CN118147582A - 蒸发镀膜装置及蒸发镀膜系统 - Google Patents
蒸发镀膜装置及蒸发镀膜系统 Download PDFInfo
- Publication number
- CN118147582A CN118147582A CN202410281572.5A CN202410281572A CN118147582A CN 118147582 A CN118147582 A CN 118147582A CN 202410281572 A CN202410281572 A CN 202410281572A CN 118147582 A CN118147582 A CN 118147582A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- evaporation
- assembly
- workpiece
- guide rail
- driving
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 title claims abstract description 195
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 title claims abstract description 183
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 80
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 75
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 70
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 24
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 16
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 8
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 6
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 abstract description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/542—Controlling the film thickness or evaporation rate
- C23C14/543—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on the vapor source
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明公开了一种蒸发镀膜装置及蒸发镀膜系统，涉及蒸发镀膜技术领域，包括蒸发组件、探测组件及第一旋转机构；蒸发组件用于设置于工件下方，用于对镀膜材料进行加热蒸发；探测组件固定设置于蒸发组件上，探测组件用于探测镀膜材料的蒸发速率；第一旋转机构与蒸发组件连接，第一旋转机构用于驱动蒸发组件和探测组件同步绕一轴线相对于工件旋转。本发明提供的蒸发镀膜装置及蒸发镀膜系统，便于对蒸发镀膜过程进行控制，有助于提升镀膜效果。
Description
技术领域
本发明涉及蒸发镀膜技术领域，特别是涉及一种蒸发镀膜装置及蒸发镀膜系统。
背景技术
有机发光二极管器件(OLED)较传统的液晶显示器件(LCD)相比，具有自发光、轻薄、对比度高、视角广、色彩艳丽等特点。此外，OLED器件厚度远小于LCD器件厚度，可制成弯折、曲面、卷曲等多种形态，突破屏幕的传统形式，广泛应用于穿戴设备；在硅基OLED行业中，经常使用到点蒸发源，对硅基或者玻璃基的产品进行镀膜，每个腔室使用到的点蒸发源通常位置固定不动，通过控制工件旋转，实现对工件的镀膜，但是仅通过控制工件旋转，仍可能存在镀膜不均匀的情形，不便于进行控制，灵活性较差。
发明内容
本发明的目的是提供一种蒸发镀膜装置及蒸发镀膜系统，以解决上述现有技术存在的问题，便于对蒸发镀膜过程进行控制，有助于提升镀膜效果。
为实现上述目的，本发明提供了如下方案：
本发明提供一种蒸发镀膜装置，包括蒸发组件、探测组件及第一旋转机构；蒸发组件用于设置于工件下方，用于对镀膜材料进行加热蒸发；探测组件固定设置于所述蒸发组件上，所述探测组件用于探测所述镀膜材料的蒸发速率；第一旋转机构与所述蒸发组件连接，所述第一旋转机构用于驱动所述蒸发组件和所述探测组件同步绕一轴线相对于所述工件旋转。
优选地，所述蒸发组件用于靠近所述工件的周向边缘设置；所述蒸发组件包括支撑壳和多个蒸发源，所述支撑壳内具有蒸发腔，所述支撑壳上侧面和靠近所述工件轴线的一周侧面设置为连通所述蒸发腔的开口；多个所述蒸发源设置于所述蒸发腔底部，所述探测组件固定设置于所述蒸发腔侧壁并置于所述蒸发源上方；所述支撑壳底壁与所述第一旋转机构固定连接。
优选地，还包括调节组件，所述调节组件设置于所述蒸发腔内，所述调节组件与所述蒸发源固定连接，并用于调节所述蒸发源在竖向上的倾斜角度。
优选地，所述调节组件包括的多个伸缩机构，各所述蒸发源活动设置于所述蒸发腔底部，且所述蒸发源沿周向设置有多个所述伸缩机构，所述伸缩机构用于调整自身长度以调整对应所述蒸发源在竖向上的倾斜角度。
优选地，所述探测组件包括至少一个晶振探测器。
优选地，所述第一旋转机构包括设置于所述工件正下方的第一驱动齿轮和第一周向导轨，所述第一周向导轨同轴套设于所述第一驱动齿轮外周，所述蒸发组件滑动设置于所述周向导轨上并与所述第一驱动齿轮固定连接；所述第一驱动齿轮用于在外部驱动的作用下旋转，并驱动所述蒸发组件在所述第一周向导轨的导向下旋转。
优选地，所述第一旋转机构包括第二驱动齿轮和传动齿轮，所述传动齿轮设置于所述工件正下方，所述第二驱动齿轮与所述传动齿轮外周啮合连接，所述蒸发组件固定设置于所述传动齿轮上；所述第二驱动齿轮用于在外部驱动的作用下旋转，并驱动所述传动齿轮带动所述蒸发组件旋转。
优选地，所述第一旋转机构包括设置于所述工件正下方的摆臂机构和第二周向导轨，所述第二周向导轨同轴套设于所述摆臂机构外周，所述蒸发组件滑动设置于所述第二周向导轨上，且所述摆臂机构的活动端与所述蒸发组件连接，所述摆臂机构用于驱动所述蒸发组件所述第二周向导轨的导向下旋转。
本发明还提供一种蒸发镀膜系统，包括：第二旋转机构，所述第二旋转机构用于固定工件，并驱动所述工件旋转；及如上所述的蒸发镀膜装置；所述蒸发镀膜装置设置于所述工件正下方。
本发明相对于现有技术取得了以下技术效果：
本发明提供的蒸发镀膜装置，通过第一旋转机构驱动蒸发组件绕一轴线在工件下方相对于工件旋转，使镀膜材料能够均匀蒸发至工件上，配合工件在第二旋转机构作用下的自身旋转，使蒸发组件和工件均能够旋转，此外，由于探测组件固定设置于蒸发组件上并随蒸发组件同步旋转，配合探测组件能够监测蒸发组件上镀膜材料的蒸发速率，能够根据蒸发速率能够调控蒸发组件的旋转速率以及工件的旋转速率，便于对镀膜过程进行控制以提升工件的镀膜效果。
本发明提供的蒸发镀膜系统，通过第一旋转机构驱动蒸发组件绕一轴线在工件下方相对于工件旋转，使镀膜材料能够均匀蒸发至工件上，配合工件在第二旋转机构作用下的自身旋转，配合探测组件能够监测蒸发组件上镀膜材料的蒸发速率，能够根据蒸发速率能够调控蒸发组件的旋转速率以及工件的旋转速率，便于对镀膜过程进行控制以提升工件的镀膜效果。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为实施例一提供的蒸发镀膜装置的俯视示意图；
图2为实施例一提供的蒸发组件的正视示意图；
图3为实施例一提供的调节组件的结构示意图；
图4为实施例二提供的蒸发镀膜装置的俯视示意图；
图5为实施例三提供的蒸发镀膜装置的俯视示意图；
图6为实施例四提供的蒸发镀膜系统的蒸发组件和工件的位置示意图。
图中：100-第二旋转机构；200-工件；300-蒸发镀膜装置；10-蒸发组件；11-支撑壳；12-蒸发源；13-蒸发腔；20-探测组件；30-第一旋转机构；31-第一驱动齿轮；32-第一周向导轨；33-第二驱动齿轮；34-传动齿轮；35-摆臂机构；36-第二周向导轨；40-调节组件；41-伸缩机构。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明的目的是提供一种蒸发镀膜装置及蒸发镀膜系统，以解决上述现有技术存在的问题，便于对蒸发镀膜过程进行控制，有助于提升镀膜效果。
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
实施例一
本发明提供一种蒸发镀膜装置300，请参见图1和图2，包括蒸发组件10、探测组件20及第一旋转机构30；蒸发组件10用于设置于工件200下方，用于对镀膜材料进行加热蒸发；探测组件20固定设置于蒸发组件10上，探测组件20用于探测镀膜材料的蒸发速率；第一旋转机构30与蒸发组件10连接，第一旋转机构30用于驱动蒸发组件10和探测组件20同步绕一轴线相对于工件200旋转。
通过第一旋转机构30驱动蒸发组件10绕一轴线在工件200下方相对于工件200旋转，使镀膜材料能够均匀蒸发至工件200上，配合工件200在第二旋转机构30作用下的自身旋转，使蒸发组件10和工件200均能够旋转，此外，由于探测组件20固定设置于蒸发组件10上并随蒸发组件10同步旋转，配合探测组件20能够监测蒸发组件10上镀膜材料的蒸发速率，能够根据蒸发速率能够调控蒸发组件10的旋转速率以及工件200的旋转速率，便于对镀膜过程进行控制以提升工件200的镀膜效果。
本实施例的可选方案中，较为优选地，请参见图1、图2和图6，蒸发组件10用于靠近工件200的周向边缘设置；蒸发组件10包括支撑壳11和多个蒸发源12，支撑壳11内具有蒸发腔13，支撑壳11上侧面和靠近工件200轴线的一周侧面设置为连通蒸发腔13的开口；多个蒸发源12设置于蒸发腔13底部，探测组件20固定设置于蒸发腔13侧壁并置于蒸发源12上方，便于对蒸发源12蒸发出的镀膜材料进行探测；支撑壳11底壁与第一旋转机构30连接；通过将蒸发组件10设置工件的周向边缘，且支撑壳11的上侧面和靠近工件中轴线的周侧面开口，蒸发腔13内的镀膜材料能够从向工件的边缘和中间散发实现全覆盖镀膜；具体地，蒸发源12可设置为点蒸发源，且设置多个，且多个蒸发源12可按需求设置为相同尺寸功率，或者不同尺寸功率；具体地，蒸发源12型号可选用LTC250CC、LTC100CC、LTC40CC、HTC250CC、HTC100CC或者40CC等。
本实施例的可选方案中，较为优选地，本实施例提供的蒸发镀膜装置300还包括调节组件40，调节组件40设置于蒸发腔13内，调节组件40与蒸发源12固定连接，并用于调节蒸发源12在竖向上的倾斜角度，通过调节蒸发源12的倾斜角度，能够调节镀膜角度，以更好的对工件200进行镀膜。
本实施例的可选方案中，较为优选地，请参见图3，调节组件40包括的多个伸缩机构41，各蒸发源12活动设置于蒸发腔13底部，且蒸发源12沿周向设置有多个伸缩机构41，伸缩机构41用于调整自身长度以调整对应蒸发源12在竖向上的倾斜角度；具体地，各蒸发源12沿周向可设置两个或三个伸缩机构41，各伸缩机构41前端通过铰接头与蒸发源12连接并夹持，且不同伸缩机构41与蒸发源12上不同高度位置连接，如各蒸发源12周向的伸缩机构41可沿不同高度水平设置，或者通过支座使各伸缩机构41的轴线倾斜固定，如此通过伸缩机构41之间的伸缩配合实现蒸发源12倾斜角度的调整；具体地，伸缩机构41可设置为电动伸缩杆，便于进行控制。
本实施例的可选方案中，较为优选地，探测组件20包括至少一个晶振探测器；进一步地，可设置为多个晶振探测器，以提升探测精度；具体地，晶振探测器可采用型号inficoncrystal 6或crystal 12的探测器。
本实施例的可选方案中，较为优选地，请参见图1，第一旋转机构30包括设置于工件200正下方的第一驱动齿轮31和第一周向导轨32，第一周向导轨32同轴套设于第一驱动齿轮31外周，蒸发组件10滑动设置于第一周向导轨32上并与第一驱动齿轮31固定连接；第一驱动齿轮31用于在外部驱动的作用下旋转，并驱动蒸发组件10在第一周向导轨32的导向下旋转；具体地，蒸发组件10的支撑壳11底部可设置与第一周向导轨32配合的滑槽，滑槽滑动套设于第一周向导轨32外，第一周向导轨32上表面内周和外周和设置两条周向轨道，对应地，蒸发组件10的支撑壳11底部设置两个滑槽。
实施例二
本实施例提供一种蒸发镀膜装置300，请参见图4，与实施例一提供的蒸发镀膜装置300区别在于：第一旋转机构30包括第二驱动齿轮33和传动齿轮34，传动齿轮34设置于工件200正下方，第二驱动齿轮33与传动齿轮34外周啮合连接，蒸发组件10固定设置于传动齿轮34上；第二驱动齿轮33用于在外部驱动如外部电机的作用下旋转，并驱动传动齿轮34带动蒸发组件10旋转；其中传动齿轮34可转动设置于真空腔室内底部，便于带动蒸发组件10转动。
本实施例提供的蒸发镀膜装置300的其他结构与实施例一相同，在此不做过多赘述。
实施例三
本实施例提供一种蒸发镀膜装置300，请参见图5，与实施例一提供的蒸发镀膜装置300区别在于：第一旋转机构30包括设置于工件200正下方的摆臂机构35和第二周向导轨36，第二周向导轨36同轴套设于摆臂机构35外周，蒸发组件10滑动设置于第二周向导轨36上，且摆臂机构35的活动端与蒸发组件10连接，摆臂机构35用于驱动蒸发组件10第二周向导轨36的导向下旋转；通过摆臂机构35驱动蒸发组件10在第二周向导轨36的导向下的进行旋转；具体地，摆臂机构35设置为常规的旋转摆臂机构，蒸发组件10的支撑壳11底部可设置与第二周向导轨36配合的滑槽，滑槽滑动套设于第二周向导轨36外；其中第二周向导轨36固定设置于真空腔室底部。
本实施例提供的蒸发镀膜装置300的其他结构与实施例一相同，在此不做过多赘述。
实施例四
本实施例提供一种蒸发镀膜系统，包括第二旋转机构100和如权利要求1-8任一项的蒸发镀膜装置300，第二旋转机构用于固定工件200，并驱动工件200旋转；蒸发镀膜装置300设置于工件200正下方；其中整个蒸发镀膜系统可设置于真空腔室中，便于对工件进行镀膜；具体地，第二旋转机构100可设置为旋转电机。
进一步地，可设置控制部件，与整个蒸发镀膜系统进行通信连接，并对蒸发组件10、探测组件20、第一旋转机构30和第二旋转机构100进行控制，便于实现自动镀膜控制。
本发明中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处。综上，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。
Claims (9)
1.一种蒸发镀膜装置，其特征在于：包括：
蒸发组件(10)，用于设置于工件(200)下方，用于对镀膜材料进行加热蒸发；
探测组件(20)，固定设置于所述蒸发组件(10)上，所述探测组件(20)用于探测所述镀膜材料的蒸发速率；及
第一旋转机构(30)，与所述蒸发组件(10)连接，所述第一旋转机构(30)用于驱动所述蒸发组件(10)和所述探测组件(20)同步绕一轴线相对于所述工件(200)旋转。
2.根据权利要求1所述的蒸发镀膜装置，其特征在于：所述蒸发组件(10)用于靠近所述工件(200)的周向边缘设置；所述蒸发组件(10)包括支撑壳(11)和多个蒸发源(12)，所述支撑壳(11)内具有蒸发腔(13)，所述支撑壳(11)上侧面和靠近所述工件(200)轴线的一周侧面设置为连通所述蒸发腔(13)的开口；多个所述蒸发源(12)设置于所述蒸发腔(13)底部，所述探测组件(20)固定设置于所述蒸发腔(13)侧壁并置于所述蒸发源(12)上方；所述支撑壳(11)底壁与所述第一旋转机构(30)连接。
3.根据权利要求2所述的蒸发镀膜装置，其特征在于：还包括调节组件(40)，所述调节组件(40)设置于所述蒸发腔(13)内，所述调节组件(40)与所述蒸发源(12)固定连接，并用于调节所述蒸发源(12)在竖向上的倾斜角度。
4.根据权利要求3所述的蒸发镀膜装置，其特征在于：所述调节组件(40)包括的多个伸缩机构(41)，各所述蒸发源(12)活动设置于所述蒸发腔(13)底部，且所述蒸发源(12)沿周向设置有多个所述伸缩机构(41)，所述伸缩机构(41)用于调整自身长度以调整对应所述蒸发源(12)在竖向上的倾斜角度。
5.根据权利要求2所述的蒸发镀膜装置，其特征在于：所述探测组件(20)包括至少一个晶振探测器。
6.根据权利要求1所述的蒸发镀膜装置，其特征在于：所述第一旋转机构(30)包括设置于所述工件(200)正下方的第一驱动齿轮(31)和第一周向导轨(32)，所述第一周向导轨(32)同轴套设于所述第一驱动齿轮(31)外周，所述蒸发组件(10)滑动设置于所述第一周向导轨(32)上并与所述第一驱动齿轮(31)固定连接；所述第一驱动齿轮(31)用于在外部驱动的作用下旋转，并驱动所述蒸发组件(10)在所述第一周向导轨(32)的导向下旋转。
7.根据权利要求1所述的蒸发镀膜装置，其特征在于：所述第一旋转机构(30)包括第二驱动齿轮(33)和传动齿轮(34)，所述传动齿轮(34)设置于所述工件(200)正下方，所述第二驱动齿轮(33)与所述传动齿轮(34)外周啮合连接，所述蒸发组件(10)固定设置于所述传动齿轮(34)上；所述第二驱动齿轮(33)用于在外部驱动的作用下旋转，并驱动所述传动齿轮(34)带动所述蒸发组件(10)旋转。
8.根据权利要求1所述的蒸发镀膜装置，其特征在于：所述第一旋转机构(30)包括设置于所述工件(200)正下方的摆臂机构(35)和第二周向导轨(36)，所述第二周向导轨(36)同轴套设于所述摆臂机构(35)外周，所述蒸发组件(10)滑动设置于所述第二周向导轨(36)上，且所述摆臂机构(35)的活动端与所述蒸发组件(10)连接，所述摆臂机构(35)用于驱动所述蒸发组件(10)所述第二周向导轨(36)的导向下旋转。
9.一种蒸发镀膜系统，其特征在于：包括：第二旋转机构(100)，所述第二旋转机构用于固定工件(200)，并驱动所述工件(200)旋转；及
如权利要求1-8任一项所述的蒸发镀膜装置(300)；所述蒸发镀膜装置(300)设置于所述工件(200)正下方。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202410281572.5A CN118147582A (zh) | 2024-03-13 | 2024-03-13 | 蒸发镀膜装置及蒸发镀膜系统 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202410281572.5A CN118147582A (zh) | 2024-03-13 | 2024-03-13 | 蒸发镀膜装置及蒸发镀膜系统 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN118147582A true CN118147582A (zh) | 2024-06-07 |
Family
ID=91284702
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202410281572.5A Pending CN118147582A (zh) | 2024-03-13 | 2024-03-13 | 蒸发镀膜装置及蒸发镀膜系统 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN118147582A (zh) |
-
2024
- 2024-03-13 CN CN202410281572.5A patent/CN118147582A/zh active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN107829069B (zh) | 用于基材的真空涂覆的盒式涂覆装置 | |
| US4548698A (en) | Equipment for producing coatings having a rotationally symmetric thickness profile by cathodic evaporation | |
| WO2023024321A1 (zh) | 多室真空磁控溅射镀膜装置 | |
| CN107774479B (zh) | 一种外防热涂层自动喷涂设备及其喷涂方法 | |
| US4816133A (en) | Apparatus for preparing thin film optical coatings on substrates | |
| CN110836763A (zh) | 一种柔性显示面板的检测调节装置 | |
| CN110760808B (zh) | 一种曲面屏磁控溅射组件 | |
| CN107142456B (zh) | 一种双功能柱对称大尺寸高均匀性线型磁控靶镀膜设备 | |
| CN118147582A (zh) | 蒸发镀膜装置及蒸发镀膜系统 | |
| CN110438459A (zh) | 一种卧式真空镀膜机 | |
| US3783821A (en) | Planetary workholders | |
| CN113463057A (zh) | 一种实现圆柱体外表面光学镀膜的磁控溅射装置及方法 | |
| CN208494698U (zh) | 一种涂料喷枪支架 | |
| CN209178472U (zh) | 真空镀膜机 | |
| CN111730610A (zh) | 一种自动拍摄视频的机械臂 | |
| CN208501166U (zh) | 一种用于纺机的大带轮 | |
| CN215281398U (zh) | 一种板材用具有调节功能的双面抛光装置 | |
| CN115261808A (zh) | 多维旋转工件架及具有该多维旋转工件架的真空镀膜机 | |
| CN112045573A (zh) | 一种喷涂工装和喷涂方法 | |
| CN209469978U (zh) | 指挥中心用可微调位置的监视墙 | |
| CN219694941U (zh) | 一种锂电池涂碳箔导电涂层检测装置 | |
| CN220861827U (zh) | 一种船体表面多枪涂装作业机器人 | |
| CN217050916U (zh) | 一种纸箱加工用便于调节张力的覆膜机覆膜机构 | |
| CN221540159U (zh) | 一种钧瓷生产用上色装置 | |
| CN212293782U (zh) | 一种光电子金属外壳表面镀膜喷头 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination |