CN1309387A - 磁转写用主载体及磁记录媒体 - Google Patents

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Abstract

磁转写用主载体及磁记录媒体,在制作基板(31)表面有与转写信息对应的精细凹凸图案磁性层(32)所构成,并能与写入媒体(slave media)紧密压着进行磁转写所用的主载体时,基板(31)上的精细凹凸图案是在树脂成型过程同时完成。树脂基板(31)最好是用具有精细凹凸图案的原板,用注射成型,或用2P法成型。其简易价廉,并能以高精度制作能对磁记录媒体进行诸如伺服信息等信息信号磁转写方法所用的主载体。

Description

磁转写用主载体及磁记录媒体
本发明涉及由载持转写信息的主载体，向接受转写的写入媒体，即磁记录媒体进行磁转写所用磁转写用主载体的结构，以及被磁转写的磁记录媒体。
随着信息量的增加，一般希望能以大容量，廉价记录更多的信息，还希望能在短时间内，在任意位置能够读出，亦即，能进行所谓高速存取的媒体。其中之一例是所熟知的高密度软盘，为了实现其大容量，要求磁头能准确扫描窄的磁道宽度内，以高的S/N比来再生信号，即所谓的跟踪伺服技术起着很大作用。在圆盘的一周，在某间隔要记录跟踪用的伺服信号，地址信息信号，再生时间脉冲信号，也就是以所谓的予格式化来记录。
磁头被设定能读出上述的予格式化信号，以修正自己的位置来准确扫描磁道。现在的予格式化是以专用的伺服记录装置，逐盘逐一磁道进行记录而制作的。
然而，伺服记录装置价高，制作予格式花费时间，此工艺占有制作成本的很大部分，从而希望从此处降低成本。
为此，有方案提出，不经逐一磁道进行予格式化，而以磁转写方式来实现。特开昭63-183623，特开平10-40544及特开平10-269566等就介绍有磁转写技术。
例如特开昭63-183623及特开平10-40544提出了在基板表面有与信息信号对应的凹凸形状，凹凸形状中至少在基凸面覆有磁性涂膜所构成的磁转写用主载体，其表面与由强磁性薄膜或强磁性涂布层构成的片状或圆盘状能接受磁转写的磁记录写入媒体的表面接触，通过外加交流偏磁场，或直流磁场所产生的磁转写用磁场，以激化构成凸部表面的磁性材料，在写入媒体上记录与凹凸形状对应的磁化图案的方法。
此方法是将主载体凸部表面，与需要予格式化磁记录的写入媒体紧密压着，同时通过对构成凸部磁性材料的激磁，使写入媒体记录所定磁图案的转写方法。此法中，磁转写用主载体与写入媒体间的相对位置固定不变，能在静态下进行记录，从而能准确进行予格式化记录，并且记录所需的时间也很短。
以磁转写方法将伺服信号记录至磁记录写入媒体时，主载体须将1μm单位以下的伺服图案，以高精度配置在3.5型磁记录媒体(直径3.5英寸)或2.5型磁记录媒体(直径2.5英寸)的整体面积上。由于各伺服图案有其各自信息的地址，因而需要制作完全不同的图案。
上述精细图案，可用半导体·磁头平版印刷技术来制作。由于此技术是采用将原图缩小的方式来提高其精度，所以一次曝光所能制成的图案被限定在约2cm角范围，欲制造大面积图案，就需反复记录2cm角范围的图案来累加，从而，用于上述完全不同图案的伺服记录方式是困难的。
另一方面，由于磁转写法是在上述主载体与写入媒体压紧接触下进行磁转写，反复进行磁转写会磨损载持信息的图案形状而降低转写精度，或被所夹杂的尘埃损伤而减少寿命。因而就需要常更换主载体。为此，主载体的制作希望能更容易和廉价。要以高精度逐枚曝光等方式来制作具有精细图案的主载体基板，其质量管理烦杂，从质量的稳定性，生产成本来看都不利。
有鉴于此，本发明提供了制作容易，价廉的磁转写用主载体，及以磁记录媒体为目的的方法。
本发明的解决手段为：磁转写用主载体是，在有与转写信息对应的精细凹凸图案的基板表面上覆有磁性层，向接受转写的磁记录写入媒体进行磁转写所用的磁转写用主载体。上述精细凹凸图案是在上述基板以树脂成型的同时形成为特征。
上述基板，可使用有精细凹凸图案的原板，以注射成型方式来制作。上述基板，也可以使用有精细凹凸图案的原板，用紫外线固化树脂，以2P法成型制作。此紫外线固化树脂所用的2P法是指光聚合法，即，将紫外线固化树脂的树脂液涂布于原板上，经紫外线照射使之光聚合固化，在原板上得到与凹凸形状对应形状成型物的公知方法。上述信息是指伺服信号。在上述有凹凸图案基板的背面，可施以支持体以支撑主载体。
基板的具体制作如下。将经调节与伺服信号等信息对应的激光或电子束照射至旋转的涂布有光刻胶的玻璃板，使整个玻璃板上的光刻胶按所定的图案曝光，这后，光刻胶经显像处理，除去曝光部分，该玻璃板经刻蚀后得到负型凹凸图案。除掉光刻胶后带有凹凸的玻璃板(用2P法时，它可以用作原板)，经镀金属处理及电铸处理制得正型凹凸图案的母板(制作负型凹凸图案基板时，它可以用作原板)，再结电铸处理则得反转负型凹凸图案的镀金属原板(压模，stamper)。上述光刻胶经显像处理过的玻璃板，可以直接镀金属处理及电铸处理得到镀金属原板。
使用这些原板，以注射成型，2P法等方法可以制作带有正型或负型凹凸图案的树脂成型物。此树脂成型物可用于磁转写用主载体的基板，其表面的凹凸图案是在整体磁记录媒体任意位置上制成μm单位以下的精细图案，例如，此图案上可通过喷镀等方法被覆所定厚度的磁性层，其表面磁性层的凹凸形状就是载持有与图案对应的转写信息的磁转写用主载体。由一张镀金属原板可制得许多主载体树脂基板。上述玻璃板及母板可以反复使用。
上述树脂基板材料的杨氏模量应在1.5×105Pa以上，最好在2.5×105Pa以上，树脂基板的厚度，注射成型基板应在0.3～1.2mm(最好在0.5～1.0mm),2P法基板应在30～80μm(最好在40～60μm)。
使用上述磁转写用主载体的磁转写方法是，将主载体上载持有信息的面，与写入媒体面紧密压着，外加转写用磁场来进行的。例如使用上述树脂基板表面有与信息对应并覆以磁性层的精细凹凸图案的主载体和接受转写的写入媒体，先在磁道方向对写入媒体进行初期直流磁化，再将上述主载体，与前述经过初期直流磁化的写入媒体压紧，然后，在与该写入媒体初期直流磁化略相反方向印加转写用磁场以进行磁转写。
上述树脂基板的凹凸图案，对于激光或电子束的照射图案是正型图案也好，负型图案也好，也就是其凹凸相反的情况下，只需将磁转写工艺过程中的初期磁化与转写用磁场方向倒过来，就可以转写记录出相同的磁化图案。
本发明的磁记录媒体是以由载持有伺服信号的，用上述方法所制树脂基板为主载体，接受伺服信号的磁转写方法为特征。
0020
如上所述，本发明磁转写用主载体基板上，与信息对应的精细凹凸图案，是在以树脂成型为基板的同时形成，故能以高精度、廉价制作对磁记录媒体进行诸如伺服信号等信息信号磁转写所必要的主载体。特别是，由一枚原板，以注射成型、或2P法可以制得多数同样的树脂基板。根据磁转写的次数，还可以顺次更换不同主载体，得以实施质量稳定的磁转写。
下面结合附图和实施例详细说明本发明的实施状态。
图1是本发明的一种实施状态，所涉及的主载体进行磁转写的示意图。
图2是本发明以注射成型制作主载体基板的工艺流程示意图。
图3是本发明以2P法制作主载体基板的前期工艺示意图。
图4是图3的后续工艺示意图。
图5是本发明以2P法所制基板构成的主载体断面图。
符号说明
2写入媒体；3主载体；10玻璃板；11光刻胶膜；12镀金属层；13母板；14镀金属原板；15模具；31、33树脂基板；32磁性层；34支持体；P紫外线固化树脂液。
各图皆为模式图，与实际尺寸在比例上有所不同。
磁转写方法的概要如下。首先如图1(a)所示，对写入媒体数字2，在磁道方向印加初期静磁场Hin进行初期磁化(直流消磁)。其后，如图1(b)所示，将此写入媒体2的磁转写面与主载体3树脂基板31精细凹凸图案上由磁性层32被覆的信息载持面压紧，在写入媒体2的磁道方向上，以与上述初期磁场Hin相反方向，印加转写用磁场Hdu进行磁转写。其结果如图1(c)所示，在写入媒体2磁转写面(磁道)的凸部与主载体3信息载持面磁性层32密合的凹部空间，被转写记录和所形成的图案相应的磁图案。
主载体3的树脂基板31，可通过下面将述及的具有凹凸图案的原板，以注射成型或2P法等，在制作树脂基板的同时在其表面形成精细凹凸图案。树脂基板31的背面，视需要可设以支持体。
上述主载体3上树脂基板31的凹凸图案，不论是图1所示的正型图案，还是凹凸相反的负型图案，只须将初期磁场Hin的方向及转写用磁场Hdu的方向，与上面相反方向实施就可转写记录出同样的磁化图案。
图2(a)～(e)描述了以注射成型法制作主载体3上树脂基板31的方法。以(a)～(e)所描述的工艺，可制作在树脂基板注射成型的同时，在基板表面形成精细图案的原板(压模)。首先，如(a)，在表面平整的玻璃板10(石英板也可)上以旋转涂布法涂布光刻胶液制成光刻胶膜11，在旋转下，照射与伺服信号对应而调节的激光L(或电子束)，对整体玻璃板10上的光刻胶11进行予格式化图案曝光，曝光是对各磁道由旋转中心沿半径方向，在圆周上的各画格的对应部分以与伺服信号相当的图案进行的。之后，如(b)所示，将光刻胶膜11进行显像处理，除去曝光部分后以刻蚀工艺刻蚀除去光刻胶膜11部分的玻璃板10，形成如(c)所示的和曝光图案相应的刻穴10a。然后除去残存光刻胶膜11，得到如(d)在表面上有刻穴10a的凹凸图案玻璃板10。
在上述玻璃板10表面凹凸图案为基础，在其表面作如(e)的镀金属处理得到薄的镀银层12，其上再施以电铸处理制得有正型凹凸图案的母板13，从玻璃板上剥下所定厚度的母板13，然后，在母板13上施以如(f)所示的电铸处理，得到反转为负型凹凸图案的镀金属原板14(压模)，如(g)所示，从母板13将其剥下。
使用上述镀金属原板14，以注射成型制作树脂基板31。如(h)所示，将镀金属原板14安装在能够开闭的成型模具15内，注射树脂制成与镀金属原板14凹凸图案对应的正型凹凸图案树脂基板31，冷却后脱模，得到如(i)所示的树脂基板31，所得树脂基板31表面的凹凸图案是上述玻璃板10上凹凸形状的反转物，在整体磁记录媒体的任意位置上，制得精度在μm单位以下的图案。在树脂基板31的凹凸图案上被覆以磁性层32则得主载体3。
镀金属原板14的制作方法，除上述方法以外，还有在前述玻璃板10上的光刻胶膜11经曝光·显像处理后，先不进行刻蚀处理，而如图2(b)所示，在光刻胶膜11上的凹凸图案上，直接进行镀金属及电铸处理，制成正型凹凸图案的母板13，对此母板13施以电铸处理制得有反转凹凸图案镀金属原板14的制作方法。
也可以将上述母板13作为原板，同样以注射成型制得树脂基板31。此时，母板13的凹凸图案为正型，成型后的树脂基板31具有与玻璃板10的凹凸形状相同的负型凹凸图案。在树脂基板31的凹凸图案上覆以磁性层32则得主载体3。所得主载体3，如前所述，以与初期磁场Hin相反方向的转写用磁场Hdu，或如图(a)与(b)进行与图1(c)同样的磁化图案的磁转写。
0030
镀金属原板14，或母板13的电铸材料可使用Ni或Ni合金。为提高其耐久性，在凹凸形状表面可喷涂碳，DLC(金刚石状碳)等保护膜。
以注射成型制作树脂基板31的树脂材料，可以用聚碳酸脂·聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酰类树脂，聚氯乙烯·氯乙烯共聚物等氯乙烯树脂，环氧树脂，无定形聚烯烃以及聚酯等。从耐热性、尺寸稳定性及价格等方面考虑，以聚碳酸酯为宜。成型物有毛刺时，可剃删或抛光。树脂基板31图案的突起高度在50～1000nm范围，最好在200～500nm范围。
上述的注射成型所得树脂基板31的厚度为0.3～1.2mm，最好在0.5～1.0mm范围。
上述磁性层32，可将磁性材料以真空蒸着法，喷镀法，离子注入法等真空成膜手段，镀金属法等成膜而得。用作磁性层32的磁性材料有，Co、Co合金(CoNi、CoNiZr、CoNbTaZr等)，Fe、Fe合金(FeCo、FeCoNi、FeNiMo、FeAlSi、FeAl、FeTaN)，Ni、Ni合金(NiFe)。最好用FeCo、FeCoNi。磁性层的厚度为50～500nm范围，最好在100～300nm。在磁性材料之下(基板一侧)也可以敷以非磁性底层，其材料有，Cr、CrTi、CoCr、CrTa、CrMo、NiAl、Ru、C、Ti、Al、Mo、W、Ta、Nb等。
磁性层32上最好要敷以DLC等保护膜，以及润滑剂层。5～30nm的DLC膜作为保护膜，再敷以润滑剂层为宜。润滑剂可以改善与写入媒体2接触过程中产生错位时擦伤等引起的耐久性劣化。
写入媒体2可用高密度软盘，硬盘等，其磁记录层由涂布型磁记录层，或金属薄膜型磁记录层所构成。用作金属薄膜型磁记录层的磁性材料有，Co、Co合金(CoPtCr、CoCr、CoPtCrTa、CoPtCrNbTa、CoCrB、CoNi等)，Fe、Fe合金(FeCo、FePt、FeCoNi)
图3～图5示意了另一实施形态，以2P法成型树脂基板的方法。所谓2P法成型方法是将紫外线固化树脂，以光聚合成型的方法。原板可以使用前述由图2(a)～(g)所制得的镀金属原板14。在镀金属原板14的中心，固定有旋转轴16，此旋转轴16连接在没有图示的转动系统以驱动镀金属原板14的转动，旋转轴16的上端突出于镀金属原板14，其端部呈圆锥形。
如图3所示，在镀金属原板14上面的精细凹凸图案上涂布紫外线固化树脂溶液P。然后由上方将圆盘状支持体34，从其中心孔34a插入旋转轴16，边插边降以施压所涂布的树脂溶液P，使其展布在整个镀金属原板14上呈30～80μm厚度。上述支持体34为玻璃板或聚甲基丙烯酸甲酯PMMA等透紫外线材料，其厚度3～10mm，成型之后，如图5所示即可作为主载体的一部。
如图4所示，在支持体34降下和施压的状态下，通过旋转轴16的转动使镀金属原板14和支持体34一起共同转动，由支持体34上方没有图示的紫外光源UV照射使树脂液P固化(光聚合)制得树脂基板33。上面所述的转动是使树脂的固化均匀。这时，为防止树脂液P在曝光过程中被甩出镀金属原板14而固化，在支持体34上面周缘可配设遮光片17和在镀金属原板14外周部设以拭扫器18，以拭抹淌滴的剩余树脂液P。
0040
以紫外线UV照射所定时间，紫外线固化树脂充分固化形成树脂基板33后，可用工具敲击将树脂基板33从镀金属原板14剥下。所制树脂基板33为有旋转轴16留下的中心孔33a的圆盘状，其表面在成型的同时形成正型凹凸图案。将磁性层32被覆在凹凸图案上得到如图5所示的主载体3。在主载体3覆有磁性层32凹凸图案树脂基板33的背面接有上述支持体34。
上述以2P法所制树脂基板33的厚度为30～80μm，最好在40～60μm。
上述紫外线固化树脂中，聚合性单体成分有，单官能(甲基)丙烯酸酯类及多官能(甲基)丙烯酸酯类，它们可各自单独或两种以并用。还要加入光聚合引发剂或光增感剂。这些化合物的具体例子如在特开平4-30350及特开平11-269433中所记载为所熟知的化合物。
以2P法作用树脂基板33时，可使用上述图2(d)所记述的玻璃板10或母板13所为原板。其它，前述磁性层32等与前述注射成型的场合同样，可用于同样的磁转写方法。
下面说明一下主载体3树脂基板31,33的杨氏模量的最宜范围。如前所述，磁转写法是在以注射成型或2P法制得的树脂基板31,33上覆以磁性层32，将其与写入媒体2压紧。这时，要施以9.8×10-5Pa以上的压力来压紧。所以，当转写次数多时，树脂基板31,33上的精细凹凸图案会被损伤而使转写信号产生误差。考虑到压紧密着时，外加压力引起的图案和树脂基板杨氏模量有关，以杨氏模量为参数进行实验的结果显示(参看下面表1)，当杨氏模量在某一定值以上时，转写次数对树脂基板的耐久性可以大幅提高。其结果是，树脂基板或树脂材料的杨氏模量应在1.5×105Pa以上，最好在2.5×105Pa以上。
如上所述，树脂基板的厚度，注射成型基板31应在0.3～1.2mm(最好在0.5～1.0mm),2P法基板33应为30～80μm，(最好为40～60μm)，厚度低于上述范围时，会有图案形成性，剥离时树脂板破损等问题，过厚时，树脂基板自身会产生内应力变形等问题。
以下描述了本发明实施例1～4中的主载体，及比较例中的主载体，并评价了使用这些主载体进行磁转写时的信号质量，大面积图案的形成性，以及主载体表面精细图案的耐久性。其结果示于表1。表1还列示了各主载体基板的杨氏模量。
信号质量的评价如下。磁转写后的信号质量的评定是，先将磁显像液(Sigma High Ehemicals,Siqmaear Q)稀释10倍，将其滴至磁转写过的写入媒体上，干燥，评价显像过的磁转写信号端的变动量。以微分干涉型显微钟，在480倍放大率下观测10视野，求出由视野中所观测到的最大线宽Lx，减去最小线宽Ln之值，可求出此值对目标线宽Ws的百分比，3％以下为良好值，用“○”表示，超过3％为不可值，用“×”表示。
大面积图案形成性的评价如下。取半径方向20mm内线条宽及间隔为0.5μm的放射状线条，以电特测定仪(协同电子公司制造，SS～60)评价写入媒体的转写信号。使用磁头缝隙为0.23μm，磁道宽度为3.0μm的诱导磁头观测再生信号，再生信号用光谱分析仪进行频率分析，测定其一次信号的峰线宽度W。在半径20mm内，成型性紊乱，线条宽度及间隔发生变动，则为产生多余频率成分，峰线宽度W会变宽。其评价是，峰线宽度W值在0.2MHz以下为良，用“○”表示，0.2～0.5MHz为可，用“△”表示，超过0.5MHz则为不可，用“×”表示。
耐久性的评价如下。在主载体与写入媒体间的接触压力为5kg/cm2下，反复进行接触·剥离操作1000次后，以微分干涉显微镜，在480倍放大率下，随机观测50视野。压50视野内，磁性层的磨耗，龟裂不到5处为良，用“○”表示，超过5处为不可，用“×”表示。
0050
杨氏模量的测定如下。准备被测定树脂基板片(5×30mm)。将试样片固定在拉力试验机上，在外加荷重的同时测定其伸长量。荷重加至它与伸长量之关系偏离直线关系为止。由荷重与伸长量关系的直线斜率可求出杨氏模量。
实施例1
本实施例1的主载体是在按图2方法所制3.5型聚碳酸酯圆盘(直径3.5英寸圆盘)树脂基板上，敷以200nm厚度FeCo50at％磁性层制得。所形成的图案是，从圆盘中心到半径方向20～40mm处刻有宽为10μm的等间隔放射状线条，线条间隔在半径方向20mm最内周处为10μm间隔，沟深为200nm。磁性层是采用喷镀法以阿尼尔巴公司制730H喷镀装置喷镀。操作温度为25℃，Ar喷镀压为3.3×10-4Pa(0.25m Torr)，输入电力为2.54W/cm2的条件下实施的。结果，信号质量，大面积图案形成性皆良好，耐久性也良好。
实施例2
实施例2的主载体，除其图案的线条为1μm宽等间隔放射状，线条间隔在半径方向20mm最内周位置为1μm间隔外，其它与实施例1相同。以此主载体进行磁转写的结果，对于较精细图案，其信号质量，大面积图案形成性皆良好，耐久性也良好。
实施例3
实施例3的主载体，除其图案的线条为0.5μm宽度等间隔放射状，线条间隔在半径方向20mm最内周位置为0.5μm间隔外，其它与实施例1相同，以此主载体进行磁转写的结果，更精细图案的信息质量，大面积图案形成性皆良好，耐久性也良好。
实施例4
实施例4的主载体，除其树脂基板是按图3及图4所示方法，用2,3-双丙烯酰氧乙氧甲基-双[2,2,1]环庚烷紫外线固化树脂，以2P法制作之外，其它与实施例1相同，使用此主载体进行磁转写的结果，信号质量及大面积图案形成性上，都在实施例1以上，树脂基板的杨氏模量也比实施例1大，耐久性更好。
比较例1
比较例1的主载体是在3.5型硅晶片(3.5英寸圆盘)基板上，敷以与实施例相同的磁性层，其上涂布光刻胶，用光罩栅经一次曝光得与实施例1相同图案，显像处理后进行刻蚀，除去部分磁性层而制得。使用此主载体进行磁转写的结果，信号质量，大面积图案形成性，耐久性等皆良好。亦即，实施例1～4的主载体和比较例1的主载体比较，前者的性能相当于后者或更好。
比较例2
比较例2的主载体是在比较例1硅晶片基板磁性层上涂布光刻胶，用与实施例2相同图案的光罩栅曝光，显像，刻蚀而制得。使用此主载体进行磁转写的结果，其信号质量及耐久性虽良好，但大面积图案形成性降低。
比较例3
比较例3的主载体是在比较例1所用硅晶片基板的磁性层上涂布光刻胶，以与实施例3相同图案的光罩栅曝光，显像，刻蚀而制得，使用此主载体进行行磁转写的结果，信号质量及耐久性虽然良好，但大面积图案形成性更差。
比较例4
比较例4的主载体是以按图2方法所制母板13原物作为基板外，其它与实施例1相同的主载体。使用此主载体进行磁转写的结果，信号质量，大面积图案形成性，而久性等皆显示出与实施例1相当或更好的性能，但实施例1主载体可由一个原板复制出多数树脂基板，其生产成本可以大幅度降低。
比较例5
比较例5的主载体，除树脂基板的材料改用聚丙烯之外，与实施例1的主载体相同，使用此主载体进行磁转写的结果，信号质量，大面积图案形成性虽然良好，但由于树脂基板的杨氏模量低，其耐久性差。
0060
以上主要以水平磁记录方式磁转写方法为中心记述了本发明的实施状态，本发明也可适用于垂直磁记录方式磁转写方法。
〖表1〗
  杨氏模量(Pa)  (Lx-Ln)/Ws(％)       W(Hz)   耐久性
 实施例1  1.7×105  1.2(○)    0.13(○)     3(○)
 实施例2  1.7×105  1.6(○)    0.16(○)     2(○)
 实施例3  1.7×105  2.6(○)    0.18(○)     4(○)
 实施例4  3.7×106  1.1(○)    0.11(○)     1(○)
 比较例1  9.2×1010  1.6(○)    0.16(○)     3(○)
 比较例2  9.2×1010  1.0(○)    0.21(△)     2(○)
 比较例3  9.2×1010  1.6(○)    0.23(△)     2(○)
 比较例4  2.2×1010  1.1(○)    0.09(○)     1(○)
 比较例5  8.0×104  1.4(○)    0.15(○)     6(×)

Claims (6)

1．磁转写用主载体，由在基板表面有与转写信息对应的精细凹凸图案磁性层所构成的主载体，向接受转写磁记录的写入媒体进行磁转写时所使用的磁转写用主载体，其特征在于：上述基板是在树脂成型的同时制成上述精细凹凸图案。
2．如权利要求1所述的磁转写用主载体，其特征在于：用具有精细凹凸图案的原板，以注射成型制作上述基板。
3．如权利要求1所述的磁转写用主载体，其特征在于：用具有精细凹凸图案为原板，使用紫外线固化树脂的2P法成型。
4．如权利要求1～3中之任何一项所述的磁转写用主载体，其特征在于：上述主载体是与予先在磁道方向被初期直流磁化的写入媒体紧密压着，再在与上述初期磁化方向略相反方向印加转写用磁场以进行磁转写所用的主载体。
5．如权利要求1～4之任何一项中所述的磁转写用主载体，其特征在于：上述信息为伺服信号。
6．如权利要求5所述的磁转写用主载体，其特征在于：所述伺服信号是以权利要求1～4之任何一项所述的磁记录媒体进行磁转写。
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