CN1435826A - 物镜驱动装置 - Google Patents

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Abstract

本发明的目的是解决下述问题：当盖覆盖物镜驱动装置的磁路部分时，因盖而限制了跟踪线圈的高度方向上的长度、跟踪线圈的有效长度受到损失。本发明的物镜驱动装置，为了把安装在透镜框架(10)上的聚焦线圈(12)和跟踪线圈(13)的有效边配置在磁空隙内，设置产生有效磁通的磁铁(2、3)和与该磁铁对置的对置磁轭(6、7)，用盖(19)覆盖上述磁铁(2、3)及上述对置磁轭(6、7)的上表面的同时，为使配置跟踪线圈(13)的部分暴露而形成为切口形状。因此，盖(19)不会限制跟踪线圈(13)高度方向的长度，能够适当地确保跟踪线圈(13)的有效长度。

Description

物镜驱动装置
技术领域
本发明涉及一种装备了从光盘等信号记录媒体上读取信息或写入信息的拾光头的物镜驱动装置，特别涉及一种上表面被盖覆盖的物镜驱动装置。
背景技术
物镜驱动装置的构成一般是装有物镜的透镜保持架通过弹性支持部件与框架连接，由此相对框架透镜保持架被可移位地弹性支持。
作为上述弹性支持部件大多使用吊线。这种使用吊线的物镜驱动装置在透镜保持架上固定多根(通常为4根)吊线的每根吊线的一端，而且在安装于框架上的基板上固定各吊线的另一端，从而架设上述各吊线，并相对框架可移位地弹性支持透镜保持架。
另外，在物镜驱动装置中，在组装弹性支持部件和磁路时或服务时，为了保护而用盖覆盖上表面。
而且，上述的盖用具有磁性的金属钢板构成，用上述盖分别连接附设于磁铁上的后磁轭(back yoke)及与该磁铁对置的对置磁轭的上表面来减少漏磁，提高由磁铁及对置磁轭形成且配置有驱动线圈的有效辺的磁空隙的磁通密度。
然而，跟踪线圈一般配置在透镜保持架的面对磁铁磁极面的位置的磁空隙内。因此，存在的问题是若物镜驱动装置的磁路部分被盖覆盖，则跟踪线圈的高度方向的高度受到盖的限制，跟踪线圈的有效长度会受到影响。
另外，把盖连接在后磁轭及对置磁轭各自的上表面时，盖不能在后磁轭及对置磁轭的上表面可靠地固定，可能存在提高磁空隙的磁通密度的效果得不到满足，或者因接触状态左右不同产生透镜保持架的驱动力不平衡的问题。
当聚焦伺服导入时的异常或冲击等原因导致透镜保持架在物镜光轴方向上的位移超出正常范围时，透镜保持架将与盖冲突，当发生冲突时透镜保持架发生大幅度倾斜，在弹性支持部件是吊线的情况下，存在使吊线弯曲的可能。
发明内容
本发明为了把安装在透镜保持架上的聚焦线圈和跟踪线圈的有效边配置在磁空隙内，来设置产生有效磁通的磁铁和与该磁铁对置的对置磁轭，用盖覆盖在上述磁铁及上述对置磁轭的上表面，而且为了允许配置跟踪线圈的部分暴露(逃げる)，盖的形状为切口形状。因此，盖不会限制跟踪线圈高度方向的长度，能够在有效磁通内适当地确保跟踪线圈的有效长度。
另外，本发明用磁性金属钢板构成盖，使该盖的连接部分起到板簧的作用，该连接部分连接覆盖在紧靠磁铁设置的后磁轭的上表面的部分和覆盖在对置磁轭的上表面的部分。因此，即使后磁轭的上表面和对置磁轭的上表面产生高度差，或者出现微小的倾斜，仍然能够使盖可靠地紧密贴在后磁轭的上表面和对置磁轭的上表面。
附图说明
图1是示出本发明物镜驱动装置一实施例的透视图。
图2是示出图1所示的物镜驱动装置没有安装盖的状态下的透视图。
图3是示出图2所示的物镜驱动装置拆掉了框架及磁路的透视图。
具体实施方式
图1是示出本发明物镜驱动装置一实施例的透视图，图2是示出图1所示的物镜驱动装置没有安装盖的状态下的透视图，图3是示出图2所示的物镜驱动装置拆掉了框架及磁路的透视图。
框架1是对软质金属板经板金加工而成，在框架1上固定着分别附设有相对配置的一对永久磁铁2、3的后磁轭4、5及分别与永久磁铁2、3对置的对置磁轭6、7。磁轭磁轭磁轭磁轭
而且，在框架1上一体形成螺旋拧固的支撑部件8的固定部1a，配线基板9在把支撑部件8固定到上述固定部1a上时，利用形成在支撑部件8上的定位销8a相对支撑部件8定位后，与支撑部件8一起固定着。
物镜11安装在透镜保持架10上，另外，应该围着透镜保持架10的侧面全周进行缠绕的聚焦线圈12和配置在透镜保持架10的4个角上的跟踪线圈13分别绕在透镜保持架10上。
支持透镜保持架10的4根吊线14各自分别穿过配线基板9上的孔、支撑部件8的支持部15上的孔、以及从透镜保持架10相对确定的2个侧面的中央上下分别突出的各支持部16上形成的孔，各吊线14的一端及另一端分别用紫外线硬化型的粘接剂粘接固定在上述透镜保持架10的支持部16和上述支撑部件8的支持部15上。
因此，透镜保持架10由4根吊线14弹性支持在框架1上，可沿聚焦方向及跟踪方向移位。此时，吊线14在透镜保持架10的两侧，分别配置上下2根，在上下方向相互平行、在左右方向呈八字状架设。
另外，各吊线14分别配置在对应全部这些吊线14形成在支撑部件8上的各空间18(对应下侧的各吊线14的空间在图中未示出)内，由分别充填在这些空间18内的减振剂减振。
另外，在各吊线14的一端的前端，透镜保持架10上一体形成了各突片17，聚焦线圈12及跟踪线圈13的各驱动线圈的预定的端头绑在这些突片17上，上述各吊线14的一端侧的端部被焊接，而且，上述各吊线14的另一端的端部触头焊接在配线基板9上，因此，提供给配线基板9的聚焦及跟踪的各控制信号经上述各吊线14供给到各驱动线圈。
当然，在架设了4根吊线14且透镜保持架10受到框架1支持的状态下，各永久磁铁2、3被附设在对应的各后磁轭4、5上，而且，同极的一个磁极面，例如，N极的磁极面要对着透镜保持架10的配置各驱动线圈的有效边的预定侧面。
上述各永久磁铁2、3与对应的对置磁轭6、7一起形成各磁空隙，在各磁空隙内分别配置各驱动线圈的有效边。
为此，通过向聚焦线圈12提供聚焦控制信号，根据该聚焦控制信号，经透镜保持架10，能在聚焦方向驱动物镜11。通过向各跟踪线圈13提供跟踪控制信号，根据该跟踪控制信号，经透镜保持架10，能在跟踪方向驱动物镜11。
物镜驱动装置如上构成，盖19覆盖在物镜驱动装置的上表面。该盖19由具有磁性的铁氧体类的冷轧不锈钢板形成。
下面，主要利用图1，详细说明如上构成的物镜驱动装置中，作为本发明特征部分的盖19。
盖19通过盖19上的嵌合孔与形成在框架1侧壁上的多个爪20嵌合而被安装到框架1上，覆盖住应该覆盖的永久磁铁2、3，后磁轭4、5及对置磁轭6、7的磁路部分。
上述盖19分别连接后磁轭4及对置磁轭6的各上表面和后磁轭5及对置磁轭7的各上表面，以减少磁通泄漏，因由永久磁铁2、3及对置磁轭6、7分别形成，所以提高了配置驱动线圈的有效边的磁空隙的磁通密度。
上述盖19的形状是为允许配置各跟踪线圈13的部分暴露而形成为切口形状，因此，盖19不会限制各跟踪线圈13高度方向的长度，从而，可适当地确保跟踪线圈13的有效长度在有效磁通内。
另外，在上述盖19上，具有覆盖永久磁铁2或3及后磁轭4或5的上表面的第1部分19a，覆盖对置磁轭6或7的上表面的第2部分19b和连接这两部分的连接部分19c。连接部分19c的宽度比其他部分窄，能起到板弹簧的作用。
因此，即使在后磁轭4或5的上表面和对置磁轭6或7的上表面产生高度差，或者产生微倾的情况下，因其弹性作用，也能够使盖紧密地贴紧后磁轭4或5的上表面和对置磁轭6或7的上表面，特别地，能够利用磁力产生的吸收力可靠贴紧对置磁轭6或7的上表面，有利于提高磁空隙的磁通密度。
另外，在对置磁轭6或7的上表面上的接触状态为左右均匀也是有利的。
而且，分别覆盖对置磁轭6或7的上表面的上述盖19的第2部分19b，比对置磁轭6、7的宽度朝左右方向分别扩大，在透镜保持架10上形成突出的接触部21，接触部21通过分别接触该第2部分19b的扩大后的各区域的位置而限制透镜保持架10的位移。
因此，在因聚焦伺服导入时的异常或冲击等原因，透镜保持架10朝物镜11的光轴方向位移超出正常范围时，透镜保持架10的上述各接触部21与盖19的第2部分19b的比对置磁轭6、7的宽度向左右两侧分别扩大的区域发生冲突，因而，限制了透镜保持架10沿物镜11的光轴方向的位移。
此时，由于上述各接触部21分别配置在透镜保持架10的两个对置磁轭6、7的左右外侧，因此，限制了透镜保持架10的倾斜，各吊线14不会与盖19冲突。
如上所述，根据本发明，为允许配置跟踪线圈的部分暴露而盖的形状为切口形状，因此，盖不会限制跟踪线圈高度方向的长度，能够把跟踪线圈的有效长度合适地确保在有效磁通内。
另外，本发明由于使盖的连接覆盖在附设于磁铁的后磁轭的上表面的部分和覆盖对置磁轭的上表面的部分的连接部分，起到板簧的作用，因此，即使在后磁轭的上表面和磁轭的上表面产生高度差，或者产生微倾现象，仍然能够使盖可靠地紧密贴着后磁轭的上表面和对置磁轭的上表面。
另外，由于在透镜保持架的对置磁轭的左右外侧上分别设置接触部，因此，在透镜保持架朝物镜的光轴方向位移超出正常范围时，透镜保持架的倾斜受到限制，弹性支持部件采用吊线时，吊线不会与盖冲突，能够防止损伤吊线。

Claims (3)

1.一种物镜驱动装置，装有物镜的透镜保持架通过弹性支持部件支持且可相对框架移位，且上表面被盖覆盖，其特征在于：聚焦线圈和跟踪线圈装在透镜保持架上，为了把聚焦线圈和跟踪线圈的有效边配置在磁空隙内，设置产生有效磁通的磁铁和与该磁铁对置的对置磁轭，上述盖覆盖在上述磁铁及上述对置磁轭的上表面，且为使配置跟踪线圈的部分暴露而形成为切口形状。
2.根据权利要求1所述的物镜驱动装置，其特征在于：上述盖通过具有磁性的金属钢板构成，该盖的连接部分起到板簧的作用，该连接部分连接盖的覆盖附设在磁铁上的后磁轭的上表面部分和覆盖对置磁轭的上表面的部分。
3.根据权利要求1所述的物镜驱动装置，其特征在于：上述盖的覆盖对置磁轭的上表面的部分，比对置磁轭的宽度分别朝左右方向扩大，在透镜保持架的面对该扩大后的各区域的位置上，分别形成与这些区域接触以限制透镜保持架的移位的接触部。
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