JP5112167B2 - パターン転写装置及びパターン転写方法 - Google Patents

Description

本発明は、転写マスタのパターン、例えば、サーボパターンを、ディスク装置等の記憶装置の記憶媒体の表面上へ転写するパターン転写装置及びパターン転写方法に関する。

近年、磁気ディスク装置、光磁気ディスク装置、光ディスク装置などの記憶装置の記憶媒体の記録密度が格段に向上している。これによって、記憶装置の小型化や記録容量の拡大を図ることが可能となり、記憶装置の利便性が高まってきている。

かかる高密度化された記憶媒体において、目標とするトラックにヘッドを正確に位置付けるために、サーボ制御と呼ばれる自動制御が利用されている。記憶媒体には、サーボ制御に使用するサーボパターンと呼ばれる信号パターンが書き込まれている。

サーボパターンには、少なくとも、トラック番号、セクタ番号、ヘッドのトラック中心に対する相対的位置を復調するためのサーボパターン等が含まれている。そして、記憶装置、例えば、磁気ディスク装置においては、磁気転写やナノインプリントによって、転写マスタが有するサーボパターンを、記憶媒体上に転写するサーボパターン転写プロセスが採用されている。

ところで、記憶媒体の表面上には、ゴミなどの異物や、キズなどの欠陥が存在することがある。サーボパターン転写プロセスにおいて、異物や欠陥が存在する部分にサーボパターンを転写すると、サーボパターンの転写不良となる。正確に転写されなかったサーボパターンを有する記憶媒体は、目標とするトラックにヘッドを正確に位置付けることができないため、対応するユーザデータ格納領域が使用不可能になる。

さらには、サーボパターン転写プロセスにおいて、転写マスタを傷つけないことが必要である。このため、光学試験などを用いて、サーボパターンが転写される記憶媒体上の異物や欠陥を検出し、異物を除去する、又は、サーボパターンの転写を行わずに、記憶媒体自体を廃棄することが必要となる。

記憶媒体の表面上の異物又は欠陥を検査する方法としては、レーザー光を照射して、反射光及び散乱光をもとに、異物又は欠陥を検出する方法がある。なお、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥を検査する方法と同様に、転写マスタ上の異物又は欠陥を検査する方法がある。

このようにして検出された記憶媒体上の異物や欠陥の位置と、転写マスタのサーボパターンとを、パターンマッチングにより重ね合わせて、転写マスタのパターンと重なるか否かを判定している。

さらに、異物又は欠陥は必ず存在することを前提として、転写マスタ上にサーボパターンを複数組用意して、記憶媒体へ転写を行い、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥との重なり度合いが少ないサーボパターンを選択して使用するという方法も提案されている。

特開２００１−３５１２３１号公報 特開２００３−４４２８号公報 特開２００２−３７２５０１号公報 国際公開第２００５／００１８１７号パンフレット

しかしながら、上記従来技術では、次の問題点があった。すなわち、記憶媒体の記録密度の高密度化に伴って、記憶媒体上に、より微細なサーボパターンを形成する必要が高まってきている。サーボパターンが微細であればあるほど、例えば、大きさが数μｍ以下の微少な異物や欠陥も、問題となってくる。

よって、記憶媒体の表面上から、異物や欠陥を完全に除去することは不可能となってくる。また、光学検査装置の測定可能な異物等の大きさにも限界があり、ナノメートルレベルの位置決め精度の要求に耐え得るナノメートルの分解能で異物や欠陥の検出を行うことは現実的には難しい。

また、記憶媒体の表面上から、異物や欠陥が検出されたとして、異物又は欠陥が検出された記憶媒体を廃棄する様にすると、大量の記憶媒体を、サーボパターン転写以前に廃棄しなければならなくなり、記憶装置の製造コストを増加させる要因となってしまう。

なお、転写マスタ上にサーボパターンを複数組用意して、記憶媒体へ転写を行い、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥との重なり度合いが少ないサーボパターンを選択して使用する方法では、次の問題がある。

すなわち、ディスクリートトラックやビットパターンドメディアのような、サーボパターン同士の間のデータ域にも、なんらかのパターンを形成する、微細なパターンを転写する必要がある記憶媒体の場合には、適用が不可能になる。

本発明は、上記問題点（課題）を解消するためになされたものであって、表面上に存在する微細な異物や欠陥によって、大量の記憶媒体を、サーボパターン転写以前に廃棄することを回避し、記憶媒体へのサーボパターン転写不良を回避又は低減するとともに、記憶装置の製造コストを低減し、かつ、微細なパターンを転写する必要がある記憶媒体に対してもサーボパターン等のパターンを転写可能なパターン転写装置及びパターン転写方法を提供することを目的とする。

上述した問題を解決し、目的を達成するため、パターン転写装置及びパターン転写方法の一観点において、記憶装置の記憶媒体の表面上の異物又は欠陥を検出するとともに、異物又は欠陥の位置及び大きさを特定する記憶媒体検査を行い、この検査結果に応じて、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、磁気的又は物理的に特定パターンを転写するための転写パターン面を有する転写マスタの特定パターンとの相対位置の調整値をこれらの重畳の程度が最小となる様に算出し、算出された調整値に基づいて記憶媒体又は転写マスタの位置若しくは回転角度を調整して、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥を回避する様に、特定パターンを記憶媒体に転写することを要件とする。

開示のパターン転写装置及びパターン転写方法によれば、転写マスタの特定パターンを、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥を回避して記憶媒体に転写するので、特定パターンの転写不良を回避できる。また、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、転写パターンとの重畳による転写パターンの転写不良を回避又は低減でき、記憶媒体の廃棄を低減できるため、高品質な特定パターンの転写を可能にするとともに、記憶装置の製造コストの低減を図ることができる。

以下に添付図面を参照し、本発明のパターン転写装置及びパターン転写方法にかかる実施形態の一例を詳細に説明する。なお、以下に示す第一〜第四実施形態の一例では、記憶装置は、磁気ディスク装置であり、記憶媒体は、磁気ディスクであるとする。しかし、これに限定されるものではなく、他の記憶装置、例えば、ＣＤ−ＲＯＭ（Compact Disc Read Only Memory）、ＤＶＤ−ＲＯＭ（Digital Versatile Disk Read Only Memory）などの光ディスク装置、ＭＯ（Magneto-Optical disk）やＭＤ（Mini Disc）などの光磁気ディスク装置などの各種記憶媒体に、特定パターンを転写する場合にも適用できる。

また、以下に示す第一〜第四実施形態の一例では、記憶媒体に転写する特定パターンは、サーボパターンであるとする。しかし、これに限定されず、磁気パターン又は物理的な凹凸パターンなど各種の特定パターンを転写することができる。

［実施形態に係るサーボパターン転写処理の概略］
第一〜第四実施形態の一例の説明に先立ち、実施形態に係るサーボパターン転写処理の概略について説明する。図１は、実施形態に係るサーボパターン転写処理の概略を示す図である。

図１に示す様に、先ず、サーボパターン転写前の記憶媒体の表面に、異物（ゴミ等）又は欠陥（キズ等）があるか否かを検査する（ステップＳ１）。続いて、記憶媒体表面の異物又は欠陥と、転写マスタのサーボパターンとの相対位置を計算する（ステップＳ２）。

ここで、相対位置とは、記憶媒体の表面と、転写マスタの転写パターン面とを接触させたときの、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、転写マスタの転写パターン面が有する特定パターンとの相対的な位置関係を言う。

相対位置は、例えば、角度で表現され、相対角度と呼ぶこととする。相対角度は、記憶媒体の表面及び転写マスタの転写パターン面の中心を合わせた場合に、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と中心とを結ぶ線分と、転写マスタの転写パターン面が有する特定パターンと中心とを結ぶ線分とがなす角度である。

なお、相対位置は、相対角度に限定されるものではない。例えば、相対位置は、座標で表現されてもよい。相対座標では、記憶媒体の表面及び転写マスタの転写パターン面の中心を合わせた場合に、記憶媒体又は転写マスタのいずれか一方に基準となる座標平面を取る。この座標平面上において、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥及び転写マスタの転写パターン面の特定パターンの各位置を座標表示することとしてもよい。

続いて、記憶媒体及び／又は転写マスタを回転若しくは異動させて、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、転写パターンとの重畳による転写パターンの転写不良を回避又は低減する様に、相対位置を調整する（ステップＳ３）。

続いて、記憶媒体にサーボパターンが、磁気的又は物理的に転写される（ステップＳ４）。そして、サーボパターンが転写された記憶媒体を、記憶装置へ実装する（ステップＳ５）。

［サーボパターンの形成例］
次に、記憶媒体上に形成されるサーボパターンの形成例について説明する。図２は、記憶媒体上のサーボパターンの形成例を示す図である。同図に示す様に、サーボパターンとは、記憶装置が有する、記憶媒体との間で情報を読み書きするためのヘッドを位置決めするために使用される情報である。同図に示すように、記憶媒体には、回転中心から半径方向に円弧状に延びる複数のサーボパターンが記録されている。

図２に示すように、記憶媒体の表面において、サーボパターンは、記憶媒体の中心から外周へ、略半径方向に沿った円弧として等間隔に配置されている。サーボパターンが円弧状となるのは、次の理由による。

すなわち、記憶装置内において、先端にヘッドを有する浮上ヘッドスライダが取り付けられたヘッドアクチュエータは、支軸の中心軸を回転軸として扇状に揺動するが、ヘッドが内周及び外周の両端間のサーボパターンをなぞる場合に、中心軸からヘッドまでの距離が一定となるようにするためである。

［サーボパターンの転写の概要］
次に、記憶媒体へのサーボパターンの転写の概要について説明する。図３は、記憶媒体へのサーボパターンの転写の概要を示す図である。同図に示す様に、転写マスタを使用して、記憶媒体にサーボパターンを転写する場合は、記憶媒体の両面にサーボパターンを転写することが一般的である。これは、記憶媒体が、表裏両面に、記憶領域を有するためである。

図３に示す様に、記憶媒体へ転写するためのサーボパターンを含む転写パターン面を有する二つの転写マスタを、記憶媒体を両面から挟む様に、記憶媒体に押しつける。このように、二つの転写マスタを、記憶媒体に押しつけた状態で、磁界を発生させる、若しくは、二つの転写マスタの記憶媒体を挟む圧力を加圧することによって、記憶媒体の表裏両面上に、サーボパターンを転写する。

なお、記憶媒体が、片面のみを記憶領域として利用する場合は、サーボパターンを転写する面側にのみ転写マスタを配し、もう一方は、転写マスタの代わりに、転写マスタとともに記憶媒体を挟むことが可能な部材であればよい。

［サーボパターンの詳細］
次に、サーボパターンの詳細について説明する。図４は、図２に示したサーボパターンの拡大図である。同図は、１セクタ内のサーボパターンの半径方向の一部を抽出して拡大表示した図である。サーボパターンは、磁気パターン又は物理的に形成された凹凸パターンである。

１セクタ内のサーボパターンには、ヘッドが読み進む順序で、サーボマーク（Servo Mark）、グレイコード（Gray Code）、インデックス及びセクタ番号（Index＋Sector No.）、バースト信号Ａ〜Ｄ（ＰｏｓＡ〜Ｄ）が配されている。これらのサーボパターンが示す情報が、各トラック中心に沿って読み出されることによって、サーボ信号が再生されることとなる。

サーボマークは、サーボパターンの開始を示す情報である。グレイコードと、インデックス及びセクタは、２進化された１０進数が格納される領域である。グレイコードは、記憶媒体のトラック番号が格納される領域である。インデックス及びセクタは、記憶媒体の該当トラック番号のセクタのインデックス及びセクタ番号が格納される領域である。また、バースト信号Ａ〜Ｄ（ＰｏｓＡ〜Ｄ）は、トラックに対するヘッドの相対位置情報を持つ。

［サーボパターンをヘッドで再生したときの信号波形］
次に、記憶媒体のサーボパターンをヘッドで再生したときの信号波形について説明する。図５は、記憶媒体のサーボパターンをヘッドで再生したときの信号波形の一例を示す図である。

図５では、図４に示したサーボマーク（Servo Mark）、グレイコード（Gray Code）、インデックス及びセクタ番号（Index＋Sector No.）、バースト信号Ａ〜Ｄ（ＰｏｓＡ〜Ｄ）に対応する再生波形が現れている。これらの再生波形が正常に得られないと、ヘッドの位置決めが不可能になるため、対応するユーザデータ格納領域を使用することができなくなり、記憶媒体容量の欠損が生じることになる。

なお、記憶媒体の外周であればあるほど、１トラックの１セクタのサーボパターンに対応するユーザデータ格納領域の容量が大きくなる。従って、記憶媒体の外周ほど、サーボパターンの転写不良が問題となる。

［第一実施形態の一例］
次に、図６〜図８を参照して、第一実施形態の一例を説明する。先ず、第一実施形態の一例において、記憶媒体上の異物又は欠陥が問題になる場合について説明する。図６は、第一実施形態の一例において、記憶媒体上の異物又は欠陥が問題になる場合の一例を示す図である。

図６に示す様に、記憶媒体の表面上において、異物又は欠陥ＤＰが、サーボパターンと重畳して書き込まれると、該当サーボパターンは、転写不良によって、サーボ信号を正確に再生できなくなる。このため、該当サーボパターンのトラックの対応するユーザデータ格納領域が使用不可になる。

なお、場合によっては、異物又は欠陥ＤＰが、サーボパターンと重畳して書き込まれたために、対応するトラックの全ユーザデータ格納領域が使用不可になる。第一実施形態の一例は、上記の問題を解決するための実施形態である。

次に、第一実施形態の一例に係るサーボパターン転写装置の構成を説明する。図７は、第一実施形態の一例に係るサーボパターン転写装置の構成を示す機能ブロック図である。同図に示す様に、第一実施形態の一例に係るサーボパターン転写装置１００ａは、表面検査部１０１ａと、記憶媒体回転角度計算部１０２ａと、転写マスタ情報記憶部１０３ａと、良品判定部１０４ａと、記憶媒体回転角度調整部１０５ａと、サーボパターン転写処理部１０６ａとを有する。

表面検査部１０１ａは、記憶媒体の表面の異物又は欠陥を検査する検査装置であり、周知技術を利用可能である。記憶媒体回転角度計算部１０２ａは、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、異物又は欠陥と重畳する可能性がある転写マスタの転写パターンの相対角度とを計算する。そして、相対角度が第一の閾値未満である場合に、相対角度が第二の閾値以上となるように、記憶媒体を、記憶媒体の中心を軸として回転させる回転角度を計算する。

ここで、相対角度が第一の閾値未満であるとは、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、転写マスタの転写パターンとが重畳している部分がある状態である。また、相対角度が第二の閾値以上であるとは、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、転写マスタの転写パターンとが重畳している部分がなく、重畳が回避されている状態である。

なお、相対角度が第一の閾値未満であるときに、相対角度を第二の閾値以上とするために、記憶媒体を、記憶媒体の中心を軸として回転させる回転角度を、相対角度の調整値という。

転写マスタ情報記憶部１０３ａは、転写マスタの転写パターン面のサーボパターンの形成状態を示す情報を記憶する記憶部である。転写パターン面のサーボパターンの形成状態を示す情報には、例えば、記憶媒体の表面上に転写されるサーボパターンの数Ｎ、トラックごとのサーボパターンの幅Ｗなどを含む。

例えば、角度３６０度を、前述のＮで割ると、隣り合うサーボパターンの半径方向の中心線同士がなす角度が求まる。また、あるトラック一周分の長さをＬ１とすると、（Ｌ１−Ｎ×Ｗ）÷Ｎによって、該当トラックにおいて隣り合うサーボパターンの間のユーザデータ格納領域の長さＬ２が求まる。

記憶媒体回転角度計算部１０２ａは、例えば、上記した各種数値を用いて、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、転写マスタの転写パターンとが重畳している部分がなく、重畳が回避されるように、相対角度の調整値を算出する。

また、記憶媒体回転角度計算部１０２ａは、記憶媒体の表面上に、複数の異物又は欠陥が存在する場合には、例えば、次の様にして、記憶媒体の表面上の複数の異物又は欠陥と、これら複数の異物又は欠陥と重畳する可能性がある転写マスタの転写パターンとの重畳の程度が最小となる様に、相対角度の調整値を算出する。先ず、次式で定義される関数δ_ｉ（θ）を導入する。

また、記憶媒体の表面上の複数の異物又は欠陥をインデックスｉで識別する様にする。このとき、例えば、次式に基づいて、相対角度の調整値“θ_adj”を算出する。

なお、上記（２）式の右辺の“Σ”は、すべての異物又は欠陥ｉにわたる和を表わし、“ｍｉｎ”は、すべての“θ”について走査したときの最小値“Ａｄｊ”を表わす。最小値Ａｄｊとなるときの“θ”が、相対角度の調整値“θ_adj”である。

良品判定部１０４ａは、例えば、上記（２）式で算出した最小値“Ａｄｊ”が、所定閾値以下であるか否かを判定する。すなわち、記憶媒体の回転角度をどのように調整しても、記憶媒体の異物又は欠陥と、転写マスタのサーボパターンとの重畳量が大きいと、記憶媒体の記憶容量の欠損量が大きくなり、使用に耐えないためである。

良品判定部１０４ａによって、最小値“Ａｄｊ”が、所定閾値以下であると判定されたならば、調整値“θ_adj”分だけ記憶媒体を回転させる様に、記憶媒体回転角度調整部１０５ａに指示する。良品判定部１０４ａによって、最小値“Ａｄｊ”が、所定閾値を超えると判定されたならば、該当記憶媒体は、廃棄対象となる。

なお、良品判定部１０４ａは、必ずしも上記条件によって良品判定を行う必要はない。例えば、表面検査部１０１ａによって検出された記憶媒体の表面上の異物又は欠陥の数、若しくは大きさ、又はこれらの組み合わせなど、あらゆる条件によって良品判定を行ってもよい。

また、良品判定部１０４ａは、必須の構成ではない。この場合、良品判定は行なわれず、記憶媒体回転角度計算部１０２ａによって計算された相対角度の調整値に従って、記憶媒体回転角度調整部１０５ａが、記憶媒体を回転させる様にしてもよい。

記憶媒体回転角度調整部１０５ａは、記憶媒体回転角度計算部１０２ａによって計算された相対角度の調整値分だけ記憶媒体を回転させ、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、転写マスタの転写パターンとの重畳を回避する様に制御する。

サーボパターン転写処理部１０６ａは、記憶媒体回転角度調整部１０５ａによる回転によって調整された相対角度で、転写マスタのサーボパターンを、記憶媒体の表面に転写処理する。

次に、第一実施例の一例に係るサーボパターン転写処理について説明する。図８は、第一実施例の一例に係るサーボパターン転写処理手順を示すフローチャートである。同図に示す様に、先ず、表面検査部１０１ａは、サーボパターン転写対象の記憶媒体の表面上に異物又は欠陥が存在するか否かを検査する（ステップＳ１０１）。

続いて、記憶媒体回転角度計算部１０２ａは、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、転写マスタの転写パターンとの重畳を回避するために必要な記憶媒体の回転角度を計算する（ステップＳ１０２）。

続いて、良品判定部１０４ａは、記憶媒体は良品であるか否かを判定する（ステップＳ１０３）。記憶媒体は良品であると判定された場合に（ステップＳ１０３肯定）、ステップＳ１０４へ移り、記憶媒体は良品であると判定されなかった場合に（ステップＳ１０３否定）、ステップＳ１０７へ移る。

ステップＳ１０４では、記憶媒体回転角度調整部１０５ａは、ステップＳ１０２で計算された、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、転写マスタの転写パターンとの重畳を回避するために必要な記憶媒体の回転角度分だけ記憶媒体を回転させる。

続いて、サーボパターン転写処理部１０６ａは、転写マスタから記憶媒体へ、サーボパターンの転写を行う（ステップＳ１０５）。続いて、サーボパターン転写装置１００ａは、サーボパターンが転写された記憶媒体を、記憶装置へ実装する（ステップＳ１０６）。一方、ステップＳ１０７では、サーボパターン転写処理部１０６ａは、記憶媒体の廃棄処理を行う。

以上の第一実施形態の一例によれば、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、転写マスタの転写パターンとの重畳を回避するために、記憶媒体を回転させるので、軽量の記憶媒体を回転させることになることから、回転機構が簡易な構成となるので、サーボパターン転写装置を安価に製造することができる。

［第二実施形態の一例］
次に、図９及び図１０を参照して、第二実施形態の一例について説明する。先ず、第二実施形態の一例に係るサーボパターン転写装置の構成を説明する。図９は、第二実施形態の一例に係るサーボパターン転写装置の構成を示す機能ブロック図である。なお、第二実施形態の一例の説明では、第一実施形態の一例との差分のみについて説明を行う。

図９に示す様に、第二実施形態の一例に係るサーボパターン転写装置１００ｂは、表面検査部１０１ｂと、転写マスタ回転角度計算部１０２ｂと、転写マスタ情報記憶部１０３ｂと、良品判定部１０４ｂと、転写マスタ回転角度調整部１０５ｂと、サーボパターン転写処理部１０６ｂとを有する。

表面検査部１０１ｂと、転写マスタ情報記憶部１０３ｂと、良品判定部１０４ｂと、サーボパターン転写処理部１０６ｂとは、サーボパターン転写装置１００ａの表面検査部１０１ａと、転写マスタ情報記憶部１０３ａと、良品判定部１０４ａと、サーボパターン転写処理部１０６ａとそれぞれ同一の機能構成であるので、説明を省略する。

転写マスタ回転角度計算部１０２ｂは、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、異物又は欠陥と重畳する可能性がある転写マスタの転写パターンの相対角度とを計算する。そして、相対角度が第一の閾値未満である場合に、相対角度が第二の閾値以上となるように、転写マスタを、転写マスタの断面の中心を軸として回転させる回転角度を計算する。その他については、転写マスタ回転角度計算部１０２ａと同一である。

転写マスタ回転角度調整部１０５ｂは、転写マスタ回転角度計算部１０２ｂによって計算された相対角度の調整値分だけ転写マスタを回転させ、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、転写マスタの転写パターンとの重畳を回避する様に制御する。

次に、第二実施形態の一例に係るサーボパターン転写処理について説明する。図１０は、第二実施形態の一例に係るサーボパターン転写処理手順を示すフローチャートである。同図のステップＳ２０１と、ステップＳ２０３〜ステップＳ２０７とは、図８に示したステップＳ１０１と、ステップＳ１０３〜ステップＳ１０７とそれぞれ同一の処理であるので、説明を省略する。

図１０において、ステップＳ２０２では、転写マスタ回転角度計算部１０２ｂは、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、転写マスタの転写パターンとの重畳を回避するために必要な転写マスタの回転角度を計算する。

また、ステップＳ２０４では、転写マスタ回転角度調整部１０５ｂは、ステップＳ２０２で計算された、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、転写マスタの転写パターンとの重畳を回避するために必要な転写マスタの回転角度分だけ転写マスタを回転させる。

以上の第一実施形態の一例及び第二実施形態の一例によれば、記憶媒体又は転写マスタを回転させて、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、転写マスタの転写パターンとの重畳を回避する（例えば、図１１参照）ので、サーボパターンの転写不良を防止又は低減し、記憶媒体の廃棄量を減らして、記憶装置の製造コストの低減を図ることができる。

なお、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、転写マスタの転写パターンとの重畳を回避するために、第一実施形態の一例では記憶媒体を回転させ、第二実施形態の一例では転写マスタを回転させることとした。しかし、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、転写マスタの転写パターンとの重畳を回避するために、記憶媒体及び転写マスタの両方を回転させることとしてもよい。このようにすると、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、転写マスタの転写パターンとの重畳を回避するための相対角度の調整時間の短縮を図ることができる。

［第三実施形態の一例］
次に、図１２〜図１４を参照して、第三実施形態の一例について説明する。先ず、第三実施形態の一例に係るサーボパターン転写装置の構成を説明する。図１２は、第三実施形態の一例に係るサーボパターン転写装置の構成を示す機能ブロック図である。なお、第三実施形態の一例の説明では、第一実施形態の一例との差分のみについて説明を行う。

図１２に示す様に、第三実施形態の一例に係るサーボパターン転写装置１００ｃは、表面検査部１０１ｃと、記憶媒体回転角度計算部１０２ｃと、転写マスタ情報記憶部１０３ｃと、良品判定部１０４ｃと、記憶媒体回転角度調整部１０５ｃと、サーボパターン転写処理部１０６ｃと、転写マスタ表面検査部１０７ｃと、転写マスタ欠陥情報記憶部１０８ｃとを有する。

表面検査部１０１ｃと、転写マスタ情報記憶部１０３ｃと、良品判定部１０４ｃと、記憶媒体回転角度調整部１０５ｃと、サーボパターン転写処理部１０６ｃとは、サーボパターン転写装置１００ａの表面検査部１０１ａと、記憶媒体回転角度計算部１０２ａと、転写マスタ情報記憶部１０３ａと、良品判定部１０４ａと、サーボパターン転写処理部１０６ａとそれぞれ同一の機能構成であるので、説明を省略する。

転写マスタ表面検査部１０７ｃは、転写マスタの表面の異物又は欠陥を検査する検査装置であり、周知技術を利用可能である。転写マスタ表面検査部１０７ｃによる検査結果は、転写マスタ欠陥情報記憶部１０８ｃに記憶される。例えば、図１５に示す様に、転写マスタの転写パターン面のサーボパターン上に、異物又は欠陥ＭＰが存在したとする。

転写マスタ欠陥情報記憶部１０８ｃに記憶される検査結果は、例えば、図１３の転写マスタ欠陥情報テーブルの一例に示す様なものである。転写マスタの表面上の異物又は欠陥ＭＰを特定する転写マスタ欠陥情報は、例えば、基準半径からの角度、半径位置、サイズで特定される。

記憶媒体回転角度計算部１０２ｃは、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、転写マスタ欠陥情報の相対角度とを計算する。そして、相対角度が所定範囲内である場合には、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、転写マスタの転写パターン面の表面上の異物又は欠陥とが重畳するとして、該当する記憶媒体の表面上の異物又は欠陥は、サーボパターンとの重畳回避の対象外とする。すなわち、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、転写マスタの転写パターン面の表面上の異物又は欠陥とが重なる場合には、これを許容する（例えば、図１６参照）。

そして、記憶媒体回転角度計算部１０２ｃは、重畳回避の対象外とした記憶媒体の表面上の異物又は欠陥を除き、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、異物又は欠陥と重畳する可能性がある転写マスタの転写パターンの相対角度とを計算する。そして、相対角度が第一の閾値未満である場合に、相対角度が第二の閾値以上となるように、記憶媒体を、記憶媒体の中心を軸として回転させる回転角度を計算する。

次に、第三実施形態の一例に係るサーボパターン転写処理について説明する。図１４は、第三実施形態の一例に係るサーボパターン転写処理手順を示すフローチャートである。同図のステップＳ３０１と、ステップＳ３０２〜ステップＳ３０７とは、図８に示したステップＳ１０１と、ステップＳ１０２〜ステップＳ１０７とそれぞれ同一の処理であるので、説明を省略する。

ステップＳ３０１ａでは、転写マスタ表面検査部１０７ｃは、転写マスタの表面の異物又は欠陥を検査し、検査結果を、転写マスタ欠陥情報記憶部１０８ｃに記憶する。続いて、ステップＳ３０２では、記憶媒体回転角度計算部１０２ｃは、転写マスタ欠陥情報を考慮しつつ、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、異物又は欠陥と重畳する可能性がある転写マスタの転写パターンの相対角度とを計算する。そして、相対角度が第一の閾値未満である場合に、相対角度が第二の閾値以上となるように、記憶媒体を、記憶媒体の中心を軸として回転させる回転角度を計算する。

なお、第三実施形態の一例では、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、異物又は欠陥と重畳する可能性がある転写マスタの転写パターンとの重畳を回避するために、記憶媒体を回転させることとした。しかし、これに限定されず、転写マスタを回転させることとしてもよいし、記憶媒体及び転写マスタの両方を回転させることとしてもよい。

［第四実施形態の一例］
次に、図１７〜図１９を参照して、第四実施形態の一例について説明する。先ず、第四実施形態の一例に係るサーボパターン転写装置の構成を説明する。図１７は、第四実施形態の一例に係るサーボパターン転写装置の構成を示す機能ブロック図である。なお、第四実施形態の一例の説明では、第一実施形態の一例との差分のみについて説明を行う。

図１７に示す様に、第四実施形態の一例に係るサーボパターン転写装置１００ｄは、表面検査部１０１ｄと、記憶媒体回転角度計算部１０２ｄと、転写マスタ情報記憶部１０３ｄと、良品判定部１０４ｄと、記憶媒体回転角度調整部１０５ｄと、サーボパターン転写処理部１０６ｄと、半径位置記憶容量記憶部１０９ｄとを有する。

表面検査部１０１ｄと、転写マスタ情報記憶部１０３ｄと、良品判定部１０４ｄと、記憶媒体回転角度調整部１０５ｄと、サーボパターン転写処理部１０６ｄとは、サーボパターン転写装置１００ａの表面検査部１０１ａと、転写マスタ情報記憶部１０３ａと、良品判定部１０４ａと、記憶媒体回転角度調整部１０５ａと、サーボパターン転写処理部１０６ａとそれぞれ同一の機能構成であるので、説明を省略する。

半径位置記憶容量記憶部１０９ｄは、例えば、図１８に示す様な、半径位置記憶容量記憶テーブルを格納する。半径位置記憶容量記憶テーブルは、記憶媒体の半径位置と、対応するトラック又はセクタの記憶容量との情報を含む。同図では、Ｒ１＜Ｒ２＜Ｒ３であれば、Ｃ１＜Ｃ２＜Ｃ３の大小関係が成り立っている。これは、記憶媒体は、外周であるほど、一つのサーボパターンによってヘッドの位置決め制御の対象となる記憶容量が大きくなるためである。

記憶媒体回転角度計算部１０２ｄは、上記（２）式に代えて、例えば、次式に基づいて、相対角度の調整値“θ_adj”を算出する。すなわち、次式によれば、転写パターンと、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥との重畳に、内外周に重みをつけ、外周になるに従い、より厳しい条件を課すことによって、記憶媒体の全記憶容量に対する影響度を最小とすることができる。

記憶媒体回転角度調整部１０５ｄは、上記（３）式に基づいて算出された相対角度の調整値“θ_adj”を以て、記憶媒体を回転調整する。

次に、第四実施形態の一例に係るサーボパターン転写処理について説明する。図１９は、第四実施形態の一例に係るサーボパターン転写処理手順を示すフローチャートである。同図のステップＳ４０１と、ステップＳ４０３〜ステップＳ４０７とは、図８に示したステップＳ１０１と、ステップＳ１０３〜ステップＳ１０７とそれぞれ同一の処理であるので、説明を省略する。

ステップＳ４０２では、記憶媒体回転角度計算部１０２ｄは、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、転写マスタの転写パターンとの重畳を回避するために必要な記憶媒体の回転角度を、例えば、上記（３）式に基づいて計算する。

以上、本発明の実施形態の一例を説明したが、本発明は、これに限られるものではなく、特許請求の範囲に記載した技術的思想の範囲内で、更に種々の異なる実施形態の一例で実施されてもよいものである。また、実施形態の一例に記載した効果は、これに限定されるものではない。

また、上記実施形態の一例において説明した各処理のうち、自動的におこなわれるものとして説明した処理の全部または一部を手動的におこなうこともでき、あるいは、手動的におこなわれるものとして説明した処理の全部または一部を公知の方法で自動的におこなうこともできる。この他、上記実施形態の一例で示した処理手順、制御手順、具体的名称、各種のデータやパラメータを含む情報については、特記する場合を除いて任意に変更することができる。

また、図示した各装置の各構成要素は機能概念的なものであり、必ずしも物理的に図示のように構成されていることを要しない。すなわち、各装置の分散・統合の具体的形態は図示のものに限られず、その全部または一部を、各種の負荷や使用状況などに応じて、任意の単位で機能的または物理的に分散・統合して構成することができる。

さらに、各装置にて行なわれる各処理機能は、その全部または任意の一部が、ＣＰＵ（Central Processing Unit）（またはＭＰＵ（Micro Processing Unit）、ＭＣＵ（Micro Controller Unit）などのマイクロ・コンピュータ）および当該ＣＰＵ（またはＭＰＵ、ＭＣＵなどのマイクロ・コンピュータ）にて解析実行されるプログラムにて実現され、あるいは、ワイヤードロジックによるハードウェアとして実現されてもよい。

以上の実施形態の一例を含む実施形態に関し、さらに以下の付記を開示する。

（付記１）記憶媒体の表面上の異物又は欠陥を検出するとともに、前記異物又は欠陥の位置及び大きさを特定する記憶媒体表面検査部と、
前記記憶媒体の表面と、前記記憶媒体の表面に接触して、磁気的又は物理的に特定パターンを転写するための転写パターン面を有する転写マスタの前記転写パターン面との接触面における相対位置を調整する相対位置調整部と、
前記記憶媒体表面検査部による検査結果に応じて、前記相対位置の調整値を算出し、前記相対位置調整部に対して、前記調整値に基づいて前記相対位置を調整するよう指示する相対位置調整指示部と
を有することを特徴とするパターン転写装置。

（付記２）前記特定パターンは、磁気パターン又は物理的な凹凸パターンであることを特徴とする付記１記載のパターン転写装置。

（付記３）前記相対位置は、前記記憶媒体の表面と、前記転写マスタの転写パターン面とを、それぞれの中心を合わせて接触させた場合に、前記記憶媒体の表面上の異物又は欠陥の位置、合わされた前記中心、及び、前記転写マスタの転写パターン面が有する特定パターンの位置がなす相対角度であることを特徴とする付記１又は２記載のパターン転写装置。

（付記４）前記相対位置調整指示部は、前記記憶媒体の表面上の各異物又は欠陥と、前記転写マスタの転写パターン面との各重畳量の総計が最小となるよう前記相対位置の調整値を算出することを特徴とする付記１、２又は３記載のパターン転写装置。

（付記５）前記重畳量は、前記記憶媒体の表面上の異物又は欠陥の、前記記憶媒体の中心からの半径位置と、前記異物又は欠陥の、前記記憶媒体の中心からの半径方向の長さとの積であることを特徴とする付記４記載のパターン転写装置。

（付記６）前記記憶媒体の外周方向の半径位置に応じて加重する加重係数を記憶する加重係数記憶部をさらに有し、
前記相対位置調整指示部は、各前記重畳量に、それぞれ前記外周方向の半径位置に応じた前記加重係数を乗じた総計が最小となるよう前記相対位置の調整値を算出することを特徴とする付記４又は５記載のパターン転写装置。

（付記７）前記転写マスタの表面上の異物又は欠陥を検出するとともに、前記異物又は欠陥の位置及び大きさを特定する転写マスタ表面検査部と、
前記転写マスタ表面検査部によって検出され大きさが特定された前記転写マスタの表面上の異物又は欠陥の位置及び大きさに関する欠陥情報を記憶する転写マスタ欠陥情報記憶部と、
前記記憶媒体の表面上の各異物又は欠陥と、前記転写マスタの表面上の異物又は欠陥とが重畳するか否かを判定する重畳判定部と
をさらに有し、
前記相対位置調整指示部は、前記記憶媒体の表面上の各異物又は欠陥と、前記転写マスタの表面上の異物又は欠陥との重畳部分を除いて、前記記憶媒体の表面上の各異物又は欠陥と、前記転写マスタの転写パターン面との各重畳量の総計が最小となるよう前記相対位置の調整値を算出することを特徴とする付記１、２又は３記載のパターン転写装置。

（付記８）前記転写マスタは、前記記憶媒体の表裏二面それぞれに、同時に、前記特定パターンを転写することをと特徴とする付記１〜７のいずれか一項記載のパターン転写装置。

（付記９）前記相対位置調整部は、前記記憶媒体の位置又は回転角度を調整することによって、前記記憶媒体の表面と、前記転写マスタの転写パターン面との接触面における相対位置を調整することを特徴とする付記１〜８のいずれか一項記載のパターン転写装置。

（付記１０）前記相対位置調整部は、前記転写マスタの位置又は回転角度を調整することによって、前記記憶媒体の表面と、前記転写マスタの転写パターン面との接触面における相対位置を調整することを特徴とする付記１〜９のいずれか一項記載のパターン転写装置。

（付記１１）記憶媒体の表面と、前記記憶媒体の表面に接触して、磁気的又は物理的に特定パターンを転写するための転写パターン面を有する転写マスタの前記転写パターン面との接触面における相対位置を調整する相対位置調整部と、
前記記憶媒体の表面上の異物又は欠陥の位置及び大きさに応じて、前記相対位置の調整値を算出し、前記相対位置調整部に対して、前記調整値に基づいて前記相対位置を調整するよう指示する相対位置調整指示部と
を有することを特徴とするパターン転写装置。

（付記１２）前記相対位置調整指示部は、前記記憶媒体の表面上の各異物又は欠陥と、前記転写マスタの転写パターン面との各重畳量の総計が最小となるよう前記相対位置の調整値を算出することを特徴とする付記１１記載のパターン転写装置。

（付記１３）記憶媒体の表面上の異物又は欠陥を検出するとともに、前記異物又は欠陥の位置及び大きさを特定する記憶媒体表面検査ステップと、
前記記憶媒体の表面と、記憶装置の記憶媒体の表面に接触して、磁気的又は物理的に特定パターンを転写するための転写パターン面を有する転写マスタの転写パターン面との接触面における相対位置を調整する相対位置調整ステップと、
前記記憶媒体表面検査ステップによる検査結果に応じて、前記相対位置の調整値を算出し、前記相対位置調整ステップに対して、前記調整値に基づいて前記相対位置を調整するよう指示する相対位置調整指示ステップと
を含むことを特徴とするパターン転写方法。

（付記１４）前記特定パターンは、磁気パターン又は物理的な凹凸パターンであることを特徴とする付記１３記載のパターン転写方法。

（付記１５）前記相対位置は、前記記憶媒体の表面と、前記転写マスタの転写パターン面とを、それぞれの中心を合わせて接触させた場合に、前記記憶媒体の表面上の異物又は欠陥の位置、合わされた前記中心、及び、前記転写マスタの転写パターン面が有する特定パターンの位置がなす相対角度であることを特徴とする付記１３又は１４記載のパターン転写方法。

（付記１６）前記相対位置調整指示ステップは、前記記憶媒体の表面上の各異物又は欠陥と、前記転写マスタの転写パターン面との各重畳量の総計が最小となるよう前記相対位置の調整値を算出することを特徴とする付記１３、１４又は１５記載のパターン転写方法。

実施形態に係るサーボパターン転写処理の概略を示す図である。 記憶媒体上のサーボパターンの形成例を示す図である。 記憶媒体へのサーボパターンの転写の概要を示す図である。 サーボパターンの拡大図である。 記憶媒体のサーボパターンをヘッドで再生したときの信号波形の一例を示す図である。 第一実施形態の一例において、記憶媒体上の異物又は欠陥が問題になる場合の一例を示す図である。 第一実施形態の一例に係るサーボパターン転写装置の構成を示す機能ブロック図である。 第一実施例の一例に係るサーボパターン転写処理手順を示すフローチャートである。 第二実施形態の一例に係るサーボパターン転写装置の構成を示す機能ブロック図である。 第二実施形態の一例に係るサーボパターン転写処理手順を示すフローチャートである。 第一及び第二実施形態の一例サーボパターン転写処理によって、記憶媒体上の異物又は欠陥を回避してサーボパターンを書き込んだ一例を示す図である。 第三実施形態の一例に係るサーボパターン転写装置の構成を示す機能ブロック図である。 転写マスタ欠陥情報テーブルの一例を示す図である。 第三実施形態の一例に係るサーボパターン転写処理手順を示すフローチャートである。 第三実施形態の一例において、転写マスタ上の欠陥が問題になる場合の一例を示す図である。 第三実施形態の一例において、記憶媒体上の異物又は欠陥と、転写マスタ上の異物又は欠陥とを重畳することによって、記憶媒体上の異物又は欠陥を回避してサーボパターンを書き込んだ一例を示す図である。 第四実施形態の一例に係るサーボパターン転写装置の構成を示す機能ブロック図である。 半径位置記憶容量記憶テーブルの一例を示す図である。 第四実施例の一例に係るサーボパターン転写処理手順を示すフローチャートである。

符号の説明

１００ａ、１００ｂ、１００ｃ、１００ｄ サーボパターン転写装置
１０１ａ、１０１ｂ、１０１ｃ、１０１ｄ 表面検査部
１０２ａ、１０２ｃ、１０２ｄ 記憶媒体回転角度計算部
１０２ｂ 転写マスタ回転角度計算部
１０３ａ、１０３ｂ、１０３ｃ、１０３ｄ 転写マスタ情報記憶部
１０４ａ、１０４ｂ、１０４ｃ、１０４ｄ 良品判定部
１０５ａ、１０５ｃ、１０５ｄ 記憶媒体回転角度調整部
１０５ｂ 転写マスタ回転角度調整部
１０６ａ、１０６ｂ、１０６ｃ、１０６ｄ サーボパターン転写処理部
１０７ｃ 転写マスタ表面検査部
１０８ｃ 転写マスタ欠陥情報記憶部
１０９ｄ 半径位置記憶容量記憶部

Claims (10)

1. 記憶媒体の表面上の異物又は欠陥を検出するとともに、前記異物又は欠陥の位置及び大きさを特定する記憶媒体表面検査部と、
   前記記憶媒体の表面と、前記記憶媒体の表面に磁気的又は物理的に特定パターンを転写するための転写パターン面を有する転写マスタの前記転写パターン面との接触面における相対位置を調整する相対位置調整部と、
   前記記憶媒体表面検査部による検査結果に応じて、前記相対位置の調整値を前記記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、前記転写マスタの特定パターンとの重畳の程度が最小となる様に算出し、前記相対位置調整部に対して、前記算出した調整値に基づいて前記相対位置を調整するよう指示する相対位置調整指示部と、
   を有することを特徴とするパターン転写装置。
2. 前記相対位置は、前記記憶媒体の表面と、前記転写マスタの転写パターン面とを、それぞれの中心を合わせて接触させた場合に、前記記憶媒体の表面上の異物又は欠陥の位置、合わされた前記中心、及び、前記転写マスタの転写パターン面が有する特定パターンの位置がなす相対角度であることを特徴とする請求項１記載のパターン転写装置。
3. 前記相対位置調整指示部は、前記記憶媒体の表面上の各異物又は欠陥と、前記転写マスタの特定パターンとの各重畳量の総計が最小となるよう前記相対位置の調整値を算出することを特徴とする請求項１又は２記載のパターン転写装置。
4. 前記重畳量は、前記記憶媒体の表面上の異物又は欠陥の、前記記憶媒体の中心からの半径位置と、前記異物又は欠陥の、前記記憶媒体の中心からの半径方向の長さとの積であることを特徴とする請求項３記載のパターン転写装置。
5. 前記記憶媒体の外周方向の半径位置に応じて加重する加重係数を記憶する加重係数記憶部をさらに有し、
   前記相対位置調整指示部は、各前記重畳量に、それぞれ前記外周方向の半径位置に応じた前記加重係数を乗じた総計が最小となるよう前記相対位置の調整値を算出することを特徴とする請求項３又は４記載のパターン転写装置。
6. 前記転写マスタの表面上の異物又は欠陥を検出するとともに、前記異物又は欠陥の位置及び大きさを特定する転写マスタ表面検査部と、
   前記転写マスタ表面検査部によって検出され大きさが特定された前記転写マスタの表面上の異物又は欠陥の位置及び大きさに関する欠陥情報を記憶する転写マスタ欠陥情報記憶部と、
   前記記憶媒体の表面上の各異物又は欠陥と、前記転写マスタの表面上の異物又は欠陥とが重畳するか否かを判定する重畳判定部と、
   をさらに有し、
   前記相対位置調整指示部は、前記記憶媒体の表面上の各異物又は欠陥と、前記転写マスタの表面上の異物又は欠陥との重畳部分を除いて、前記記憶媒体の表面上の各異物又は欠陥と、前記転写マスタの特定パターンとの各重畳量の総計が最小となるよう前記相対位置の調整値を算出することを特徴とする請求項１、２又は３記載のパターン転写装置。
7. 記憶媒体の表面と、前記記憶媒体の表面に磁気的又は物理的に特定パターンを転写するための転写パターン面を有する転写マスタの前記転写パターン面との接触面における相対位置を調整する相対位置調整部と、
   前記記憶媒体の表面上の異物又は欠陥の位置及び大きさに応じて、前記相対位置の調整値を前記記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、前記転写マスタの特定パターンとの重畳の程度が最小となる様に算出し、前記相対位置調整部に対して、前記算出した調整値に基づいて前記相対位置を調整するよう指示する相対位置調整指示部と、
   を有することを特徴とするパターン転写装置。
8. 前記相対位置調整指示部は、前記記憶媒体の表面上の各異物又は欠陥と、前記転写マスタの特定パターンとの各重畳量の総計が最小となるよう前記相対位置の調整値を算出することを特徴とする請求項７記載のパターン転写装置。
9. 記憶媒体の表面上の異物又は欠陥を検出するとともに、前記異物又は欠陥の位置及び大きさを特定する記憶媒体表面検査ステップと、
   前記記憶媒体の表面と、記憶装置の記憶媒体の表面に磁気的又は物理的に特定パターンを転写するための転写パターン面を有する転写マスタの転写パターン面との接触面における相対位置を調整する相対位置調整ステップと、
   前記記憶媒体表面検査ステップによる検査結果に応じて、前記相対位置の調整値を前記記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、前記転写マスタの特定パターンとの重畳の程度が最小となる様に算出し、前記相対位置調整ステップに対して、前記算出した調整値に基づいて前記相対位置を調整するよう指示する相対位置調整指示ステップと、
   を含むことを特徴とするパターン転写方法。
10. 前記相対位置調整指示ステップは、前記記憶媒体の表面上の各異物又は欠陥と、前記転写マスタの特定パターンとの各重畳量の総計が最小となるよう前記相対位置の調整値を算出することを特徴とする請求項９記載のパターン転写方法。

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