CN118076852A - 向悬浮熔炼炉中喂送反应气体时使反应气体喂送均匀的方法和喷嘴 - Google Patents
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Abstract
提出了一种用于在通过喷嘴(3)将固体材料和反应气体喂送到悬浮熔炼炉(2)的反应塔(1)中时使反应气体喂送均匀的方法。方法包括通过喷嘴(3)的喂送管(4)将固体材料喂送到反应塔(1)中，以及通过喷嘴(3)的气体供应5装置(5)将反应气体喂送到反应塔(1)中。方法包括在喷嘴(3)的反应气体室(6)中提供气体偏转构件(12)。还提出了一种喷嘴(1)。
Description
技术领域
本发明涉及如独立权利要求1的前序部分中所限定的用于在通过喷嘴将固体材料和反应气体喂送到悬浮熔炼炉的反应塔中时使反应气体喂送均匀的方法。
本发明还涉及如独立权利要求22的前序部分中所限定的用于将固体材料和反应气体喂送到悬浮熔炼炉的反应塔中的喷嘴。
专利公开WO 2009/030808提出了一种用于将固体精矿混合物和反应气体喂送到闪速熔炼炉的反应塔中的精矿喷嘴。
目的
本发明的目的是提供一种用于在通过喷嘴将固体材料和反应气体喂送到悬浮熔炼炉的反应塔中时使反应气体喂送均匀的方法，以及提供一种用于在通过喷嘴将固体材料和反应气体喂送到悬浮熔炼炉的反应塔中时使反应气体喂送均匀的能力改进的喷嘴。
发明内容
本发明的方法的特征在于独立权利要求1的限定。
在从属权利要求2至21中限定了方法的优选实施例。
本发明的喷嘴的特征相应地在于独立权利要求22的限定。
在从属权利要求23至42中限定了喷嘴的优选实施例。
附图说明
在下文中，将通过参考附图更详细地描述本发明，其中：
图1示出了悬浮熔炼炉，
图2以部分透明的视图示出了喷嘴的第一实施例，
图3示出了喷嘴的第二实施例的截面图，
图4以部分透明的视图示出了喷嘴的第三实施例，
图5示出了喷嘴的第四实施例的截面图，
图6以部分透明的视图示出了喷嘴的第五实施例，
图7以部分透明的视图示出了喷嘴的第六实施例，
图8以部分透明的视图示出了喷嘴的第七实施例，
图9示出了可用于喷嘴的一些实施例中的气体偏转构件的变型，
图10以部分透明的视图示出了喷嘴的第八实施例，
图11以部分透明的视图示出了喷嘴的第九实施例，
图12以部分透明的视图示出了喷嘴的第十实施例，
图13以部分透明的视图示出了喷嘴的第十一实施例，
图14以部分透明的视图示出了喷嘴的第十二实施例，以及
图15以部分透明的视图示出了喷嘴的第十三实施例。
具体实施方式
首先，将更详细地介绍当通过喷嘴3将固体材料和反应气体喂送到悬浮熔炼炉2的反应塔1中时使反应气体喂送均匀的方法以及方法的一些实施例和变型。
反应气体可以例如包括空气、富氧空气和/或氧气。
固体材料可以例如包括硫化物精矿、助熔剂、造渣剂和/或电子废弃物。
悬浮熔炼炉2可以是闪速熔炼炉或闪速吹炼炉。
喷嘴3可以是精矿喷嘴或锍喷嘴。
方法包括通过喷嘴3的喂送管4将固体材料喂送到悬浮熔炼炉2的反应塔1中。悬浮熔炼炉2还包括配置成接收来自反应塔1的材料的沉淀池(未用附图标记标出)和用于从沉淀池引出过程气体的上升烟道装置(未用附图标记标出)。
方法包括通过喷嘴3的气体供应装置5将反应气体喂送到悬浮熔炼炉2的反应塔1中，其中，气体供应装置5包括反应气体室6，该反应气体室围绕(优选同心地围绕)喂送管4，其中，气体供应装置5经由环形开口7通向悬浮熔炼炉2的反应塔1，其中，反应气体室6至少部分地横向向外地由朝向环形开口7渐缩(优选地呈锥形渐缩)的内壁部8限定并且部分地由顶部结构9限定。
方法包括经由气体供应装置5的至少一个入口通道10的喂送开口11将反应气体喂送到反应气体室6中。
方法包括在反应气体室6中提供气体偏转构件12，其中，气体偏转构件12限定穿过气体偏转构件12的至少一个贯通开口13。
气体偏转构件12优选地但非必须地相对于反应气体室6为不动地(例如不可旋转地)设置。
方法包括将反应气体从气体供应装置5的所述至少一个入口通道10的喂送开口11朝向朝环形开口7渐缩的内壁部8和/或朝向气体偏转构件12引导到反应气体室6中。如图2至图8和图11所示的实施例，方法包括优选地但非必须地将反应气体在顶部结构9和气体偏转构件12之间从气体供应装置5的所述至少一个入口通道10的喂送开口11朝向朝环形开口7渐缩的内壁部8和/或朝向气体偏转构件12引导到反应气体室6中。朝向气体偏转构件12在上下文中意味着反应气体不是仅仅被朝向穿过气体偏转构件12的一个贯通开口13引导，而是至少部分地被朝向形成气体偏转构件12的材料引导，从而至少部分地避免反应气体从环形开口7直接流出反应气体室6。气体偏转构件12的目的是使反应气体的方向转向并且因而使反应气体室6内的反应气体流均匀，从而使从环形开口7进入悬浮熔炼炉2的反应塔1的反应气体流更加均匀地分布，以便促进悬浮熔炼炉2的反应塔1中在反应气体和固体材料之间的反应，这导致从通过喷嘴3喂送到悬浮熔炼炉2的反应塔1中的固体材料中获得更高的金属回收率。气体偏转构件12还将使从环形开口7流出的反应气体在环形开口7的不同部位处可能发生的流速差异均匀化。
在方法的一些实施例和变型中(例如在图2至图7和图11中所示的实施例中)方法可以包括将气体供应装置5的所述至少一个入口通道10布置成插入到反应气体室6中，使得所述至少一个入口通道10具有在反应气体室6内部的通道部14并且使得所述至少一个入口通道10的喂送开口11在反应气体室6内部。如图2至图7和图11所示，方法的这些实施例和变型包括优选地但非必须地将气体供应装置5的所述至少一个入口通道10布置成穿过反应气体室6的顶部结构9。如图2至图7和图11所示，方法的这些实施例和变型包括优选地但非必须地将通道部14布置成弯曲和/或倾斜离开喷嘴3的中心轴线A，以将反应气体在顶部结构9和气体偏转构件12之间从喂送开口11朝向朝环形开口7渐缩的内壁部8引导，以促进反应气体在反应气体室6中的均匀分布并且在反应气体经由环形开口7离开反应气体室6并进入悬浮熔炼炉的反应塔1之前使可能出现的反应气体流速差异均匀化。
如图2至图7和图11所示，在方法的一些实施例和变型中，方法可以包括：将气体供应装置5的多个入口通道10布置成以相对于喷嘴3的中心轴线A对称的构造穿过顶部结构9使得所述多个入口通道10中的每一个具有在反应气体室6内部的通道部14，将每个通道部14布置成弯曲和/或倾斜离开喷嘴3的中心轴线A以将反应气体在顶部结构9和气体偏转构件12之间从喂送开口11朝向朝环形开口7渐缩的内壁部8引导，并且将入口通道10的喂送开口11布置成相对于喷嘴3的中心轴线A对称的构造，以促进反应气体在反应气体室6中的分布并且在反应气体经由环形开口7离开反应气体室6并进入悬浮熔炼炉2的反应塔1之前使可能出现的反应气体流速差异均匀化。
也可以将所述至少一个入口通道10的喂送开口11布置在顶部结构9处，如图8和图10所示。
也可以将所述至少一个入口通道10的喂送开口11设置在部分地限定反应气体室6的内壁部8处，如图12-图15所示。
如图2至图15所示，在方法的一些实施例和变型中，所提供的气体偏转构件12可以包括围绕喂送管4的围绕结构15。
如果方法包括提供包括围绕结构15的气体偏转构件12，则如图12所示，所提供的气体偏转构件12的围绕结构15可以包括管状构件，该管状构件设置有多个贯通开口13，贯通开口穿过管状构件形式的气体偏转构件12的壁。管状构件优选地但非必须地尺寸和设计设定成使得从顶部结构9能够看见环形开口7，从而例如可以在顶部结构9处设置摄像头，以便能够通过可在顶部结构9处设置的摄像头经由环形开口7监视悬浮熔炼炉的反应塔1中的熔炼过程。
如果方法包括提供包括围绕结构15的气体偏转构件12，则方法包括优选地但非必须地在朝向环形开口7渐缩的内壁部8处提供气体偏转构件12的围绕结构15，如图2至图8、图10、图11、和图13至图15所示的实施例。
如果所提供的气体偏转构件12包括围绕喂送管4的围绕结构15，则在方法的一些实施例和变型中，如图2至图8、图10、图11、和图13至图15所示，气体偏转构件12的围绕结构15可以包括环形盘21，该环形盘包括内圆周19和外圆周20。方法的这些实施例和变型包括优选地但非必须地将环形盘的外圆周20附接到朝向环形开口7渐缩的内壁部8，如图2至图8、图10、图11、和图13至图15所示。所提供的气体偏转构件12的围绕结构15的环形盘21可以具有至少一个盘间断点26，该盘间断点形成穿过气体偏转构件12的贯通开口13。所提供的气体偏转构件12的围绕结构15的环形盘21可以由在围绕结构15圆周方向上彼此间隔开的多个弧形部24形成，使得在围绕结构15的圆周方向上相互间隔开的两个弧形部24之间形成穿过气体偏转构件12的贯通开口13，如图11所示的第九实施例。这样的弧形部24优选地但非必须地对称设置，以便至少部分地促进反应气体从环形开口7对称流动。环形盘21优选地但非必须地具有大致扁平和平面的构造。
如果所提供的气体偏转构件12包括有包括环形盘21的围绕结构15，则气体偏转构件12优选地但非必须地包括如图2至图6、图11、和图13至15所示实施例中的一个贯通开口13，该贯通开口形成为中心贯通开口的形式，该中心贯通开口由所提供的气体偏转构件12的围绕结构15的环形盘21的内圆周19限定。中心贯通开口的尺寸和设计优选地但非必须地设定成使得从顶部结构9能够看见环形开口7，以便例如可以在顶部结构9处设置摄像头，从而能够通过可在顶部结构9处设置的摄像头经由环形开口7监视悬浮熔炼炉的反应塔1中的熔炼过程。
如果所提供的气体偏转构件12包括有包括环形盘21的围绕结构15，则方法优选地但非必须地包括提供气体偏转构件12的围绕结构15的环形盘21，该环形盘具有凸缘构件16，如图4至图7所示。凸缘构件16的目的是使反应气体室6中的反应气体流偏转，以促进反应气体在反应气体室6中的均匀分布并且在反应气体经由环形开口7离开反应气体室6并进入悬浮熔炼炉的反应塔1之前使可能出现的反应气体流速差异均匀化。方法可以包括提供具有至少一个凸缘间断点17的凸缘构件16，如图4所示。方法可以包括提供包括沿环形盘21圆周方向彼此间隔开的多个凸缘部18的凸缘构件16，如图4所示。如图4所示，这些凸缘部18优选地但非必须地对称设置，以便至少部分地促进反应气体从环形开口7对称流动并且在反应气体经由环形开口7离开反应气体室6之前使可能出现的反应气体流速差异均匀化，从而促进在悬浮熔炼炉2的反应塔1中反应气体与固体材料之间的反应，这导致从通过喷嘴3喂送到悬浮熔炼炉2的反应塔1中的固体材料中获得更高的金属回收率。
方法可以包括在环形盘21的内圆周19处提供凸缘构件16，如图4至图7所示。
如果所提供的气体偏转构件12包括有包括环形盘21的围绕结构15，则方法包括优选地但非必须地如图4所示：为喷嘴3提供两个入口通道10，每个入口通道具有一个喂送开口11，使得各喂送开口11相对于喂送管4在直径方向上设置在喂送管4的相对两侧上；并且提供凸缘构件16，凸缘构件包括在环形盘21上沿直径方向的两个凸缘部18，使得一个凸缘部18沿轴向设置在一个入口通道10下方，另一个凸缘部18沿轴向设置在另一个入口通道10下方，以便从入口通道10的喂送开口11的一个喂送的反应气体将在反应气体室6中被凸缘部18中的一个改变方向，以促进反应气体在反应气体室6中的分布并且在反应气体经由环形开口7离开反应气体室6并进入悬浮熔炼炉2的反应塔1之前使可能出现的反应气体流速差异均匀化。
如果所提供的气体偏转构件12包括有包括环形盘21的围绕结构15，方法可以包括如图8所示将环形盘21的内圆周19附接到用于将固体材料喂送到悬浮熔炼炉2的反应塔1中的喂送管4上，以及为环形盘21提供穿过气体偏转构件12的环形盘21的多个贯通开口13。
如果所提供的气体偏转构件12包括有包括环形盘21的围绕结构15，则方法可以包括如图10所示为环形盘21提供穿过气体偏转构件12的环形盘21的多个贯通开口13。
方法可以包括除了提供气体偏转构件12以外还为喷嘴3在反应气体室6中提供额外气体偏转构件25，以及使气体偏转构件12与额外气体偏转构件25间隔开，如图13至图15所示。额外气体偏转构件25的目的是在反应气体经由环形开口7离开反应气体室6并进入悬浮熔炼炉2的反应塔1之前额外地促进反应气体在反应气体室6中的均匀分布。在图13中，提供了呈管状构件形式并围绕喂送管4的额外气体偏转构件25，该管状构件设置有穿过管状构件的多个贯通开口13。在图14中，提供了呈管状构件形式并围绕喂送管4的额外气体偏转构件25。在图15中，提供了呈环形盘形式并围绕喂送管4的额外气体偏转构件25，该额外气体偏转构件紧固在喂送管4上。
方法包括优选地但非必须地为喷嘴3提供分散装置22，该分散装置同心地布置在喂送管4内部并且从喂送管4的孔口23延伸出来，用于将分散气体引导到从喂送管4的孔口23喂送的固体材料，以及将分散气体引导至从喂送管4的孔口23喂送的固体材料以使固体材料朝向从环形开口7喂送的反应气体偏转。
接下来，将更详细地介绍用于将固体材料和反应气体喂送到悬浮熔炼炉2的反应塔1中的喷嘴3以及喷嘴3的一些实施例和变型。
反应气体可以例如包括空气、富氧空气和/或氧气。
固体材料可以例如包括硫化物精矿、助熔剂、造渣剂和/或电子废弃物。
悬浮熔炼炉2可以是闪速熔炼炉或闪速吹炼炉。悬浮熔炼炉2还包括配置成接收来自反应塔1的材料的沉淀池(未用附图标记标出)和用于从沉淀池引出过程气体的上升烟道装置(未用附图标记标出)。
喷嘴3可以是精矿喷嘴或锍喷嘴。
喷嘴3包括用于将固体材料喂送到悬浮熔炼炉2的反应塔1中的喂送管4。
喷嘴3包括用于将反应气体喂送到悬浮熔炼炉2的反应塔1中的气体供应装置5。
气体供应装置5包括反应气体室6，反应气体室围绕(优选同心地围绕)喂送管4。
气体供应装置5经由环形开口7通向悬浮熔炼炉2的反应塔1。
反应气体室6至少部分地横向向外地由朝向环形开口7渐缩(优选呈锥形渐缩)的内壁部8限定并且至少部分地由顶部结构9限定。
气体供应装置5包括通向反应气体室6的至少一个入口通道10，用于经由所述至少一个入口通道10的喂送开口11将反应气体喂送到反应气体室6中。
喷嘴3包括在反应气体室6中的气体偏转构件12。气体偏转构件12限定穿过气体偏转构件12的至少一个贯通开口13。
气体偏转构件12优选地但非必须地相对于反应气体室6是不动地(例如不可旋转地)设置。
所述至少一个入口通道10的喂送开口11配置成将反应气体朝向朝环形开口7渐缩的内壁部8引导和/或配置成将反应气体朝向气体偏转构件12引导。所述至少一个入口通道10的喂送开口11优选地但非必须地如图2至图8和图11所示的实施例那样配置成将反应气体在顶部结构9和气体偏转构件12之间朝向朝环形开口7渐缩的内壁部8引导和/或配置成将反应气体朝向气体偏转构件12引导。在上下文中朝向气体偏转构件12意味着反应气体不是仅仅被朝向穿过气体偏转构件12的一个贯通开口13引导，而是至少部分地被朝向形成气体偏转构件12的材料引导，从而至少部分地避免反应气体从环形开口7直接流出反应气体室6。气体偏转构件12的目的是使反应气体的方向转向以及因而使反应气体室6内的反应气体流均匀，从而使从环形开口7进入悬浮熔炼炉2的反应塔1的反应气体流更加均匀地分布，以便促进在悬浮熔炼炉的反应塔1中反应气体和固体材料之间的反应，这则导致从喂送到悬浮熔炼炉2的反应塔1中的固体材料中获得更高的金属回收率。气体偏转构件12还将使从环形开口7流出的反应气体在环形开口7的不同部位处可能发生的流速差异均匀化。
在喷嘴3的一些实施例和变型中，例如图2至图7和图11所示，所述至少一个入口通道10插入到反应气体室6中，使得所述至少一个入口通道10具有在反应气体室6内部的通道部14，并且使得所述至少一个入口通道10的喂送开口11在反应气体室6内部。如图2至图7和图11所示，所述至少一个入口通道10优选地但非必须地穿过反应气体室6的顶部结构9。如图2至图7和图11所示，通道部14优选地但非必须地弯曲和/或倾斜离开喷嘴3的中心轴线A，以将反应气体在顶部结构9和气体偏转构件12之间从喂送开口11朝向朝环形开口7渐缩的内壁部8引导。
喷嘴3的一些变型和实施例可以如图2至图7和图11所示包括布置成以相对于喷嘴3的中心轴线A对称的构造穿过顶部结构9的多个入口通道10，使得所述多个入口通道10中的每一个具有在反应气体室6内部的通道部14，使得每个通道部14弯曲和/或倾斜离开喷嘴3的中心轴线A以将反应气体在顶部结构9和气体偏转构件12之间从喂送开口11朝向朝环形开口7渐缩的内壁部8引导，并且使得入口通道10的喂送开口11布置成相对于喷嘴3的中心轴线A对称。
也可以如图8和图10所示将所述至少一个入口通道10的喂送开口11设置在顶部结构9处。
也可以如图12-15所示将所述至少一个入口通道10的喂送开口11设置在部分地限定反应气体室6的内壁部8处。
如图2至图15所示，气体偏转构件12包括优选地但非必须地围绕喂送管4的围绕结构15。
如果气体偏转构件12包括围绕结构15，则气体偏转构件12的围绕结构15可以如图12所示包括管状构件，该管状构件设置有多个贯通开口13，贯通开口穿过管状构件形式的气体偏转构件12的壁。管状构件优选地但非必须地尺寸和设计设定成使得从顶部结构9能够看见环形开口7，从而例如可以在顶部结构9处设置摄像头，以便能够通过可在顶部结构9处设置的摄像头经由环形开口7监视悬浮熔炼炉的反应塔1中的熔炼过程。
如果气体偏转构件12包括围绕结构15，则气体偏转构件12的围绕结构15可以如图2至图8、图10、图11、和图13至图15所示位于朝向环形开口7渐缩的内壁部8处。
围绕结构15可以如图2至图8、图10、图11、和图13至图15所示包括环形盘21，环形盘包括内圆周19和外圆周20。环形盘21的外圆周20可以附接到朝向环形开口7渐缩的内壁部8，如图2至图8、图10、图11、和图13至图15所示。环形盘21可以具有至少一个盘间断点26。环形盘21可以由在第一环形构件的圆周方向上彼此间隔开的多个弧形部24形成。这样的弧形部24优选地但非必须地对称设置，以便至少部分地促进反应气体从环形开口7对称流动。环形盘21优选地但非必须地具有大致扁平和平面的构造。
如果气体偏转构件12包括围绕喂送管4的围绕结构15并且如果围绕结构15包括有包括内圆周19和外圆周20的环形盘21，则气体偏转构件12可以如图2至图6、图11、和图13至图15所示包括一个贯通开口13，该贯通开口由中心贯通开口形成，该中心贯通开口由围绕结构的环形盘21的内圆周19限定。中心贯通开口优选地但非必须地尺寸和设计设定成使得从顶部结构9能够看见环形开口7，从而例如可以在顶部结构9处设置摄像头，以便能够通过可在顶部结构9处设置的摄像头经由环形开口7监视悬浮熔炼炉的反应塔1中的熔炼过程。
如果气体偏转构件12包括围绕喂送管4的围绕结构15并且如果围绕结构15包括有包括内圆周19和外圆周20的环形盘21，则如图4至图7所示可以在环形盘21上设置凸缘构件16。凸缘构件16的目的是使反应气体室6中的反应气体流偏转，以促进反应气体在反应气体室6中的均匀分布并且在反应气体经由环形开口7离开反应气体室6并进入悬浮熔炼炉的反应塔1之前使可能出现的反应气体流速差异均匀化。如图4所示，凸缘构件16可以具有至少一个凸缘间断点17。如图4所示，凸缘构件16可以包括沿环形盘21的圆周方向彼此间隔开的多个凸缘部18。这样的凸缘部18优选地但非必须地对称设置，以便至少部分地促进反应气体从环形开口7对称流动。
如图4至图7所示，凸缘构件16优选地但非必须地设置在环形盘21的内圆周19处。
如果气体偏转构件12包括围绕喂送管4的围绕结构15并且如果围绕结构15包括有包括内圆周19和外圆周20的环形盘21，则如图4所示喷嘴3可以包括两个入口通道10，每个入口通道具有一个喂送开口11，使得各喂送开口11相对于喂送管4在直径方向上设置在喂送管4的相对两侧上，并且凸缘构件16可以包括在环形盘21上沿直径方向设置的两个凸缘部18，使得一个凸缘部18沿轴向设置在一个入口通道10下方，另一个凸缘部18沿轴向设置在另一个入口通道10下方。
如果气体偏转构件12包括围绕喂送管4的围绕结构15并且如果围绕结构15包括有包括内圆周19和外圆周20的环形盘21，则环形盘21的外圆周20可附接到朝向环形开口7渐缩的内壁部8上并且环形盘21的内圆周19可附接到用于将固体材料喂送到悬浮熔炼炉2的反应塔1中的喂送管4上，并且环形盘可设置有多个贯通开口13，如图8所示。
如果气体偏转构件12包括围绕喂送管4的围绕结构15并且如果围绕结构15包括有包括内圆周19和外圆周20的环形盘21，则环形盘21的外圆周20可以附接到朝向环形开口7渐缩的内壁部8上，并且环形盘21可以设置有多个贯通开口13，如图10所示。
除了气体偏转构件12以外，喷嘴3还可以设置有在反应气体室6中的额外气体偏转构件25，使得气体偏转构件12与额外气体偏转构件25间隔开，如图13至图15所示。额外气体偏转构件25的目的是在反应气体经由环形开口7离开反应气体室6之前额外地促进反应气体在反应气体室6中的均匀分布。在图13中，额外气体偏转构件25呈管状构件形式并围绕喂送管4，该管状构件具有穿过管状构件的多个贯通开口13。在图14中，额外气体偏转构件25呈管状构件形式并围绕喂送管4。在图15中，额外气体偏转构件25呈环形盘形式，围绕喂送管4，并紧固在喂送管4上。
喷嘴3可以包括分散装置22，该分散装置同心地布置在喂送管4内部并且从喂送管4的孔口23延伸出来，用于将分散气体引导到从喂送管4的孔口23喂送的固体材料。
对于本领域技术人员来说明白的是，随着技术进步，本发明的基本思想可以以各种方式实施。因此，本发明及其实施例不限于上述示例，而是可以在权利要求的范围内变化。
Claims (42)
1.一种用于在通过喷嘴(3)将固体材料和反应气体喂送到悬浮熔炼炉(2)的反应塔(1)中时使反应气体喂送均匀的方法，方法包括：
通过喷嘴(3)的喂送管(4)将固体材料喂送到悬浮熔炼炉(2)的反应塔(1)中，以及
通过喷嘴(3)的气体供应装置(5)将反应气体喂送到悬浮熔炼炉(2)的反应塔(1)中，其中，气体供应装置(5)包括围绕供应管(4)的反应气体室(6)，其中，气体供应装置(5)经由环形开口(7)通向悬浮熔炼炉(2)的反应塔(1)，其中，反应气体室(6)至少部分地横向向外地由朝向环形开口(7)渐缩的内壁部(8)限定并且至少部分地由顶部结构(9)限定，以及
经由气体供应装置(5)的至少一个入口通道(10)的喂送开口(11)将反应气体喂送到反应气体室(6)中，
其特征在于，
在反应气体室(6)中提供气体偏转构件(12)，其中，气体偏转构件(12)限定穿过气体偏转构件(12)的至少一个贯通开口(13)，
将反应气体从气体供应装置(5)的所述至少一个入口通道(10)的喂送开口(11)朝向朝环形开口(7)渐缩的内壁部(8)和/或朝向气体偏转构件(12)引导。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，
将气体供应装置(5)的所述至少一个入口通道(10)设置成插入到反应气体室(6)中，使得所述至少一个入口通道(10)具有在反应气体室(6)内部的通道部(14)并且所述至少一个入口通道(10)的喂送开口(11)在反应气体室(6)内部。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，
将气体供应装置(5)的所述至少一个入口通道(10)布置成穿过反应气体室(6)的顶部结构(9)。
4.根据权利要求2或3所述的方法，其特征在于，
将通道部(14)设置成弯曲和/或倾斜离开喷嘴(3)的中心轴线A，以将反应气体在顶部结构(9)和气体偏转构件(12)之间从喂送开口(11)朝向朝环形开口(7)渐缩的内壁部(8)引导。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，
将气体供应装置(5)的多个入口通道(10)布置成以相对于喷嘴(3)的中心轴线A呈对称的构造穿过顶部结构(9)，使得所述多个入口通道(10)中的每一个具有在反应气体室(6)内部的通道部(14)，
将每个通道部(14)布置成弯曲和/或倾斜离开喷嘴(3)的中心轴线A，以将反应气体在顶部结构(9)和气体偏转构件(12)之间从喂送开口(11)朝向朝环形开口(7)渐缩的内壁部(8)引导，以及
将入口通道(10)的喂送开口(11)布置成相对于喷嘴(3)的中心轴线A呈对称的构造。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其特征在于，
所提供的气体偏转构件(12)包括布置成围绕喂送管(4)的围绕结构(15)。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，
所提供的气体偏转构件(12)的围绕结构(15)包括管状构件，管状构件设置有多个贯通开口(13)，贯通开口穿过管状构件形式的气体偏转构件(12)的壁。
8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，
在朝向环形开口(7)渐缩的内壁部(8)处提供气体偏转构件(12)的围绕结构(15)。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，
所提供的气体偏转构件(12)的围绕结构(15)包括环形盘(21)，环形盘包括内圆周(19)和外圆周(20)。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，
将环形盘(21)的外圆周(20)附接到朝向环形开口(7)渐缩的内壁部(8)上。
11.根据权利要求9或10所述的方法，其特征在于，
所提供的气体偏转构件(12)的围绕结构(15)的环形盘(21)具有至少一个盘间断点(26)。
12.根据权利要求9至11中任一项所述的方法，其特征在于，
所提供的气体偏转构件(12)的围绕结构(15)的环形盘(21)由在围绕结构(15)的圆周方向上彼此间隔开的多个弧形部(24)形成。
13.根据权利要求9至12中任一项所述的方法，其特征在于，
气体偏转构件(12)包括由中心贯通开口(13)形成的一个贯通开口(13)，中心贯通开口由所提供的气体偏转构件(12)的围绕结构(15)的环形盘(21)的内圆周(19)限定。
14.根据权利要求9至13中任一项所述的方法，其特征在于，
为所提供的气体偏转构件(12)的围绕结构(15)的环形盘(21)提供凸缘构件(16)。
15.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，
提供的凸缘构件(16)具有至少一个凸缘间断点(17)。
16.根据权利要求14或15所述的方法，其特征在于，
提供的凸缘构件(16)包括在环形盘(21)的圆周方向上彼此间隔开的多个凸缘部(18)。
17.根据权利要求14至16中任一项所述的方法，其特征在于，
在环形盘(21)的内圆周(19)处提供凸缘构件(16)。
18.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，
为喷嘴(3)提供两个入口通道(10)，每个入口通道具有一个喂送开口(11)，使得各喂送开口(11)相对于喂送管(4)在直径方向上设置在喂送管(4)的相对两侧上，以及
提供的凸缘构件(16)包括在环形盘(21)处沿直径方向的两个凸缘部(18)，使得一个凸缘部(18)沿轴向设置在一个入口通道(10)下方，另一个凸缘部(18)沿轴向设置在另一个入口通道(10)下方。
19.根据权利要求9至12中任一项所述的方法，其特征在于，
将环形盘(21)的内圆周(19)附接到喂送管(4)上，以及
为环形盘(21)提供多个贯通开口(13)。
20.根据权利要求1至19中任一项所述的方法，其特征在于，
除了气体偏转构件(12)以外，还为喷嘴(3)提供在反应气体室(6)中的额外气体偏转构件(25)，以及
使气体偏转构件(12)与额外气体偏转构件(25)间隔开。
21.根据权利要求1至20中任一项所述的方法，其特征在于，
为喷嘴(3)提供分散装置(22)，分散装置同心地布置在喂送管(4)内部并且从喂送管(4)的孔口(23)延伸出来，用于将分散气体引导到从喂送管(4)的孔口(23)喂送的固体材料，
将分散气体引导至从喂送管(4)的孔口(23)喂送的固体材料。
22.一种用于将固体材料和反应气体喂送到悬浮熔炼炉(2)的反应塔(1)中的喷嘴(3)，其中，喷嘴(3)包括：
喂送管(4)，用于将固体材料喂送到悬浮熔炼炉(2)的反应塔(1)中，以及
气体供应装置(5)，用于将反应气体喂送到悬浮熔炼炉(2)的反应塔(1)中，其中，气体供应装置(5)包括围绕喂送管(4)的反应气体室(6)，其中，气体供应装置(5)经由环形开口(7)通向悬浮熔炼炉(2)的反应塔(1)，其中，反应气体室(6)至少部分地横向向外地由朝向环形开口(7)渐缩的内壁部(8)限定并且至少部分地由顶部结构(9)限定，其中，气体供应装置(5)包括通入反应气体室(6)中的至少一个入口通道(10)以用于经由所述至少一个入口通道(10)的喂送开口(11)将反应气体喂送到反应气体室(6)中，
其特征在于，
反应气体室(6)中有气体偏转构件(12)，其中，气体偏转构件(12)限定穿过气体偏转构件(12)的至少一个贯通开口(13)，以及
所述至少一个入口通道(10)的喂送开口(11)配置成将反应气体朝向朝环形开口(7)渐缩的内壁部(8)引导和/或配置成将反应气体朝向气体偏转构件(12)引导。
23.根据权利要求22所述的喷嘴(3)，其特征在于，
所述至少一个入口通道(10)插入到反应气体室(6)中，使得所述至少一个入口通道(10)具有在反应气体室(6)内部的通道部(14)并且所述至少一个入口通道(10)的喂送开口(11)在反应气体室(6)内部。
24.根据权利要求23所述的喷嘴(3)，其特征在于，
所述至少一个入口通道(10)穿过反应气体室(6)的顶部结构(9)。
25.根据权利要求23或24所述的喷嘴(3)，其特征在于，
通道部(14)弯曲和/或倾斜离开喷嘴(3)的中心轴线A，以将反应气体在顶部结构(9)和气体偏转构件(12)之间从喂送开口(11)朝向朝环形开口(7)渐缩的内壁部(8)引导。
26.根据权利要求22所述的喷嘴(3)，其特征在于，
多个入口通道(10)以相对于喷嘴(3)的中心轴线A呈对称的构造穿过顶部结构(9)，使得所述多个入口通道(10)中的每一个具有在反应气体室(6)内部的通道部(14)，
每个通道部(14)弯曲和/或倾斜离开喷嘴(3)的中心轴线A，以将反应气体在顶部结构(9)和气体偏转构件(12)之间从喂送开口(11)朝向朝环形开口(7)渐缩的内壁部(8)引导，以及
入口通道(10)的喂送开口(11)布置成相对于喷嘴(3)的中心轴线A呈对称的构造。
27.根据权利要求22至26中任一项所述的喷嘴(3)，其特征在于，
气体偏转构件(12)包括围绕喂送管(4)的围绕结构(15)。
28.根据权利要求27所述的喷嘴(3)，其特征在于，
气体偏转构件(12)的围绕结构(15)包括管状构件，管状构件设置有多个贯通开口(13)，贯通开口穿过管状构件形式的气体偏转构件(12)的壁。
29.根据权利要求27所述的喷嘴(3)，其特征在于，
气体偏转构件(12)的围绕结构(15)位于朝向环形开口(7)渐缩的内壁部(8)处。
30.根据权利要求29所述的喷嘴(3)，其特征在于，
围绕结构(15)包括环形盘(21)，环形盘包括内圆周(19)和外圆周(20)。
31.根据权利要求30所述的喷嘴(3)，其特征在于，
环形盘(21)的外圆周(20)附接到朝向环形开口(7)渐缩的内壁部(8)上。
32.根据权利要求30或31所述的喷嘴(3)，其特征在于，
环形盘(21)具有至少一个盘间断点(26)。
33.根据权利要求30至32中任一项所述的喷嘴(3)，其特征在于，
环形盘(21)由在第一环形构件的圆周方向上彼此间隔开的多个弧形部(24)形成。
34.根据权利要求30至33中任一项所述的喷嘴(3)，其特征在于，
气体偏转构件(12)包括由中心贯通开口(13)形成的一个贯通开口(13)，中心贯通开口由围绕结构(15)的环形盘(21)的内圆周(19)限定。
35.根据权利要求30至34中任一项所述的喷嘴(3)，其特征在于，
在环形盘(21)处设置有凸缘构件(16)。
36.根据权利要求35所述的喷嘴(3)，其特征在于，
凸缘构件(16)具有至少一个凸缘间断点(17)。
37.根据权利要求35或36所述的喷嘴(3)，其特征在于，
凸缘构件(16)包括在环形盘(21)的圆周方向上彼此间隔开的多个凸缘部(18)。
38.根据权利要求35至37中任一项所述的喷嘴(3)，其特征在于，
凸缘构件(16)设置在环形盘(21)的内圆周(19)处。
39.根据权利要求35所述的喷嘴(3)，其特征在于，
提供两个入口通道(10)，每个入口通道具有一个喂送开口(11)，使得各喂送开口(11)相对于喂送管(4)在直径方向上设置在喂送管(4)的相对两侧上，以及
凸缘构件(16)包括在环形盘(21)处沿直径方向设置的两个凸缘部(18)，使得一个凸缘部(18)沿轴向设置在一个入口通道(10)下方，另一个凸缘部(18)沿轴向设置在另一个入口通道(10)下方。
40.根据权利要求30至33中任一项所述的喷嘴(3)，其特征在于，
环形盘(21)的内圆周(19)附接到用于将固体材料喂送到悬浮熔炼炉(2)的反应塔(1)中的喂送管(4)上，以及
环形盘(21)设置有多个贯通开口(13)。
41.根据权利要求22-40中任一项所述的喷嘴(3)，其特征在于，
除了气体偏转构件(12)以外，喷嘴(3)还设有在反应气体室(6)中的额外气体偏转构件(25)，以及
气体偏转构件(12)与额外气体偏转构件(25)间隔开。
42.根据权利要求22-41中任一项所述的喷嘴(3)，其特征在于，
提供分散装置(22)，分散装置同心地布置在喂送管(4)内部并且从喂送管(4)的孔口(23)延伸出来，用于将分散气体引导到从喂送管(4)的孔口(23)喂送的固体材料。
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