CN118092099A - 电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。提供的是一种电子照相感光构件，其中在低温低湿环境中的长期使用中可以抑制条纹状图像缺陷。一种电子照相感光构件，其具有包含聚芳酯和聚碳酸酯的表面层，其中所述聚芳酯具有选自由下式(1‑1)表示的结构单元、下式(1‑2)表示的结构单元和下式(1‑3)表示的结构单元组成的组中的至少一种结构单元，和所述聚碳酸酯具有下式(2‑1)表示的结构单元。

Description

电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备
技术领域
本公开涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。
背景技术
为了长期使用时的图像品质改善，迄今为止已对电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备进行了广泛研究。
作为实例，日本专利号04862663公开了在感光层中含有具有特定骨架的聚芳酯和聚碳酸酯的电子照相感光构件(下文中也称为“感光构件”)能够提高针对感光构件上的负荷的耐磨耗性和耐划痕性。然而，在表面上形成了细微的凹凸，推测这是因为两种树脂难以均匀地分散在层中。推测这种结构起到减少与外部物质的接触面积的作用。
发明内容
然而，作为本发明人在低温低湿环境中长时间使用日本专利号04862663中描述的感光构件的结果，出现了由于划痕导致的条纹状图像缺陷。关于其原因，发现在接触构件与感光构件的表面层的摩擦部分，调色剂中所含有的外部添加剂、纸粉或其它硬异物被接触构件捕获，并以此作为起点产生划痕。作为在低温低湿环境中观察到这种现象的原因，接触构件本身由于低温的影响而变硬被认为是一个原因。
因此，本发明人着眼于构成电子照相感光构件的表面层的树脂，结果发现，使用其中已将具有特定结构的聚芳酯和聚碳酸酯混合在一起的表面层提高对外部冲击的耐划痕性，并达成本发明。
因此，本发明的目的在于提供电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备，其中选择对外部冲击具有高耐划痕性的树脂并抑制图像缺陷。
上述目的是通过如下的本发明而实现的。即，本发明的第一方面是一种电子照相感光构件，其具有包含聚芳酯和聚碳酸酯的表面层，其中所述聚芳酯具有选自由下式(1-1)表示的结构单元、下式(1-2)表示的结构单元和下式(1-3)表示的结构单元组成的组中的至少一种结构单元，和所述聚碳酸酯具有下式(2-1)表示的结构单元。
此外，第二方面是一种电子照相感光构件，其具有包含聚芳酯和聚碳酸酯的表面层，其中，在从所述表面层回收的高分子组分的组分分析中，所述聚芳酯具有在TMAH共存下的热解气相色谱-质谱中TIC具有检测到m/z＝242和m/z＝227的组分的MS谱的峰和具有在使用重氢氯仿的1H-NMR谱中在2.40±0.02ppm和2.35±0.02ppm处的峰，和所述聚碳酸酯具有在TMAH共存下的热解气相色谱-质谱中TIC具有检测到m/z＝242和m/z＝227的组分的MS谱的峰和具有在使用重氢氯仿的1H-NMR谱中在2.40±0.02ppm处的峰。
此外，根据本发明的处理盒是一体化地支承电子照相感光构件和选自由充电单元、显影单元和清洁单元组成的组中的至少一种单元的处理盒，并且所述处理盒可拆卸地安装至电子照相设备的主体。
此外，本发明是一种电子照相设备，其具有电子照相感光构件、充电单元、曝光单元、显影单元和转印单元。
参照附图，从以下示例性实施方案的描述，本发明的进一步特征将变得显而易见。
附图说明
图1是示出了根据本发明的电子照相感光构件的层构造的实例的图。
图2示出了本发明的电子照相设备和处理盒的示意性构造的实例。
具体实施方式
现在将依照附图详细描述本发明的优选实施方案。
下文中，将结合优选实施方案详细描述本公开。
在本发明的第一方面，聚芳酯具有选自由式(1-1)表示的结构单元、式(1-2)表示的结构单元和式(1-3)表示的结构单元组成的组中的至少一种结构单元，和聚碳酸酯具有下式(2-1)表示的结构单元，从而提高表面层的耐划痕性。
本发明人推测其原因如下。
通常，在打印期间，硬异物被捕获在感光构件的表面层和例如纸或与表面层接触的构件等接触构件之间，表面层受到外部冲击，形成划痕。关于此时如何接受外部冲击，有两种作用。第一种是外部冲击在与表面层平行的方向上缓慢摩擦表面层的表面从而形成划痕的作用，第二种是外部冲击在垂直方向上瞬时产生孔并且所述孔生长从而形成划痕的作用。
根据本发明的聚芳酯在针对平行方向上的摩擦的耐划痕性方面强于根据本发明的聚碳酸酯，但在针对垂直方向上的冲击方面弱于根据本发明的聚碳酸酯。另一方面，本发明的聚碳酸酯在针对平行方向上的摩擦的耐划痕性方面弱于根据本发明的聚芳酯，但在针对垂直方向上的冲击方面强于根据本发明的聚芳酯。此外，推测本发明的电子照相感光构件在表面层中含有根据本发明的聚芳酯和聚碳酸酯，由此，由于连接至芳香环的甲基的作用，使树脂之间的缠结(entanglement)增强，可以吸收外部冲击，并进一步提高耐划痕性。因此，通常，推测针对外部冲击，表面层变强并且表现出高耐划痕性。
然后，将具体描述根据本公开的一个方面的电子照相感光构件。
[电子照相感光构件]
本发明的电子照相感光构件具有表面层。图1是示出电子照相感光构件的层构造的实例的图。在图1中，底涂层103、电荷产生层102和电荷输送层(表面层)101以该顺序层叠在支承体104上。
电子照相感光构件的制造方法的实例包括制备后述各层的涂布液、以期望的层顺序进行涂布并干燥的方法。此时，涂布液的涂布方法的实例包括浸渍涂布(dip coating)、喷涂(spray coating)、喷墨涂布(inkjet coating)、辊涂(roll coating)、模涂(diecoating)、刮刀涂布(blade coating)、帘涂(curtain coating)、线棒涂布(wire barcoating)和环涂(ring coating)。其中，从效率性和生产性的观点，优选浸渍涂布。
下文中，将描述每一层。
<支承体>
支承体优选是导电性支承体。此外，支承体的形状的实例包括圆筒状、带状和片状。其中，优选圆筒状支承体。此外，在支承体的外表面上，可以进行喷砂处理或切削处理，或者可以进行例如阳极氧化(anodization)等电化学处理以产生氧化膜。作为支承体的材料，优选金属、树脂或玻璃。
金属的实例包括铝、铁、镍、铜、金、不锈钢、及其合金。其中，优选使用铝的铝支承体，更优选在外表面上具有氧化膜的铝合金。氧化膜能够抑制来自支承体的电荷的注入，由此带电稳定性高。
此外，可以通过将树脂或玻璃与导电性材料等混合或者用导电性材料等涂覆的处理来赋予导电性。
<导电层>
可以在支承体上设置导电层。所设置的导电层能够遮蔽支承体的表面上的划痕或凹凸，或者能够控制支承体的表面上光的反射。
导电层优选包含导电性颗粒和树脂。
导电性颗粒的材料的实例包括金属氧化物、金属和炭黑。
金属氧化物的实例包括氧化锌、氧化铝、氧化铟、氧化硅、氧化锆、氧化锡、氧化钛、氧化镁、氧化锑和氧化铋。金属的实例包括铝、镍、铁、铬、铜、锌和银。
其中，作为导电性颗粒，优选使用金属氧化物，并且，特别地，更优选使用氧化钛、氧化锡和氧化锌。
在将金属氧化物用作导电性颗粒的情况下，金属氧化物的表面可以用硅烷偶联剂等进行处理，或者可以将例如磷或铝等元素或其氧化物掺杂至金属氧化物中。
此外，导电性颗粒可以设置有具有核颗粒和涂覆所述颗粒的涂覆层的层叠构造。核颗粒的实例包括氧化钛、硫酸钡和氧化锌。涂覆层的实例包括例如氧化锡等金属氧化物。
此外，在使用金属氧化物作为导电性颗粒的情况下，其体积平均粒径优选为1nm至500nm，更优选3nm至400nm。
树脂的实例包括聚乙烯醇缩醛树脂、丙烯酸系树脂、硅酮树脂、环氧树脂、三聚氰胺树脂、聚氨酯树脂、酚醛树脂和醇酸树脂。
此外，导电层可以进一步包含掩蔽剂，例如硅油、树脂颗粒或氧化钛等。
导电层的平均膜厚度优选为1μm至50μm，特别优选3μm至40μm。
导电层可以通过制备含有上述各材料和溶剂的导电层用涂布液、形成其涂膜并将该涂膜干燥来形成。用于涂布液中的溶剂的实例包括醇系溶剂、亚砜系溶剂、酮系溶剂、醚系溶剂、酯系溶剂和芳香族烃系溶剂。用于将导电性颗粒分散在导电层用涂布液中的分散方法的实例包括其中使用油漆搅拌器(paint shaker)、砂磨机、球磨机或液体碰撞型高速分散机的方法。
<底涂层>
可以在支承体或导电层上设置底涂层。所设置的底涂层能够提高层间的粘接功能，或者能够赋予电荷注入阻止功能。
底涂层优选包含树脂。此外，底涂层可以通过使包含具有聚合性官能团的单体的组合物聚合而形成为固化膜。
树脂的实例包括聚乙烯醇缩醛树脂、丙烯酸系树脂、环氧树脂、三聚氰胺树脂、聚氨酯树脂、酚醛树脂、聚乙烯基酚醛树脂(polyvinylphenol resin)、醇酸树脂、聚乙烯醇树脂、聚环氧乙烷树脂、聚环氧丙烷树脂、聚酰胺树脂、聚酰胺酸树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺酰亚胺树脂和纤维素树脂。
具有聚合性官能团的单体中的聚合性官能团的实例包括异氰酸酯基团、封端异氰酸酯基团、羟甲基(methylol group)、烷基化羟甲基、环氧基、金属醇盐基团、羟基、氨基、羧基、硫醇基、羧酸酸酐基团和碳-碳双键基团。
此外，出于提高电特性的目的，底涂层可以进一步包含电子输送物质、金属氧化物、金属或导电性高分子。其中，优选使用电子输送物质和金属氧化物。
电子输送物质的实例包括醌化合物、酰亚胺化合物、苯并咪唑化合物、亚环戊二烯基(cyclopentadienylidene)化合物、芴酮化合物、呫吨酮(xanthone)化合物、二苯甲酮化合物、氰基乙烯基化合物、卤代芳基化合物、噻咯(silole)化合物和含硼化合物。底涂层可以通过使用具有聚合性官能团的电子输送物质作为电子输送物质、并使电子输送物质与具有上述聚合性官能团的单体共聚而形成为固化膜。
金属氧化物的实例包括氧化铟锡、氧化锡、氧化铟、氧化钛、氧化锌、氧化铝和二氧化硅。金属的实例包括金、银和铝。
此外，底涂层可以进一步包含添加剂。
底涂层的平均膜厚度优选为0.1μm至50μm，更优选0.2μm至40μm，特别优选0.3μm至30μm。
底涂层可以通过制备包含上述各材料和溶剂的底涂层用涂布液、形成其涂膜、将该涂膜干燥和/或固化来形成。用于涂布液中的溶剂的实例包括醇系溶剂、酮系溶剂、醚系溶剂、酯系溶剂和芳香族烃系溶剂。
<感光层>
电子照相感光构件的感光层设置在支承体、导电层或底涂层上，并且主要分类为(1)层叠型感光层和(2)单层型感光层。(1)层叠型感光层具有包含电荷产生物质的电荷产生层和包含电荷输送物质的电荷输送层。(2)单层型感光层具有同时包含电荷产生物质和电荷输送物质的感光层。
(1)层叠型感光层
层叠型感光层具有电荷产生层和电荷输送层。
(1-1)电荷产生层
电荷产生层优选包含电荷产生物质和树脂。
电荷产生物质的实例包括偶氮颜料、苝颜料、多环醌颜料、靛蓝颜料和酞菁颜料。其中，优选偶氮颜料和酞菁颜料。在酞菁颜料中，优选氧钛酞菁颜料、氯镓酞菁颜料和羟基镓酞菁颜料。
电荷产生层中的电荷产生物质的含量相对于电荷产生层的总质量优选为40质量％至85质量％，更优选60质量％至80质量％。
树脂的实例包括聚芳酯、聚碳酸酯、聚乙烯醇缩乙醛树脂、聚乙烯醇缩丁醛树脂、丙烯酸系树脂、硅酮树脂、环氧树脂、三聚氰胺树脂、聚氨酯树脂、酚醛树脂、聚乙烯醇树脂、纤维素树脂、聚苯乙烯树脂、聚醋酸乙烯酯树脂和聚氯乙烯树脂。其中，更优选聚乙烯醇缩丁醛树脂。
此外，电荷产生层可以进一步包含例如抗氧化剂或紫外线吸收剂等添加剂。具体实例包括受阻酚化合物、受阻胺化合物、硫化合物、磷化合物和二苯甲酮化合物。
电荷产生层的平均膜厚度优选为0.1μm至0.8μm，更优选0.15μm至0.4μm。
电荷产生层可以通过制备含有上述各材料和溶剂的电荷产生层用涂布液、形成其涂膜并将该涂膜干燥来形成。用于涂布液中的溶剂的实例包括醇系溶剂、亚砜系溶剂、酮系溶剂、醚系溶剂、酯系溶剂和芳香族烃系溶剂。
(1-2)电荷输送层
电荷输送层优选包含电荷输送物质和树脂。
电荷输送物质的实例包括多环芳香族化合物、杂环化合物、腙化合物、苯乙烯基化合物、烯胺化合物、联苯胺化合物、三芳基胺化合物、和具有源自这些物质的基团的树脂。其中，优选三芳基胺化合物和联苯胺化合物，因为抑制黑点(bullet point)产生的效果高。
下文中，将示出优选的电荷输送物质。
[表1]
相对于电荷输送层的总质量，电荷输送层中的电荷输送物质的含量优选为25质量％至70质量％、更优选30质量％至55质量％。
树脂的实例包括聚芳酯、聚碳酸酯、丙烯酸系树脂和聚苯乙烯树脂。在电荷输送层用作表面层的情况下，这些之中，从耐划痕性的观点，电荷输送层需要包含具有根据本发明的结构的聚芳酯和聚碳酸酯。
下文中，将示出用于本发明的第一方面的树脂。
聚芳酯具有选自由下式(1-1)表示的结构单元、下式(1-2)表示的结构单元和下式(1-3)表示的结构单元组成的组中的至少一种结构单元，和
聚碳酸酯具有下式(2-1)表示的结构单元。
从耐划痕性的观点，根据本发明的表面层优选包含5摩尔％至40摩尔％的式(2-1)表示的结构单元，树脂之间的缠结增加以提高耐划痕性。
此外，根据本发明的聚碳酸酯包含20摩尔％至60摩尔％的式(2-1)表示的结构单元，从而树脂之间的缠结进一步增加以提高耐划痕性。
此外，本发明的第二方面是具有包含聚芳酯和聚碳酸酯的表面层的电子照相感光构件，
其中，在从表面层回收的高分子组分的组分分析中，
聚芳酯具有在四甲基氢氧化铵(TMAH)共存下的热解气相色谱-质谱中总离子色谱图(TIC)具有检测到m/z＝242和m/z＝227的组分的MS谱的峰和具有在使用重氢氯仿的1H-NMR谱中在2.40±0.02ppm和2.35±0.02ppm处的峰，和
聚碳酸酯具有在TMAH共存下的热解气相色谱-质谱中TIC具有检测到m/z＝242和m/z＝227的组分的MS谱的峰和具有在使用重氢氯仿的1H-NMR谱中在2.40±0.02ppm处的峰。
具有其中总离子色谱图(TIC)具有检测到m/z＝242和m/z＝227的组分的MS谱的峰和具有在使用重氢氯仿的1H-NMR谱中在2.40±0.02ppm处的峰表示具有式(2-1)表示的结构单元。
此外，具有其中总离子色谱图(TIC)具有检测到m/z＝242和m/z＝227的组分的MS谱的峰和具有在使用重氢氯仿的1H-NMR谱中在2.35±0.02ppm处的峰表示具有由下式(2-2)表示的结构单元。
因此，在具有上述谱图的情况下，表明聚芳酯至少具有式(2-1)和式(2-2)的结构，并且表明聚碳酸酯至少具有式(2-1)的结构。
即使在本发明的感光构件的表面层包含由式(1-3)表示的聚芳酯的情况下，也表现出上述谱图，由此显示出聚芳酯和聚碳酸酯两者混合的谱图。
电子照相感光构件具有包含聚芳酯和聚碳酸酯的表面层，并且聚芳酯和聚碳酸酯具有上述特有的谱图，由此提高了表面层的耐划痕性。推测聚芳酯具有式(2-1)的结构部分和与其类似的结构部分作为骨架，聚碳酸酯具有共同的式(2-1)的结构部分，由此增强了树脂之间的缠结，可以吸收外部冲击，并进一步提高耐划痕性。
下文中，将描述表面层的具体分析方法。
■感光构件表面层中的树脂的再沉淀
●切割感光构件
使用线锯在母线方向上在距离端部10cm的位置处切割感光构件。
●洗涤10cm切出部分的鼓内表面
使用用氯仿浸泡的silbon纸擦拭圆筒内表面。
●洗脱表面层
将切口侧的鼓端部3cm部分浸渍在氯仿中。
(将约60cc的氯仿倒入100mL烧杯中，将所述部分在室温下在其中浸渍5分钟。)
●浓缩(浓缩液化)
用旋转蒸发器进行浓缩，在将所述部分浓缩至2mL后停止。
●再沉淀
制备50mL的甲醇/丙酮液体混合物(体积比＝1:1)，在搅拌的同时滴加全部量的浓缩液。
●过滤
用赫氏漏斗进行抽吸过滤。
(漏斗：SU-40，滤纸：No.5C-40，全部由Kiriyama Glass Works Co.制造)●干燥
用刮刀回收滤纸上的残留物并在真空中干燥(70℃，1小时)。
■热解GCMS
设备构成：热解设备+气相色谱(GC)设备+质谱(MS)设备
热解设备：Japan Analytical Industry Co.,Ltd.制造的JPS-700
GC设备：Thermo Fisher Scientific,Inc.制造的FOCUS-GC
MS设备：Thermo Fisher Scientific,Inc.制造的ISQ
样品量：0.1mg(含有TMAH(Tama Chemicals Co.,Ltd.制造))
热解温度：590℃(使用Japan Analytical Industry Co.,Ltd.制造的PYROFOILF590)
柱：“HP5-MS”(Agilent Technologies International Japan,Ltd.制造的19091S-433，长度：30m，内径：0.25mm，膜厚度：0.25μm)
GC注入口条件：
入口温度：250℃
分流(split flow)：50mL/分钟
GC升温条件：40℃(5分钟)→10℃/分钟(300℃)→300℃(20分钟)
MS条件：
离子源温度：200℃
MS传输线温度：250℃
■NMR测量
●测量样品制备
将20mg的样品溶解于1g的含有作为标准物质的四甲基硅烷的重氢氯仿中，并将全部量移至NMR管。
(重氢氯仿：Sigma-Aldrich,Japan制造，氘代氯仿(chloroform-d)，型号：612200)
(NMR管：NORELL,Inc.制造，ST500-7，型号：S3010)
●NMR测量
设备：Bruker制造，AVANCE 500
条件：质子NMR，ICON-NMR自动测量
累积次数：32次
标准峰：将四甲基硅烷的甲基峰设定为0ppm。
■聚芳酯和聚碳酸酯的分级
使用能够分离和回收组分的分级设备如尺寸排阻色谱或高效液相色谱，从已对感光构件表面层中的树脂进行再沉淀的组分中对树脂进行分级。
电荷输送物质和树脂的含量比以质量比计优选为4:10至20:10，更优选5:10至10:10。
此外，电荷输送层可以包含添加剂，例如抗氧化剂、紫外线吸收剂、增塑剂、流平剂、滑动性赋予剂和耐磨耗性改进剂。
其具体实例包括受阻酚化合物、受阻胺化合物、硫化合物、磷化合物、二苯甲酮化合物、硅氧烷改性的树脂、硅油、氟树脂细颗粒、聚苯乙烯树脂颗粒、聚乙烯树脂颗粒、二氧化硅细颗粒、氧化铝细颗粒和氮化硼细颗粒。其中，从耐划痕性的观点，优选二氧化硅细颗粒，并且当体积平均粒径为0.1μm至0.5μm时，在本发明的电荷输送层中，易于吸收外部冲击，并且可以抑制划痕。
电荷输送层的平均膜厚度优选为5μm至50μm，更优选8μm至40μm，并且特别优选10μm至30μm。
电荷输送层可以通过制备含有上述各材料和溶剂的电荷输送层用涂布液、形成其涂膜并将该涂膜干燥来形成。用于涂布液中的溶剂的实例包括醇系溶剂、酮系溶剂、醚系溶剂、酯系溶剂和芳香族烃系溶剂。这些溶剂之中，优选醚系溶剂或芳香族烃系溶剂。
■体积平均粒径
颗粒的体积平均粒径的测量方法描述如下。
从层中分离颗粒，使用扫描电子显微镜(SEM)在100,000倍的倍率下观察100个二氧化硅一次颗粒，测定每个一次颗粒的最长直径和最短直径，并由其中间值来测定球当量直径(spherical equivalent diameter)。获得以所得球当量直径的累积频率计的50％直径(D50v)，并将其视作颗粒的体积平均粒径。
(2)单层型感光层
单层型感光层可以通过如下形成：制备含有电荷产生物质、电荷输送物质、树脂和溶剂的感光层用涂布液、形成其涂膜并将该涂膜干燥。电荷产生物质、电荷输送物质和树脂与“(1)层叠型感光层”部分中例示的材料的相同。
<保护层>
在保护层是表面层的情况下，保护层包含根据本发明的树脂。
保护层可以包含添加剂，例如抗氧化剂、紫外线吸收剂、增塑剂、流平剂、滑动性赋予剂、耐划痕/耐磨耗性改进剂或聚合反应引发剂。
其具体实例包括受阻酚化合物、受阻胺化合物、硫化合物、磷化合物、二苯甲酮化合物、硅氧烷改性的树脂、硅油、氟树脂细颗粒、聚苯乙烯树脂细颗粒、聚乙烯树脂细颗粒、二氧化硅细颗粒、氧化铝细颗粒、氮化硼细颗粒、氧化钛、氧化锌、氧化锡和氧化铟。其中，从耐划痕性的观点，优选二氧化硅细颗粒，并且当体积平均粒径为0.1μm至0.5μm时，在本发明的保护层中，易于吸收外部冲击，并且可以抑制划痕。
此外，可以向其添加硅氧烷树脂或电荷输送物质。电荷输送物质的实例包括三芳基胺化合物、腙化合物、芪(stilbene)化合物、吡唑啉化合物、噁唑化合物、噻唑化合物和三芳基甲烷化合物。保护层的平均膜厚度优选为0.5μm至10μm，并且优选1μm至7μm。在涂布上述各层用涂布液时，可以使用例如浸渍涂布法(浸渍法)、喷涂法、旋涂法、珠涂法、刮刀涂布法或射束涂布法(beam coating method)等涂布方法。
[处理盒和电子照相设备]
根据本公开的一个方面的处理盒一体化地支承上述电子照相感光构件和选自由充电单元、显影单元和清洁单元组成的组中的至少一种单元，并且可拆卸地安装至电子照相设备主体。
此外，根据本公开的一个方面的电子照相设备具有至少具有电子照相感光构件和充电构件的处理盒、以及选自由曝光单元、显影单元、和转印单元组成的组中的至少一种。
图2示出处理盒21和具有处理盒21的电子照相设备的示意性构成的实例。
使圆筒状电子照相感光构件11围绕轴12在箭头方向上以预定的圆周速度旋转驱动。由充电单元13使电子照相感光构件11的表面带电为预定的正或负电位。在本实施方案中，充电单元13可以采用其中使用辊型充电构件的辊充电方法。用来自曝光单元(未示出)的曝光光14照射带电的电子照相感光构件11的表面，形成对应于目标图像信息的静电潜像。通过供给容纳在显影单元15中的调色剂使形成在电子照相感光构件11的表面上的静电潜像显影，并且在电子照相感光构件11的表面上形成调色剂图像。由转印单元16将形成在电子照相感光构件11的表面上的调色剂图像转印至转印材料17。将其上已转印有调色剂图像的转印材料17输送至定影单元18，进行调色剂图像的定影处理并打印至电子照相设备的外部。电子照相设备可以具有用于除去例如转印后的电子照相感光构件11的表面上残留的调色剂等附着物的清洁单元19。清洁单元优选为具有聚氨酯树脂的清洁刮板。此外，也可以使用所谓的无清洁器系统，其中不单独设置清洁单元，并且由显影单元等除去附着物。电子照相设备可以具有用来自预曝光单元(未示出)的预曝光光20对电子照相感光构件11的表面进行除电处理的除电机构。此外，可以设置例如导轨等引导单元22，以使根据本公开的一个方面的处理盒21可拆卸地安装至电子照相设备主体。
根据本公开的一个方面的电子照相感光构件可以用于激光束打印机、LED打印机、复印机、传真机和其复合机中。
根据本发明，可以提供一种电子照相感光构件，其中所述电子照相感光构件的表面层具有高耐划痕性，由此在低温低湿环境中长期使用的过程中，可以抑制条纹状图像缺陷。
[实施例]
以下，将使用实施例和比较例更详细地描述根据本公开的处理盒和电子照相设备。本公开不限于以下实施例所体现的构成。除非另外特别说明，否则在以下实施例的描述中，“份”以质量为基准。
<聚芳酯A1的生产例>
将100.00质量份的以下结构式(B-1)作为二元酚组分、1.77质量份的对叔丁基苯酚(PTBP)作为封端剂、34.67质量份的氢氧化钠(NaOH)作为碱、1.04质量份的三正丁基苄基氯化铵(TBBAC)的50质量％水溶液作为聚合催化剂和0.50质量份的连二亚硫酸钠作为抗氧化剂放入包括搅拌设备的反应容器中，并溶解于3300质量份的水中(水相)。此外，与此分别地，将121.79质量份的以下结构式(B-2)溶解于2600质量份的亚甲基氯中(有机相)。
摩尔比描述如下。
结构式(B-1):PTBP:结构式(B-2):TBBAC:NaOH
＝100.00:2.86:100.00:0.68:210.00(摩尔比)。
预先搅拌水相，在强力搅拌下将有机相添加到水相中，并通过界面聚合法在15℃进行聚合2小时。此后，停止搅拌，并通过倾析而将水相和有机相彼此分离。在去除水相后，向其中添加500质量份的亚甲基氯、3000质量份的纯水和10质量份的乙酸以终止反应，并在15℃进行搅拌30分钟。此后，用纯水洗涤有机相10次，并将有机相添加至甲醇中以使聚合物沉淀。过滤沉淀的聚合物，然后在150℃在真空中干燥24小时，从而获得聚芳酯A1。所得聚芳酯A1的粘均分子量为47,000。
<聚芳酯A2的生产例>
将50.00质量份的结构式(B-1)和50.00质量份的以下结构式(B-3)作为二元酚组分、1.77质量份的对叔丁基苯酚(PTBP)作为封端剂、34.67质量份的氢氧化钠(NaOH)作为碱、1.04质量份的三正丁基苄基氯化铵(TBBAC)的50质量％水溶液作为聚合催化剂和0.50质量份的连二亚硫酸钠作为抗氧化剂放入包括搅拌设备的反应容器中，并溶解于3300质量份的水中(水相)。此外，与此分别地，溶解121.79质量份的结构式(B-2)(有机相)。
摩尔比描述如下。
结构式(B-1):结构式(B-3):PTBP:结构式(B-2):TBBAC:NaOH
＝50.00:50.00:2.86:100.00:0.68:210.00(摩尔比)。
预先搅拌水相，在强力搅拌下将有机相添加到水相中，并通过界面聚合法在15℃进行聚合2小时。此后，停止搅拌，并通过倾析而将水相和有机相彼此分离。在去除水相后，向其中添加500质量份的亚甲基氯、3000质量份的纯水和10质量份的乙酸以终止反应，并在15℃进行搅拌30分钟。此后，用纯水洗涤有机相10次，并将有机相添加至甲醇中以使聚合物沉淀。过滤沉淀的聚合物，然后在150℃在真空中干燥24小时，从而获得聚芳酯A2。
所得聚芳酯A2的粘均分子量为48,000。
<聚芳酯A3至A14的生产例>
除了在聚芳酯A2的生产例中如表2所示改变结构(本发明的结构单元中包含的构成单元)和比率以外，以与聚芳酯A2的生产例中相同的方式来生产聚芳酯。
[表2]
<聚碳酸酯P1的生产例>
将677.00g(2.52mol)的以下结构式(B-4)、360.36g(1.68mol)的以下结构式(B-5)、0.4g的三乙基苄基氯化铵和5.0g的连二亚硫酸钠溶解于5.4L的9.0w/w％氢氧化钠(NaOH)水溶液中。向其添加2.4L的亚甲基氯，在搅拌下将组分保持在15℃，然后向其中吹入540g的光气30分钟。在停止吹入光气后，向其添加21g的对叔丁基苯酚，剧烈搅拌组分以使反应液乳化，乳化后，向其添加11ml的三乙胺，在20℃至25℃的温度下搅拌组分约1小时，从而聚合。
在聚合结束后，将反应液分离成水相和有机相，并用磷酸中和有机相。用水反复洗涤有机相直至洗涤水的电导率达到10μS/cm以下。将所得有机相滴加至维持在62℃的温水中，将溶剂蒸发并除去，从而获得白色粉末状沉淀物。将所得沉淀物过滤并在120℃的温度下干燥24小时，从而获得目标聚碳酸酯P1。所得聚碳酸酯的粘均分子量为41,000。
粘均分子量的测量方法
将作为测量对象的树脂溶解于二氯甲烷中以制备浓度为6.00g/L的溶液。使用乌氏粘度计测量25℃下的比粘度。由该比粘度获得特性粘度，将Mark-Houwink粘度方程的K(比例常数部分)和a(指数部分；也由α表示)分别设定为1.23×10-4和0.83，计算出粘均分子量。
<聚碳酸酯P2至P12的生产例>
除了在聚碳酸酯P1的生产例中如表3所示改变结构单元和比率以外，以与聚碳酸酯P1的生产例中相同的方式来生产聚碳酸酯。
[表3]
[实施例1]
(支承体)
将切削成外径为24mm、长度为257mm、厚度为0.75mm的铝合金制成的圆柱体用作支承体。
(底涂层的形成)
如下所述生产底涂层用涂布液。将通过将平均一次粒径为40nm的金红石型氧化钛(Ishihara Sangyo Kaisha,Ltd.制造的“TTO55N”)和相对于该氧化钛为3质量％的甲基二甲氧基硅烷(GE Toshiba Silicones Co.,Ltd.制造的“TSL8117”)注射至高速流动式混合混炼机(Kawata Mfg.Co.,Ltd.制造的“SMG300”)并以34.5m/秒的旋转圆周速度的高速混合组分而获得的表面处理的氧化钛用球磨机分散在甲醇/1-丙醇中，从而生产疏水化氧化钛的分散浆料。将所述分散浆料、甲醇/1-丙醇/甲苯的混合溶剂、以及由ε-己内酰胺[下式(A)所示的化合物]/双(4-氨基-3-甲基环己基)甲烷[下式(B)所示的化合物]/六亚甲基二胺[下式(C)所示的化合物]/十亚甲基二羧酸[下式(D)所示的化合物]/十八亚甲基二羧酸[下式(E)所示的化合物]以组成摩尔比75％/9.5％/3％/9.5％/3％构成的共聚聚酰胺的粒料在加热的同时搅拌混合以使聚酰胺粒料溶解，然后，对其进行超声波分散处理，从而生产底涂层用涂布液，所述涂布液包含质量比为7/1/2的甲醇、1-丙醇和甲苯，包含质量比为3/1的疏水化氧化钛和共聚聚酰胺，固成分浓度为18.0％。用该底涂层用涂布液浸渍涂布支承体以形成涂膜，在100℃干燥该涂膜10分钟，从而形成2.00μm底涂层。
(电荷产生层的形成)
作为电荷产生物质，将10份的在CuKα特性X射线衍射中在布拉格角(2θ±0.2°)为27.3°处具有强峰的Y型氧钛酞菁晶体和150份的4-甲氧基-4-甲基-2-戊酮置于其中使用直径为1mm的玻璃珠的砂磨机中，用砂砾研磨机(sand grind mill)进行粉碎分散1.5小时。
然后，向其添加105份的通过预先将5份的聚缩醛树脂(商品名：S-LEC BBX-1，Sekisui Chemical Co.,Ltd.制造)添加并溶解于100份的4-甲氧基-4-甲基戊酮-2中而获得的溶液，并且使该溶液在其中进行分散0.5小时。
然后，向其添加250份的1,2-二甲氧基乙烷，从而生产电荷产生层用涂布液。用该电荷产生层用涂布液浸渍涂布所得底涂层以形成涂膜，在100℃干燥该涂膜10分钟，从而形成0.15μm电荷产生层。
在以下条件下进行X射线衍射测量。
[粉末X射线衍射测量]
使用的测量仪器：Rigaku Corporation制造，X射线衍射仪RINT-TTRII
X射线管：Cu
管电压：50kV
管电流：300mA
扫描方法：2θ/θ扫描
扫描速度：4.0°/分钟
采样间隔：0.02°
起始角度(2θ)：5.0°
停止角度(2θ)：40.0°
附件：标准样品架
过滤器：不使用
入射单色器：使用
计数器单色器：不使用
发散狭缝：开放
发散纵向限制狭缝：10.00mm
散射狭缝：开放
接收狭缝：开放
平板单色仪：使用
计数器：闪烁计数器
(电荷输送层的形成)
接下来，通过将6份的CTM1表示的电荷输送物质、7份的A1表示的聚芳酯和3份的P1表示的聚碳酸酯溶解于23份的邻二甲苯、23份的苯甲酸甲酯和23份的二甲氧基甲烷的溶剂混合物中来制备电荷输送层用涂布液。用该电荷输送层用涂布液浸渍涂布电荷产生层以形成涂膜，在125℃干燥该涂膜30分钟，从而形成膜厚度为24μm的电荷输送层。
所得感光构件的表面层中的树脂的热解GCMS的结果显示，存在TIC具有检测到m/z＝242和m/z＝227的组分的MS谱的峰并且在1H-NMR谱中在2.4ppm处存在峰，由此表明包含式(2-1)。
作为电子照相设备，使用Hewlett-Packard Company制造的商品名为HP ColorLaser Jet Enterprise M653dn的激光束打印机的改造机。
首先，将电子照相设备和生产的电子照相感光构件在温度为15℃和湿度为10％RH的环境中放置24小时以上，然后将电子照相感光构件安装在电子照相设备的青色盒中并插入至主体中。
然后，打印100张半色调图像，取出盒，在存在于感光构件上的划痕中，仅对足够深以能够目视可见的划痕进行计数。此外，对于所计数的划痕，测量表示每一个划痕的最大谷深度的Rv，最大值示于表5。
然后，使40000张具有使得浓度变为每张图像1.5％的水平线的图像通过，取出盒，在存在于感光构件上的划痕中，仅对足够深以能够目视可见的划痕进行计数。此外，对于所计数的划痕，测量Rvs’，最大值示于表5。当Rv超过1.0μm时，存在出现图像缺陷的倾向。结果示于表5。
在如下条件下测量Rv。
公司名称：Kosaka Laboratory Ltd.
粗糙度计名称：SE3500
截止值：0.08mm
预备长度(Preliminary length)：截止×1
过滤器特性：2CR
评价长度：2.5mm
纵向倍率：10000
横向倍率：50
进给长度：0.1mm/秒
流平：直线(整个区域)
JIS B 0601-1982
从评价长度的整个长度处理：将间隔评价长度等分为8000个。
λs滤波器：无
极性：正常
[实施例2至73和比较例1至11]
除了使用表4中所示的聚芳酯种类、聚碳酸酯种类、CTM种类、粘结剂比率和CTM/粘结剂比率来生产感光构件以外，以与实施例1相同的方式来生产感光构件。结果示于表5。
[实施例74]
将7份的A1表示的聚芳酯和3份的P1表示的聚碳酸酯溶解于23份的邻二甲苯和23份的苯甲酸甲酯的溶剂混合物中，向其添加1份的二氧化硅细颗粒QSG-170(Shin-EtsuChemical Co.,Ltd.制造，体积平均粒径：170nm)，用微流化器(Powrex Corp.制造的M110-P)在其中进行分散。
然后，作为电荷输送层，将8份的CTM3表示的电荷输送物质和23份二甲氧基甲烷添加至分散液中并溶解于其中，从而制备电荷输送层用涂布液。用该电荷输送层用涂布液浸渍涂布电荷产生层来形成涂膜，并在125℃干燥该涂膜30分钟，从而形成膜厚度为18μm的电荷输送层。结果示于表5。
[实施例75]
除了在实施例74中，作为表4中所示的聚碳酸酯和细颗粒，将细颗粒改变为二氧化硅细颗粒KE-S10(Nippon Shokubai Co.,Ltd.，体积平均粒径：0.1μm)以外，以与实施例74中相同的方式来生产感光构件。结果示于表5。
[实施例76]
除了在实施例74中，作为表4中所示的聚碳酸酯和细颗粒，将细颗粒改变为二氧化硅细颗粒KE-S30(Nippon Shokubai Co.,Ltd.，体积平均粒径：0.3μm)以外，以与实施例74中相同的方式来生产感光构件。结果示于表5。
[实施例77]
除了在实施例74中，作为表4中所示的聚碳酸酯和细颗粒，将细颗粒改变为二氧化硅细颗粒KE-P50(Nippon Shokubai Co.,Ltd.，体积平均粒径：0.5μm)以外，以与实施例74中相同的方式来生产感光构件。结果示于表5。
[实施例78]
除了在实施例74中，作为表4中所示的聚碳酸酯和细颗粒，将细颗粒改变为二氧化硅细颗粒43-00-701(Corefront Corp.，体积平均粒径：0.07μm)以外，以与实施例74中相同的方式来生产感光构件。结果示于表5。
[实施例79]
除了在实施例74中，作为表4中所示的聚碳酸酯和细颗粒，将细颗粒改变为二氧化硅细颗粒SO-C4(Admatechs Korea Corporation，体积平均粒径：0.9至1.2μm)以外，以与实施例74中相同的方式来生产感光构件。结果示于表5。
[实施例80]
除了在实施例74中，作为表4中所示的聚碳酸酯和细颗粒，将细颗粒改变为氧化铝细颗粒AKP-53(Sumitomo Chemical Co.,Ltd.，体积平均粒径：0.17μm)以外，以与实施例74中相同的方式来生产感光构件。结果示于表5。
[实施例81]
除了在实施例74中，作为表4中所示的聚碳酸酯和细颗粒，将细颗粒改变为二氧化硅细颗粒SO-C1(Admatechs Korea Corporation，体积平均粒径：0.2至0.4μm)以外，以与实施例74中相同的方式来生产感光构件。结果示于表5。
[实施例82]
除了在实施例74中，作为表4中所示的聚碳酸酯和细颗粒，将细颗粒改变为二氧化硅细颗粒QCB-100(Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.，体积平均粒径：0.2μm)以外，以与实施例74中相同的方式来生产感光构件。结果示于表5。
/>
/>
/>
[表5]
/>
虽然已经参照示例性实施方案描述了本发明，但是，应理解本发明不限于公开的示例性实施方案。所附权利要求的范围要符合最宽泛的解释，以涵盖所有此类修改以及等同的结构和功能。

Claims (8)

1.一种电子照相感光构件，其特征在于，其包括：
包含聚芳酯和聚碳酸酯的表面层，
其中所述聚芳酯具有选自由下式(1-1)表示的结构单元、下式(1-2)表示的结构单元和下式(1-3)表示的结构单元组成的组中的至少一种结构单元，和
所述聚碳酸酯具有下式(2-1)表示的结构单元，
2.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述表面层包括5摩尔％以上且40摩尔％以下的式(2-1)表示的结构单元。
3.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述聚碳酸酯包括20摩尔％以上且60摩尔％以下的式(2-1)表示的结构单元。
4.一种电子照相感光构件，其特征在于，其包括：
包含聚芳酯和聚碳酸酯的表面层，
其中，在从所述表面层回收的高分子组分的组分分析中，
所述聚芳酯具有在TMAH共存下的热解气相色谱-质谱中TIC具有检测到m/z＝242和m/z＝227的组分的MS谱的峰，和具有在使用重氢氯仿的1H-NMR谱中在2.40±0.02ppm和2.35±0.02ppm处的峰，和
所述聚碳酸酯具有在TMAH共存下的热解气相色谱-质谱中TIC具有检测到m/z＝242和m/z＝227的组分的MS谱的峰，和具有在使用重氢氯仿的1H-NMR谱中在2.40±0.02ppm处的峰。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的电子照相感光构件，其中所述表面层包含二氧化硅细颗粒。
6.根据权利要求5所述的电子照相感光构件，其中所述二氧化硅细颗粒的体积平均粒径为0.1μm至0.5μm。
7.一种处理盒，其特征在于，所述处理盒一体化地支承根据权利要求1至6中任一项所述的电子照相感光构件和选自由充电单元、显影单元和清洁单元组成的组中的至少一种单元，并且可拆卸地安装至电子照相设备的主体。
8.一种电子照相设备，其特征在于，其包括根据权利要求1至6中任一项所述的电子照相感光构件、充电单元、曝光单元、显影单元和转印单元。
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