CN1219108C - 制备多层金属镀层复合膜的装置及其制造工艺 - Google Patents

制备多层金属镀层复合膜的装置及其制造工艺 Download PDF

Info

Publication number
CN1219108C
CN1219108C CN 03108042 CN03108042A CN1219108C CN 1219108 C CN1219108 C CN 1219108C CN 03108042 CN03108042 CN 03108042 CN 03108042 A CN03108042 A CN 03108042A CN 1219108 C CN1219108 C CN 1219108C
Authority
CN
China
Prior art keywords
evaporation
vacuum
layer
materials
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN 03108042
Other languages
English (en)
Other versions
CN1477227A (zh
Inventor
王勇
韩秀铃
王新
王鹏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Irico Display Devices Co Ltd
Irico Group Electronics Co Ltd
Original Assignee
Irico Display Devices Co Ltd
Irico Group Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Irico Display Devices Co Ltd, Irico Group Electronics Co Ltd filed Critical Irico Display Devices Co Ltd
Priority to CN 03108042 priority Critical patent/CN1219108C/zh
Publication of CN1477227A publication Critical patent/CN1477227A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN1219108C publication Critical patent/CN1219108C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明涉及一种多层金属镀层复合膜的装置及制造工艺,包括电源,真空蒸发室,真空蒸发室内置有金属材料,真空蒸发室内同时设有至少有两个或两个以上蒸发源,在各自的蒸发源中放置不同的蒸发材料,按蒸发时序进行蒸发。其工艺流程为:a、用真空泵对真空蒸发室进行抽真空;b、对真空蒸发室内的蒸发源通电、并低温预热蒸发材料;c、将低温预热好的蒸发材料用高温使蒸发材料蒸发进行镀膜;d、第一材料蒸发形成第一层镀膜,第二层材料再蒸发叠加于第一层膜之上,以后各膜蒸发材料依次类推,便形成多层金属镀层复合膜。具有操作简单,节省时间和能源,降低了生产成本,金属镀层互不污染与渗透,提高了产品质量等特点,有一定的经济和社会效益。

Description

制备多层金属镀层复合膜的装置及其制造工艺
一、技术领域
本发明涉及一种多层金属镀层复合膜的装置及制造工艺,特别适用于彩色显像管的多层金属镀膜制造中。
二、背景技术
目前气相生成复合膜技术中,一般采用的方法有两种,一是一个蒸发室只蒸发一种材料,形成一层薄膜,要制造多层复合膜,就需要重复单层膜的制造工艺。其二是在真空蒸发室中放置一种复合材料,蒸发时,是利用各材料的蒸汽压不同,蒸汽压高的先蒸发,蒸汽压低的后蒸发,制造出多层复合膜,上述两种方法分别存在不同的不足,前者虽说工艺简单,制造过程中费时费力,成本较高,后者是复膜层之间存在相互渗透和污染。
三、发明内容
本发明的目的是提供一种结构简单、使用方便的多层金属镀层复合膜的装置。
本发明的另一目的是提供一种多层金属镀层复合膜的制造工艺。
实现本发明目的的技术方案是这样解决的:多层金属镀层复合膜的装置包括一个电源,一个真空蒸发室,真空蒸发室内置有金属材料,其突出的特点在于真空蒸发室内同时设有至少有两个或两个以上蒸发源,在各自的蒸发源中放置不同的蒸发材料,按蒸发时序进行蒸发。
本发明的制造工艺包括下述步骤:其工艺流程为:
a、用真空泵对真空蒸发室进行抽真空;
b、对真空蒸发室内的蒸发源通电、并低温预热蒸发材料;
c、将低温预热好的蒸发材料用高温使蒸发材料蒸发进行镀膜;
d、第一材料蒸发形成第一层镀膜,第二层材料再蒸发叠加于第一层膜之上,以后各膜蒸发材料依次类推,便形成多层金属镀层复合膜。本发明与现有技术相比,只用一个真空蒸发室,按蒸发时序就能一次完成多层金属镀层复合膜的制造,具有操作简单,节省时间和能源,降低了生产成本,金属镀层互不污染与渗透,提高了产品质量等特点,有一定的经济和社会效益。
四、附图说明
图1为本发明装置的结构示意图;
图2为本发明的工艺流程图。
五、具体实施方式
附图为本发明的具体实施例
下面结合附图对本发明的内容作进一步说明
参照图1所示,包括一个电源1,一个真空蒸发室2,真空蒸发室2内置有金属材料3,真空蒸发室2内同时设有至少有两个或两个以上蒸发源4、5,在各自的蒸发源中放置不同的蒸发材料3,按蒸发时序进行蒸发。
图2所示为本发明的工艺流程图,即抽真空→蒸发材料预热→第一种蒸发材料蒸发形成第一层镀膜→第二种蒸发材料蒸发形成第二层镀膜→其余以此类推→完成多层金属复合膜。
综上所述,在54cm平面直角彩色显像管制造工艺技术的铝膜制造中,真空蒸发室2内同时设有至少有两个蒸发源4、5,一亇真空蒸发源4中放置纯铝材料,另一个真空蒸发源5中放置铝、铁合金材料,这种多层金属镀层复合膜的内层为铝膜,它起反射作用,中层为铝铁膜,外层为铁膜,它吸收管内的热量。本例应用的工艺流程为:抽真空→铝、铝铁合金蒸发材料预热→铝蒸发材料蒸发形成第一层镀膜→第二种铝铁合金蒸发材料蒸发形成第二层镀膜→完成多层金属复合膜。

Claims (3)

1、种制备多层金属镀层复合膜的装置,包括一个电源(1),一个真空蒸发室(2),真空蒸发室(2)内置有金属材料(3),其特征在于真空蒸发室(2)内同时设有至少有两个或两个以上蒸发源(4、5),在各自的蒸发源中放置不同的蒸发材料(3),按蒸发时序进行蒸发。
2、根据权利要求所述的制备多层金属镀层复合膜的装置,其特征在于所说的蒸发时序是按膜层要求第一层镀膜材料行蒸发、第二层材料再蒸发依次类推顺序蒸发。
3、一种使用权利要求1所述的多层金属镀层复合膜的制造工艺,其工艺流程为:
a、用真空泵对真空蒸发室(2)进行抽真空;
b、对真空蒸发室(2)内的蒸发源(4、5)通电、并低温预热蒸发材料(3);
c、将低温预热好的蒸发材料(3)再用高温使蒸发材料(3)蒸发进行镀膜;
d、第一材料蒸发形成第一层镀膜,第二层材料再蒸发叠加于第一层膜之上,以后各膜蒸发材料依次类推,便形成多层金属复合膜。
CN 03108042 2003-05-19 2003-05-19 制备多层金属镀层复合膜的装置及其制造工艺 Expired - Fee Related CN1219108C (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 03108042 CN1219108C (zh) 2003-05-19 2003-05-19 制备多层金属镀层复合膜的装置及其制造工艺

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 03108042 CN1219108C (zh) 2003-05-19 2003-05-19 制备多层金属镀层复合膜的装置及其制造工艺

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1477227A CN1477227A (zh) 2004-02-25
CN1219108C true CN1219108C (zh) 2005-09-14

Family

ID=34152316

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN 03108042 Expired - Fee Related CN1219108C (zh) 2003-05-19 2003-05-19 制备多层金属镀层复合膜的装置及其制造工艺

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN1219108C (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101592926B (zh) * 2009-06-25 2011-09-14 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种镀膜工艺控制方法及控制系统
CN110965027B (zh) * 2019-11-29 2022-05-17 昆山国显光电有限公司 蒸镀预加热方法及蒸镀预加热系统

Also Published As

Publication number Publication date
CN1477227A (zh) 2004-02-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110129727A (zh) 用于燃料电池金属双极板的预涂镀金属卷带的制备方法
CN109554680A (zh) 一种卷绕式真空镀膜机
CN201326012Y (zh) 一种连续卷绕式磁控溅射真空镀膜装置
CN1219108C (zh) 制备多层金属镀层复合膜的装置及其制造工艺
CN108004519A (zh) 药品自动包装用高阻隔vmcpp薄膜制备方法及药品自动包装用高阻隔vmcpp薄膜
CN101508192A (zh) 手机保护屏用聚合板材抗手指纹膜及其制备方法
CN102677002A (zh) 一种航空有机玻璃的真空镀膜制备方法及其制备
CN110042353B (zh) 一种纳米叠层铝基复合材料及制备方法
CN216891172U (zh) 一种电子束蒸发双面镀膜的卷对卷设备
CN100343416C (zh) 微颗粒表面真空镀金属膜工艺及其设备
CN110318027A (zh) 一种在银片表面制备低反射银-钼合金膜的方法
CN1696331A (zh) 直镀彩虹膜或纸的制造方法
CN2254448Y (zh) 多弧—磁控溅射真空离子镀金设备
JP2007297712A (ja) プラズマを利用して堆積された薄いシード層を介してのメタライゼーション
CN109023265A (zh) CrN/CrNiN纳米多层涂层及其制备方法、纳米多层涂层及其制备方法与应用
CN105220125A (zh) 生产锌镁合金镀层钢板及彩涂板的联合机组及其生产方法
CN202388851U (zh) 一种太阳能选择性吸收涂层
CN116288201A (zh) 一种铁碳合金靶材及其薄膜制备方法
CN104626679A (zh) 一种覆膜铝板及其制备方法
CN108330447A (zh) 一种卷绕式pvd物理学沉积真空磁控溅射镀银铜合金层方法
CN209508393U (zh) 一种24源连续有机材料蒸镀装备
CN106917066B (zh) 一种四元单层超硬薄膜材料及其制备方法
CN2618925Y (zh) 用于制作有机电致发光显示器的蒸镀装置
CN209081976U (zh) 一种刀条表面沉积镀膜装置
CN101776338A (zh) 太阳能高温吸热CrFeON薄膜及其制备工艺

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: IRICO GROUP ELECTRONICS CO., LTD.

Free format text: FORMER OWNER: CAIHONG COLOUR KINESCOPE GENERAL FACTORY

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20041119

Address after: 712021 No. 1 Rainbow Road, Shaanxi, Xianyang

Applicant after: IRICO Group Electronics Co., Ltd.

Co-applicant after: IRICO, Ltd.

Address before: 712021 No. 1 Rainbow Road, Shaanxi, Xianyang

Applicant before: Caihong Color CRT General Factory

Co-applicant before: IRICO, Ltd.

C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C17 Cessation of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20050914

Termination date: 20130519