CN1291827C - 一种粉煤灰压砖机 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种粉煤灰压砖机，包括立柱、沿所述立柱上下移动的横截面为矩形的活动梁，所述活动梁水平嵌于四根立柱之间，在活动梁四角对应于四根立柱方向位置处分别设置有一个磨块；在所述四根立柱上对应于所述磨块的摩擦面方向位置处沿纵向分别设置有与对应的磨块滑动配合的平面。本发明的优点在于采用了以上技术方案，当粉煤灰压砖机工作时，活动梁与立柱的滑动配合面为平面滑动配合，相对于现有弧面滑动配合降低了滑动阻力，同时可通过活动梁上的磨块来调整与立柱的滑动配合间隙，这不仅保证了配合精度，同时也延长了压砖机的使用寿命，当耐磨镶条和耐磨板的磨损量很大时，只需更换耐磨镶条和耐磨板即可，极大地方便了维修，节约了投资。
Description
技术领域：
本发明涉及一种粉煤灰压砖机，具体说就是涉及一种粉煤灰压砖机的活动梁。
背景技术：
目前所广泛使用的粉煤灰压砖机，其活动梁的上下运动均通过四立柱套筒结构来实现，即在活动梁的四角处设置四根立柱，活动梁通过开设在四角处的四个圆孔套装于四根立柱上并与之滑动配合来达到其上下运动之目的。但该结构的活动梁是不可调整的，磨损后精度变差时又不易维修，且滑动阻力较大，降低了压砖机的使用寿命和工作精度。
发明内容：
本发明之目的在于针对上述现有技术所存在的不足而提供一种粉煤灰压砖机，可通过对活动梁与立柱之间配合间隙的调整以提高其工作精度和使用寿命。
为达到上述目的，本发明可通过下述技术方案实现：
本发明所述的粉煤灰压砖机包括立柱、沿所述立柱上下移动的横截面为矩形的活动梁，所述活动梁水平嵌于四根立柱之间，在活动梁四角对应于四根立柱方向位置处分别设置有一个磨块；在所述四根立柱上对应于所述磨块的摩擦面方向位置处沿纵向分别设置有与对应的磨块滑动配合的平面。
在所述磨块摩擦面上设置有耐磨板。
在与磨块滑动配合的立柱平面上设置耐磨条。
在所述磨块侧边的活动梁上设置有定位块，所述定位块上水平设置有顶丝，使得活动梁四角处的磨块与活动梁之间为可调式结构。
本发明的优点在于采用了以上技术方案，当粉煤灰压砖机工作时，活动梁与立柱的滑动配合面为平面滑动配合，相对于现有弧面滑动配合降低了滑动阻力，同时可通过设置在活动梁上的磨块来调整与立柱的滑动配合间隙，这不仅保证了配合精度，同时也延长了压砖机的使用寿命，当使用时间足够长，耐磨镶条和耐磨板的磨损量很大时，只需更换这些耐磨镶条和耐磨板即可，极大的方便了维修，节约了投资。
附图说明：
图1为本发明的主视图。
图1为本发明的主视图。
图2为图1的俯视图。
图3为图2的局部放大图。
具体实施方式：
如图所示，本发明粉煤灰压砖机包括立柱1、沿所述立柱1上下移动的横截面为矩形的活动梁2，所述活动梁2水平嵌于四根立柱1之间，在活动梁2四角对应于四根立柱1方向位置分别设置有一个磨块3；在四根立柱1上对应于所述磨块3的摩擦面方向位置处沿纵向分别设置有与对应磨块3滑动配合的平面4。在磨块3摩擦面上设置有耐磨板5。在与磨块3滑动配合的立柱平面4上设置耐磨条6。为实现配合间隙的可调，在所述磨块3侧边的活动梁2上设置有定位块，所述定位块上水平设置有顶丝，以实现活动梁2四角处的磨块3与活动梁2之间为沿水平方向的可调式结构。
Claims (4)
1、一种粉煤灰压砖机，包括立柱(1)、沿所述立柱(1)上下移动的横截面为矩形的活动梁(2)，其特征在于：所述活动梁(2)水平嵌于四根立柱(1)之间，在活动梁(2)四角对应于四根立柱(1)方向位置处分别设置有一个磨块(3)；在所述四根立柱(1)上对应于所述磨块(3)的摩擦面方向位置处沿纵向分别设置有与对应磨块(3)滑动配合的平面(4)。
2、根据权利要求1所述的压砖机，其特征在于：在所述磨块(3)摩擦面上设置有耐磨板(5)。
3、根据权利要求1所述的压砖机，其特征在于：在与磨块(3)滑动配合的立柱平面(4)上设置耐磨条(6)。
4、根据权利要求1所述的压砖机，其特征在于：在所述磨块(3)侧边的活动梁(2)上设置有定位块，所述定位块上水平设置有顶丝。
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Assignee: Luoyang Zhongye Heavy Industrial Machinery Co., Ltd. Assignor: Zhengzhou Deyi Heavy Industrial Machinery Manufacturing Ltd. Contract fulfillment period: 2007.11.10 to 2012.11.9 contract change Contract record no.: 2008410000168 Denomination of invention: Fly ash brick press machine Granted publication date: 20061227 License type: Exclusive license Record date: 2008.12.8 |
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| LIC | Patent licence contract for exploitation submitted for record |
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Granted publication date: 20061227 Termination date: 20160130 |
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