CN1220871A - 含有活性物质的沉淀二氧化硅 - Google Patents

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Abstract

一种包含活性物质的沉淀二氧化硅,具有特征地延迟释放活性物质的性质,通过在以已知方式制备沉淀二氧化硅的过程中添加活性物质来制备。该沉淀二氧化硅可以添加到口腔卫生制剂如牙膏、局部用氟化物制剂、牙用原料或医用口香糖中。

Description

含有活性物质的沉淀二氧化硅
本发明涉及一种含有活性物质的沉淀二氧化硅(Kieselsaeure)、其制备方法以及在口腔卫生制剂中的用途。
氟离子在预防龋齿中起关键作用。因此，人们特别将氟离子添加到饮用水中以防止龋齿的蔓延。
使用氟离子预防龋齿的另一种方式是使用含氟离子的牙膏(参见Morton Pader在“化妆品科学和技术丛书”(“Cosmetic Science andTechnology Series”)第6卷383以下页(1988)的“口腔卫生产品和应用”(“Oral Hygiene Products and Practice”)，Marcel Dekker,Inc.)。为此，已知可以将氟离子以NaF、MFP、胺氟化物、氟化锡等的形式添加到牙膏中。此外，这些牙膏中可以包含具有摩擦和/或增稠作用的沉淀二氧化硅(WO93/24103)。然而，在清洁牙齿的过程中，氟离子在口腔中的可利用性基本上限制于刷牙这一短时间内。
现有技术中已知可以将氢氟酸添加到硅胶或干凝胶的水浆液中。然后将该浆液和制备牙膏的成分混合，其中还特别加入氯化钙(DE-A-24 16742)。用氢氟酸处理使得在硅胶上产生Si-F键，这意味着阳离子如钙离子很少被硅胶吸附。氟阴离子的形成以及它们在牙膏中的控制释放在文献DE-A-24 16 742中并未描述。
现有技术中已知可以将其中吸附了1-5％氟化物的热解二氧化硅掺加到牙膏中。这种牙膏通常包含800-1200ppm游离的氟化物，可以用于相应的治疗(US-A 4 172 121)，这种牙膏中的热解二氧化硅，除了作为包含氟离子的介质外，还起增稠剂的作用，以提供牙膏所需的膏状稠度。
包含氟化物的热解二氧化硅根据US-A 4 054 689通过用HF气体处理热解二氧化硅来制备。
现有技术中已知包含氟化物的沉淀二氧化硅，它的制备可以通过将氟化钠和草酸引入含水接受容器中，然后通过同时添加硅酸钠溶液和硫酸，来析出沉淀二氧化硅(DE-B 12 93 138)。
由于添加氟化钠和草酸，而将铁离子复合在沉淀混合物中，并获得较低铁浓度的沉淀二氧化硅。沉淀二氧化硅上并没有吸附氟化钠。
改进口腔卫生制剂功效的一个关键因素被认为是在活性物质自然释放后在口腔中尽可能长地保持活性浓度。改进口腔卫生制剂功效的目的是提高活性物质的保留，并因此通过减少活性物质的量来产生所必需的效果。以这种方式则大大避免高浓度引起的副作用。
以活性物质氟化物为例，它的防龋效果已经在许多临床和流行病研究中得到证实，文献中可以证明所需的防龋保护作用甚至可以在相当低的浓度下产生(参见Y.Ericson，牙科研究杂志(J.Dent.Res.)59(DII):2131(1980)；O.Backer Dirks,W.Künzel和J.P.Carlos，龋齿研究(CariesRes.)12(补充．1):7(1978)；A.r.Volpe，预防牙科学的教科书(RC.Caldwell和R.E.Stallard,eds),Saunders，费城，1997，第12章)。
另外，文献中证明在酸侵蚀的情况下氟化物使用的频率，即氟离子以适当的时间和在适当的地方存在，比氟化物浓度更为重要(参见MortonPader在“化妆品科学和技术丛书”(“Cosmetic Science and TechnologySeries”)第6卷383以下页(1988)的“口腔卫生产品和应用”(“OralHygiene Products and Practice”),Marcel Dekker,Inc.)。
这些发现导致对增大氟化物作用时间同时减少氟化物浓度的研究领域提出了要求。而且，在增加氟化物剂量或增加氟化物积累时，例如通过氟化饮用水、漱口剂、牙膏、氟化物局部制剂、氟化物片剂等，必须不能忽略毒理性。
在活性防牙菌斑(Anti-Plaque)物质中，通过体内和体外的研究显示，发现提高活性物质的保留是改进活性效果的关键。因此，例如洗必泰可产生特殊的抑制牙菌斑性，这主要是由于它在口腔中的保留和从牙菌斑组织和粘膜中的逐渐释放。在早期研究中，通过检测漱过一次口后的唾液中的细菌数来测定抗菌的持续效果(参见K.Kornmann：疫病学中的抗菌剂(Antimicrobial agent,in Loe),H&Kleinmann DV：牙菌斑控制测定和口腔卫生实践(Dental Plaque control measures and oral hygiene practices),牛津/华盛顿，IRL Press,121-142,1986；P.Germo,P.Bonesvoll,G.Rolla:洗必泰在口腔中保留和牙菌斑抑制效果之间的关系(Relationshipbetween plaque inhibiting effect and retention of Chlorhexidine in theoral cavity)，口腔生理学文献(Archs Oral Biol.)19:1031-1034,1974；W.R.Roberts,M.Addy：氯苯胍哌嗪杀菌剂、防御素和洗必泰的比较(Comparison ofthe bisguanidine antiseptics,alexine and chlorhexidine)：对牙菌斑积累和唾液细菌的作用(i Effects on plaque accumulation andsalivary bacteria)．牙周病临床杂志(J.Clin.Periodontol).8:8 213-219,1981)。
另一个实例是三氯生(2,4,4＇-三氯-2'-羟基二苯醚)，仅仅当它和改进三氯生保留的共聚物(聚乙烯基甲基醚/马来酸)结合使用时，才具有显著的牙菌斑抑制效果(参见美国牙科杂志(American Journal of Dentistry)，第2卷,Special Issue,1989年9月：使用三氯生/共聚物洁齿剂对控制牙菌斑和牙龈炎的报告(Report on the use of Triclosan/Copolymer Dentifrices inthe Control of Plaque and Gingivitis))。
已知高分散性物质二氧化硅能够存储在牙齿表面的裂缝、微裂缝和细管中。以这种方式的二氧化硅对暴露的牙本质细管的保护可产生脱敏效果(参见M.Addy,P.Mostafa and R.Newcombe，牙本质过敏性(DentineHypersensitivity)：使用五种牙膏在六周处理期间的比较(A Comparisonof five toothpastes used during a six-week treatment period)；大英牙科杂志(British Dent.J.)163,45-50,1987)。
因此，需要提供一种能够负载活性物质用于口腔卫生制剂的沉淀二氧化硅，它满足这种类型制剂关于耐受性、磨耗性、流变性、感觉性及光学特性的所有需要，并且还能够将活性物质保留在口腔中，然后以控制的方式在较长的时间内释放之。
本发明提供包含活性物质的沉淀二氧化硅，其特征在于活性物质的特征的、延迟的释放。这种包含活性物质的沉淀二氧化硅可以优选表征为：-活性物质的浓度-活性物质的释放动态。
在一个优选的实施方案中，根据本发明的沉淀二氧化硅可以具有以下物化参数：含水量               ％    1-10       优选1-7pH                         2.5-8.5    优选6-8N2表面积            m2/g 25-800     优选25-400平均颗粒粒度(Malvern)μm   2-100      优选2-20
本发明还提供根据本发明的具有负载活性物质功能的沉淀二氧化硅的制备方法，其特征在于以已知方式制备沉淀二氧化硅，其中将具有中等水溶性至难溶性的活性物质或者放入沉淀接受容器或者放入沉淀悬浮液中，或者和经过洗涤并任选地再分散的沉淀二氧化硅膏一起干燥，或者和干燥的物料同时进行研磨。
无定形二氧化硅的制备有各种方法。所有方法共同特征是将碱金属硅酸盐溶液和无机酸或CO2反应，同时保持特定的沉淀条件，如温度、时间、pH和沉淀悬浮液的固形物含量。然后通过加更多的酸降低pH。在沉淀和酸化阶段的过程中连续搅拌混合物。过滤悬浮液，并且将滤饼洗涤、干燥和研磨。
以已知的沉淀二氧化硅制备方式制备本发明的无定形二氧化硅，其中将具有中等水溶性(0.1-1.0mol)至难溶性(0.1mol以下)的活性物质或者放入沉淀接受容器或者放入沉淀悬浮液中，或者和经过洗涤并任选地再分散的二氧化硅膏一起干燥，或者和干燥的物料同时进行研磨。
例如碱金属氟化物、碱土金属氟化物或氟磷灰石可以作为包含氟离子的成分使用，其中来自碱金属化合物的氟化物还可以通过添加碱土金属离子来键合。其它活性物质可以是洗必泰、三氯生、羟基乙烷-1,1-二膦酸、焦磷酸碱金属盐、柠檬酸锌等等。
沉淀二氧化硅可以通过文献DE-A 44 23 493、DE-AS 14 67 019和EP-B 0 272 380描述的方式制备。
已知沉淀的优选形式包括将活性物质放入沉淀接受容器或喷雾干燥器的进料原料中。这样可确保最终产品中最均匀和最细的分布以及最大的保留效果。氟化物的治疗有效量为0.001-10％，优选0.005-1.0％。三氯生的量为0.1-1.0％优选0.2-0.5％。
任何具有增稠、摩擦功能或双重功能的二氧化硅均可适用作为载体二氧化硅。优选合成、无定形二氧化硅，例如EP 0 643 015中描述的和可从Degussa AG获得的商品名为Sident的物质。也可以使用J.M.Huber公司，化学部，Havre de Grace,Maryland获得Zeodent二氧化硅，Rhone-Poulenc Chimie Les Miroirs.La Defense 3 F-92400 Courbevoie获得的Tixosil二氧化硅，Crosfield Chemicals,Warrington Cheshire,England获得的Sorbosil二氧化硅或Grace&Co.,Davison Chem.Division获得的Syloid二氧化硅。
本发明的能够负载活性物质的沉淀二氧化硅优选通过以下方法制备，将水和活性物质放入沉淀容器中，将混合物加热至50-100℃，优选80-90℃，通过添加硅酸钠溶液调节pH和碱金属浓度，同时保持温度，然后在保持pH和碱金属浓度恒定情况下同时加入硅酸钠溶液和硫酸，或先后加入硅酸钠溶液和硫酸，在此之后再加入硫酸将混合物酸化至pH优选为7，任选地再次搅拌，过滤，洗至无盐、将滤饼再分散，用喷雾干燥器干燥并且研磨所得的粒状二氧化硅。
市售获得的硅酸钠溶液具有例如26.8％浓度的SiO2、7.85％浓度的Na2O和1.352g/ml的密度。
硫酸的浓度可为50-96％。
本发明的二氧化硅可以本领域技术人员公知的方式用于口腔卫生制剂，如牙膏、医用口香糖和局部氟化物制剂以及牙用原料。它们可以完全或部分替代其中的常规使用的二氧化硅。
优选在牙膏中使用。此外，也可以和其它可能是可溶的活性物质结合使用以及制备凝胶配方等。
本发明的护齿剂可以包含一种或几种现有技术中使用的原料，例如水、粘合剂如纤维素衍生物，例如羧甲基纤维素及其碱金属盐，特别是钠盐，羟烷基纤维素、黄原胶(Xanthangum)、黄耆胶、角叉酸盐、藻酸盐和阿拉伯胶等等、摩擦剂(沉淀的和热生的二氧化硅、磷酸氢钙、白垩、氢氧化铝等等)、保湿剂如甘油、山梨糖醇、丙二醇、低分子量聚乙二醇、1,4-丁二醇、木糖醇等等、调味剂、表面活性剂如烷基硫酸盐、月桂基硫酸钠、肌氨酸(Sarcoside)、牛磺酸脂肪酸酰胺、硫酸单甘油酯、甜菜碱等等、着色剂和/或二氧化钛、甜味剂、缓冲剂、碱或酸、防腐剂和活性物质。
根据现有技术制备护齿剂。以合适形式将各组分混合、溶胀和分散。
本发明的沉淀二氧化硅可以用作牙膏的添加剂，特别是用作释放活性物质的增稠和/或摩擦成分。
本发明的沉淀二氧化硅具有以下优点：
本发明的二氧化硅作为牙用活性物质的载体，其存储在作用部位，然后活性物质以小剂量经过相对较长的时间释放(长效作用(Depotwirkung)，控制释放)。从而，二氧化硅起活性物质的存储载体的作用，它包含吸附、吸收或化学吸附形式的活性物质。可以使用任何形式的二氧化硅，如沉淀二氧化硅或硅胶或热解二氧化硅。任何难溶性的氟化物例如CaF2和难溶性的活性物质如三氯生、洗必泰均可以作为活性物质使用。
难溶性的活性物质可以和易溶性活性物质如NaF、单氟磷酸盐等结合，然后可以达到活性物质释放动态的所需要的调整，即达到立即效果和长效作用的所需要的结合。本发明二氧化硅的优点基于较长的可利用性而因此达到改进的治疗效果，例如通过提高牙齿对脱矿质的耐性来改进预防龋齿的效果。这意味着可以使用小剂量的活性物质，并且可以预料到较小的副作用或较低的毒性。将氟化物添加到饮用水，即药物的强迫提供可以变得不必要了。
实施例
通过以下关于添加氟化物的实施例来说明制备本发明沉淀二氧化硅的各种不同的方法：制备方法1
氟化物盐在沉淀接受容器中+碱土金属氯化物在沉淀结束时制备方法2
氟化物盐+碱土金属氯化物在沉淀结束时制备方法3
氟化物盐在沉淀接受容器中制备方法4
氟化物盐在喷雾干燥器进料原料中制备包含氟离子的摩擦剂沉淀二氧化硅实施例1(含氟化物的摩擦剂二氧化硅)
基本上按照DE-A 44 23 493实施例1的描述通过将CaF2添加到沉淀接受容器中进行沉淀。
开始将12.8l水和52.8g CaF2搅拌引入50l间接加热的沉淀容器中，然后加热至85℃。同时保持这个温度，首先通过添加少量硅酸钠溶液(26.8％SiO2和7.85％Na2O，密度1.352g/ml)调节pH为8.5。然后通过添加60.0ml/分钟水玻璃(组成如上所给)和足量保持pH恒定为8.5的硫酸(50％浓度)进行240分钟的沉淀。然后用硫酸(50％浓度)将所得的悬浮液酸化至pH≤7。
将反应混合物搅拌另外60分钟，过滤，洗至无盐并且喷雾干燥。然后研磨所得产品。
所得的沉淀二氧化硅具有以下物化性质：含水量               ％      3.2pH                           8.0电导率               μS/cm  400N2表面积            m2/g   31平均颗粒粒度(Malvern)μm     10.2氟离子浓度           ％      0.5实施例2(对比实施例，不含氟化物的摩擦剂二氧化硅)
按照DE-A 44 23 493实施例1的描述制备摩擦剂沉淀二氧化硅，不添加氟化物。实施例3(具有增稠作用的含氟化物的沉淀二氧化硅)
按照EP 0 272 380B1中实施例1的描述进行制备。
将73l热水和5.25l硅酸钠溶液(密度1.353g/ml，组成(Modul)SiO2∶Na2O=3.46)在120l橡皮衬里的沉淀容器中搅拌加热至85℃。随后同时将16.5l硅酸钠溶液(组成如上所给)和1.448l硫酸(96％浓度)经过90分钟的时间添加到这个碱性沉淀混合物中，同时进行搅拌并且保持恒定的温度。
然后，用硫酸(96％浓度)将所得的沉淀二氧化硅悬浮液调整至pH3.5，该步骤的完成是通过让酸以1.25l/小时的速率流入数分钟进行的。此方法获得的沉淀二氧化硅悬浮液的固形物含量为85.0g/l。
将过滤和洗涤后剩余所得的低盐含量膏状物，通过强烈搅拌并添加水和CaF2转化成可喷雾的悬浮液，其中CaF2的量应使得相对于二氧化硅的量，F浓度为0.5wt％，然后喷雾干燥并在空气喷射研磨器中研磨。实施例4(对比实施例，具有增稠作用的不含氟化物的沉淀二氧化硅)
按照EP 0 272 380B1中实施例1的描述进行制备，不添加CaF2。使用实施例1-4的沉淀二氧化硅的牙膏配方
               牙膏1   牙膏4
               ％      ％去离子水           30.60   31.60CMC                1.20    1.20对羟基苯甲酸甲酯钠 0.20    0.20(Solbrol M-Na)糖精钠             0.10    0.10二氧化钛           0.40    0.4070％浓度山梨糖醇        40.00    40.00实施例1的二氧化硅       25.00    22.00AEROSIL 200             -        2.00芳香油                  1.00     1.00发泡剂                  1.50     1.50
                    牙膏2    牙膏5
                    ％       ％去离子水                33.60    33.60CMC                     1.20     1.20对羟基苯甲酸甲酯钠      0.20     0.20(Solbrol M-Na)糖精钠                  0.10     0.10二氧化钛                0.40     0.4070％浓度山梨糖醇        40.00    40.00实施例1的二氧化硅       14.00    -实施例2的二氧化硅       -        14.00实施例3的二氧化硅       -        8.00实施例4的二氧化硅       8.00     -芳香油                  1.00     1.00发泡剂                  1.50     1.50
                    牙膏3    牙膏6
                    ％       ％去离子水                 39.60   39.60CMC                      1.20    1.20对羟基苯甲酸甲酯钠       0.20    0.20(Solbrol M-Na)糖精钠                   0.10    0.10二氧化钛                 0.40    0.4070％浓度山梨糖醇         40.00   40.00实施例1的二氧化硅        5.00    -实施例2的二氧化硅        -       5.00实施例3的二氧化硅        -       11.00实施例4的二氧化硅       11.00    -芳香油                  1.00     1.00发泡剂                  1.50     1.50
                    牙膏7    牙膏10
                    ％       ％去离子水                7.95     12.45CMC                     0.50     0.501％浓度着色剂           0.50     0.50对羟基苯甲酸甲酯钠      0.15     0.15(Solbrol M-Na)糖精钠                  0.20     0.20聚乙二醇400             3.50     3.5070％浓度山梨糖醇        40.00    40.00甘油                    20.00    20.00实施例1的二氧化硅       25.00    18.00AEROSIL 200             -        2.50芳香油                  1.00     1.00发泡剂                  1.20     1.20
                    牙膏8    牙膏11
                    ％       ％去离子水                10.95    10.95CMC                     0.50     0.501％浓度着色剂              0.50    0.50对羟基苯甲酸甲酯钠         0.15    0.15(Solbrol M-Na)糖精钠                     0.20    0.20聚乙二醇400                3.50    3.5070％浓度山梨糖醇           40.00   40.00甘油                       20.00   20.00实施例1的二氧化硅          14.00   -实施例2的二氧化硅          -       14.00实施例3的二氧化硅          -       8.00实施例4的二氧化硅          8.00    -芳香油                     1.00    1.00发泡剂                     1.20    1.50
                       牙膏9   牙膏12
                       ％      ％去离子水                   11.95   11.95CMC                        0.50    0.501％浓度着色剂              0.50    0.50对羟基苯甲酸甲酯钠         0.15    0.15(Solbrol M-Na)糖精钠                     0.20    0.20聚乙二醇400                3.50    3.5070％浓度山梨糖醇           40.00   40.00甘油                       25.00   25.00实施例1的二氧化硅          5.00    -实施例2的二氧化硅          -       5.00实施例3的二氧化硅          -       11.00实施例4的二氧化硅          11.00   -芳香油    1.00    1.00发泡剂    1.20    1.20检测实施例1的沉淀二氧化硅的氯化物释放动态来作为长效作用的量度以及pH值随时间的关系
还参见图1(氟化物释放动态图)和图2(pH动态图)
基于沉淀二氧化硅的氟化物的量ppm     pH
    2分钟后     0.479     7.95
    5分钟后     0.767     7.91
    15分钟后     1.62     7.71
    30分钟后     2.24     7.59
    45分钟后     2.86     7.42
    60分钟后     3.62     7.29
    120分钟后     4.64     7.09
    150分钟后     5.08     7.01
    180分钟后     5.28     6.96
    240分钟后     5.48     6.91
    300分钟后     5.73     6.87
    360分钟后     5.80     6.84
    24小时后     7.09     6.86
    25小时后     7.06     6.79
    26小时后     6.89     6.75
    48小时后     7.64     6.73
    49小时后     7.49     6.69
    50小时后     7.43     6.67
    51小时后     7.40     6.65
计算上表：
测试悬浮液中的氟化物总量     [F]总量     50ppm
可溶的氟化物     [F]可溶     7.8ppm
释放的氟化物 可溶F-的[％]     97.9
本发明实施例1的二氧化硅具有5mg F’/g二氧化硅的氟化物贮存率，对应于测试悬浮液中的50ppm。基于CaF2的可溶性产品，其中7.8ppm为可溶的。实验证明2天内释放出97.9％的可溶氟化物。测定二氧化硅的氟化物总含量
使用高温水解和离子色谱法测定二氧化硅的氟化物总含量
    二氧化硅     实验结果(％)
    根据实施例1     0.51±0.02
结果显示沉淀二氧化硅上固定了所使用的5mg F/g沉淀二氧化硅(0.5wt％)的氟化物理论总量。臼齿清洁实验和使用XPS/SIMS的表面分析
使用本发明实施例1的沉淀二氧化硅，表明在单个清洁过程之后氟离子存储在牙齿表面。
    参数     牙齿1     牙齿2     牙齿3
擦光 将牙齿表面擦光 将牙齿表面擦光 将牙齿表面擦光
第一次表面分析(清洁前的初始状况)     通过XPS/SIMS方式分析     通过XPS/SIMS方式分析     通过XPS/SIMS方式分析
制备牙膏/清洁材料悬浮液     悬浮液将高露洁(Colgate)防龋牙膏按1∶1匀化在水中 将包含20％的实施例1二氧化硅的标准牙膏A按1∶1分散在水中 将包含20％的实施例2二氧化硅和1000ppm CaF2的标准牙膏B按1∶1分散在水中
清洁方法 在振动台上用电动牙刷清洁5分钟 在振动台上用电动牙刷清洁5分钟 在振动台上用电动牙刷清洁5分钟
X-射线光电子光谱法(XPS)
使用基于光电效应原理[1-4]的XPS技术来测定用氟化物处理前后牙齿的表面组成。由于XPS的高表面特异性，有针对性地在最外几纳米，即界面区域中进行分析，存储F和牙釉的化学侵蚀或摩擦就在该界面区域中进行。
分析仅涉及到最外层的原子，即选择性地在出现氟化物存储或氟化物流出的区域内。虽然分析仅渗透到材料的几原子层的深度，但“分析点”要有针对性地遍布整个牙齿，以便排除分析结果的微区不均匀性，并且得到整个牙齿表面的相关的宏观数据。因此，XPS法的表面敏感性比电子显微术中使用的EDX(能量分散X射线分析)技术高大约1000倍。
XPS法提供了有效可定量的优点。特别是还提供了牙釉或牙质表面的化学结合状态有关的信息。因此XPS是牙科研究和牙科临床中的国际认可的测定方法(特别是在美国)，以便研究Ca的复杂特性、牙齿或牙本质表面的Ca/P比以及针对清洁剂和打底剂(Primer)的效果。原理：1．插入
将臼齿插入XPS实验装置(Leybold LHS12)，不进行任何预处理。所用的设备由一些真空室组成。在第一个室，将臼齿小心地从常压条件泵抽到预真空条件(约10-2毫巴，无油旋转碟型真空泵)，以便抽掉水分和其它可能是有机的易脱附的成分，特别是来自牙本质中的。然后将粗略干燥的牙齿转移到制备室。在该室中，将材料泵抽成高或超高真空条件(10-7-10-8毫巴，涡轮泵真空)。在这段时间中，使用剩余气体四极质谱仪测试挥发性剩余成分(特别是水)在这些极端条件下是否仍从材料中逸出。泵抽过程只能在室温下进行。由此，牙齿没有任何其它方式的压迫。最后将这样处理的样品转移到实际分析室(基本压力：6-8x10-10毫巴，涡轮泵，吸气离子泵和Ti升华泵真空)。2．测定过程
在超高真空条件下，用软X射线(MgKα射线，1253.6电子伏特，功率200瓦)轰击牙齿的整个表面。这引发了光发射过程。电子被释放(如F1s、Ca2p、P2s、C1s、O1s等)。由于所选的激发能量，固体中发射出仅具有非常短的平均自由路程的光电子。因此，该方法特定针对最外原子层的区域，即在氧化矿质例如羟基磷灰石/氟磷灰石的情况下，选择性地包括最外2纳米层。
仅直接在材料表面发射的电子可以离开材料并且作为数据载体。使用半球形能量分析仪(CHA,Leybold EA11A)测定这些发射出的电子的动能。根据所测定的能量和发射的X射线光子能量之间的差别，测定出从牙齿表面原子中离开的光电子结合能。尽管具有高表面特异性，但借助于光显微术和调节激光可以对约1.5cm2的表面积进行校正和积分分析。这样排除了微区不均匀性的结果。3．评价1．表面浓度
首先将测定的XPS光谱通过多项配合(Polynomfit)和扣除程序处理，除去所谓的X射线附属信号。然后识别XPS检测的所有元素(除H和He)。使用Shirley法[5]扣除背景后进行定量分析，同时将特定元素相关的灵敏度因素考虑进去。2．结合状态
根据结合能的测定值，还可以确定元素以哪一种化学结合状态存在。例如可以具体区别出碳酸酯的碳和脂族结合的碳。为对这个重要方面不只是进行定性评价，还要通过内参考方法或补偿技术将导电性差的材料上的样品特异的静电带电考虑进去。参考文献：1 K.Siegbahn等，Nova Acta Reg.Soc.Sci.Ups.Ser.Ⅳ卷.20(1967)2实际表面分析(Practical Surface Analysis),Ed.D.Briggs,M.P.Seah，第二版,1990,John Wiley,Chichester and Salle+Sauerlaender,Aarau3 J.F.Moulder,W.F.Stickle,P.E.Sobol,K.D.Bomben,X射线光电子光谱学手册(Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy),Ed.J.Chastain,Perkin Elmer,物理电子分部，Eden Prairie Mi,USA,19924 R.Holm,S.Storp，表面研究方法，乌氏化工百科全书(Methoden zurUntersuchung von Oberflaechen,Ullmanns Enzyklopaedie dertechnischen Chemie)，第5卷,Verlag Chemie,Weinheim,1980,pp 242-2565 D.A.Shirley，物理评论(Phys.Rev.)B5,1992,4709所用“Riefenwert”标准牙膏的配方
原料 标准牙膏A(％) 标准牙膏B(％)
1去离子水     34.54     34.54
2 CMC,Blanose 7 MCF     1.00     1.00
3防腐剂，对羟基苯甲酸甲酯     0.20     0.20
4甜味剂，糖精     0.10     0.10
5 CaF2      -     0.21
6石蜡油     0.50     0.50
7山梨糖醇     40.00     40.00
8芳香油     1.00     1.00
二氧化硅 20％实施例1的沉淀二氧化硅 20％实施例2的沉淀二氧化硅
标准牙膏A和B的制备
用Retsch研磨机RM1将粘合剂(CMC)在水中泡涨，混合入成分3-8并且匀化。各称取160g的所得混合物，并且在Retsch研磨机工作时分别加入40g实施例1或2的沉淀二氧化硅。在沉淀的二氧化硅完全混合之后，将膏状物在三辊研磨机上匀化三次。牙膏/清洁剂悬浮液的制备
然后，将标准牙膏A和B以及高露洁双氟牙膏各自以1∶1用水稀释，并且使用双浆搅拌器以1500rpm将其在400ml烧杯中分散5分钟。清洁过程的描述
将含二氧化硅的牙膏悬浮液注入清洁设备中，并且用电动牙刷(商品名Broxodent)清洁面擦光的人牙齿(臼齿)。将清洁设备使用的振动台调节为60振/分钟，以避免产生沉降物。在清洁过程之后，用流动的无氟水漂洗、干燥并分析检测其表面。
在对比实验中，市售的高露洁双氟牙膏也进行测试。测试结果
牙1高露洁双氟牙膏 牙1高露洁双氟牙膏 牙2标准牙膏A 牙2标准牙膏A 牙3标准牙膏B 牙3标准牙膏B
人牙齿面的状况 擦光的 清洁的 擦光的 清洁的 擦光的 清洁的
第一次测定的氟化物表面百分比 0.68  1.04  0.45  0.91  0.46  0.69
第一次测定的Δ百分比     +0.36     +0.46     +0.23
    重复测定
人牙齿面的状况 擦光的 清洁的 擦光的 清洁的 擦光的 清洁的
第二次测定的氟化物表面百分比 0.33  0.75  0.41  0.91  0.35  0.33
第二次测定的Δ百分比     +0.42     +0.50     -0.02
预料不到的是，这些结果显示标准牙膏A中的来自实施例1的本发明的二氧化硅与标准牙膏B和高露洁双氟牙膏相比，在单个清洁过程之后造成氟化物明显更高的沉积，其中标准牙膏B中摩擦剂二氧化硅和CaF2是分别添加的，而高露洁双氟牙膏是一种包含NaF、NaMFP和钙的具有宣传的长效作用的牙膏。由此可预料到，牙齿对脱矿质的耐性得到了改进。同时，1中描述的氟化物释放动态证明了氟化物在37℃体内历时数天的延迟释放。
含有双氟化物和钙的高露洁牙膏可市售获得。它具有以下成分(根据CTFA)：
磷酸氢钙、水、甘油、山梨糖醇、纤维素胶、月桂基硫酸钠、调味剂、焦磷酸四钠、糖精钠、单氟磷酸钠、氟化钠。测定掺加碱金属和碱土金属氟化物的二氧化硅的氟化物释放动态1)基本原理
使用该方法测试含氟二氧化硅的氟化物释放随时间的关系。由此可以检测出二氧化硅是否具有长效作用。
使用离子选择电极和离子分析仪进行测定。使用例如碱金属和碱土金属盐作为掺加用的氟化物。2)设备和试剂2.1)设备分析天平，Sartorius A 200 SSpatula250ml塑料螺旋盖密封的容器Ika磁力搅拌器，ES 5，具有2cm搅拌棒具有水浴的Colora恒温箱ORION pH/mV和离子计EA940型具有pH电极具有离子选择电极2.2)试剂蒸馏水ORION 100ppm氟化物标准溶液制备成以下校准溶液100ppm50ppm20ppmpH缓冲溶液：pH4.0、7.0和10.0。3)安全性：NaF是有毒的
R 23/24/25    S 1/2-26-44在酸性pH中，产生的HF毒性极高
R 26/27/28-35    S 2/9-26-36/37-454)实验过程4.1)制作氟化物校准溶液
将100ppm ORION氟化物标准样用1∶1或1∶5蒸馏水稀释作为校准溶液，储藏在250ml塑料螺旋盖密封的容器中。4.2)标定
在开始每批实验之前先校准离子计。使用上述校准溶液和缓冲溶液。在将其浸入校准溶液之前用蒸馏水冲洗电极并且仔细干燥。操作时注意设备制造商提供的信息。4.3)测定
称取100g的1％浓度二氧化硅/水悬浮液(精确至10mg)放入250ml塑料螺旋盖密封的容器。为防止和可能产生的任何氢氟酸接触，实验应当在通风橱中进行。
将悬浮液在水浴中保持恒温37℃，并且用磁力搅拌器以搅拌速度3进行搅拌。
用离子选择电极测定氟化物的释放。为此，按照制造商的说明，用包含在电极中的溶液冲洗离子选择电极中的膜，然后再次补充至正确的水平。用蒸馏水冲洗电极并用软布擦干，将电极头浸入悬浮液中，并且边搅拌边以一定的时间间隔读出氟化物的ppm浓度，并且记录。测定的间隔从2分钟增加至几小时，直至实验值保持恒定为止。
同时，测定悬浮液的pH值。进行测定之前用蒸馏水冲洗电极并且干燥。然后将离子分析仪转换成pH测定。将电极浸入悬浮液中并且边搅拌边测定pH值，并且记录。
将电极保留在悬浮液中进一步作氟化物浓度和pH测定。只将电极简单转换成相应类型，然后读出实验数值。5)评价
将氟化物释放动态绘制为氟化物浓度对时间的曲线图。结果记录以下数据：1)达到平衡状态之后记录的氟化物浓度，以及相应的时间，[F]平衡以ppm计2)1g二氧化硅/100g悬浮液的氟化物的理论浓度，[F]总以ppm计3)1g二氧化硅/100g悬浮液的可溶氟化物的浓度[F]可溶，以ppm计4)达到的氟化物浓度[F]平衡占可溶氟化物浓度[F]可溶的百分比。
结果显示，可以生产出和不合氟化物的对照沉淀二氧化硅相同应用性质的掺加氟化物的沉淀二氧化硅，但其具有所需的长效作用。进一步实施例还说明摩擦剂二氧化硅、增稠剂二氧化硅和双功能二氧化硅可以作为根据本发明的活性物质的载体使用。
上述实施例3是使用方法4涂敷并且也可以证实其具有长效作用的实施例的代表。

Claims (4)

1．包含活性物质的沉淀二氧化硅，其特征在于活性物质的特征的、延迟的释放。
2．权利要求1包含活性物质的沉淀二氧化硅的制备方法，其特征在于以已知方式制备沉淀二氧化硅，其中将具有中等水溶性至难溶性的活性物质或者放入沉淀接受容器或者放入沉淀悬浮液中，或者和经过洗涤并任选地再分散的沉淀二氧化硅膏一起干燥，或者和干燥的物料同时进行研磨。
3．权利要求1包含活性物质的沉淀二氧化硅在口腔卫生制剂中的用途。
4．根据权利要求3的包含活性物质的沉淀二氧化硅的用途，是作为释放氟离子的添加剂用于口腔卫生制剂。
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