CN1705899A - 液晶薄膜和椭圆偏光板的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种无支持基板薄膜的薄膜化液晶薄膜制造方法，其通过将取向基板上的液晶取向被固定的液晶物质层通过粘结剂与由皂化处理过的三乙酰基纤维素薄膜形成的再剥离性基板粘结后，剥离取向基板，将液晶物质层转印至再剥离性基板上，此后剥离再剥离性基板可制造出液晶薄膜，该薄膜满足制造时所需的机械强度、良好剥离性，并且可容易地进行光学缺陷检查。

Description

液晶薄膜和椭圆偏光板的制造方法

技术领域

本发明涉及一种在各种光学元件中有用的液晶薄膜和椭圆偏光板的制造方法。

背景技术

由液晶化合物取向层形成的薄膜(film)、特别是由向列结构，或者扭转向列结构取向被固定的液晶物质形成的薄膜作为液晶显示元件用的色补偿或视野角补偿用的元件，或者作为旋光性光学元件等具有优异的性能，期望各种显示元件具有较高的性能，并减轻质量。作为这些薄膜的制造方法，已提出将在取向性基板上形成的由液晶物质构成的层转印至兼作支持基板的透光性基板上的方法(特开平4-57017号公报、特开平4-177216号公报)。另外，作为液晶显示用元件中所需求的耐受严格耐久性试验用的对策，为进一步使其变薄、减轻质量，还提出了不使用支持基板薄膜的由液晶物质构成的光学元件的制造方法(特开平8-278491号公报)。

根据该制造方法，通过将由取向性基板上取向形成的液晶物质构成的层由粘结剂一次性地转印至再剥离基板后，对该再剥离性基板进行剥离，可制造出不使用支持基板的由液晶物质构成的光学元件。另外，本发明人等为满足制造时所要求的机械强度、良好的剥离性，同时容易地对光学缺陷进行检查，还对使用单轴延伸的聚酯薄膜作为再剥离性基板的制造方法申请了专利(特愿2001-313506)。

但是，即使在使用单轴延伸薄膜的情况下，在其与液晶显示元件用补偿板等光学元件的贴合角度或观察时所用偏光板的轴配置方面，光学缺陷的检查存在可能条件的限制，此外从斜向观察时，由于残留双折射的影响，存在不能看见缺陷等的问题。另一方面，特别是相对有源型液晶显示元件用视野角补偿板等的光学元件的缺陷检查基准变得非常严格，即使是在使用单轴延伸聚酯的情况下，也难以看见几十微米的微细缺陷。

为改善检查性能，希望使用双折射性尽可能小的光学同方性薄膜，但现状是几乎没有可满足无支持基板的液晶物质层制造中所必要的剥离性、强度、膜厚等的光学同方性薄膜，特别是由于难以对剥离性进行控制，因此非常难以实现所需求的适度剥离性。

发明内容

本发明的目的是解决上述问题，以在无支持基板薄膜的薄膜化液晶薄膜的制造方法中容易进行光学缺陷的检测，并且使得剥离时的剥离性良好，通过对再剥离性基板进行充分研究，结果发现通过使用皂化处理的三乙酰基纤维素薄膜，可满足制造时所要求的机械强度，良好剥离性，同时可容易对光学缺陷进行检查，由此完成本发明。

即，本发明第1技术方案涉及一种液晶薄膜的制造方法，其特征为将取向基板上的液晶取向被固定的液晶物质层通过粘结剂与由皂化处理过的三乙酰基纤维素薄膜形成的再剥离性基板进行粘结后，剥离取向基板，将液晶物质层转印至再剥离性基板上，此后剥离再剥离性基板。

另外，本发明的第2技术方案涉及一种椭圆偏光板的制造方法，其特征为将取向基板上的液晶取向被固定的液晶物质层通过粘结剂与由皂化处理过的三乙酰基纤维素薄膜形成的再剥离性基板进行粘结后，剥离取向基板，将液晶物质层转印至再剥离性基板上，此后剥离再剥离性基板，然后贴附偏光板。

另外，本发明的第3技术方案涉及一种液晶薄膜的制造方法，其特征为将取向基板上的液晶取向被固定的液晶物质层通过粘结剂与第一再剥离性基板粘结后，剥离取向基板，将液晶物质层转印至第一再剥离性基板上，此后通过粘结剂使其与由皂化处理过的三乙酰基纤维素薄膜形成的第二再剥离性基板进行粘结，此后剥离第一再剥离性基板，将液晶物质层转印至第二再剥离性基板上，此后剥离第二再剥离性基板。

另外，本发明的第4技术方案涉及一种椭圆偏光板的制造方法，其特征为将取向基板上的液晶取向被固定的液晶物质层通过粘结剂与第一再剥离性基板粘结后，剥离取向基板，将液晶物质层转印至第一再剥离性基板上，此后通过粘结剂使其与由皂化处理过的三乙酰基纤维素薄膜形成的第二再剥离性基板进行粘结，此后剥离第一再剥离性基板，将液晶物质层转印至第二再剥离性基板上，此后剥离第二再剥离性基板，然后贴合偏光板。

具体实施方式

在本发明中使用的液晶取向固定的液晶物质层是一种采用对存在取向状态的液晶物质进行固定的方式而被固定化的层，作为固定化的方式，在为高分子液晶物质的情况下，可例举出从取向状态迅速冷却、形成玻璃状态而被固定的方法，以及使得具有反应性官能基的低分子或高分子液晶物质取向后，使得所述官能基反应(固化、交联等)而进行固定的方法等。

作为上述反应性官能基，可举出乙烯基、(甲基)丙烯酰基、乙烯基氧基、环氧基、氧杂环丁烷基、羧基、羟基、氨基、异氰酸酯基、酸酐等，可以适合于这些各个基团的方法来进行反应。

可在液晶物质层中使用的液晶物质，根据液晶薄膜的最终目的或制造方法，可以从无论是低分子液晶物质还是高分子液晶物质的较宽范围内进行选择，但优选高分子液晶物质。另外，液晶物质的分子形状可以为棒状，也可以为圆盘状。例如也可使用显示盘状(ディスコティック)向列液晶性的盘状液晶化合物。

作为固定化前的液晶物质层的液晶相，可举出向列相、扭转向列相、胆甾醇相、杂混向列相、杂混扭转向列相、盘状向列相、蝶状结构液晶相等。

作为上述高分子液晶物质，可使用各种主链型高分子液晶物质、侧链型高分子液晶物质或这些物质的混合物。作为主链型高分子液晶物质，可举出聚酯类、聚酰胺类、聚碳酸酯类、聚酰亚胺类、聚氨酯类、聚苯并咪唑类、聚苯并噁唑类、聚苯并噻唑类、聚偶氮甲碱(azomethine)类、聚酯酰胺类、聚酯碳酸酯类、聚酯酰亚胺类等的高分子液晶物质，或者这些物质的化合物等。此外，作为侧链型高分子液晶物质，可举出聚丙烯酸酯类、聚甲基丙烯酸酯类、聚乙烯类、聚硅氧烷类、聚醚类、聚苹果酸酯类、聚酯类等的具有直链状或环状结构骨架链的物质上结合作为侧链的メソゲン基的高分子液晶物质，或者这些物质的混合物。其中从合成以及取向的容易程度看，优选主链型高分子液晶物质的聚酯类。

作为低分子液晶物质，可举出饱和苯羧酸类、不饱和苯羧酸类、联苯基羧酸类、芳香族氧代羧酸类、席夫碱型类、二偶氮甲碱类、偶氮化合物类、氧化偶氮化合物类、环己烷酯化合物类、甾醇化合物类等末端上导入反应性官能基而显示液晶性的化合物，或者向上述化合物类中显示液晶性的化合物中添加交联性化合物形成的组合物等。此外，作为盘状液晶化合物，可举出苯并菲类、三苄基苯类等。

另外，还可在液晶物质中在不妨碍液晶性显示的范围内配合各种化合物，这些化合物具有通过热或光交联反应等可进行反应的官能基或部位。作为可进行交联反应的基团，可举出上述各种反应性官能基等。

液晶取向被固定的液晶物质层可通过以下方式形成：将包含所述液晶物质或根据需要添加的各种化合物的组合物以熔融状态涂布在取向基板上的方法；或者将该组合物溶液涂布在取向基板上的方法等形成涂膜，将该涂布在取向基板上的涂膜经过干燥、热处理(液晶取向)，根据需要进行光照射和/或加热处理(聚合、交联)等的使上述取向固定的手段，以使取向固定的方式形成。

对于上述溶液配制中使用的溶剂，只要该溶剂可溶解本发明中使用的液晶物质或组合物，并且可在适当条件下馏去，就对其无特别限制，一般优选使用丙酮、甲基乙基酮、异弗尔酮等的酮类；丁氧基乙基醇、己基氧基乙基醇、甲氧基-2-丙烷等的醚酮类；乙二醇二甲醚、二乙二醇二甲醚等的二醇醚类；醋酸乙酯、醋酸甲氧基丙酯、乳酸乙酯等的酯类；苯酚、氯代苯酚等的酚类；N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮等的酰胺类；氯仿、四氯乙烷、二氯代苯等的卤素化烃类等，或者这些溶剂的混合体系。另外，为了在取向基板上形成均一涂膜，还可向溶液中添加表面活性剂、消泡剂、流平剂等。另外，为了着色的目的，在不妨碍液晶性显示的范围内，还可添加双色性染料或通常的染料、颜料等。

对于涂布方法，可采用公知方法，只要该方法可确保涂膜的均一性则对其无特别限制。例如可举出辊涂法、模涂法、浸涂法、帘涂法和旋涂法等。在涂布后，还可加入由加热或吹温热风等的方法除去溶剂(干燥)的工序。涂布膜在干燥状态下的膜厚为0.1μm到50μm，优选为0.2μm到20μm。在该范围以外，所得液晶物质层的光学性能不足，或者液晶物质的取向变得不足等，从而不优选。

此外，如果需要通过进行热处理等，形成液晶取向后，进行取向的固定化。热处理是通过在液晶相显示温度范围内进行加热，由液晶物质自身具有的自取向能使得液晶取向的步骤。作为热处理的条件，根据所用液晶物质的液晶相动作温度(转移温度)，其最佳条件和界限值是不同的，因此不能一概而论，但是通常在10-300℃、优选在30-250℃范围内。过低的温度可能使得液晶的取向不能充分进行，而在高温下，液晶物质可能分解或者对取向基板造成不利影响。另外，对于热处理时间，通常为3秒-60分，优选在10秒-30分钟的范围内。比3秒时间短的热处理时间将可能使得液晶取向不能充分完成，而超过60分钟的热处理时间将使得生产性极差，因此在这两种情况下均不优选。液晶物质在通过热处理等完成液晶取向后，使用适合于所用液晶物质的方式对保持该状态下的取向基板上的液晶物质层进行固定。

作为取向基板，可例举出聚酰亚胺、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺、聚苯撑硫化物、聚苯撑氧化物、聚醚酮、聚醚醚酮、聚醚砜、聚砜、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘酸乙二醇酯、聚丙烯酸酯、三乙酰基纤维素、环氧树脂、苯酚树脂等的薄膜。

这些薄膜根据制造方法发生改变，即使不另外进行用于显示取向能的处理，对于本发明中使用的液晶物质也显示出足够的取向能，但是在取向能不足，或者不显示取向能等的情况下，也可在适度加热下对这些薄膜进行延伸，对薄膜表面用人造纤维布等在单方向上进行擦拭，也即摩擦处理，在薄膜上设置由聚酰亚胺、聚乙烯醇、硅氧烷偶合剂等公知取向剂形成的取向膜并进行摩擦处理，氧化硅等斜方蒸镀处理或者将这些方法进行适宜组合等，使用可显示取向能的薄膜。

而作为取向基板，可使用在表面上设置了大量规则微细沟槽的铝、铁、铜等的金属板或各种玻璃板等。

在取向基板上形成的液晶物质层之后通过粘结剂与再剥离性基板粘结。

作为该粘结剂，只要相对液晶物质层和再剥离性基板具有足够的粘结力，并且在此后的工序中可剥离再剥离性基板，不损坏液晶物质层的光学特性的话，对其没有特别限制，例如可举出丙烯酸树脂类、甲基丙烯酸树脂类、环氧树脂类、乙烯-醋酸乙烯共聚物类、橡胶类、氨基甲酸酯类、聚乙烯醚类和这些物质的混合物、热固化型和/或光固化型、电子线固化型等各种反应性物质。这些粘结剂还兼具保护液晶物质层的透明保护层的功能。另外，作为上述粘结剂还可使用胶粘剂。

上述反应性物质的反应(固化)条件根据构成粘结剂的成分、粘度和反应温度等的条件发生变化，因此可选择与各种情况对应的条件。例如为光固化型的情况下，可优选添加各种公知的光引发剂，照射从金属卤化物灯、高压水银灯、低压水银灯、氙灯、弧光灯、激光、同步辐射光源等的光源发出的光，进行反应。作为每电位面积(1平方厘米)的照射量，作为积分照射量，通常为1-2000mJ，优选在10-1000mJ的范围内。但是，当光引发剂的吸收区域和光源的光谱显著不同的情况下，或者反应性化合物自身对光源波长具有吸收能的情况下等，则不受此限制。在这些情况下，还可采用使用适当光增感剂、或者将吸收波长不同的2种以上光引发剂混合使用等的方法，由此进行反应。在为电子线固化型的情况下，加速电压通常为10kV-200kV，优选为50kV-100kV。

粘结剂的厚度根据构成如上所述的粘结剂的成分、粘结剂的强度和使用温度等有所不同，通常为1-50μm，优选为3-30μm，在该范围以外时，粘结强度不足或者存在从端部渗出的情况，从而不优选。

另外，在不损害这些粘结剂特性的范围内，为控制光学特性和控制基板剥离性或侵蚀性，还可向其中添加各种微粒等或表面改性剂。

作为上述微粒，可举出与构成粘结剂的化合物折射率不同的微粒、不损坏透明性并且用于提高防带电性的导电性微粒、提高耐磨损性用的微粒等，更具体地可举出微细的二氧化硅、微细的氧化铝、ITO(氧化铟锡)微粒、银微粒、各种合成树脂微粒等。

另外，作为上述表面改性剂，只要其与粘结剂的相溶性好、不影响粘结剂的固化性以及固化后的光学性能，则对其无特别限制，可使用离子性、非离子性的水溶性表面活性剂、油溶性表面活性剂、高分子表面活性剂、氟素类表面活性剂、硅氧烷等的有机金属类表面活性剂、反应性表面活性剂等。特别是全氟代烷基化合物、全氟代聚醚化合物等的氟素类表面活性剂或硅氧烷等的有机金属类表面活性剂，其表面改性效果较大，因此特别优选。表面改性剂的添加量相对于粘结剂优选在0.01-10质量％的范围内，更优选在0.05-5质量％的范围内，进一步优选为0.1-3重量％。当添加量比该范围小得多时，添加效果不足，另一方面，当添加量过多时，可能产生粘结强度过于降低等的不利情况。另外，表面活性剂可单独使用，还可根据需要将多种类并用。

另外，在不损害本发明效果的范围内，还可配合防氧化剂、紫外线吸收剂等的各种添加剂。

在本发明的第1技术方案和第2技术方案中，作为再剥离性基板使用皂化处理过的三乙酰基纤维素(TAC)薄膜。另外，在本发明的笫3技术方案和第4技术方案中，作为第二再剥离性基板使用皂化处理过的三乙酰基纤维素(TAC)薄膜。

在使用皂化处理过的三乙酰基纤维素薄膜作为第二再剥离性基板的本发明第3技术方案和第4技术方案中，作为第一再剥离性基板，可使用以下薄膜。即，聚乙烯、聚丙烯、4-甲基戊烯-1树脂等的烯烃类树脂、聚酰胺、聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚醚酰亚胺、聚醚酮、聚醚醚酮、聚醚砜、聚酮硫化物、聚砜、聚苯乙烯、聚苯撑硫醚、聚苯撑氧化物、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚丙烯酸酯、聚缩醛、单轴延伸的聚酯、聚碳酸酯、聚乙烯醇、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸酯、无定形聚烯烃、三乙酰基纤维素或者环氧树脂等的塑料薄膜。

为使这些塑料薄膜具有适度再剥离性，可预先在其表面上涂布硅氧烷，或者可形成有机薄膜或无机薄膜。另外，以同样目的，还可对塑料薄膜表面施加化学处理，或者施加如电晕处理的物理处理。

另外，为调整再剥离性基板的剥离性，还可使其含有润滑剂或表面改性剂。作为上述润滑剂，只要在不对光学缺陷检查性能和剥离性产生不利影响的范围内，对其种类、添加量没有特别限制。作为润滑剂的具体实例，可举出微细的二氧化硅、微细的氧化铝等。作为添加量的指标，可使得再剥离性基板的浊度值通常在50％以下，优选在30％以下。添加量过少时，不能确认有添加效果，另一方面，在添加量过多的情况下，光学缺陷检查性能变差，因此不优选。

另外，作为上述表面改性剂，只要其与粘结剂的相溶性好、不影响粘结剂的固化性以及固化后的光学性能，则对其无特别限制，可使用离子性、非离子性的水溶性表面活性剂、油溶性表面活性剂、高分子表面活性剂、氟素类表面活性剂、硅氧烷等的有机金属类表面活性剂、反应性表面活性剂等。特别是全氟代烷基化合物、全氟代聚醚化合物等的氟素类表面活性剂或硅氧烷等的有机金属类表面活性剂，其表面改性效果较大，因此特别优选。表面改性剂的添加量相对粘结剂优选在0.01-10质量％的范围内，更优选在0.05-5质量％的范围内，进一步优选为0.1-3重量％。当添加量比该范围小得多时，添加效果不足，另一方面，当添加量过多时，可能产生粘结强度过于降低等的不利情况。另外，表面活性剂可单独使用，还可根据需要将多种类并用。

另外，还可根据需要，使其含有其他公知的各种添加剂，例如防结块剂、防氧化剂、防带电剂、热稳定剂、耐冲击性改进剂等。

关于再剥离性基板的剥离力，即使为同一材料制造出的再剥离性基板，根据制造方法、表面状态以及与所用粘结剂的润湿性等该剥离力发生改变，因此不能一概地确定，但是与粘结剂相接触的界面处的剥离力(180°剥离、剥离速度30cm/分、室温下测定)通常为0.38-12N/m，优选为0.38-8.0N/m。当剥离力低于该范围值的情况下，在将取向基板上的液晶物质层与再剥离性基板粘结后，剥离取向基板时，剥离力过低，可发现其浮在再剥离性基板上，或者不能在所希望的界面处获得良好的剥离状态，从液晶物质层到再剥离性基板的转印变得不足。另外，当剥离力过高的情况下，在剥离再剥离性基板时，液晶物质层被破坏或者在与所需层的界面处不能剥离等，从而不优选。

另外，再剥离性基板的厚度有时也对剥离性产生影响，优选其为16-100μm、特别优选为25-50μm。厚度太厚时，可能剥离点不稳定，使得剥离性变差，另一方面，当厚度太薄时，由于不能确保薄膜的机械强度，因此在制造中可能会发生拉裂等的问题。

以下对本发明中使用的皂化处理过的三乙酰基纤维素薄膜进行描述。作为皂化处理中使用的水溶液中添加的碱，可举出氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂、氢氧化钙等。根据这些碱水溶液的碱浓度、浸渍温度和浸渍时间，可控制皂化处理的程度。作为有效进行皂化处理的条件，通常作为碱浓度为5-30重量％左右，作为浸渍温度为30-70℃、作为浸渍时间为30秒-10分钟左右，在这些条件下进行处理。在碱水溶液中浸渍后，进行水洗、干燥处理。另外，还可在水洗前，使用1N左右的盐酸等进行中和处理。

皂化处理的程度，例如可通过相对与水的接触角进行估计，优选处理至接触角在40度以下，优选至30度以下。在皂化处理不足的情况下，三乙酰纤维素薄膜和粘结剂的粘结力过强，在制造工序中可能难以将三乙酰纤维素薄膜剥离。另外，在此所述的接触角表示静止接触角，该接触角的测定方法是采用接触角计(协和界面科学株式会社制作、自动接触计CA-Z型)，在20℃、65％RH的条件下在针尖上制作体积为4μl的水滴，使其与薄膜接触，在薄膜表面上制成液滴，测定此时产生的液滴和表面界面之间的角度，将该角度作为静止接触角。

另外，即使为皂化处理过的三乙酰纤维素薄膜的情况下，薄膜厚度有时会对剥离性产生影响，与上述再剥离性基板一样，优选其厚度为16-100μm、特别优选为25-50μm。厚度太厚时，可能剥离点不稳定，使得剥离性变差，另一方面，当厚度太薄时，由于不能确保薄膜的机械强度，因此在制造中可能会发生拉裂等的问题。

作为本发明液晶薄膜制作方法之一，其特征为在取向基板上将液晶取向被固定的液晶物质层通过粘结剂与由皂化处理过的三乙酰基纤维素薄膜形成的再剥离性基板进行粘结后，剥离取向基板，将液晶物质层转印至再剥离性基板上，此后剥离再剥离性基板。

作为液晶薄膜的制作方法，对其没有特别限制，作为一个实例，可以以下方法进行制作。

首先，在取向基板上以合适的方法形成液晶物质的涂膜，根据需要除去溶剂等，通过加热等完成液晶取向，根据适于所用液晶物质的方式使得液晶物质层的取向固定。此后，在取向被固定的液晶物质层上形成粘结剂层，通过粘结剂层将液晶物质层与由皂化处理过的三乙酰基纤维素薄膜形成的再剥离性基板紧密粘结后，根据需要使粘结剂层反应(固化)后，剥离取向基板，

由此，可将取向固定了的液晶物质层转印至由皂化处理过的三乙酰基纤维素薄膜形成的再剥离性基板上。在本发明中，这样获得了在再剥离性基板上通过粘结剂粘结的液晶物质层形成的层叠物后，剥离该再剥离性基板，获得液晶薄膜。这样就制造出了液晶薄膜。

对于所得的液晶薄膜，为保护液晶物质层的表面，可在露出的液晶物质层上设置透明保护膜，或者贴合表面保护膜。作为透明保护层，还可从上述粘结剂中选择。

作为本发明液晶薄膜制作方法的另一方法，其特征为将取向基板上的液晶取向被固定的液晶物质层通过粘结剂与第一再剥离性基板粘结后，剥离取向基板，将液晶物质层转印至第一再剥离性基板上，此后通过粘结剂使其与由皂化处理过的三乙酰基纤维素薄膜形成的第二再剥离性基板进行粘结，此后剥离第一再剥离性基板，将液晶物质层转印至第二再剥离性基板(皂化处理过的TAC薄膜)上，此后剥离第二再剥离性基板。在此作为第一剥离性基板可从上述再剥离性基板中进行任意选择。

在本发明的制作工序中，对于在皂化处理过的三乙酰基纤维素薄膜薄膜上形成的液晶物质层，可在保持原有的状态下容易地检测出其光学缺陷。另外，在剥离时，不会发生由于剥离不佳造成的液晶物质层的损坏或者在其他界面处不剥离的情况，可获得良好剥离状态。

作为光学缺陷的检测方法，对其没有特别限制，但是可举出在正交方向上配置2张偏光板的吸收轴，在其间配置皂化处理过的三乙酰基纤维素薄膜和液晶物质层形成的层叠薄膜，在偏光板的下部照射白色光，从反对的方向进行目测观察的方法，或者采用线型相机的自动化法等。根据所述液晶物质层的阻滞作用(双折射和液晶物质层厚度的乘积)，偏光板的吸收轴无需一定正交配置，还可设定为容易检测光学缺陷的任意角度。

对于所得的液晶薄膜，为保护液晶物质层的表面，可在露出的液晶物质层上设置透明保护膜，或者贴合表面保护膜。作为透明保护层，还可从上述粘结剂中选择。

在本发明中，还可通过以下方法制作一种椭圆偏光板，其中将取向基板上的液晶取向被固定的液晶物质层通过粘结剂与由皂化处理过的三乙酰基纤维素薄膜形成的再剥离性基板进行粘结后，剥离取向基板，将液晶物质层转印至再剥离性基板上，此后剥离再剥离性基板，然后贴附偏光板。

另外，在本发明中还可通过以下方法制作椭圆偏光板，其中将取向基板上的液晶取向被固定的液晶物质层通过粘结剂与第一再剥离性基板粘结后，剥离取向基板，将液晶物质层转印至第一再剥离性基板上，此后通过粘结剂使其与由皂化处理过的三乙酰基纤维素薄膜形成的第二再剥离性基板进行粘结，此后剥离第一再剥离性基板，将液晶物质层转印至第二再剥离性基板上，此后剥离第二再剥离性基板，然后贴合偏光板。

对液晶薄膜贴附偏光板的面无特别限制，可在取向基板剥离面侧，还可在第一再剥离性基板的剥离面侧。偏光板的贴附面根据用途、制作方法等可适宜选择。

本发明的椭圆偏光板除了偏光板和液晶薄膜以外，还可含有1层或多层防反射层、防眩处理层、硬涂层、光扩散层。与偏光板贴合或在粘结时使用的粘结剂等只要为光学级别，则对其无特别限制，例如可使用上述粘结剂中的合适物质。

在本发明椭圆偏光板中使用的偏光板，只要其可达到本发明的目的，对其无特别限制，可适宜使用液晶显示装置中通常使用的偏光板，但优选使用近年来开发上市的薄膜型偏光板。具体地可使用如聚乙烯醇(PVA)或部分缩醛化的PVA的PVA类偏光膜、在由乙烯-醋酸乙烯共聚物的部分皂化物等形成的亲水性高分子薄膜上吸附碘和/或双色型色素并延伸形成的偏光膜、由类似PVA的脱水处理物或聚氯乙稀的脱盐酸处理物的聚烯取向膜等形成的偏光膜等。另外还可使用反射型偏光膜。

在上述偏光板中，偏光膜可单独使用，为提高强度、提高吸湿性、提高耐热性等，还可在偏光膜的单个表面或两个表面上设置透明保护层等。作为透明保护层，可举出直接层叠或通过粘结剂层叠聚酯或三乙酰基纤维素等透明塑料薄膜形成的层、树脂涂布层、丙烯类或环氧类等光固化型树脂层等。这些透明保护层覆盖在偏光膜的两个表面上时，可在两个表面上同时设置透明保护层，或者设置不同的透明保护层。

另外，在上述制造工序中，在剥离皂化处理过的三乙酰基纤维素薄膜之前，或者在剥离后，通过与其它光学异方性薄膜贴合或粘结，根据需要剥离皂化处理过的三乙酰基纤维素薄膜，可获得具有液晶薄膜的各种光学元件。

即使在该光学元件中，在与光学异方性薄膜贴合前，在皂化处理过的三乙酰基纤维素薄膜上形成的液晶物质层可直接以层叠状态容易地检测出光学缺陷。

另外，还可根据需要层叠多层上述各种薄膜或层，将同一面，例如液晶物质层根据需要互相粘结，或者通过粘结剂贴合。

在具有本发明液晶薄膜的各种光学元件中，例如向列取向、扭转向列取向被固定的液晶薄膜具有位相差薄膜的功能，可作为STN型、TN型、OCB型、HAN型等透过或反射型液晶显示装置的补偿板使用。胆甾醇取向或蝶状液晶取向被固定的液晶薄膜可在提高辉度用的偏光反射膜、反射型彩色滤光器、各种防伪元件或装饰薄膜等中利用，其中防伪元件或装饰薄膜利用了由于选择反射能、根据视角、反射光颜色发生变化的现象形成的。另外，扭转混杂取向被固定了的薄膜，通过利用其从正面看时的阻滞现象，可作为位相差薄膜或波长板进行利用，另外通过利用由阻滞值的朝向(薄膜厚度方向的分子轴的倾角)产生的非对称性，可在TN型液晶显示装置的视野角改善薄膜等中进行利用。另外，通过将具有1/4波长功能的液晶薄膜与偏光板组合，可作为圆偏光板、反射型液晶显示装置或EL显示装置的防反射滤光器等使用。

产业上的可利用性

本发明通过将皂化处理过的三乙酰基纤维素薄膜作为再剥离性基板使用，可极其容易地达到在使用通常再剥离性基板的情况下极其难以达到的目的，使得液晶物质层的异物、辉度、颜色不均等光学缺陷容易检测出，并且再剥离性基板具有良好的剥离性。

以下根据实施例对本发明作具体说明，但本发明不受这些实施例的限制。

(配制例)

使用50mmol对苯二甲酸、50mmol 2，6-萘二羧酸、40mmol甲基氢醌二醋酸酯、60mmol邻苯二酚二醋酸酯和60mg N-甲基咪唑，在氮气气氛下，在270℃下缩聚12小时。此后，在将所得反应产物溶解在四氯乙烷中后，在甲醇中再次沉淀，进行精制，获得液晶性聚酯14.6g。该液晶性聚酯(聚合物-1)的对数粘度(苯酚/四氯乙烷(6/4质量比)混合溶剂：30℃)为1.16dl/g、作为液晶相具有向列相，等方相-液晶相转移温度在250℃以上，由示差扫描热量计(DSC)测定的玻璃转移温度为112℃。

在室温下，在二氯甲烷中使90mmol二苯基二羰基氯化物、10mmol对苯二亚甲基氯化物和105mmol S-2-甲基-1，4-丁二醇反应，将反应液投入至甲醇中，进行再沉淀，获得12.3g液晶性聚酯。该液晶性聚酯(聚合物-2)的对数粘度为0.11dl/g。

将19.82g聚合物-1和0.18g聚合物-2溶解在80g N-甲基-2-吡咯烷酮中，对溶液进行调整。在已使用人造丝布进行摩擦处理过的聚酰亚胺薄膜(商品名称“カプトン”、杜邦公司制造)上，使用旋涂机涂布该溶液，干燥除去溶剂后，在210℃下进行20分钟的热处理，形成扭绞向列取向结构。热处理后，冷却至室温，使得扭绞向列取向结构固定，在聚酰亚胺薄膜上获得实际膜厚为3.0μm的均一取向的液晶物质层(液晶物质层1)。实际膜厚采用触针式膜厚计测定。

(实施例1)

在由配制例所得的液晶物质层1之上(与聚酰亚胺薄膜相反侧的面)涂布5μm厚的市售UV固化型粘结剂(UV-3400、东亚合成株式会社制造)(粘结剂层1)，在其上层压厚度为40μm的皂化处理过的三乙酰基纤维素薄膜(以下称为皂化的TAC薄膜)，作为再剥离性基板，通过约600mJ的UV照射，使得该粘结剂层1固化。在此，作为三乙酰基纤维素薄膜(TAC薄膜)，使用市售的薄膜(商品名称“フジタツク”、富士胶片株式会社制造)，皂化后的水接触角为20度。此后，通过从皂化TAC薄膜/粘结剂层1/液晶物质层1/聚酰亚胺薄膜的层叠体剥离聚酰亚胺薄膜，将液晶物质层1转印至作为再剥离性基板的皂化TAC薄膜上，获得液晶薄膜层叠体1。

为研究液晶薄膜层叠体1中的光学缺陷，将2张偏光板的吸收轴配置在正交方向上，在其间设置尺寸为14英寸的液晶薄膜层叠体1，将位于偏光板下部白色荧光灯作为光源，从相反方向目测观察液晶薄膜层叠体1中的异物、擦伤等的缺陷。

结果可不受再剥离性基板的影响，能容易地检查缺陷。此时，液晶薄膜层叠体1检查时所需时间为11秒。

在所得液晶薄膜层叠体1露出的液晶物质层1的面上层压附带有隔离膜的约25μm厚的粘结剂层1。此后，从皂化TAC薄膜/粘结剂层1/液晶物质层1/粘结剂层1/隔离膜的层叠体剥离皂化TAC薄膜，皂化TAC薄膜和粘结剂层1之间的剥离力为2.4N/m。

进一步在所得的粘结剂层1/液晶物质层1/粘结剂层1/隔离膜层叠体的粘结剂层1的面上通过25μm厚的粘结剂层2层叠偏光板(厚度约180μm；住友化学工业株式会社制造“SQ-1852AP”)，获得椭圆偏光板，其由偏光板/粘结剂层2/粘结剂层1/液晶物质层1/粘结剂层1/隔离膜一体形成的层叠体形成。

在制造工序中，液晶薄膜层叠体1的光学缺陷检查性能良好，此外，皂化TAC薄膜的剥离性极其良好，在皂化的TAC薄膜和粘结剂层1的界面处可进行正常剥离。

(比较例1)

除了在实施例1中使用未皂化的TAC薄膜(商品名称“フジタック”、富士胶片株式会社制造)代替皂化了的TAC薄膜以外，按照与实施例1一样的方式实施，通过从未皂化TAC薄膜/粘结剂层1/液晶物质层1/聚酰亚胺薄膜的层叠体剥离聚酰亚胺薄膜，将液晶物质层1转印至未皂化TAC薄膜上，获得液晶薄膜层叠体2。

通过采用与实施例1一样的方法，对液晶薄膜层叠体2的光学缺陷进行观察，结果可不受再剥离性基板的影响，能容易地检查缺陷。此时，液晶薄膜层叠体2检查时所需时间为10秒。

在所得液晶薄膜层叠体2露出的液晶物质层1的面上层压附带有隔离膜的约25μm厚的粘结剂层1。此后，从未皂化TAC薄膜/粘结剂层1/液晶物质层1/粘结剂层1/隔离膜的层叠体剥离未皂化TAC薄膜，但是由于未皂化TAC薄膜和粘结剂层1之间的粘结力过强，在正常界面上完全不能进行剥离。

在制造工序中，液晶薄膜层叠体2的检查性良好，但是剥离未皂化TAC薄膜时，剥离性非常差，在未皂化的TAC薄膜和粘结剂层1的界面处剥离，不能获得正常的剥离部分。

(比较例2)

除了在实施例1中使用厚度为50μm的聚碳酸酯(钟渊化学工业株式会社制造)代替皂化了的TAC薄膜以外，按照与实施例1一样的方式实施，通过从聚碳酸酯薄膜/粘结剂层1/液晶物质层1/聚酰亚胺薄膜的层叠体剥离聚酰亚胺薄膜，将液晶物质层1转印至聚碳酸酯薄膜上，获得液晶薄膜层叠体3。

通过采用与实施例1一样的方法，对液晶薄膜层叠体3的光学缺陷进行观察，结果可不受再剥离性基板的影响，能容易地检查缺陷。此时，液晶薄膜层叠体3检查时所需时间为12秒。

在所得液晶薄膜层叠体3露出的液晶物质层1的面上层压附带有隔离膜的约25μm厚的粘结剂层1。此后，从聚碳酸酯膜/粘结剂层1/液晶物质层1/粘结剂层1/隔离膜的层叠体剥离聚碳酸酯薄膜。聚碳酸酯薄膜和粘结剂层1之间的剥离力为26N/m，非常严重，在剥离界面处产生白色浑浊。

在制造工序中液晶薄膜层叠体3的检查性良好，但是在剥离聚碳酸酯薄膜时，剥离性非常差，在聚碳酸酯薄膜和粘结剂层1的界面处剥离所得的正常剥离部分的面积为整体的约10％。

(比较例3)

除了在实施例1中使用厚度为50μm的双轴延伸的聚对苯二甲酸乙二醇酯(以下将聚对苯二甲酸乙二醇酯称为PET)薄膜(商品名称“T60”、东丽株式会社制造)代替皂化了的TAC以外，按照与实施例1一样的方式实施，通过从T60PET薄膜/粘结剂层1/液晶物质层1/聚酰亚胺薄膜的层叠体剥离聚酰亚胺薄膜，将液晶物质层1转印至T60PET薄膜上，获得液晶薄膜层叠体4。

通过采用与实施例1一样的方法，对液晶薄膜层叠体4的光学缺陷进行观察，结果由于受到T60PET薄膜的双折射性的影响，极其难以检查缺陷。不能进行检查。

即使对2张偏光板的吸收轴的交叉角度进行各种改变，或者即使将液晶物质层1的取向轴和偏光板的吸收轴的角度进行改变，也不能除去由双折射造成的干涉，难以进行检查。

(实施例2)

除了在实施例1中使用厚度为38μm的涂布有硅氧烷的双轴延伸PET薄膜(商品名称“#52”、帝人株式会社制造)(以下称为#52PET薄膜)代替皂化了的TAC薄膜以外，按照与实施例1一样的方式实施，通过从#52PET薄膜/粘结剂层1/液晶物质层1/聚酰亚胺薄膜的层叠体剥离聚酰亚胺薄膜，将液晶物质层1转印至#52PET薄膜上。

进一步在所得液晶薄膜层叠体1露出的液晶物质层1的面上涂布厚度为5μm的UV固化性粘结剂(UV-3400)(粘结剂层2)，在其上层压作为第二剥离基板的厚度为40μm的皂化TAC薄膜(商品名称“フジタツク”、皂化后与水的接触角为15度)，通过约600mJ的UV照射，使该粘结剂层2固化，获得由#52PET薄膜/粘结剂层1/液晶物质层1/粘结剂层2/皂化TAC薄膜形成的层叠体。此后，从该层叠体剥离#52PET薄膜，获得由粘结剂层1/液晶物质层1/粘结剂层2/皂化TAC薄膜形成的液晶薄膜层叠体5。

根据与实施例1一样的方法对光学缺陷进行观察，结果发现可不受再剥离性基板的影响，能容易地进行缺陷检查。此时，液晶薄膜层叠体5检查时所需时间为9秒。

在所得液晶薄膜层叠体5的粘结剂层1的薄膜上层压附带有隔离膜的约25μm厚的胶粘剂层1。此后，从皂化TAC薄膜/粘结剂层2/液晶物质层1/粘结剂层1/胶粘剂层1/隔离膜的层叠体剥离皂化TAC薄膜，皂化TAC薄膜和粘结剂层2之间的剥离力为2.5N/m。

进一步在所得的粘结剂层2/液晶物质层1/粘结剂层1/胶粘剂层1/隔离膜层叠体的粘结剂层2的面上通过25μm厚的粘结剂层2层叠偏光板(厚度约180μm；住友化学工业株式会社制造“SQ-1852AP”)，获得椭圆偏光板，其由偏光板/胶粘剂层2/粘结剂层2/液晶物质层1/粘结剂层1/胶粘剂层1/隔离膜一体形成的层叠体形成。在制造工序中，液晶薄膜层叠体1的光学缺陷检查性能良好，此外，皂化TAC薄膜的剥离性也极其良好，在皂化的TAC薄膜和粘结剂层2的界面处可进行正常剥离。

(比较例4)

除了在实施例2中使用未皂化的TAC薄膜(商品名称“フジタツク”、厚度40μm)代替皂化了的TAC薄膜作为第二剥离性基板以外，按照与实施例2一样的方式实施，获得由粘结剂层1/液晶物质层1/粘结剂层2/未皂化TAC薄膜形成的液晶薄膜层叠体6。

通过采用与实施例1一样的方法，对光学缺陷进行观察，结果可不受再剥离性基板的影响，能容易地检查缺陷。此时，液晶薄膜层叠体6检查时所需时间为11秒。

在所得液晶薄膜层叠体6露出的粘结剂层1的面上层压附带有隔离膜的约25μm厚的胶粘剂层1。此后，从未皂化TAC薄膜/粘结剂层2/液晶物质层1/粘结剂层1/胶粘剂层1/隔离膜的层叠体剥离未皂化TAC薄膜，但是由于粘结力过强，不能完全剥离。

在制造工序中，液晶薄膜层叠体6的检查性良好，但是在剥离未皂化TAC薄膜时，剥离性非常差，在未皂化的TAC薄膜和粘结剂层2的界面处剥离，不能获得正常的剥离部分。

(比较例5)

除了在实施例2中使用厚度为50微米的丙烯酸树脂薄膜(商品名称“アクリプレン”、三菱丽阳株式会社制造)代替皂化了的TAC薄膜作为第二剥离性基板以外，按照与实施例2一样的方式实施，获得由粘结剂层1/液晶物质层1/粘结剂层2/アクリプレン形成的液晶薄膜层叠体7。

通过采用与实施例1一样的方法，对光学缺陷进行观察，结果发现可不受再剥离性基板的影响，能容易地检查缺陷。此时，液晶薄膜层叠体7检查时所需时间为12秒。

在所得液晶薄膜层叠体7剥露出的粘结剂层1的面上层压附带有隔离膜的约25μm厚的胶粘剂层1。此后，从アクリプレン/粘结剂层2/液晶物质层1/粘结剂层1/胶粘剂层1/隔离膜的层叠体剥离アクリプレン，但是由于粘结力过强，不能剥离完全。

在制造工序中液晶薄膜层叠体7的检查性良好，但是在剥离アクリプレン时，剥离性非常差，在アクリプレン和粘结剂层2的界面处不能得到正常剥离部分。

(比较例6)

除了在实施例2中使用厚度为50μm的PET薄膜(商品名称“S10”、东丽株式会社制造)代替皂化了的TAC作为第二再剥离性基板以外，按照与实施例2一样的方式实施，获得由粘结剂层1/液晶物质层1/粘结剂层2/S10PET薄膜形成的液晶薄膜层叠体8。

通过采用与实施例1一样的方法，对液晶薄膜层叠体8的光学缺陷进行观察，结果发现由于受到S10PET薄膜的双折射性的影响，极其难以检查缺陷。不能进行检查。

即使对2张偏光板的吸收轴的交叉角度进行各种改变，或者即使将液晶物质层1的取向轴和偏光板的吸收轴的角度进行改变，也不能除去由双折射造成的干涉，难以进行检查。

实施例1、2和比较例1～6的结果均示于表1。

表1

	第一再剥离性基板	第二再剥离性基板	检查性	剥离性
					实施例1	皂化TAC	-	○	○
比较例1	未皂化TAC	-	○	×
					比较例2	聚碳酸酯	-	○	×
比较例3	“T60”PET	-	×	×
					实施例2	涂覆硅氧烷的PET“#52”	皂化TAC	○	○
比较例4	涂覆硅氧烷的PET“#52”	未皂化TAC	○	×
					比较例5	涂覆硅氧烷的PET“#52”	丙烯酸树脂“アクリプレン”	○	×
比较例6	涂覆硅氧烷的PET“#52”	“S10”PET	×	×

Claims (4)

1、液晶薄膜的制造方法，其特征为将取向基板上的液晶取向被固定的液晶物质层通过粘结剂与由皂化处理过的三乙酰基纤维素薄膜形成的再剥离性基板进行粘结后，剥离取向基板，将液晶物质层转印至再剥离性基板上，此后剥离再剥离性基板。

2、椭圆偏光板的制造方法，其特征为将取向基板上的液晶取向被固定的液晶物质层通过粘结剂与由皂化处理过的三乙酰基纤维素薄膜形成的再剥离性基板进行粘结后，剥离取向基板，将液晶物质层转印至再剥离性基板上，此后剥离再剥离性基板，然后贴附偏光板。

3、液晶薄膜的制造方法，其特征为将取向基板上的液晶取向被固定的液晶物质层通过粘结剂与第一再剥离性基板粘结后，剥离取向基板，将液晶物质层转印至第一再剥离性基板上，此后通过粘结剂使其与由皂化处理过的三乙酰基纤维素薄膜形成的第二再剥离性基板进行粘结，此后剥离第一再剥离性基板，将液晶物质层转印至第二再剥离性基板上，此后剥离第二再剥离性基板。

4、椭圆偏光板的制造方法，其特征为将取向基板上的液晶取向被固定的液晶物质层通过粘结剂与第一再剥离性基板粘结后，剥离取向基板，将液晶物质层转印至第一再剥离性基板上，此后通过粘结剂使其与由皂化处理过的三乙酰基纤维素薄膜形成的第二再剥离性基板进行粘结，此后剥离第一再剥离性基板，将液晶物质层转印至第二再剥离性基板上，此后剥离第二再剥离性基板，然后贴合偏光板。