CN1415953A - 母盘信息载体/磁记录媒体缺陷检查方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种母盘信息载体和磁记录媒体缺陷检查方法。代替使用母盘信息载体直接进行缺陷检查，准备了一种检查基片，然后将母盘信息载体与其紧密接触，由此将母盘信息载体上的缺陷转换到检查基片，如此在检查基片上间接检查母盘信息载体的任何缺陷。缺陷检查是在紧密接触之前的第一状态检查基片上进行的，从而在紧密接触之后的第二状态检查基片上的缺陷检查结果与第一状态检查基片上的缺陷检查结果相互比较。

Description

母盘信息载体/磁记录 媒体缺陷检查方法

技术领域

本发明涉及用于在硬盘设备或者软盘设备中使用的磁记录媒体的缺陷检查方法和用于用来将信息信号磁性转换到磁记录媒体的母盘信息载体的缺陷检查方法。本发明还涉及利用母盘信息载体的磁性窄膜图形磁性转换方法，以及尤其涉及磁记录/再现设备。

背景技术

安装到诸如硬盘驱动设备的磁记录/再现设备的磁性记录媒体在其上记录了用于记录/再现头之伺服机构的信息信号。该信息信号可以是跟踪伺服信号，地址信息信号，再现时钟信号等。随着近来磁道密度的增加，能够由伺服记录器记录的信息信号的容量不可以再增加。为解决这个问题，提出了这样的一种系统，即制备所谓的母盘信息载体，由此将其上的信息信号转换和记录到磁性记录媒体上。母盘信息载体是由在非磁性基底表面上的铁磁材料制成的磁性部分以对应于信息信号的图形形状构成的。母盘信息载体与磁性记录媒体的表面相接触，其中该磁性记录媒体的表面上形成有铁磁窄膜或者铁磁粉末涂层并且而后具有施加其上的外部磁场，由此将具有对应于母盘信息载体上信息信号的这种图形形状的磁化图形转换和记录到磁性记录媒体上。

在这种情况下，必须均匀地和以稳定方式将信息信号记录到磁性记录媒体上。但是，如果母盘信息载体在其表面上具有异常突出或者外来物质，当其与母盘信息载体紧密接触时，在磁性记录媒体的表面中可能产生坑。

图31A和31B表示在利用具有异常突出或者外来物质的母盘信息载体进行磁性转换之后的磁性记录媒体的表面。参考标记b表示坑，参考标记c表示在对坑的形成反应中产生的微小突出。图31A表示图象，而图31B隐含地表示与不清楚图象对应的表面a，坑b和微小突出c的大小和位置。图32表示所测量的坑的剖面。如图32中表示，围绕着由距磁性记录媒体表面凹进大约50nm的坑b出现了微小突出c，其具有大约20nm的高度。一般地，相对于磁性记录媒体表面的头滑块的浮动量是近似地20nm。因此，如果在磁性记录媒体上有近似为20nm的微小突出，磁头可能与磁性记录媒体接触。在它们相互接触之后，磁头立即被冲击并相对于磁性记录媒体具有较大的间隙，由此破坏了信号的记录/再现性能。另外，如果磁头物理地与磁性记录媒体相接触，可能导致磁头服务寿命缩短并且磁性记录媒体会损坏。

图33表示在磁性转换期间在母盘信息载体表面上有异常突出或者外来物质的情况下在磁性转换之后在磁性记录媒体表面上突出之状态的光学测量的结果。其表示出出现了大于或者等于20nm的突出。该突出影响记录/再现性能和磁头的使用寿命，随着磁头的浮动量因增加记录密度变得愈小，这种影响愈甚。为防止这种情况，必须检查母盘信息载体表面上的缺陷。但是，检查出现在母盘信息载体上的异常突出或者外来物质是困难的，这是因为存在对应于信息信号的图形形状。在磁性转换之后磁性记录媒体表面缺陷的光学检查中，磁性记录媒体的表面必须是非常平滑的以便识别由磁性转换引起的微小缺陷，从而增加了成本。在磁性转换之前在磁性记录媒体上如果有微小缺陷的话，该缺陷是难于与由磁性转换引起的缺陷区别的。如果有微小外来物质的话，在母盘信息载体表面上的该物质总是在磁性记录媒体上产生缺陷。因此，该缺陷构成了主要问题，即使该缺陷是微小的也是如此。

即使在母盘信息载体或者磁性记录媒体上没有异常突出或者外来物质，当进行磁性转换时，在母盘信息载体和磁性记录媒体之间可能引入外部的外来物质。来自于磁性转换设备的废尘在一些情况下可以引起缺陷。在这种情况下，在磁性转换之后在磁性记录媒体的表面中将保留有外来物质或者产生坑。

发明内容

鉴于上述，本发明的主要目的是提供用于安全和容易地检查因在磁性转换期间母盘信息载体上的突出等或者进入的外来物质导致在磁性记录媒体上出现微小缺陷之可能性的缺陷检查方法。

本发明的其它目的，特征和优点将从下面的说明变得更为清楚。

简言之，本发明涉及母盘信息载体的缺陷检查方法，该母盘信息载体用在将用于跟踪伺服机构的信息信号磁性转换到被安装在例如磁性记录/再现设备的这类产品中的磁性记录媒体。该母盘信息载体具有这种磁性膜图形(magnetic film pattern)，其对应于作为要被磁性地转换到磁性记录媒体上的信息信号。在有可能出现在母盘信息载体上的缺陷的检查中，本发明不直接检查该母盘信息载体而是制备一个对应于相关磁性记录媒体的检查基片，然后将在母盘信息载体上可能出现的缺陷转换到该检查基片上。因此，本发明进行间接检查。

本发明采用间接缺陷检查代替直接缺陷检查。理由如下。在母盘信息载体上的间接缺陷检查中，将对应于信息信号的磁性膜图形和诸如异常突出或者外来物质的缺陷区分开是困难的，结果不能够容易地获得理想的缺陷检查精度。为了解决这个问题，在母盘信息载体上有可能出现的缺陷被转换到检查基片以进行检查，目的是知道有关母盘信息载体上的缺陷状况。

但是，只是将在母盘信息载体上有可能出现的缺陷转换到检查基片而后在其上检查之是不足够的。这是因为，如果任何缺陷在开始时就出现在检查基片上，则这个缺陷可以被错误地当作是母盘信息载体上的缺陷。这个麻烦一定要避免。本发明考虑了这种情况。

为了避免将检查基片上的缺陷错误当作母盘信息载体上的缺陷，至少下面四个要求应当考虑。这里，要将母盘信息载体上可能出现的缺陷转换到的检查基片被叫做“第一状态检查基片”以及缺陷已经被转换到其上的检查基片被叫做“第二状态检查基片”。

(1)在母盘信息载体上的缺陷被转换到检查基片之前，首先检查可能在第一状态检查基片上的缺陷。

(2)然后，将完成缺陷检查的第一状态检查基片与母盘信息载体紧密接触，由此将母盘信息载体上的缺陷转换到该完成缺陷检查的检查基片。这导致第二状态检查基片。

(3)已经被转换上缺陷并且与母盘信息载体分开的第二状态检查基片被检查其上是否有任何缺陷。

(4)在第二状态检查基片上的缺陷检查结果和在第一状态检查基片上的缺陷检查结果被相互比较。

在第一状态检查基片上不出现的但在第二状态检查基片上出现的任何缺陷很可能是已经从母盘信息载体转换到检查基片的缺陷，即是原始存在在母盘信息载体上的缺陷。

本发明提出了这种特质的和精细的方法，因此具有下面的效果。母盘信息载体在其上已经形成磁性膜图形，其对应于在跟踪伺服机构等中使用的信息信号，因此发现识别诸如在其上的异常突出或者外来物质的缺陷是困难的。为了检查在母盘信息载体上的缺陷，本发明采用了上述的间接缺陷检查方法。而且，本发明试图克服因间接缺陷检查导致的新问题。因此，能够精确地检查母盘信息载体上的缺陷，其中该载体上的缺陷是如此致命的状况，而原先由于磁性膜图形的存在导致难于识别缺陷。

本发明这个新概念伴有下面的各种新颖性。

一种方案是用于母盘信息载体的缺陷检查方法，该母盘信息载体具有对应于要被磁性转换到磁性记录媒体上的信息信号的磁性膜图形，包括步骤：

(i)检查在第一状态检查基片上可能原始存在的缺陷，母盘信息载体上的缺陷要被转换到该第一状态检查基片；

(ii)将母盘信息载体与完成缺陷检查的第一状态检查基片紧密接触，由此将在母盘信息载体上可能出现的缺陷转换到完成缺陷检查的检查基片；

(iii)检查已经被转换上缺陷并且从母盘信息载体分开的第二状态检查基片上可能有的任何缺陷；和

(iv)将第二状态检查基片上的缺陷检查结果与第一状态检查基片上的缺陷检查结果相互比较，由此决定在母盘信息载体上可能存在的缺陷。

即，出现在母盘信息载体上的因与信息信号对应的磁性膜图形而难于识别诸如异常突出或者外来物质的缺陷被转换到检查基片然后被检查。因此，有可能提高检查在母盘信息载体上缺陷的精确性。

与上述有关的优选实施例在完成第一状态检查基片上缺陷检查的步骤和紧密接触步骤之间具有下面附加步骤。这个附加步骤包含检查在第一状态检查基片上检查的缺陷数量或者大小是否不大于预定的值，如果其超过该值，停止正在进行的处理，否则前进到紧密接触步骤。

这就是间接检查，由此母盘信息载体上的缺陷被转换到检查基片。要采用这种全新的方法，一定要格外小心。因为磁性转换操作是在上述的紧密接触状态下完成的，在母盘信息载体上缺陷要被转换到的检查基片上出现的超过预定数目的缺陷可能具有负面影响，例如，可以导致在母盘信息载体上的新缺陷。其恰恰有些类似本末倒置。如果在紧密接触之前通过在第一状态检查基片上的缺陷检查发现任何缺陷，则该过程检查这些缺陷的数目或者大小是否是不大于预定值。如果其超过预定值，为避免上述的负面影响，该过程停止正在进行的处理，然后清洗该检查基片或者用另一个替换它，从而再次执行缺陷检查过程。另一方面，如果其不大于预定值，该过程确定没有负面影响，然后前进到紧密接触步骤。如此有可能实现在母盘信息载体上的良好缺陷检查，同时防止因采用检查基片引起的负面影响的发生。

另一种技术方案包括下面的步骤：

(i)检查第一状态检查基片上可能原始存在的缺陷，母盘信息载体上的缺陷要被转换到该第一状态检查基片上，并且在之前或者之后，还测量该第一状态检查基片相对于缺陷检查单元的旋转相位。

(ii)将母盘信息载体与完成缺陷检查的第一状态检查基片紧密接触，然后将在母盘信息载体上可能存在的缺陷转换到完成了缺陷检查的检查基片；

(iii)检查缺陷已经从母盘信息载体被转换其上并且其与母盘信息载体分开的第二状态检查基片上的任何缺陷，在之前或者之后，还测量该第二状态检查基片相对于缺陷检查单元的旋转相位；

(iv)根据测量的两个旋转相位校正相位偏移；和

(v)将在第二状态检查基片上的缺陷检查结果和在第一状态检查基片上的缺陷检查结果相互比较，由此决定在母盘信息载体上可能出现的缺陷。

该第二技术方案具有下面的操作。即，检查基片被固定到缺陷检查单元以进行第一状态的缺陷检查，然后分离，之后被固定到紧密接触单元以将紧密接触的母盘信息载体上的缺陷转换其上。然后，检查基片被从紧密接触单元分离以进行第二状态的缺陷检查。用在第一状态缺陷检查的缺陷检查单元和用在第二状态缺陷检查的缺陷检查单元可以相同或者不同，尽管第一状态检查基片的旋转相位和第二状态检查基片的旋转相位不总是相同。它们更可能相互偏离。因此，在第一状态检查基片上的缺陷检查结果和在第二状态检查基片上的缺陷检查结果相互比较之前，旋转相位校正要进行，以便这两个旋转相位可以彼此相等。这个旋转相位校正操作一般是在缺陷检查结果(数据)上完成的。这使得有可能避免因旋转相位的偏移引起的缺陷检查结果精确性的破坏。

根据该优选实施例，旋转相位校正是在缺陷的旋转相位上执行的，该缺陷是根据光作用其上时被检查基片规则反射的检测光检测的。

在这种情况下，规则反射的光主要来自检查基片上的坑(凹槽)。另一方面，散射光主要来自诸如检查基片上的颗粒的外来物质。散射光随激光束作用的位置和角度上的精细波动而在散射方向和接收光强度上极大地波动。因此，用于检查基片的旋转相位校正是以缺陷旋转相位为基础完成的，其中该缺陷根据在取向和强度上稳定的被检测规则反射光来检测。这使得有可能进一步改善缺陷检查精确性。

根据变型，旋转相位校正操作是在缺陷旋转相位上完成的，其中该缺陷根据光作用其上时来自于检查基片的被检测散射光来检测。这意味着旋转相位校正操作可以主要基于散射光来完成。但是，该缺陷检查的精确性要小于利用规则反射光的精确性。

根据另一个变型，旋转相位校正操作是在缺陷上完成的，其中该缺陷根据光作用其上时来自于检查基片的被检测规则反射光或者散射光来检测，但同时优先级被给予利用规则反射光的旋转相位校正。在这种情况下的操作可以容易地从上面的说明中理解。

这里注意，上述说明只是举例说明了规则反射光或者散射光在旋转相位校正中的使用，不应当被理解为缺陷检查是局限于规则反射光或者散射光的使用。缺陷检查不需要被局限于光学系统。例如，可以采用扫描电子显微镜(SEM)或者任何其它公知的系统。

上述中，下面可以是优选的方案。即，在第一状态检查基片上的缺陷检查步骤期间，出现在第一状态检查基片上的缺陷被计数。而且，在第二状态检查基片上的缺陷检查步骤期间，在第二状态检查基片上的缺陷被计数。然后，在通过比较确定母盘信息载体上缺陷的步骤期间，该过程确定在第一状态检查基片上缺陷的计数和在第二状态检查基片上缺陷的计数是否彼此相等。结果，如果它们彼此相等，该过程就确定母盘信息载体在其上没有缺陷，否则就确定其上有缺陷。

在这种情况下，操作如下。如果在第一状态检查基片上缺陷的计数M等于在第二状态检查基片上缺陷的计数N(即M＝N)，该过程就确定母盘信息载体在其上没有缺陷，另一方面，如果M≠N，就确定其上有缺陷。这种确定方法在处理上是比较简单和快速的。注意这里M和N可以是0。

上述中，下面可以是另一个优选的方案。即，在第一状态检查基片上的缺陷检查步骤期间，在第一状态检查基片上的缺陷的位置信息被提取。而且，在第二状态检查基片上的缺陷检查步骤期间，在第二状态检查基片上的缺陷的位置信息被提取。然后，在通过比较确定母盘信息载体上缺陷的步骤期间，该过程确定在第一状态检查基片上缺陷的位置信息和在第二状态检查基片上缺陷的位置信息是否彼此相同。结果，如果它们彼此相同，该过程就确定母盘信息载体在其上没有缺陷，否则就确定其上有缺陷。

在这种情况下，操作如下。如果在第一状态检查基片上缺陷位置信息与在第二状态检查基片上缺陷位置信息相同，该过程就确定母盘信息载体在其上没有缺陷，否则，就确定其上有缺陷。如果确定母盘信息载体在其上有缺陷，则该过程就在母盘信息载体进行精确检查和分析该缺陷。其中，缺陷位置信息被用作参考，其便于获得哪种类型的缺陷具有哪个坐标的详细数据。即，该过程能够容易地确定缺陷是否是异常突出或者外来物质或者甚至它们具有何种分布。该技术在清洗基片以再利用它中是有用的。

上述中，根据另一个优选方案，当缺陷连续地被确定在由划分检查基片整个区域获得的那些微小单元区域中的多个上时，该过程如下地适应这个情况。即，该过程将该多个连续单元区域作为一个明显区域，来获得被认为是位于或者靠近该明显区域重力中心的一个缺陷的位置信息。

在这种情况下，操作如下。即，经验告知，当被认为具有缺陷的多个单元区域明显连续地出现时，该处理可能已经将该单个缺陷的不同位置作为独立缺陷。通过将具有至少一个确定长度的条形的或者具有至少一个确定伸展的缺陷考虑为一个缺陷，能够在缺陷检查中提高精确性。

附加优选方面可以如下。即，对于检查基片，可以使用至少具有于其本身表面方向性位置偏移的最大区域对应的尺寸。

在这种情况下，操作如下。首先，解释背景。当磁性记录媒体和母盘信息载体被相互紧密接触时，理想的是它们在位置关系上是完全匹配的。这里注意，母盘信息载体不与检查基片紧密接触而是与磁性记录媒体紧密接触。但是，实际上，它们是相互偏离一点。这叫作表面方向性位置偏离。该偏离量是在几个微米到几百个微米的量级上。表面方向性位置偏离的最大区域涉及这样的区域，即具有磁性记录媒体加上偏离量的外部轮廓。即使在母盘信息载体上对应于磁性记录媒体的区域中没有缺陷，在表面方向性位置偏离的最大区域和磁性记录媒体的外部轮廓之间的非常窄的环形区域(极其窄的环形区域)中在一些情况下可以有缺陷。

当该母盘信息载体的极其窄的环形区域具有特别是外来物质的缺陷，并且如果母盘信息载体遇到相对于磁性记录媒体的位置偏离时，出现在极其窄的环形区域中的外来物质对着磁性记录媒体表面。即，其干扰母盘信息载体和磁性记录媒体之间通过其表面的紧密接触。其可以降低母盘信息载体的信息信号磁性转换到磁性记录媒体的精确性。考虑表面方向性位置偏离，因此，当检查与磁性记录媒体紧密接触的母盘信息载体上是否有缺陷时，必须还要检查该极其窄的环形区域。

这里假设检查基片和磁性记录媒体具有相同的尺寸。如果母盘信息载体和检查基片以共轴方式被彼此极其紧密的接触，在其间没有表面方向性位置偏离，则在母盘信息载体的极其窄的环形区域中如果有外来物质则可以被忽略。这里注意，母盘信息载体将与检查基片紧密接触。如果在这种情况下母盘信息载体被作为信息信号磁性转换中的标准的一个来使用，则其会促使磁性转换中的上述退化。

下面的两个方法被建议用来检查母盘信息载体上包括极其窄的环形区域的缺陷。

可以考虑采用这种检查基片以便具有与磁性记录媒体相同的大小，其中磁性膜图形的信息信号被从母盘信息载体磁性地转换到该磁性记录媒体。这将在后面说明。这里，被示例说明的这种检查基片在尺寸上大于磁性记录媒体。

磁性记录媒体加极其窄环形区域的外部轮廓中的区域构成了表面方向性位置偏离的最大区域。这里采用这种检查基片使得至少具有对应于该表面方向性位置偏离的最大区域的尺寸。该比较大尺寸的检查基片本身覆盖了该极其窄环形区域。即使在母盘信息载体和检查基片之间当它们被相互紧密接触时发生任何程度的表面方向性位置偏离时，在母盘信息载体中表面方向性位置偏离的最大区域能够可靠地与检查基片紧密接触。即，在极其窄环形区域中如果有外来物质，该物质被确定地转换到检查基片。简言之，有可能避免忽略在极其窄环形区域中外来物质的存在，因此提高了母盘信息载体缺陷检查中的精确性。

另外，与使用它们具有相同大小的后述方法的情况相对照，其中母盘信息载体和检查基片在不同的紧密接触位置被相互接触许多次，该方法不需要进行伴有紧密接触位置变化的重复紧密接触操作，而仅需要完成紧密接触一次，因此提高检查效率。

下面将说明使用几乎具有与磁性记录媒体尺寸相同尺寸的检查基片的方法。该方法考虑了当母盘信息载体和检查基片被相互紧密接触时发生的表面方向性位置偏离。通过该方法，母盘信息载体和检查基片在不同的紧密接触位置被相互接触许多次，使得几乎具有与磁性记录媒体尺寸相同尺寸的检查基片可以与母盘信息载体中该表面方向性位置偏离的整个最大区域紧密接触。

在这种情况下，操作如下。即，通过将母盘信息载体和检查基片以不同紧密接触位置相互紧密接触多次，在母盘信息载体包括极其窄环形区域的表面方向性位置偏离的整个最大区域能够与检查基片紧密接触。因此，在极其窄环形区域中如果有外来物质，该物质被确定地转换到检查基片。因此有可能避免忽略在极其窄环形区域中存在的外来物质，如此提高了在母盘信息载体上缺陷检查的精确性。

另外，通过初始地使用具有与磁性记录媒体尺寸相同尺寸的这种检查基片，其中磁性膜图形的信息信号被从母盘信息载体磁性地转换到该磁性记录媒体，则有可能以转向(diverted)方式使用该磁性记录媒体或者其原板作为检查基片。这意味着，专用检查基片不需要特别地制造。因此，有可能简单化缺陷检查设备和降低成本。

从此可进一步说检查基片在一些情况下可以是小于磁性记录媒体。通过用不同紧密接触位置重复紧密接触，检查基片的该小尺寸能够被适应。这些情况也被本发明覆盖。

附加优选方案也可以被如下给出。即，所采用的检查基片主要是由与磁性记录媒体主要构成材料相同的材料制成的。这是基于这种概念，即制造的磁性记录媒体或者在制造工艺中半完成的磁性记录媒体应当被以转向方式用作为检查基片，以便能够降低成本。

根据附加优选方案，使用具有比母盘信息载体硬度更低的硬度的检查基片。

在这种情况下，操作如下。即，如果相反地，这种检查基片被用作为具有与母盘信息载体硬度至少相同硬度，则检查基片几乎不具有因母盘信息载体上出现的外来物质或者异常突出引起的凹槽。通过使用这种检查基片使得具有比母盘信息载体更低的硬度，因母盘信息载体上的外来物质或者异常突出引起的凹槽能够肯定地在检查基片中产生。因此，有可能通过使用检查基片可靠地检测母盘信息载体上出现的外来物质或者异常突出。

根据附加优选方案，检查基片还免除在磁性记录媒体上应用润滑剂。

在这种情况下，操作如下。即，典型的润滑剂被涂在完成的磁性记录媒体的最上层上。这起作保护磁性记录媒体光滑性作用的目的。如果该涂有润滑剂的磁性记录媒体被用作为检查基片，则检查基片也在其上涂覆有润滑剂。如果使用涂有润滑剂的检查基片，则在母盘信息载体上如果有外来物质，该物质几乎不被该检查基片吸收。为解决该问题，使用没有润滑剂的检查基片，由此提高母盘信息载体上外来物质的吸收。这使得有可能通过使用检查基片安全地检测出在母盘信息载体上出现的外来物质。

根据附加优选方案，采用的检查基片使其紧密接触的表面磁化。

在这种情况下，操作如下。即，如果异常突出出现在母盘信息载体的磁性膜图形中，磁性膜可能因紧密接触/分开而从母盘信息载体中剥离。如果检查基片在其表面上具有磁性特性，则剥离的磁性层能够安全地磁性吸收到检查基片，如此防止了母盘信息载体表面被剥离磁性膜污染。

本发明还涉及利用母盘信息载体进行磁性膜图形的磁性转换的方法。本方法特别使用母盘信息载体，其通过上述缺陷检查方法的缺陷检查被确定为是可接受的。基于母盘信息载体上磁性膜图形的信息信号被磁性地转换到磁性记录媒体。在这种情况下，其上形成了磁性膜图形的母盘信息载体的表面被引入与磁性记录媒体紧密接触，其上又被施加外磁场，由此将基于母盘信息载体上磁性膜图形的信息信号转换到磁性记录媒体。

根据另一个方案，对磁性膜图形利用母盘信息载体的磁性转换方法使用了通过上述缺陷检查方法的缺陷检查被确定为是可接受的母盘信息载体。在这种情况下，母盘信息载体的磁性膜图形被预先磁化。然后，其上形成了磁化磁性膜图形的母盘信息载体的表面被与磁性记录媒体紧密接触，由此将基于母盘信息载体上磁性膜图形的信息信号转换到磁性记录媒体。

这两个方法彼此不同，在于是将外磁场施加到磁性膜图形还是代之以预先被磁化。这两个方法使用了已经适当通过缺陷检查然后将基于磁性膜图形的信息信号磁性地转换到磁性记录媒体的母盘信息载体，由此有效地和精确地实现信息信号的磁性转换。

本发明还涉及磁性记录媒体的缺陷检查方法。该方法使用了母盘信息载体，其通过缺陷检查被确定为是可接受的，以便然后将其上的信息信号转换到磁性记录媒体。但是，即使采用这种可接受的母盘信息载体，当它们相互被紧密接触时，在母盘信息载体和磁性记录媒体之间也可能引入外部的外来物质。在这种情况下，诸如由外来物质的挤压引起的坑的缺陷在磁性转换之后在磁性记录媒体上是可能发生的。这个缺陷是要被检查的。

根据本发明的磁性记录媒体的缺陷检查方法包括步骤：

(i)检查在转换之前在磁性记录媒体上可能原始存在的缺陷；

(ii)将母盘信息载体与缺陷检查之后的转换前磁性记录媒体紧密接触，由此将基于母盘信息载体磁性膜图形的信息信号磁性转换到缺陷检查之后的转换前磁性记录媒体；

(iii)检查从母盘信息载体分开之后的转换后磁性记录媒体上的缺陷；和

(iv)将转换后磁性记录媒体上的缺陷检查结果与转换前磁性记录媒体上的缺陷检查结果相互比较，由此确定磁性记录媒体上的这种缺陷是由转换步骤引起的。

因此，有可能保证由磁性转换引起的缺陷的检测并提高磁性记录媒体上缺陷检查中的精确性。通过这个缺陷检查，在磁性记录/再现设备中能够提高可靠性。

根据上述磁性记录媒体缺陷检查方法的附加优选方案，下面的步骤被加在转换前磁性记录媒体缺陷检查步骤和紧密接触步骤之间。即，该过程检查在转换前磁性记录媒体上检查的缺陷数或者大小是否不大于预定值，如果其超过该值，停止正在进行的处理，否则前进到紧密接触步骤。

在这种情况下，操作如下。如果在它们被相互紧密接触时外来物质在磁性转换期间被引入母盘信息载体和磁性记录媒体之间，则如此引入的外来物质有可能具有负面影响，例如在磁性记录媒体或者母盘信息载体上产生缺陷，因为磁性转换操作是在紧密接触状态实现的。在母盘信息载体上一旦产生的缺陷将引起在一个接着一个处理的若干磁性记录媒体中发生类似缺陷，如此导致重要问题。为防止这种情况，如果缺陷是通过转换前磁性记录媒体上缺陷检查被检查的，该过程检查这些缺陷的数量和/或大小是否大于预定值。如果其超过预定值，该过程停止正在进行的处理以避免负面影响，然后清洗它或者用另一个磁性记录媒体代替它，然后再次进行缺陷检查。如果其不大于预定值，该过程确定没有给出负面影响，然后前进到紧密接触步骤。因此，母盘信息载体能够被防止具有新的缺陷。

根据本发明磁性记录媒体缺陷检查方法的另一个解决方案包括步骤：

(i)检查在转换前磁性记录媒体上可能原始存在的缺陷，并且之前或之后，还测量转换前磁性记录媒体相对于缺陷检查单元的旋转相位；

(ii)将母盘信息载体与随着缺陷检查完成的转换前磁性记录媒体紧密接触，以便然后将基于母盘信息载体磁性膜图形的信息信号磁性地转换到随着缺陷检查完成的转换前磁性记录媒体；

(iii)检查从母盘信息载体分开的转换后磁性记录媒体上的缺陷，并且之前或之后，还测量转换后磁性记录媒体相对于缺陷检查单元的旋转相位；

(iv)根据测量的两个旋转相位校正相位上的偏离；和

(v)将转换后磁性记录媒体上的缺陷检查结果与转换前磁性记录媒体上的缺陷检查结果相互比较，由此确定在磁性记录媒体上由转换步骤引起的缺陷。

在这种情况下，操作如下。即，磁性记录媒体被固定到缺陷检查单元以进行在转换前状态的缺陷检查，然后从这里被分开以移动到紧密接触单元，使得在母盘信息载体上的缺陷可以以紧密接触状态被转换到此。磁性记录媒体然后从紧密接触单元被分开以被再次移动到缺陷检查单元，使得其可以进行转换后状态的缺陷检查。在转换前状态缺陷检查中使用的缺陷检查单元和在转换后状态缺陷检查中使用的缺陷检查单元可以是相同或者不同的，尽管转换前状态磁性记录媒体的旋转相位和转换后状态的旋转相位不总是相互一致的。预期相位更可能发生偏离。为防止这种情况，在转换前状态和转换后状态的磁性记录媒体的缺陷检查结果之间比较之前，该过程进行旋转相位校正，使得两个旋转相位可以相互一致。该旋转相位校正操作一般是在缺陷检查结果(数据)上进行的。这使得有可能避免由旋转相位的偏离引起的缺陷检查结果精确性的退化，如此提高了缺陷检查精确性。

上述中，根据优选方案，旋转相位校正是在基于当其上施加光时通过磁性记录媒体规则反射的光所检测的缺陷的旋转相位上进行的。

在规则反射光和散射光之间的差已经被说明。所检测缺陷的旋转相位是以所检测的规则反射光为基础捕获的，其在方向性和强度上要比另一个更加稳定。因此，有可能进一步提高缺陷检查精确性。

根据另一个优选方案，旋转相位校正是在以当其上施加光时通过磁性记录媒体散射的光为基础所检测的缺陷的旋转相位上进行的。这意味着，旋转相位校正可以主要使用散射光来完成。

根据又一个优选方案，旋转相位校正是在以当其上施加光时通过磁性记录媒体规则反射的光或者散射的光为基础所检测的缺陷旋转相位上进行的，同时将优先级给予基于规则反射光所检测的缺陷的旋转相位校正。

上述中，下面可以是优选的方案。即，在转换前磁性记录媒体上的缺陷检查步骤中，转换前磁性记录媒体上的缺陷被计数。在转换后磁性记录媒体上的缺陷检查步骤中，转换后磁性记录媒体上的缺陷被计数。然后，在通过比较确定磁性记录媒体上缺陷的步骤中，该过程确定在转换前磁性记录媒体上缺陷的计数和在转换后磁性记录媒体上缺陷的计数是否相同。如果结果它们是彼此相同，该过程就确定磁性记录媒体没有缺陷，否则确定有缺陷。该方案在确定处理中提供了一个相对简单和快的方法。

上述中，下面可以是另一个优选方案。即，在转换前磁性记录媒体上的缺陷检测步骤中，转换前磁性记录媒体上的缺陷的位置信息可以被提取。也在转换后磁性记录媒体上的缺陷检查步骤中，转换后磁性记录媒体上的缺陷的位置信息被提取。然后，在通过比较确定磁性记录媒体上缺陷的步骤中，该过程确定在转换前磁性记录媒体上缺陷的位置信息和在转换后磁性记录媒体上缺陷的位置信息是否是彼此相同。如果结果它们是彼此相同，该过程就确定磁性记录媒体没有缺陷，否则确定有缺陷。

在这种情况下，操作如下。该方法使用缺陷的位置信息作为参考并有利地获得哪种类型缺陷具有哪个坐标的详细数据。即，容易确定缺陷是异常突出或者是外来物质和甚或它们具有何种分布。这在清洗磁性记录媒体以再利用中是有效的技术。

上述中，根据又一优选方案，当在由划分磁性记录媒体的整个区域获得的微小单元区域中的多个上连续地确定了缺陷时，该过程如下地适应这种情况。即，该过程将该多个连续单元区域作为一个明显区域，来获得被认为是位于或靠近该明显区域之重力中心的一个缺陷的位置信息。

在这种情况下，通过将具有至少某个长度的条形的或者具有至少某个伸展的缺陷作为一个缺陷，在缺陷检查中能够提高精确性。

本发明还涉及磁性记录/再现设备，其包括盘形磁性记录媒体和用于对盘形磁性记录媒体完成记录/再现操作的磁头，其中信息信号通过上述磁性转换方法被磁性转换到该盘形磁性记录媒体。该磁性记录/再现设备因此被安装有盘形磁性记录媒体，基于母盘信息载体磁性膜图形的信息信号以高精确性被磁性转换到该盘形磁性记录媒体，因此可以很好地控制跟踪伺服机构等。

附图说明

通过下面参考相应的附图对本发明优选实施例的说明，本发明的这些和其它目的以及优点将变得清楚，其中：

图1是用于表示在本发明第一实施例中母盘信息载体和磁性记录媒体被相互分开时状态的剖面图；

图2是用于表示在本发明第一实施例中母盘信息载体和磁性记录媒体被相互紧密接触时状态的剖面图；

图3是用于表示在本发明第一实施例中与磁性记录媒体接触的母盘信息载体之接触表面的图示说明；

图4是用于表示在本发明第一实施例中轮毂形状的图示说明；

图5是用于表示在本发明第一实施例中逝去时间和紧密接触空间的空气压力之间关系的曲线；

图6是用于表示在本发明第一实施例中母盘信息载体一个例子之平面的示意性图示说明；

图7是用于表示在本发明第一实施例中图6的F部分的展开图；

图8是用于表示在本发明第一实施例中图6和7所表示的区域的部分部面图；

图9是用于表示在本发明第一实施例中初始化的图示说明；

图10是用于表示在本发明第一实施例中磁性转换的图示说明；

图11是用于表示在本发明第一实施例中磁化过程状况的图示说明；

图12是用于表示在本发明第一实施例中缺陷检查步骤的流程图；

图13是用于表示在本发明第一实施例中缺陷检查设备的图示说明；

图14是用于表示在本发明第一实施例中在步骤ST1完成的缺陷检查结果的图示说明；

图15是用于表示在本发明第一实施例中在步骤ST4完成的缺陷检查结果的图示说明；

图16是用于表示在本发明第一实施例中确定由母盘信息载体引起的缺陷的流程图；

图17是用于表示在本发明第一实施例中在相同检查基片上进行连续20次测量检测的各种类型缺陷之重力中心位置的曲线图；

图18是用于表示在本发明第一实施例中通过规则反射光接收系统的光接收器检测的那些具有等于或小于10度之旋转相位偏离量和等于或小于0.5mm之位置偏离量的缺陷的列举结果表；

图19是用于表示在本发明第一实施例中完成的减法结果的图示说明；

图20是用于表示在由规则反射光接收系统的光接收器单元检测的凹槽中缺陷的输出和磁性记录媒体与头间距离之间的关系曲线；

图21是用于示意地表示在本发明第二实施例中在母盘信息载体和检查基片之间处于紧密接触状态的关系的图示说明；

图22是用于表示在本发明第二实施例中检查基片相对于母盘信息载体的紧密接触位置的图示说明；

图23是用于表示在本发明第二实施例中在步骤ST1完成的缺陷检查结果的图示说明；

图24是用于表示在本发明第二实施例中在步骤ST4完成的缺陷检查结果的图示说明；

图25是用于表示在本发明第二实施例中完成的减法结果的图示说明；

图26是用于表示在本发明第三实施例中制造磁性记录媒体的步骤的流程图；

图27是用于表示在本发明第三实施例中在步骤ST22完成的缺陷检查结果的图示说明；

图28是用于表示在本发明第三实施例中在步骤ST25完成的缺陷检查结果的图示说明；

图29是用于表示在本发明第三实施例中通过规则反射光接收器单元R检测的那些具有等于或小于10度之旋转相位偏离量和等于或小于0.5mm之位置偏离量的缺陷的列举结果表；

图30是用于表示在本发明第三实施例中完成的减法结果的图示说明；

图31是用于表示磁性转换之后传统记录媒体表面的观察结果的图示说明；

图32是用于表示传统磁性记录媒体中坑的曲线；和

图33是用于表示在磁性转换是通过传统磁性转换方法完成之后在磁性记录媒体表面上突出物状态之光学测量结果的图示说明。

在所有这些图中，同类元件用相同标记表示。

具体实施方式

下面将参考附图说明本发明优选实施例。

第一实施例

本发明第一实施例中的磁性转换将参考图1到11如下进行说明。

图1是磁性转换设备的剖面图。图1中，标记数1表示磁性记录媒体(磁盘)，标记数2表示母盘信息载体。标记数3表示与磁性记录媒体1接触的母盘信息载体2的接触表面。在接触表面3中形成了以径向方式从母盘信息载体2中心伸展的槽4。在该实施例中，凹槽深度被设置为5μm左右。标记5表示在其中间被固定到母盘信息载体2的轮毂，标记6表示用于支持磁性记录媒体1的支撑台。支撑台6具有在其中形成的用于通过其中心流动空气的通气槽7。标记8表示通道，通过它，在磁性记录媒体1和母盘信息载体2之间出现的空气被抽出，并且空气被压缩送到被提供作为这两个之间的空间的凹槽4，标记9表示用于通过通道8抽出空气的空气出口，标记10表示吸入器泵，标记11表示用于控制空气抽出的抽气阀，标记12表示用于运送压力空气的空气供给泵，以及标记13表示用于控制空气供给的空气供给阀。空气供给泵12安装有0.01μm的空气过滤器，用于防止0.01μm大小的外来物质进入通道8。标记14表示支持臂，用于支持母盘信息载体2固定其上。用于该目的的固定单元可以是粘结剂等，或者如图1表示，母盘信息载体2可以通过支持臂14中形成的通孔被吸住。而且，支持臂14被定位成使得通过其上部的轮毂而由引导部件16垂直地滑动。

但是，母盘信息载体2不仅可以通过使用支持臂14而且可以例如通过将轮毂5外周边适配到磁性记录媒体1内周边槽被定位。在这种情况下，轮毂5具有如图4表示的形状，使得在磁性记录媒体1和母盘信息载体2之间出现的空气可以通过在轮毂5外周边形成的凹口51被抽出或者压缩送出。

下面，参考图1到3说明吸入/压缩的步骤。首先，参考图1说明利用压缩分开的步骤。通过关闭抽气阀11和打开空气供给泵13以便然后操作空气供给泵12，空气被流入通道8。然后，空气朝上被压缩送过通气槽7，如图1中的箭头A表示。这引起通过通气槽7压缩的空气将轮毂5向上压，然后，如箭头B表示，被压缩入凹槽4。如此被压缩入凹槽4的空气从母盘信息载体中心以径向方式通过此被扩散到其外周边。进一步通过凹槽4和从磁性记录媒体1和母盘信息载体2之间的间隙逃逸到大气中。

逝去时间和在磁性记录媒体1与母盘信息载体2之间空间(以后叫作空间S)的空气压力之间的关系表示在图5中。如图5表示，当时间过去三秒左右时，空间S的空气压力立即从101.3kpa上升，然后被保持在130kpa压力一秒左右的时间间隔，该时间间隔对应于磁性记录媒体1和母盘信息载体2被相互分开时的上述状态。

在该实施例中，当已经与磁性记录媒体1紧密接触的母盘信息载体2与支持臂14在整体上被升高0.5mm时，支持臂14的上表面与引导部件16的下表面对着，使得能够控制在磁性记录媒体1和母盘信息载体2之间的距离。

下面，说明利用吸入紧密接触的步骤。

空气供给泵12停止并且空气供给阀13关闭。然后，已经固定磁性记录媒体1于其上的支持臂14通过其自重向下移动，使得轮毂5被装载到磁性记录媒体1，匹配于内周边槽。然后，抽气阀11被打开以操作吸气泵10。然后，如图2中箭头C表示，通气槽7中的空气被向下抽气，使得凹槽中即空间S的空气也通过在磁性记录媒体1的内周边槽和轮毂5之间的间隙被抽气。这里注意，凹槽3不伸展到母盘信息载体2最外周边，如图3所表示。这样，在最外周边环形部分，母盘信息载体2和磁性记录媒体1在整个四周是处于紧密接触状态。因此，空间S被封闭，其压力变得比环境压力低。因此，通过环境压力15，磁性记录媒体1被压向母盘信息载体2。

图5中，空间S的空气压力被保持在30kpa左右的时间间隔对应于上述紧密接触状态。

接着，随着磁铁17在箭头D方向向下移动直到其可以靠近母盘信息载体2并在母盘信息载体之上大约1mm的位置，其被停止移动，然后通过在磁性记录媒体四周方向即围绕引导部件16的至少一次旋转向箭头E转动，如此产生转换必须的磁场(外部场)。

因此，在磁性转换中，磁性记录媒体1仅包括在紧密接触/压缩操作中，使得其在因磁性转换导致的旋转相位中没有大的偏离。

下面参考图6到8详细说明母盘信息载体2。

如示意地说明一个例子之母盘信息载体2的平面的图6中表示，信号区域2a被以近似径向方式形成在母盘信息载体2的一个主要表面中，即与磁性记录媒体1铁磁窄膜表面接触的侧表面。尽管图3到6的示意性说明，图6中表示的信号区域2a实际上被形成在图3表示的接触表面中。

图6中虚线包围的F部分在图7中被放大表示。如图7的表示，在信号区域2a中形成了要被记录到磁性记录媒体1的数字信息信号的图形。例如，在对应于数字信息信号之图形形状中利用由铁磁窄膜制成的磁性部分，在对应于预先格式(pre-format)记录的位置上形成母盘信息图形。

图7中，阴影部分提供了由铁磁窄膜制成的磁性部分。在图7表示的母盘信息图形中在轨道长度方向以如下顺序排列有用于时钟信号、跟踪伺服机构信号、地址信息信号等的区域。这里注意，图7表示的母盘信息图形仅仅是一个例子，其配置、布局等适当地根据被记录到磁性记录媒体的数字信息信号来确定。

例如，如在硬盘驱动器中，有这种情况，首先，参考信息被记录在硬盘的磁性膜上，以便然后基于该参考信号以预先格式记录跟踪伺服机构信号等。在这种情况下，根据本发明的母盘信息载体被用来以转换方式仅将该参考信号记录到硬盘的磁性膜上。然后，该硬盘被安装在驱动器的盒中。跟踪伺服机构信号等可以通过利用硬盘驱动器的磁头以预先格式被记录。

图6和7中表示的区域被表示在图8的剖面中。

如图8表示，在母盘信息载体2的由非磁性材料制成的盘形基板的一个主要表面中形成有对应于信息信号之精细阵列图形的多个凹槽2c。在该凹槽2c中埋置有提供磁性部分的铁磁窄膜2d。基板2b是由硅，玻璃，塑料等制成。基板2b的主表面与磁性记录媒体1的表面接触。铁磁窄膜2d可以由各种磁性材料制成，包括硬磁性材料，半硬磁性材料和软磁性材料，只要其能够以转换方式将数字信息信号记录到磁性记录媒体1上即可。例如其为Fe，Co，Fe-Co合金等。

这里注意，尽管其依赖于位长度、磁性记录媒体饱和磁化强度以及磁性层的膜厚度，当例如位长度是大约1μm、磁性记录媒体饱和磁化强度是大约500emu/cc和磁性记录媒体磁性层厚度是大约20nm时，铁磁窄膜层2d的厚度需要为大约50到500nm。

这里注意，在这种记录方法中，为了获得良好记录信号质量，当以母盘信息载体上作为铁磁窄膜提供的软或半软磁性窄膜的阵列图形为基础记录时，最好预先格式被均匀激磁和磁化。而且，在使用母盘信息载体记录信号之前，诸如硬盘的磁性记录媒体优选地使用DC电流来均匀地退磁。

下面将说明制造母盘信息载体2的方法。

即，在本发明记录方法中使用的提供有对应于信息信号之磁性部分的母盘信息载体是通过下述获得的：在硅基片的表面上形成抗蚀膜，利用激光束光刻或者利用电子束刻蚀来曝光和显影该抗蚀膜以由此形成图形，通过干法刻蚀进行刻蚀以由此在其上形成对应于信息信号的精细不规则性，以及通过溅射，真空蒸发，离子注入，CVD，喷镀等在凹槽中埋置由Co等制得的铁磁窄膜。

这里注意，该精细不规则性不仅可以通过该方法形成在母盘信息载体的表面上，而且也可通过例如使用激光束，电子束或者离子束直接形成或者通过机械加工形成。

下面参考图9到11，进一步详细说明将对应于在母盘信息载体2上形成的图形形状的信息信号转换到磁性记录媒体1的过程。首先，通过将定位在靠近磁性记录媒体1的磁铁17围绕磁性记录媒体中心轴作为与此平行的旋转轴转动，磁性记录媒体1预先在一个方向上被磁化，如图9的箭头表示(初始化)。

接着，如上述，母盘信息载体2被对准到磁性记录媒体1并在其上被叠置以便与其紧密接触，然后，如图2的箭头E表示，通过施加与初始化方向相反方向的磁场，母盘信息载体2的磁性部分(铁磁窄膜)2d被磁化。然后，如图10表示，对应于磁性部分2d的图形形状的信息信号被记录在被叠置于母盘信息载体2上的磁性记录媒体1的预定区域1b中。这里注意，图10中表示的箭头说明了以转换方式被记录到磁性记录媒体之磁化图形的磁场方向。

该磁化过程被表示在图11中。正如其中表示，磁性部分2d是通过在与磁性记录媒体1紧密接触的母盘信息载体2上施加外部磁场被磁化的。这样，信息信号能够被记录在磁性记录媒体1的铁磁层1c中。即，母盘信息载体2是通过在非磁性基板2b上形成由对应于预定信息信号的阵列图形的铁磁窄膜制成的磁性部分2d给出的。在该母盘信息载体2上对应于信息信号的磁化图形以转换方式被磁性地记录到磁性记录媒体1。这里注意，通过任何其它的方法，例如，通过预先磁化母盘信息载体2的磁性部分2d以及然后将该母盘信息载体2与磁性记录媒体1紧密接触，母盘信息载体2的图形可以在转换时被记录到磁性记录媒体1。还通过这个方法，信息信号能够在转换时被记录。

然后，再次进行图1表示的分离操作。即，抽气阀11关闭和空气供给阀13打开以操作空气供给泵12。然后，如箭头A和B表示，空气如箭头A和B表示的被压缩提供，使得母盘信息载体2整体地与支持臂14一起移动，然后当支持臂14的上表面与引导部件16相撞时停止。此刻，如箭头B表示，空气以径向方式通过从母盘信息载体2的中心到其外周侧的凹槽4被保持压缩。

如果在该状态在母盘信息载体2接触表面3上有异常突出或者外来物质，如果进行磁化转换的话，则其在磁性记录媒体1上产生缺陷。

下面参考图12到20将说明根据本发明实施例用于在母盘信息载体上检测缺陷的方法。

图12表示用于展示根据本实施例之母盘信息载体的缺陷检查方法的流程图。首先，说明用于检查磁性记录媒体表面上缺陷的图12中步骤ST1和ST4。步骤ST1和ST4使用公知的缺陷检查设备。当激光束被施加到盘的表面时，其根据每个缺陷的形状，大小等产生规则反射光或者散射光。接收该光以检测缺陷。本实施例中使用的缺陷检查设备被简单地概括如下。

图13表示在图12步骤ST1和ST4使用的缺陷检查设备。图13中，标记100表示检查基片，在其铝合金基板上已经形成用于防止变形的厚度大约为10μm的NiP喷镀层，标记101表示激光束发射器系统，标记102表示规则反射光接收系统，标记103表示散射光接收系统，以及标记104表示数据处理器。激光束以这种方式从激光束发射器系统101发射到检查基片的表面，从而在其上形成激光斑点。用于装载检查基片100的旋转马达和直线驱动器部分(未表示出)同时工作，由此在检查基片100的表面上以螺旋方式扫描激光斑点。如果在检查基片100的表面上有缺陷，激光斑点被散射，其通过散射光接收系统103获得，由此得到缺陷数据信号。另一方面，规则反射光通过规则反射光接收系统102接收。如此提供这些光接收系统，使得能够适应对于不同缺陷类型其光强度不同的规则反射光和散射光。而且，提供诸如滤光器，透镜等的光学单元以有效接收感兴趣的光(规则反射光和散射光)。由这些光接收系统如此接收的光通过预定电路被转变成对应的缺陷数据，然后输入到数据处理器104。

当每个光接收系统接收光时如此获得的缺陷数据信号被存储在对应于盘表面上预定单位单元的存储器地址中。该单位单元是指微小方形，其具有盘径向微小距离Δr和盘周微小距离Δθ。例如Δr＝10μm和Δθ＝0.125°。

如果诸如凹槽，划痕或者具有预定长度和宽度的颗粒的缺陷出现在多个连续的单元区域上，它会被错误当作若干缺陷。这样，如果预定数目地址的任何一个靠近其中存储了缺陷数据的地址，它们被处理为连续地址。该过程决定每个地址的连续性，并且如果两个地址或者更多地址是连续的，该过程就将该组地址识别为一个缺陷。因此，任何类型的缺陷被表达为与它们的大小和形状无关的组数中。缺陷的位置坐标被定义为被识别为连续的一组地址的重心。

这里注意，缺陷检查设备具有当检查基片100被装载和卸载时返回到其原来位置(home position)的功能。该操作是通过用于以螺旋方式扫描检查基片100的旋转马达(未表示出)完成的。

首先，在步骤ST1，该过程检查最初在第一状态中的检查基片100上可能出现的缺陷。

接着，在步骤ST2，该过程确认外来物质是否出现在第一状态检查基片100的表面上。具体地说，使用公知的光学缺陷检查方法在第一状态检查基片100上检查外来物质。在该实施例中，这种光学检查设备被用作为不同于但等效于在ST1使用的缺陷检查设备。该过程将外来物质检测限幅级别设置为1μm，由此检查具有不小于1μm大小的外来物质是否被附着在检查基片的表面。如果检查结果是检测到具有等于或大于1μm大小的外来物质，该过程就决定检查基片100为NG(不可接受的)，否则为OK(可接受的)。如果决定检查基片100为不可接受的，该过程就进行清洗和回收它。如果甚至在回收后决定仍是如此，则处理该检查基片。

因此，在步骤ST3紧密接触之前，能够检查第一状态检查基片100上可能存在的外来物质，因此防止了第一状态检查基片100表面上的外来物质附着到母盘信息载体2而损坏它。

也在ST2，缺陷检查设备返回到其原来的位置，如在ST1的情况。

在ST3步骤，使母盘信息载体2和完成了缺陷检查的第一状态检查基片100以几乎与参考图1和2说明的相同方法相互紧密接触。即，除了图1和2中表示的磁性记录媒体1被第一状态的检查基片100代替之外，内容是相同的。

然后，在步骤ST4，该过程检查缺陷是否出现在第二状态的检查基片100的表面上。在步骤ST4，该过程特别检查在母盘信息载体2与第一状态检查基片100紧密接触之后是否在该检查基片100上产生缺陷。第二状态的检查基片具有作为紧密接触的结果而转换到母盘信息载体2上的缺陷。

图14表示在步骤ST1在第一状态检查基片100上完成的缺陷检查的结果，图15表示在步骤ST4在第二状态检查基片100上完成的缺陷检查的结果。图14和15中，实圆(●)表示由规则反射光接收系统102的光接收器单元光学识别的缺陷的中心位置，三角形(△)表示由散射光接收系统103的光接收器单元光学识别的缺陷的中心位置。

下面参考图16将说明图12的ST5步骤，其用于确定由母盘信息载体2引起的缺陷。图16是用于表示ST5步骤的流程图。图16中，ST6和ST7表示在步骤ST1和ST4的缺陷检查结果，并且在该实施例中分别对应于图14和15。在ST8，该过程检测在步骤ST1和ST4缺陷检查结果中检查基片旋转相位的偏离。首先，如ST9表示，该过程规定一个范围，在该范围内，当分别在ST1和ST4检查在其上的缺陷时，旋转相位和位置可以偏离第一状态和第二状态检查基片100。在该实施例中，旋转马达被提供有原始位置返回功能以避免在步骤ST1，ST2和ST4磁性记录媒体旋转相位有大的偏离。而且，第一状态检查基片100在ST3的紧密接触步骤不被旋转，使得盘在旋转相位上没有大的偏离。但是，由于检查基片100的传送或者其波动等，在返回到原始位置时旋转相位可以发生一定程度的偏离。为防止这种情况，最好对旋转相位和位置的偏离范围规定波动上限。该实施例中，旋转相位和位置的偏离范围被分别设置为10度和0.5mm。

下面，完成步骤ST10。即，该过程将从ST6得来的ST1缺陷检查结果与从ST7得来的ST4缺陷检查结果相互比较，由此列举出具有等于或小于10度之旋转相位偏离和等于或小于0.5mm之位置偏离的每种类型的缺陷。从它们中，这种缺陷被确定为是通过规则反射光接收系统102的光接收器单元所检测的。如果发现这种缺陷，如在ST11步骤所述，该过程将这些缺陷之间的相位偏离量确定为在步骤ST1的第一状态检查基片100和在步骤ST4的第二状态检查基片之间的偏离量。如果没有通过规则反射光接收器单元R检测的缺陷，如在ST12步骤的说明，该过程将散射光检测结果识别为相位偏离。因此，当这些结果被用来校正缺陷的旋转相位时，优先级最好被给予用规则反射光检测的结果，而不是用散射光检测的结果。其理由参考图17说明。

图17是用于表示由缺陷检查设备在步骤ST1和ST2使用的检查基片上完成的缺陷测量结果的曲线，即，在不拆除旋转马达的情况下，对在相同检查基片上连续完成20次的每次测量操作，通过将设备返回到其初始位置获得的每种类型缺陷的重力(中心)位置的结果。图17A和17B表示外来物质的测量结果，即，由散射光接收系统103的光接收器单元检测的缺陷，而图17C和D为凹进的测量结果，即，由规则反射光接收系统102的光接收器单元检测的缺陷。而且，在图中，垂直轴表示检查基片100径向方向中的值r，而水平轴表示其在圆周方向的值θ。在本实施例中使用的缺陷检查设备的单位单元Δr＝10μm和Δθ＝0.125°。单元中的数字表示缺陷中心在其中被检测的次数。正如从这些图的测量结果可见，图17A和17B中的波动，即，由散射光接收系统103的光接收器单元检测的缺陷的位置中的波动要大于图17C和17D中的波动，即由规则反射光接收系统102的光接收器单元检测的波动。这是因为，散射光接收系统103的光接收器单元检测从激光斑点散射的一部分光，使得即使具有相同的被检测缺陷，其与由规则反射光接收系统102的光接收器单元相比，也更易于识别由应用激光束时细微的偏离位置或者角度引起的所检测部分之位置的偏离。因此，在用于旋转相位的校正中，优选级最好被给予规则反射光接收器单元的检测结果，而不是给予由散射光接收器单元的结果。

如从上述可见，优选权被给予规则反射光接收器单元的检测结果而不是另一个的结果，因此使得有可能提高缺陷检查的精确性。

图18表示将ST1的缺陷检查结果和ST4的结果相互比较的结果，由此列举出通过规则反射光接收器单元检测的具有等于或小于10度之旋转相位偏离量和等于或小于0.5mm之位置偏离量的缺陷。

图18中，ΔR表示在ST1缺陷检查结果和ST4缺陷检查结果之间的径向差，Δθ表示在它们之间的圆周差。如图18表示，发现缺陷检查时刻检查基片的旋转相位偏离是基于ST1和ST4步骤之缺陷检查结果的4.125度。这个发现是通过多次确定给出的。如果相同数据存在于多个情况中，则它们的值被平均。

下面，进行图16表示的ST13相位校正的步骤。如图18表示，在步骤ST1和ST4的相位值之间缺陷检查中测量的相位偏离是4.125度。基于该结果，步骤ST1的缺陷检查结果数据在校正相位偏离的方向，即图14的顺时针方向上，被转动4.125度。

下面，减法处理在图16的步骤ST14进行。减法处理一般在第二状态检查基片100缺陷检查结果和第一状态检查基片100缺陷检查结果之间相比较中进行。

通过ST13的步骤，在ST1和ST4进行相位校正之后，从ST4的缺陷检查结果中减去ST1缺陷检查结果。即，该过程计算[ST4的缺陷检查结果]-[ST1的缺陷检查结果]。

减法中，必须设置一个在其中类似缺陷被认为是相同缺陷的范围；在该实施例中，特别考虑位置的波动，具有等于或小于0.05mm径向差r和等于或小于1度圆周差θ的相同类型的任何缺陷被认为是相同的。这个减法结果被表示在图19中。

图19给出表示作为通过上述方法在ST14完成的减法结果之缺陷的数据。

如图19表示，两个缺陷是通过规则反射光接收系统102的光接收器单元检测的，七个缺陷是通过散射光接收系统103的光接收器单元检测的。

通过显微镜观察这些缺陷证实通过规则反射光接收系统102光接收器单元检测的缺陷是在母盘信息载体2表面上出现的异常突出。而通过散射光接收系统103光接收器单元检测的缺陷是附着在母盘信息载体表面的微小颗粒。

在这种情况下，检查基片100最好在其上没有涂润滑剂。如果类似于在普通磁性记录媒体情况下涂有润滑剂，则外来物质吸收率被降低，因此使得有可能将外来物质附着于检查基片100的表面。其导致缺陷检查精确性的破坏。为了避免对更精确缺陷检查的这种精确性破坏，在本实施例中不涂有润滑剂。

类似于在该实施例中，通过使用这种检查基片，其没有润滑剂的表面提供有喷镀NiP层，附着到母盘信息载体的外来物质能够被安全地转换和附着到检查基片。

而且，检查基片100优选具有比母盘信息载体2更低的硬度。如果检查基片100的表面比母盘信息载体2更硬，将发生下面的麻烦。如果出现的异常突出或者外来物质比母盘信息载体2的表面硬但硬度低于检查基片100，则检查基片100在其表面上没有凹槽。相反，当检查基片100的表面被做成不比母盘信息载体2硬时，则检查基片100在其中能够安全地形成凹槽，如此使得有可能可靠地检测在母盘信息载体2上出现的异常突出或者外来物质。

而且，尽管本实施例已经采用这种结构，即检查基片100是由铝基底和在其上涂有喷镀NiP层构成的，但本发明不局限于此。例如，其可以用具有磁特性的Co-Re-P，Co-Ni-P，或者Co-Ni-Re代替。通过施加具有磁特性的喷镀层，能够获得下述效果。即，如果异常物质存在于在母盘信息载体2表面上出现的磁性膜上，则通过紧密接触/分离操作，该磁性膜可以从母盘信息载体2表面上被剥离。如果检查基片100具有在其表面上涂有磁特性的喷镀层，则上述被剥离的磁性层能够被磁性地可靠吸附到检查基片100的表面，如此防止了母盘信息载体2表面被剥离的磁性膜所污染。

所采用的上述方法使得有可能精确地和高灵敏度地检测在母盘信息载体表面上存在的异常突出或者外来物质。

图20表示在磁性记录媒体和头之间的距离d与所检测缺陷的输出V之间的关系。所检查缺陷输出V指由规则反射光接收系统102的光接收器单元检测的凹槽的输出。距离d是指在公知Glideheit实验中当头的浮动量被逐渐下降到缺陷位置上方时固着在头上的AE传感器第一次感应相关缺陷的距离。

如从图20能够看出，在由规则反射光接收系统102的光接收器单元检测的缺陷输出和在磁性记录媒体和头之间的距离之间有一个关联。这里，假设在磁性记录媒体和磁性记录/再现设备的磁头之间的浮动距离为20nm。当由光接收器单元检测的缺陷的输出阈值电平被设置在低于图20中Va的预定值时，如果在步骤ST5没有缺陷被规则反射光接收系统102的光接收器单元检测出，则测试下的载体被确定为是可接受的，如果至少一个缺陷被检测出，则确定为是不可接受的。如果相关载体被检测为是不可接受的，则该不可接受所对应的缺陷一定是在母盘信息载体2上的异常突出或附着的外来物质，结果可能在磁性转换被进行之后在所有的磁性记录媒体中发生相同的缺陷。因此，必须观察在对应于缺陷位置之母盘信息载体2表面上的缺陷然后抛弃它。如果在ST5没有缺陷被规则反射光接收系统102的光接收器单元检测出，则被确定为是可接受的母盘信息载体2被用于磁性转换，以便然后将完成了磁性转换的磁性记录媒体1安装到磁性记录/再现设备的驱动器。

上述方法使得能够可靠地检测归于母盘信息载体的缺陷，如此提供了具有高可靠性的磁性记录/再现设备。

第二实施例

下面将参考图21到25说明根据本发明第二实施例用于检测母盘信息载体上缺陷的方法。

第二实施例不同于第一实施例在于当与检查基片100紧密接触时在母盘信息载体2上的区域完全包括磁性转换区域，在该磁性转换区域中对规则磁性记录媒体1进行的磁性转换。

图21是用于表示提出第二实施例之建议前提的问题的图示说明。即，这些图解释使用与磁性记录媒体1相同大小的检查基片100的缺点。图21A和21B示意地表示在吸入/压缩时刻在母盘信息载体2和检查基片100之间的关系。

图21A中，当母盘信息载体2和第一状态检查基片100被相互紧密接触时检查区域G的里面。这样，不检侧在区域G外部的外来物质(如果有的话)。区域G对应于磁性记录媒体1的外部轮廓。外来物质被固着到在表面方向性位置偏离的最大区域和磁性记录媒体的外部轮廓之间的非常窄的环形区域，即在因为在区域G外部而未被转换到第一状态检查基片100的极其窄的环形区域中。

下面，当第一状态检查基片100用规则磁性记录媒体1代替然后进行磁性转换时，如果它们是相同的大小，如图21B表示，安装位置上的偏离引起在某一部分上在检查范围之外的外来物质可以与磁性记录媒体1接触，结果磁性记录媒体1的边缘会在一些情况下邻近外来物质。在这种情况下，在外来物质附近磁性记录媒体1和母盘信息载体2之间紧密接触程度上遭受破坏，如此降低了转换到磁性记录媒体1信息信号的输出。结果，发生读出误差，从而干扰了磁性记录媒体1的转动。

为防止这种情况，使用比规则磁性记录媒体1更大的检查基片100，由此加宽图21A中的区域G。这使得有可能可靠地将固着在母盘信息载体极其窄的环形区域的外来物质转换到检查基片100。即，缺陷检查能够在母盘信息载体2上可靠地进行。然后，能够使用被确定为正常的没有外来物质的母盘信息载体2将信息信号磁性地转换到磁性记录媒体1，从而在整个磁性记录媒体的表面完成正常的磁性转换。这样有可能制造高质量的磁性记录媒体，其在信息信号的输出上没有下降。为此，必须将母盘信息载体2和检查基片100仅相互紧密接触一次。

另外，作为检查基片100，例如，典型地在制造过程中的规则磁性记录媒体，具有诸如在第一实施例说明中涉及的铝合金作为其基板的盘被使用许多次。通过以转向方式使用这种磁性记录媒体的半完成产品代替特定的检查基片，成本能够被降低。但是，在这种情况下，检查基片100在大小上与母盘信息载体2相同。这样，为了获得上述的效果，当检查基片100和母盘信息载体2被相互紧密接触时，通过使检查基片100不在中心位置，这种方法可以很好地被采用。

即，如图22表示，紧密接触/分离操作被进行几次，使得每次它们都相互紧密接触，第一状态检查基片100相对于母盘信息载体2以这个次序被顺序地偏离到紧密接触位置W，X，Y和Z，如此使得有可能在完全包括规则磁性记录媒体1的区域上进行检查。另外，该方法使得有可能进一步改善检查精度。内容参考图23到25说明。

图23到25表示根据第二实施例进行的缺陷检查的结果。

图23表示在第一状态检查基片100的表面上检查缺陷的结果，即，在图12的步骤ST1完成的缺陷检查的结果。

在随着ST1的步骤ST2，使用缺陷检查设备，该过程检查在第一状态检查基片100的表面上是否有尺寸等于或大于1μm的外来物质，如果检测没有缺陷，则前进到ST3的紧密接触步骤。在ST3步骤，利用驱动器部分(没有表示出)将第一状态检查基片100相对于图2表示的引导部件16布置在图22表示的位置W，X，Y，和Z。首先，在图1表示的母盘信息载体2和第一状态检查基片100被相互分离的状态中，驱动器部分被用于以这种方式移动引导部件16，即第一状态检查基片100可以被布置在图22表示的位置W上。然后，它们如图2表示被相互紧密接触以再次如图1表示进行分离。类似地，驱动器部分被用于移动引导部件16使得第一状态检查基片100可以被布置在图22表示的位置X上，然后进行紧密接触/分离操作，这一操作还要在位置Y和Z上被重复。如此已经进行紧密接触/分离操作的检查基片提供了第二状态检查基片。

本方法使得有可能在包括磁性记录媒体1的紧密接触区域的范围上将第一状态检查基片100与母盘信息载体2紧密接触。即，有可能在所有可能区域H上进行检查，在该区域H里，因相对于磁性记录媒体1在位置上的偏离导致的存在于对应于母盘信息载体2上磁性记录媒体的区域外部的外来物质可以和磁性记录媒体1对面相对。图22中，可能区域H是与磁性记录媒体1同心的。在由实圆表示的外来物质散布的区域是非常窄的环形区域(见阴影部分)。

下面，该过程完成ST4步骤，其用于检查第二状态检查基片100表面上的缺陷。结果被表示在图24。

下面，该过程完成ST5步骤，其用于检查归于母盘信息载体2的缺陷。结果被表示在图25。正如从中可见，每次在母盘信息载体2与第一状态检查基片100紧密接触的每一个不同位置，该过程执行缺陷检查四次，如此对由母盘信息载体2表面上的异常突出或者外来物质引起的任何缺陷，将对检查基片100检测多次。因此有可能可靠地将甚至出现在极其窄的环形区域上的缺陷转换到检查基片100，如此完全防止了检查中的错误。这里注意，在不同位置紧密接触的次数不局限于上述每次转变90度角的四次。例如，缺陷可以每次转变45度角而被检查8次，或者缺陷可以每次120度转变角而被检查3次。

因此，通过使用上述方法，有可能可靠地检测归于母盘信息载体的缺陷，如此提供了具有高可靠性的缺陷检查方法和磁性记录/再现设备。

第三实施例

下面将参考图26到30说明根据本发明第三实施例检查磁性记录媒体上缺陷的方法。

图26是用于表示根据本实施例步骤的流程图。图26中，首先磁性层通过制造磁性记录媒体的公知方法在步骤ST21形成。具体地，磁性层是通过例如象蒸发或者溅射这样的干喷镀被形成在铝制基板上。而且通常，这种方法被采用作为在磁性层上提供保护膜以由此保护它。保护膜是通过诸如蒸发或者溅射的干喷镀法，浸渍法或者旋涂法被形成。

下面将说明步骤ST22和ST25，其用于检查在磁性记录媒体表面上的缺陷。ST22和ST25步骤分别类似于第一实施例的图12表示的ST1和ST4步骤。即，采用图13表示的检查设备。

在步骤ST22，该过程检查转换前磁性记录媒体1上是否有可能原始存在的任何缺陷。

接着，在步骤ST23，该过程检查在转换前磁性记录媒体1表面上是否存在任何外来物质。具体地，采用公知光学缺陷检查方法检查在转换前磁性记录媒体1上的外来物质。根据该实施例，通过预先设置外来物质检测限幅级别为1μm，不同于但等效于ST22采用的光学检查设备被用于检查是否有等于或大于1μm的外来物质被固着到磁性记录媒体1的表面。如果检测到尺寸等于或大于1μm的外来物质，该过程就决定磁性记录媒体为NG(不接受的)，否则为OK(可接受的)。如果被确定为是可接受的，该过程前进到下个步骤ST23。另一方面，如果确定为不接受的，该过程就清洗和回收磁性记录媒体。如果即使被回收之后仍被确定为不接受的，就被处理掉。

因此，为了防止在转换前磁性记录媒体1表面上的外来物质(如果有的话)被固着到母盘信息载体2和损坏它，在ST24进行磁性转换之前，能够检查在磁性记录媒体的表面上是否有外来物质。

另外，类似于在步骤ST22，步骤ST23的检查中，用于以螺旋方式扫描转换前磁性记录媒体1表面的马达(未表示出)也在检查之前和之后被返回到相对于旋转相位的原始位置，目的是避免在装载或卸载时转换前磁性记录媒体旋转相位有大的偏离。

在ST24，该过程将母盘信息载体2和完成了缺陷检查的转换前磁性记录媒体1相互紧密接触，以便然后几乎以与参考图1和2说明的相同方式磁性地转换图形。即，除了图1和2涉及的磁性记录媒体1被转换前磁性记录媒体1代替之外，该过程完成相同的处理。

然后，该过程检查在转换后磁性记录媒体1表面上可能出现的缺陷。即，该过程完成步骤ST25。在步骤ST25，该过程具体地检查是否由于母盘信息载体2已经与转换前磁性记录媒体1紧密接触而在磁性记录媒体1上发生了缺陷。通过紧密接触，在母盘信息载体2上的缺陷被转换到磁性记录媒体，如此提供了转换后磁性记录媒体。

在用于检查转换后磁性记录媒体表面上缺陷的步骤上完成的缺陷检查结果的例子被表示在图27和28。图27表示在步骤ST22完成的缺陷检查的结果，图28表示在步骤ST25完成的缺陷检查的结果，即，在磁性转换后磁性记录媒体1上的缺陷检查的结果。在图27和28中，实圆(●)表示由规则反射光接收系统102的光接收器单元光学识别的缺陷的中心位置，三角形(△)表示由散射光接收系统103的光接收器单元光学识别的缺陷的中心位置。

下面，在用于确定由磁性转换引起的缺陷的图26步骤ST26上，该过程完成与参考图16说明的几乎相同的内容。该说明中的“检查基片”可以被“磁性记录媒体”替代。

图29表示将ST22步骤获得的缺陷检查结果和ST25步骤获得的结果相互比较的结果，由此列举出通过规则反射光接收器单元检测的具有等于或小于10度之旋转相位偏离量和等于或小于0.5mm之位置偏离量的缺陷。图29应当与图18几乎以相同方式观察。图29表示基于在步骤ST22和ST25获得的缺陷检查结果，被检查缺陷的磁性记录媒体的旋转相位偏离被确定为8.625度。基于如此获得的相位偏离，完成相位校正。相位校正方法已经说明。

图30表示以与ST14相同方式执行的减法的结果。图30的结果表示有由规则反射光接收系统102的光接收器单元检测的一个缺陷和由散射光接收系统103的光接收器单元检测的24个缺陷。作为通过使用显微镜对缺陷的观察结果，证实由规则反射光接收系统102的光接收器单元检测的缺陷是诸如图31表示的坑，而由散射光接收系统103的光接收器单元检测的缺陷是微小颗粒。

通过采用上述方法，有可能精确地和高灵敏度地检测通过那些在其上呈现的磁性转换而在磁性记录媒体表面上产生的缺陷。

根据本方法，有可能可靠地检测通过磁性转换而在磁性记录媒体上产生的缺陷，如此提供了具有高可靠性的磁性记录/再现设备。

如上述，本发明提供了用于检查在母盘信息载体上因为其对应于信息信号的磁性膜图形而难以识别的缺陷的间接检查。同时，本发明克服了产生于间接检查的新问题。本发明能够给出这种特别的和微妙的方法，以高可靠性地检查在母盘信息载体上的缺陷，而因磁性膜图形此缺陷原先难以识别。

另外，通过在磁性记录媒体上的缺陷检查中可靠检测由磁性转换引起的微小缺陷，本发明使得有可能高精确度地检测由磁性转换引起的缺陷。这导致以高可靠性实现磁性记录/再现设备。

尽管描述了本发明的优选实施例，但应当理解在其中是可以进行各种改进的，希望落在本发明精神和范围内的所有这种改进都被覆盖在所附权利要求中。

Claims (27)

1.一种用于母盘信息载体的缺陷检查方法，该母盘信息载体具有对应于要被磁性转换到磁性记录媒体上的信息信号的磁性膜图形，包括步骤：

检查在第一状态检查基片上可能原始存在的缺陷，母盘信息载体上的缺陷要被转换到该第一状态检查基片；

将母盘信息载体与已完成缺陷检查的第一状态检查基片紧密接触，由此将在母盘信息载体上可能存在的缺陷转换到已完成缺陷检查的检查基片；

检查在缺陷已经转换到其上且其已从母盘信息载体分开的第二状态检查基片上可能有的任何缺陷；和

将所述第二状态检查基片上的缺陷检查结果与所述第一状态检查基片上的缺陷检查结果相互比较，由此决定在所述母盘信息载体上可能存在的缺陷。

2.权利要求1的缺陷检查方法，在所述第一状态检查基片上检查缺陷的所述步骤和所述紧密接触步骤之间包括用于检查通过在所述第一状态检查基片上的缺陷检查检测的缺陷数量或者大小是否不大于预定的值的步骤，并且如果其超过所述预定值，停止正在进行的处理，否则前进到所述紧密接触步骤。

3.一种用于母盘信息载体的缺陷检查方法，该母盘信息载体具有对应于要被磁性转换到磁性记录媒体上的信息信号的磁性膜图形，包括步骤：

检查第一状态检查基片上可能原始存在的缺陷，所述母盘信息载体上的缺陷要被转换到该第一状态检查基片上，并且在之前或者之后，还测量该所述第一状态检查基片相对于缺陷检查装置的旋转相位；

将所述母盘信息载体与已完成缺陷检查的所述第一状态检查基片紧密接触，然后将在所述母盘信息载体上可能存在的缺陷转换到完成了缺陷检查的所述检查基片；

检查缺陷已经转换到其上并且其已与所述母盘信息载体分开的所述第二状态检查基片上的缺陷，而且在之前或者之后，还测量该第二状态检查基片相对于缺陷检查装置的旋转相位；

基于所述两次测量的旋转相位校正相位偏移；和

将在所述第二状态检查基片上的缺陷检查结果和在所述第一状态检查基片上的缺陷检查结果相互比较，由此决定在所述母盘信息载体上可能存在的缺陷。

4.权利要求3的缺陷检查方法，其中在所述旋转相位校正步骤，校正当光作用到所述检查基片时以被所述检查基片规则反射的检测光为基础检测的缺陷的旋转相位。

5.权利要求3的缺陷检查方法，其中在所述旋转相位校正步骤，校正当光作用到所述检查基片时以被所述检查基片散射的检测光为基础检测的缺陷的旋转相位。

6.权利要求3的缺陷检查方法，其中在所述旋转相位校正步骤，校正当光作用到所述检查基片时以被所述检查基片规则反射的或者散射的检测光为基础检测的缺陷的旋转相位，并且同时，给基于检测的所述规则反射光的旋转相位校正以优先级。

7.权利要求1的缺陷检查方法，其中：

所述第一状态检查基片的所述缺陷检查步骤包含计数出现在所述第一状态检查基片上的缺陷；

所述第二状态检查基片的所述缺陷检查步骤包含计数在所述第二状态检查基片上出现的缺陷；和

所述通过比较对所述母盘信息载体上的缺陷进行确定的步骤包含确定所述第一状态检查基片上缺陷的计数和所述第二状态检查基片上缺陷的计数是否彼此相等，并且，如果它们彼此相等，就确定所述母盘信息载体上没有缺陷，否则就确定所述母盘信息载体有缺陷。

8.权利要求1的缺陷检查方法，其中：

所述第一状态检查基片的所述缺陷检查步骤包含提取在所述第一状态检查基片上出现的缺陷的位置信息；

所述第二状态检查基片的所述缺陷检查步骤包含提取在所述第二状态检查基片上出现的缺陷的位置信息；和

所述通过比较对所述母盘信息载体上的缺陷进行确定的步骤包含确定所述第一状态检查基片上缺陷的位置信息和所述第二状态检查基片上缺陷的位置信息是否彼此相同，如果它们彼此相同，就确定所述母盘信息载体上没有缺陷，否则就确定其上有缺陷。

9.权利要求8的缺陷检查方法，其中当缺陷连续地被确定在由划分所述检查基片的整个区域获得的那些微小单元区域中的多个上时，所述多个连续单元区域被看作为一个明显区域，以获得被认为是位于或者靠近所述明显区域的重力中心的一个缺陷的位置信息。

10.权利要求1的缺陷检查方法，其中考虑到与所述母盘信息载体紧密接触时刻发生的表面方向性位置偏离，作为所述检查基片，所采用的是这样的检查基片，其具有至少对应于其表面方向性位置偏离之最大区域的尺寸。

11.权利要求1的缺陷检查方法，其中，作为所述检查基片，所采用的是这样的检查基片，其具有几乎与所述磁性记录媒体相同大小的尺寸，而且还考虑到当所述母盘信息载体与所述检查基片相互紧密接触时的表面方向性位置偏离，所述母盘信息载体和所述检查基片在不同的紧密接触位置相互紧密接触多次，使得具有与所述磁性记录媒体相同大小的所述检查基片可以与在所述母盘信息载体中的所述表面方向性位置偏离的整个最大区域紧密接触。

12.权利要求1的缺陷检查方法，其中，作为所述检查基片，所采用的是这样的检查基片，其由主要部件制成，该主要部件是所述磁性记录媒体的构成部件。

13.权利要求1的缺陷检查方法，其中，作为所述检查基片，所采用的是这样的检查基片，其具有比所述母盘信息载体更大的硬度。

14.权利要求1的缺陷检查方法，其中，作为所述检查基片，所采用的是这样的检查基片，其在所述磁性记录媒体上免除润滑剂。

15.权利要求1的缺陷检查方法，其中，作为所述检查基片，所采用的是这样的检查基片，其在紧密接触的一侧表面上被磁化。

16.一种用于使用母盘信息载体的方法，该母盘信息载体通过利用母盘信息载体缺陷检查方法的缺陷检查被确定为是可接受的物品，由此将基于所述母盘信息载体上的磁性膜图形的信息信号磁性地转换到磁性记录媒体，其中，将其上形成了所述磁性膜图形的所述母盘信息载体的侧表面与所述磁性记录媒体紧密接触，该磁性膜图形上又被施加外磁场，由此将基于所述母盘信息载体上所述磁性膜图形的信息信号磁性地转换到所述磁性记录媒体。

17.一种用于使用母盘信息载体的方法，该母盘信息载体通过利用母盘信息载体缺陷检查方法的缺陷检查被确定为是可接受的物质，由此将基于所述母盘信息载体上的磁性膜图形的信息信号磁性地转换到磁性记录媒体，其中，所述母盘信息载体的所述磁性膜图形被预先磁化，使得将其上形成了已经被磁化的所述磁性膜图形的所述母盘信息载体的侧表面与所述磁性记录媒体紧密接触，由此将基于所述母盘信息载体上所述磁性膜图形的信息信号磁性地转换到所述磁性记录媒体。

18.一种磁性记录媒体的缺陷检查方法，包括步骤：检查在转换前磁性记录媒体上可能原始存在的缺陷；

将母盘信息载体与完成缺陷检查的所述转换前磁性记录媒体紧密接触，由此将基于所述母盘信息载体磁性膜图形的信息信号磁性转换到完成缺陷检查的所述转换前磁性记录媒体；

检查从所述母盘信息载体分开的所述转换后磁性记录媒体上的缺陷；和

将所述转换后磁性记录媒体上的缺陷检查结果与所述转换前磁性记录媒体上的缺陷检查结果相互比较，由此确定在所述磁性记录媒体上的由所述转换步骤引起的缺陷。

19.权利要求18的缺陷检查方法，还包括在所述转换前磁性记录媒体缺陷检查的所述步骤和所述紧密接触步骤之间的用于检查通过在所述转换前磁性记录媒体上缺陷检查所检测的缺陷数或者大小是否不大于预定值的步骤，如果其超过所述预定值，停止正在进行的处理，否则前进到所述紧密接触步骤。

20.一种用于磁性记录媒体的缺陷检查方法，包括步骤：

检查在转换前磁性记录媒体上可能原始存在的缺陷，并且之前或之后，还测量所述转换前磁性记录媒体相对于缺陷检查装置的旋转相位；

将母盘信息载体与已完成缺陷检查的所述转换前磁性记录媒体紧密接触，以便然后将基于所述母盘信息载体磁性膜图形的信息信号磁性地转换到已完成缺陷检查的所述转换前磁性记录媒体；

检查从所述母盘信息载体分开的所述转换后磁性记录媒体上的缺陷，并且之前或之后，还测量所述转换后磁性记录媒体相对于所述缺陷检查装置的旋转相位；

基于所述两个测量的旋转相位校正相位偏离；和

将所述转换后磁性记录媒体上的缺陷检查结果与所述转换前磁性记录媒体上的缺陷检查结果相互比较，由此确定在所述磁性记录媒体上由所述转换步骤产生的缺陷。

21.权利要求20的缺陷检查方法，其中在所述旋转相位校正步骤，校正当光被施加到所述磁性记录媒体时以被所述磁性记录媒体规则反射的检测光为基础检测的缺陷的旋转相位。

22.权利要求20的缺陷检查方法，其中在所述旋转相位校正步骤，校正当光被施加到所述磁性记录媒体时以被所述磁性记录媒体散射的检测光为基础检测的缺陷的旋转相位。

23.权利要求20的缺陷检查方法，其中在所述旋转相位校正步骤，校正当光被施加到所述磁性记录媒体时以被所述磁性记录媒体规则反射的或者散射的检测光为基础检测的缺陷的旋转相位，同时优先级被给予基于所检测的所述规则反射光的旋转相位校正。

24.权利要求18的缺陷检查方法，其中：

在所述转换前磁性记录媒体上的所述缺陷检查步骤中，所述转换前磁性记录媒体上的缺陷被计数；

在所述转换后磁性记录媒体上的所述缺陷检查步骤中，所述转换后磁性记录媒体上的缺陷被计数；和

所述通过比较对所述磁性记录媒体上的缺陷进行确定的步骤中，确定在所述转换前磁性记录媒体上缺陷的计数和在所述转换后磁性记录媒体上缺陷的计数是否是相同，如果它们是彼此相同，就确定所述磁性记录媒体没有缺陷，否则确定有缺陷。

25.权利要求18的缺陷检查方法，其中：

在所述转换前磁性记录媒体上的所述缺陷检测步骤中，所述转换前磁性记录媒体上的缺陷的位置信息；

在所述转换后磁性记录媒体上的所述缺陷检查步骤中，所述转换后磁性记录媒体上的缺陷的位置信息；和

所述通过比较对所述磁性记录媒体上的所述缺陷进行确定的步骤中，确定在所述转换前磁性记录媒体上缺陷的位置信息和在所述转换后磁性记录媒体上缺陷的位置信息是否是彼此相同，它们是彼此相同，就确定所述磁性记录媒体没有缺陷，否则确定有缺陷。

26.权利要求25的缺陷检查方法，其中当在由划分所述磁性记录媒体的整个区域获得的微小单元区域中的多个上连续地确定了缺陷时，所述多个连续单元区域被作为一个明显区域，来获得被认为是位于或靠近所述该明显区域之重力中心的一个缺陷的位置信息。

27.一种磁性记录/再现设备，其包括：

磁性记录媒体，通过磁性转换母盘信息载体的磁性膜图形的方法，信息信号被磁性转换到该磁性记录媒体；和

磁头，用于完成在所述磁性记录媒体上的记录/再现，

其中，通过母盘信息载体缺陷检查方法被确定为没有缺陷的所述母盘信息载体和通过所述母盘信息载体磁性膜图形的磁性转换方法被确定为没有缺陷的磁性记录媒体被用于记录/再现。

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