录层的全部地址信息的所有位反转、以及通过二的补码表示一个记录层的全部地址信息。
11、根据权利要求9或10所述的光学记录介质,其中,所述光学记录介质具有两个记录层作为所述多个记录层。
12、根据权利要求5到11中任一项所述的光学记录介质,其中,针对所述记录层中的每一个的所述记录/读取条件中的至少一个被记录。
13、根据权利要求12所述的光学记录介质,其中,所述记录/读取条件包括循轨信息。
14、根据权利要求12或13所述的光学记录介质,其中,所述记录/读取条件包括记录脉冲策略和/或记录推荐功率。
15、根据权利要求12到14中任一项所述的光学记录介质,其中,所述记录/读取条件被记录在所述记录层中的最接近激光束入射侧的层上。
16、根据权利要求5到15中任一项所述的光学记录介质,其中,所述记录层中的每一个是包含染料的记录层。
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