CN1510091A - 一种石材镜面效果抛光膏的制作方法 - Google Patents
一种石材镜面效果抛光膏的制作方法 Download PDFInfo
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Abstract
本发明属于石材加工材料,涉及一种石材镜面效果抛光膏的制作方法。由于房地产业和室内外装饰业的蓬勃发展,各种建筑的外墙和室内的各种石材台面,大量的采用了花岗岩、大理石等。这些装饰性高级石材都需要在加工表面后有很好的光泽和镜面效果。目前的石材加工中,大都采用陶瓷抛光砂轮、树脂抛光砂轮、金刚石研磨膏等。日本大和生产的抛光用天然油性金刚石膏就是把石材从粗磨——一般光亮——精密亮度——镜面效果抛光的一种研磨膏,这种研磨膏的价格比较高,就决定了单位尺寸抛光研磨石材的成本。本发明是制造一种低成本的又可达到镜片效果抛光的研磨膏,可使用任何一种电动、气动工具自粘式羊毛毡片进行石材抛光,也可用于其它领域的材料抛光,如:金属类模具、各种手饰、工艺品、机械零配件等等。
Description
技术领域:
本发明属于石材加工材料,涉及一种石材镜面效果抛光膏的制作方法。
背景技术:
由于房地产业和室内外装饰业的蓬勃发展,各种建筑的外墙和室内的各种石材台面,大量的采用了花岗岩、大理石等。这些装饰性高级石材都需要在加工表面后有很好的光泽和镜面效果。目前的石材加工中,大都采用陶瓷抛光砂轮、树脂抛光砂轮、金刚石研磨膏等。日本大和生产的抛光用天然油性金刚石膏就是把石材从粗磨——一般光亮——精密亮度——镜面效果抛光的一种研磨膏,这种研磨膏的价格比较高,就决定了单位尺寸抛光研磨石材的成本。本发明是制造一种低成本的又可达到镜片效果抛光的研磨膏,可使用任何一种电动、气动工具自粘式羊毛毡片进行石材抛光,也可用于其它领域的材料抛光,如:金属类模具、各种手饰、工艺品、机械零配件等等。
技术内容:
本发明制作一种石材镜面效果的抛光膏,它是由超细Sic磨粒、氧化亚锡、三氧化二铝,还有粘结剂膏体。膏体由天然树脂达马腊或树胶组成,它可以溶于碳氧化合物和氯化钠溶剂,也可以溶于醇类。从树上提取的天然树脂。因植物中可以提羚酸、精油和萜烯的无定形混合物,达马腊是第一种本发明抛光膏的粘结剂凝胶。
第二种抛光膏的粘结剂凝胶是甲基纤维素、丙烯乙二醇和水的混合物,甲基纤维素是一种淡白色的纤维粉末加入水后可以澎涨,形成一个粘稠的胶体溶液,具有40000-180000的分子量。丙烯乙二醇是一种无色粘稠,稳定的吸湿液体,溶于水和醇类。本发明是把2.5升的丙烯乙二醇和500克的甲基纤维素、40升的水混合,制出用于石材抛光膏的粘结剂凝胶,然后加入1500号Sic磨粒和氧化锡、三氧化二铝、机械加温搅拌均匀,然后装袋或盒成为产品。
本发明所包括的组分的重量配比是:
丙烯乙二醇(1.2丙烷二醇) 2.5升
甲基纤维素 500克
水 40升
达马腊 100克
氧化亚锡 200克
三氧化二铝 500克
绿碳Sic(1000目) 100克
具体实施方案:
首先把500克的甲基纤维素和40升的水浸泡混配均匀。再把2.5升的丙烯乙二醇混配均匀成为粘结剂凝胶。粘结剂凝胶完备后,把2体积单位的氧化亚锡、6体积单位的三氧化二铝、2体积单位的Sic、混配均匀,然后加入由丙烯乙二醇、甲基纤维素和水组成的粘结剂凝胶3体积单位,用搅拌机搅拌均匀后即可装入袋或盒状的容器。终端产品可以和电动、气动羊毛毡片抛光机配套使用。
Claims (3)
1.一种石材镜面效果抛光膏的制作方法,其特征是,它包括的组份是:
本发明所包括的组分的重量配比是:
丙烯乙二醇(1.2丙烷二醇) 2.5升
甲基纤维素 500克
水 40升
达马腊 100克
氧化亚锡 200克
三氧化二铝 500克
绿碳Sic(1000目) 100克
2.根据权利要求1所述的,一种石材镜面效果抛光膏的制作方法,其特征是:首先把500克的甲基纤维素和40升的水浸泡混配均匀。再把2.5升的丙烯乙二醇混配均匀成为粘结剂凝胶。粘结剂凝胶完备后,把2体积单位的氧化亚锡、6体积单位的三氧化二铝、2体积单位的Sic、混配均匀,然后加入由丙烯乙二醇、甲基纤维素和水组成的粘结剂凝胶3体积单位。
3.根据权利要求1所述的,一种石材镜面效果抛光膏的制作方法,其特征是:粘结剂凝胶完备后,把2体积单位的氧化亚锡、6体积单位的三氧化二铝、2体积单位的Sic、混配均匀,然后加入由丙烯乙二醇、甲基纤维素和水组成的粘结剂凝胶3体积单位。
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- 2002-12-23 CN CNA021573220A patent/CN1510091A/zh active Pending
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |