CN118014512A - 一种制程防污染管控方法、系统、设备及介质 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种制程防污染管控方法、系统、设备及介质，涉及阵列基板生产技术领域。所述方法包括：设定制程旗标维护表，所述制程旗标维护表包括每一制程上机台的判定标准以及制程完成时对制程旗标的操作；在每一阵列基板玻璃上机台时，获取其对应的制程旗标；根据制程旗标维护表判定该阵列基板玻璃是否满足上机台的标准，如果满足，则正常进行制程；当一阵列基板玻璃对应的制程旗标不满足制程旗标维护表中上当前机台的判定标准时，暂停当前制程；在制程完成后，根据旗标维护表对该阵列基板玻璃执行产生新的制程旗标或者消除指定制程旗标的操作，或者保持当前制程旗标。本发明通过增加制程防污染管控，杜绝人员处理异常产品的错漏。

Description

一种制程防污染管控方法、系统、设备及介质
技术领域
本发明涉及阵列基板生产技术领域，特别涉及一种制程防污染管控方法、系统、设备及介质。
背景技术
在阵列基板制程工艺中，未完成当前工序的阵列基板玻璃不能进入下一道工序。然而在阵列基板的实际生产过程中，设备有时会发生宕机，导致产品异常没有完成当前制程。
现有技术的解决方案是通过人为介入处理。但是若人员判定错漏会造成产品在MES帐料与产品在实际制程站点不一致，从而导致异常产品后流。如果未按标准工序完成制程站点直接进入下一工序制程，会产生产品报废、甚至机台污染的情况，直接造成经济损失。
发明内容
本发明要解决的技术问题，在于提供一种制程防污染管控方法、系统、设备及介质，通过增加制程防污染管控，杜绝人员处理异常产品的错漏。
第一方面，本发明提供了一种制程防污染管控方法，包括：
设定制程旗标维护表，所述制程旗标维护表包括每一制程上机台的判定标准以及制程完成时对制程旗标的操作；
在每一阵列基板玻璃上机台时，获取其对应的制程旗标；根据制程旗标维护表判定该阵列基板玻璃是否满足上机台的标准，如果满足，则正常进行制程；当一阵列基板玻璃对应的制程旗标不满足制程旗标维护表中上当前机台的判定标准时，暂停当前制程；
在制程完成后，根据旗标维护表对该阵列基板玻璃执行产生新的制程旗标或者消除指定制程旗标的操作，或者保持当前制程旗标。
进一步地，对于在制程中会将对应材料遗留在阵列基板玻璃中的机台群组设置对应的制程旗标。
进一步地，所述制程旗标包括Cvd Flag、Metal Flag、OC prFlag以及PRFlag，分别对应Cvd成膜制程、Metal成膜制程、有机光阻显影制程以及正型光阻显影制程。
进一步地，所述制程旗标维护表根据机台群组、途程标识符以及制程ID中的至少一项进行设定。
第二方面，本发明提供了一种制程防污染管控系统，包括：
旗标设定模块，用于设定制程旗标维护表，所述制程旗标维护表包括每一制程上机台的判定标准以及制程完成时对制程旗标的操作；
旗标判定模块，用于在每一阵列基板玻璃上机台时，获取其对应的制程旗标；根据制程旗标维护表判定该阵列基板玻璃是否满足上机台的标准，如果满足，则正常进行制程；当一阵列基板玻璃对应的制程旗标不满足制程旗标维护表中上当前机台的判定标准时，暂停当前制程；
制程完成模块，用于在制程完成后，根据旗标维护表对该阵列基板玻璃执行产生新的制程旗标，或者消除指定制程旗标的操作，或者保持当前制程旗标。
进一步地，所述旗标设定模块中，对于在制程中会将对应材料遗留在阵列基板玻璃中的机台群组设置对应的制程旗标。
进一步地，所述旗标设定模块中，制程旗标包括CvdFlag、Metal Flag、OC prFlag以及PRFlag，分别对应Cvd成膜制程、Metal成膜制程、有机光阻显影制程以及正型光阻显影制程。
进一步地，所述旗标设定模块中，制程旗标维护表根据机台群组、途程标识符以及制程ID中的至少一项进行设定。
第三方面，本发明提供了一种电子设备，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，所述处理器执行所述程序时实现第一方面所述的方法。
第四方面，本发明提供了一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，该程序被处理器执行时实现第一方面所述的方法。
本发明实施例中提供的技术方案，至少具有如下优点：
通过设定制程旗标维护表，在阵列基板玻璃经过机台时判定是否满足上机台的标准，并在制程完成时根据制程旗标维护表进行对应的旗标操作，防止未完成正常工序的产品后流至下个工序机台，造成机台污染风险；同时也可杜绝异常品后流至下一道工序，造成产品报废风险。
上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举本发明的具体实施方式。
附图说明
下面参照附图结合实施例对本发明作进一步的说明。
图1为本发明实施例一中方法中的流程图；
图2为本发明实施例一中一种制程旗标维护表的示意图；
图3为本发明实施例一中另一种制程旗标维护表的示意图；
图4为本发明实施例一中玻璃制程旗标查询示意图。
图5为本发明实施例二中系统的结构示意图；
图6为本发明实施例三中电子设备的结构示意图；
图7为本发明实施例四中介质的结构示意图。
具体实施方式
本发明实施例通过提供一种制程防污染管控方法、系统、设备及介质，通过增加制程防污染管控，杜绝人员处理异常产品的错漏。
本发明实施例中的技术方案，总体思路如下：
此发明为针对实际生产过程中设备发生宕机导致产品异常需要人为介入处理，人员判定Miss导致产品在MES帐料与产品在实际制程站点不一致，导致异产品后流造成机台污染、产品报废。通过开发制程防污染设定功能，设定每片玻璃经过机台的时候要携带或消除制程旗标；判断设定携带制程旗标的玻璃是否允许上机台，如果携带制程旗标不满足维护表设定时暂停制程，达到人员针对异常品处理的Miss，减少产品报废，机台污染的经济损失。
实施例一
本实施例提供一种制程防污染管控方法，如图1所示，可以包括如下步骤：
设定制程旗标维护表，所述制程旗标维护表包括每一制程上机台的判定标准以及制程完成时对制程旗标的操作；
在每一阵列基板玻璃上机台时，获取其对应的制程旗标；根据制程旗标维护表判定该阵列基板玻璃是否满足上机台的标准，如果满足，则正常进行制程；当一阵列基板玻璃对应的制程旗标不满足制程旗标维护表中上当前机台的判定标准时，暂停制程并可以告警通知人员及时处理，防止未完成正常工序的产品后流至下个工序机台；
在制程完成后，根据旗标维护表对该阵列基板玻璃执行产生新的制程旗标或者消除指定制程旗标的操作，或者保持当前制程旗标。
在一种可能的实现方式中，对于在制程中会将对应材料遗留在阵列基板玻璃中的机台群组设置对应的制程旗标，即可以达到防污染管控的目的，比如，所述制程旗标可以包括CvdFlag、Metal Flag、OC prFlag以及PRFlag，分别对应Cvd成膜制程、Metal成膜制程、有机光阻显影制程以及正型光阻显影制程。而对于在制程中不会将对应材料遗留在阵列基板玻璃中的机台群组，则可以不设置对应的制程旗标。
在一种可能的实现方式中，所述制程旗标维护表根据机台群组、途程标识符以及制程ID中的至少一项进行设定。比如，如图2所示，可以根据机台群组+途程标识符+制程ID(By EQPT_Group+Route_ID+Proc_ID)进行设定；再如图3所示，可以仅根据机台群组(EQPT_Group)进行设定，则该机台群组下所属的制程均按同一标准进行制程旗标判定和操作。比如表格第4行为对机台群组为$A1PL的制程旗标设定：Inhibi OCprFlag和Inhibi PR Flag对应的设定为Y，表示携有OCprFlag或PRFlag的不能上$A1PL机台群组；Inhibi CvdFlag和Inhibi Metal Flag对应的设定为N，表示对是否携有Inhibi CvdFlag和Inhibi MetalFlag没有限制；OnPRFlag对应的设定为Y，代表制程完成后产生PRFlag制程旗标；OFFCvdFlag表示制程完成后消除CvdFlag制程旗标。生产过程中，根据具体制程需要，单块阵列基板玻璃可能携带一个或一个以上的制程旗标。如图4所示，还可以查询每块阵列基板玻璃(Sheet)的制程旗标标记情况，可以包括几种制程旗标的携带情况以及打标时间等。
本实施例无需增加硬件设备，只需要在软件上进行对应功能的增加，比如在MES帐料系统新增Process Flg Setting功能，可以根据机台群组的制程设定对应的制程旗标(Process Flg)；在机台端新增制程旗标判定，并在制程完成时反馈，执行产生新的制程旗标或者消除指定制程旗标的操作，或者保持当前制程旗标。
基于同一发明构思，本申请还提供了与实施例一中的方法对应的系统，详见实施例二。
实施例二
在本实施例中提供了一种制程防污染管控系统，如图5所示，包括：
旗标设定模块，用于设定制程旗标维护表，所述制程旗标维护表包括每一制程上机台的判定标准以及制程完成时对制程旗标的操作；
旗标判定模块，用于在每一阵列基板玻璃上机台时，获取其对应的制程旗标；根据制程旗标维护表判定该阵列基板玻璃是否满足上机台的标准，如果满足，则正常进行制程；当一阵列基板玻璃对应的制程旗标不满足制程旗标维护表中上当前机台的判定标准时，暂停当前制程；
制程完成模块，用于在制程完成后，根据旗标维护表对该阵列基板玻璃执行产生新的制程旗标，或者消除指定制程旗标的操作，或者保持当前制程旗标。
具体地，所述旗标设定模块中，对于在制程中会将对应材料遗留在阵列基板玻璃中的机台群组设置对应的制程旗标。
所述旗标设定模块中，制程旗标包括CvdFlag、MetalFlag、OC prFlag以及PRFlag，分别对应Cvd成膜制程、Metal成膜制程、有机光阻显影制程以及正型光阻显影制程。
所述旗标设定模块中，制程旗标维护表根据机台群组、途程标识符以及制程ID中的至少一项进行设定。
由于本发明实施例二所介绍的系统，为实施本发明实施例一的方法所采用的系统，故而基于本发明实施例一所介绍的方法，本领域所属人员能够了解该系统的具体结构及变形，故而在此不再赘述。凡是本发明实施例一的方法所采用的系统都属于本发明所欲保护的范围。
基于同一发明构思，本申请提供了实施例一对应的电子设备实施例，详见实施例三。
实施例三
本实施例提供了一种电子设备，如图6所示，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，处理器执行计算机程序时，可以实现实施例一中任一实施方式。
由于本实施例所介绍的电子设备为实施本申请实施例一中方法所采用的设备，故而基于本申请实施例一中所介绍的方法，本领域所属技术人员能够了解本实施例的电子设备的具体实施方式以及其各种变化形式，所以在此对于该电子设备如何实现本申请实施例中的方法不再详细介绍。只要本领域所属技术人员实施本申请实施例中的方法所采用的设备，都属于本申请所欲保护的范围。
基于同一发明构思，本申请提供了实施例一对应的存储介质，详见实施例四。
实施例四
本实施例提供一种计算机可读存储介质，如图7所示，其上存储有计算机程序，该计算机程序被处理器执行时，可以实现实施例一中任一实施方式。
由于本实施例所介绍的计算机可读存储介质为实施本申请实施例一中方法所采用的计算机可读存储介质，故而基于本申请实施例一中所介绍的方法，本领域所属技术人员能够了解本实施例的计算机可读存储介质的具体实施方式以及其各种变化形式，所以在此对于该计算机可读存储介质如何实现本申请实施例中的方法不再详细介绍。只要本领域所属技术人员实施本申请实施例中的方法所采用的计算机可读存储介质，都属于本申请所欲保护的范围。
本发明通过设定制程旗标维护表，在阵列基板玻璃经过机台时判定是否满足上机台的标准，并在制程完成时根据制程旗标维护表进行对应的旗标操作，防止未完成正常工序的产品后流至下个工序机台，造成机台污染风险；同时也可杜绝异常品后流至下一道工序，造成产品报废风险。
本领域内的技术人员应明白，本发明的实施例可提供为方法、系统、或计算机程序产品。因此，本发明可采用完全硬件实施例、完全软件实施例、或结合软件和硬件方面的实施例的形式。而且，本发明可采用在一个或多个其中包含有计算机可用程序代码的计算机可用存储介质(包括但不限于磁盘存储器、CD-ROM、光学存储器等)上实施的计算机程序产品的形式。
本发明是参照根据本发明实施例的方法、设备(系统)、和计算机程序产品的流程图和/或方框图来描述的。应理解可由计算机程序指令实现流程图和/或方框图中的每一流程和/或方框、以及流程图和/或方框图中的流程和/或方框的结合。可提供这些计算机程序指令到通用计算机、专用计算机、嵌入式处理机或其他可编程数据处理设备的处理器以产生一个机器，使得通过计算机或其他可编程数据处理设备的处理器执行的指令产生用于实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能的装置。
这些计算机程序指令也可存储在能引导计算机或其他可编程数据处理设备以特定方式工作的计算机可读存储器中，使得存储在该计算机可读存储器中的指令产生包括指令装置的制造品，该指令装置实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能。
这些计算机程序指令也可装载到计算机或其他可编程数据处理设备上，使得在计算机或其他可编程设备上执行一系列操作步骤以产生计算机实现的处理，从而在计算机或其他可编程设备上执行的指令提供用于实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能的步骤。
虽然以上描述了本发明的具体实施方式，但是熟悉本技术领域的技术人员应当理解，我们所描述的具体的实施例只是说明性的，而不是用于对本发明的范围的限定，熟悉本领域的技术人员在依照本发明的精神所作的等效的修饰以及变化，都应当涵盖在本发明的权利要求所保护的范围内。

Claims (10)

1.一种制程防污染管控方法，其特征在于，包括：
设定制程旗标维护表，所述制程旗标维护表包括每一制程上机台的判定标准以及制程完成时对制程旗标的操作；
在每一阵列基板玻璃上机台时，获取其对应的制程旗标；根据制程旗标维护表判定该阵列基板玻璃是否满足上机台的标准，如果满足，则正常进行制程；当一阵列基板玻璃对应的制程旗标不满足制程旗标维护表中上当前机台的判定标准时，暂停当前制程；
在制程完成后，根据旗标维护表对该阵列基板玻璃执行产生新的制程旗标或者消除指定制程旗标的操作，或者保持当前制程旗标。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：对于在制程中会将对应材料遗留在阵列基板玻璃中的机台群组设置对应的制程旗标。
3.根据权利要求1或3所述的方法，其特征在于：所述制程旗标包括Cvd Flag、MetalFlag、OC prFlag以及PRFlag，分别对应Cvd成膜制程、Metal成膜制程、有机光阻显影制程以及正型光阻显影制程。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述制程旗标维护表根据机台群组、途程标识符以及制程ID中的至少一项进行设定。
5.一种制程防污染管控系统，其特征在于，包括：
旗标设定模块，用于设定制程旗标维护表，所述制程旗标维护表包括每一制程上机台的判定标准以及制程完成时对制程旗标的操作；
旗标判定模块，用于在每一阵列基板玻璃上机台时，获取其对应的制程旗标；根据制程旗标维护表判定该阵列基板玻璃是否满足上机台的标准，如果满足，则正常进行制程；当一阵列基板玻璃对应的制程旗标不满足制程旗标维护表中上当前机台的判定标准时，暂停当前制程；
制程完成模块，用于在制程完成后，根据旗标维护表对该阵列基板玻璃执行产生新的制程旗标，或者消除指定制程旗标的操作，或者保持当前制程旗标。
6.根据权利要求5所述的系统，其特征在于：所述旗标设定模块中，对于在制程中会将对应材料遗留在阵列基板玻璃中的机台群组设置对应的制程旗标。
7.根据权利要求5或6所述的系统，其特征在于：所述旗标设定模块中，制程旗标包括Cvd Flag、Metal Flag、OC prFlag以及PR Flag，分别对应Cvd成膜制程、Metal成膜制程、有机光阻显影制程以及正型光阻显影制程。
8.根据权利要求5所述的系统，其特征在于：所述旗标设定模块中，制程旗标维护表根据机台群组、途程标识符以及制程ID中的至少一项进行设定。
9.一种电子设备，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述程序时实现如权利要求1至4任一项所述的方法。
10.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，该程序被处理器执行时实现如权利要求1至4任一项所述的方法。
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