CN117981050A

CN117981050A - 分析系统和方法

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Publication number: CN117981050A
Application number: CN202280064377.6A
Authority: CN
Inventors: R·郎; I·米特拉; 桥本雄一郎; 菅原佑香
Original assignee: F Hoffmann La Roche AG; Hitachi High Technologies Corp
Current assignee: F Hoffmann La Roche AG; Hitachi High Tech Corp
Priority date: 2021-09-23
Filing date: 2022-09-22
Publication date: 2024-05-03
Also published as: WO2023046837A1; EP4156228A1

Abstract

本文公开了一种分析系统(100，100')，其包括质谱仪(60)和耦接到所述质谱仪(60)的电离源(61)。所述分析系统(100，100')进一步包括分析流体系统(10，10')，所述分析流体系统经由下游阀(20)可连接到所述电离源(61)，以用于经由所述电离源(61)将样品注入所述质谱仪(60)中；下游泵(40)，其经由所述下游阀(20)可流体连接到所述电离源(61)，其中所述下游泵(40)流体连接到包括相应流体(41，42，43，44)的多个流体容器，所述流体包含用于校准所述质谱仪(60)的至少一种经浓缩组合物(44)以及用于稀释所述至少一种经浓缩组合物(44)的至少一种稀释剂(42，43)。所述分析系统(100，100')进一步包括控制器(90)，所述控制器被配置为控制所述下游泵(40)以便通过以预定稀释倍数自动混合至少一种经浓缩组合物(44)与至少一种稀释剂(42，43)来获得至少一种经稀释组合物(45)，将所述至少一种经稀释组合物(45)注入所述电离源(61)中，获得所述至少一种经稀释组合物(45)的质谱(62)并且基于对所述质谱(62)的评定(64)执行对所述质谱仪(60)的校准(63)。本文还公开了一种相应自动化分析方法，其包括：用选定的化学组合物对质谱仪(60)进行校准，如质量轴校验和/或调整。

Description

分析系统和方法

技术领域

本公开涉及一种自动化分析系统和方法，该方法包括用选定的化学组合物对质谱仪进行校准，如质量轴校验和/或调整。

背景技术

在质谱(MS)中，质谱的正确采集需要仪器调整以确保良好的灵敏度和峰形，并且以确保质量分辨率适合于样品的分析要求。调试之后是质量校准，包括调整仪器的m/z标度，这通常通过以下来执行：测量在已知m/z值处生成峰的样品，以及在必要的情况下调整m/z轴线以反映预期值。此外，通常在分析样品之前测量背景光谱以校验仪器中可能存在的污染物。

通常且具体是在高通量分析设置中，以固定的时间间隔执行质量轴校验以确保正确的离子识别，并且以在必要的情况下或作为常规操作的一部分执行质量轴调整。

已经例如在US2018/0047549 A1中描述了对质谱仪的校准。质量轴校验和/或调整组合物也是本领域已知的。例如WO 2012/135682 A2提出了聚乙烯化合物及其混合物；在Zhou等人(2012,Anal Chem 84:6016)中，使用碘化铯进行校准。此外，商业校准解决方案是可用的。

执行质量轴校验(MAC)或质量轴调整(MAA)通常需要密集且有经验/合格的用户交互以及数个手动步骤，这对于质谱仪的临床应用是不方便且不合适的。此类手动步骤可能包括：确保使用正确的校准溶液；手动制备溶液，包括处理挥发性和有毒溶剂(诸如甲醇)；硬件修改(例如，以便将校准溶液注入质谱仪中)；手动启动并逐步执行程序，包括评定和最终调整(存在错误、受伤、污染和系统损坏的风险)。

如果将质谱仪耦接到分析流体系统，诸如液相色谱(LC)系统，则流体系统通常还需要频繁的维护和质量控制程序。

具体地，随着样品注射量的增加，主要因为柱头处的颗粒堆积，HPLC柱可能会经历其性能的持续衰减，导致例如背景增加、保留时间改变、柱寿命缩短、成本增加、需要频繁维护等。

对HPLC柱进行反向冲洗可以实现更高的样品通量、更多的运行时间、更少的维护、更低的成本、更高的数据质量和更长久的持续校准。这通常通过手动地将柱从流动系统断开连接并将柱的出口侧重新连接到流动入口从而反转通过柱的流动方向来完成，但是为了不污染检测器，从柱流出的液体流通常被引导至废物。对于每根柱而言，在以具有正确流动方向的原始取向重新连接柱之前，这种手动操作程序可能需要15-20分钟或更长时间，接下来需要进行再平衡和质量控制。

除了会产生额外成本以及引入错误和故障甚至系统损坏的风险之外，这种手动操作程序还可能费力、费时且需要外部维修人员或实验室技术人员进行干预，在此时间期间，分析仪或其部件可能无法使用。

此外，对于需要多个连续样品注射周期的高通量应用，并且特别是可能需要不同注射条件和不同LC分离条件的不同样品的随机存取分析而言，在快速改变和调适针对预定顺序的每个样品的条件方面具有高灵活性和速度可能很重要。

具体地，可能需要频繁地交换用于同一流体流内和平行流体流之间的LC分离的溶剂/洗脱液。由于泵动作的性质、内部死体积以及流体和表面效应，液体交换是由新使用的液体重复稀释先前使用的液体的过程，可能引起长的平衡和信号稳定时间。因此，如果目标是实现高通量随机存取样品处理，特别是如果目标是无论样品序列和分离/分析条件如何都保持样品注射和分析的规则节奏，则该过程可能会出现瓶颈。

发明内容

在上述背景下，本公开的实施方案提供了相对于现有技术的某些非显而易见的优点和进步。具体地，发明人已经认识到需要改进包括质谱仪的自动化分析系统和方法，包括对质谱仪的校准。

尽管本公开的实施方案不限于特定的优点或功能，但是应当注意，本公开提供一种包括质谱仪的分析系统和一种涉及质谱仪的使用的自动化分析方法，其除了其他功能之外还能够实现：对质谱仪的自动校准，由此确保系统的持续分析性能，无需人工干预，并且因此增加用户便利性。其他优点如下：使系统故障时间最小化，同时消除错误、故障和系统损坏的风险。此外，使受伤或健康危害的风险最小化。这主要通过使用耦接到混合单元的下游泵来实现，该下游泵至少包括以下功能：根据需要稀释经浓缩校准溶液(组合物)，并且将经稀释组合物注入质谱仪中，同时绕过任何分析流体系统。通过将该功能集成到分析系统中，可能的是：利用分析系统可以根据需要自动选择和/或组合的一种或多种浓缩形式的标准化和优化的组合物，例如，基于给定质谱仪的特定m/z范围、基于电离模式、基于质谱仪的灵敏度等。使用可商购的制备的经浓缩组合物，除了消除手动制备的不便和上述风险之外，还能够在其中具有更广泛的组合物选择(占用更少的空间)并且还能够在组合物中使用较低的溶剂量，其中溶剂通常为挥发的、易燃的，并且存在健康和环境问题，由此降低了处理以及制备、储存和运输此类溶液的风险。具体地，由于此类溶剂通常出于分析原因在涉及质谱和/或液相色谱的使用或耦接到质谱的其他色谱技术的应用中使用，并且因此也存在于分析系统上，所以还方便地将这些用于在或当需要这些时并且以所需的量稀释经浓缩校准组合物。此外，根据一实施方案，可能的是：在校准失败或预期失败的情况下，通过例如调适稀释倍数来灵活地、动态地和自动地调适校准条件。

具体地，分析系统包括质谱仪和耦接到质谱仪的电离源；分析流体系统，其经由下游阀可连接到电离源以用于经由电离源将样品注入质谱仪中，以及下游泵，其经由下游阀可流体连接到电离源。下游泵流体连接到包括相应流体的多个流体容器，流体包含用于校准质谱仪的至少一种经浓缩组合物以及用于稀释至少一种经浓缩组合物的至少一种稀释剂，控制器被配置为控制下游泵以便通过自动混合至少一种经浓缩组合物与至少一种稀释剂来获得至少一种经稀释组合物，将该至少一种经稀释组合物注入电离源中，获得至少一种经稀释组合物的质谱并且基于对质谱的评定执行对质谱仪的校准。

“分析系统”是专用于样品的分析(可能用于体外诊断)的自动化实验室设备。根据需要和/或根据期望的实验室工作流程，分析系统可具有不同的配置。通过将多个仪器和/或模块耦接在一起，可获得附加配置。“模块”是具有专用功能的工作单元(通常在尺寸上比整个分析系统更小)。此功能可以是分析功能，但也可以是分析前功能或分析后功能，或者可以是分析前功能、分析功能或分析后功能中的任一种的辅助功能。具体地，模块可被配置为与一个或多个其他模块协作以用于例如通过执行一个或多个分析前步骤和/或分析步骤和/或分析后步骤来执行样品处理工作流程的专用任务。因此，分析系统可包括一个分析设备或具有相应工作流的任何此类分析设备的组合，其中分析前模块和/或分析后模块可耦接到单独的分析设备或可由多个分析设备共享。可替代地，可通过集成在分析仪器中的单元来执行分析前功能和/或分析后功能。分析系统可包括功能单元，诸如用于样品和/或试剂和/或系统流体的吸移和/或泵送和/或混合的液体处理单元，以及用于分类、储存、运送、识别、分离以及检测样品中的分析物的功能单元。具体地，分析系统可以包括分析流体系统或模块、质谱仪(MS)系统或模块或模块以及电离源(IS)系统或模块(作为分析流体系统与质谱仪之间的接口)，要么可区分为彼此耦接的单独和可交换单元，要么至少部分集成到公共系统外壳中。

“质谱仪(MS)”为包括质量分析仪的分析模块，该质量分析仪被设计成基于分析物的质荷比进一步分离和/或检测分析物。根据实施方案，质谱仪是快速扫描质谱仪。根据一实施方案，质谱仪为串联质谱仪，其能够选择母体分子离子，通过碰撞诱导的碎片化生成碎片，并根据其质荷(m/z)比分离碎片或子离子。根据一实施方案，质谱仪是本领域已知的单或三重四极质谱仪。除四极质量分析仪外，也可使用其他类型的质量分析仪，包括飞行时间质量分析仪、离子阱质量分析仪或它们的组合。

“电离源(IS)”为将分析流体系统耦接到MS的接口，被配置为产生带电分析物分子(分子离子)并将带电分析物分子从液相转变到气相。根据某些实施方案，电离源为电喷雾电离(ESI)源或加热电喷雾电离(HESI)源或大气压化学电离(APCI)源或大气压光电离(APPI)或大气压激光电离(APLI)源。然而，接口可包括双电离源，例如ESI源和APCI源两者或模块化可交换电离源。

电离源的典型部件为雾化器和采样毛细管，通常相对彼此正交或同轴线布置。离开LC通道的LC洗脱物被引导通过包括喷雾器针的探头。以这种方式，LC洗脱物在喷雾器针下游的体积中雾化，在该体积处发生电离并且由此获得的带电分析物分子被带入气相。提供采样装置(例如，采样毛细管)以收集气相中的离子并将它们引导至质谱仪中。

电离源可以进一步包括组件以提供帘气(例如，N2)，该帘气使进入MS的背景离子(例如，溶剂簇)减少。该组件可以具有帘板以及用于提供帘气的孔口组件。电离源可以进一步包括辅助气体和雾化器气体的供应。

为了优化电离条件，还可以直接于电离源之前加入补加流量来调整溶剂组合物，以调整pH值、盐类、缓冲剂或有机物含量。

这种电离源是本技术领域已知的，在此不作进一步阐明。

如本文所使用的，术语“控制器”可以指处理单元，诸如微处理器、微控制器、精简指令电路(RISC)、专用集成电路(ASIC)、逻辑电路以及能够执行本文描述的功能/方法的任何其他电路或处理器，并且具体地被配置为控制下游泵以便通过自动混合至少一种经浓缩组合物与至少一种稀释剂来获得至少一种经稀释组合物，将该至少一种经稀释组合物注入电离源中，获得至少一种经稀释组合物的质谱并且基于对质谱的评定执行对质谱仪的校准。

控制器可集成到分析系统中，或者可以是经由有线或无线的直接连接或经由网络接口装置有线或无线地间接地通过通信网络(例如广域网，例如互联网或卫生保健提供者的局域网或内网)与分析系统通信的独立逻辑实体。在一些实施方案中，处理器可与数据管理单元形成一体，例如在计算装置(诸如台式计算机、便携式电脑、智能手机、平板电脑、PDA等)上实现。该处理器可由服务器计算机组成，和/或跨/在多个分析系统之间分布/共享。此外，分析系统可包括经由有线或无线(例如，红外、蜂窝、 )与控制器进行通信的、或经由远程PC/服务器或基于云的系统进行通信的远程装置、服务器和基于云的元件。控制器还可构造成控制分析系统，以使工作流程和工作流程步骤由分析系统进行。

如本文所使用的，术语“分析流体系统”是指包括至少一种流体流并且被配置为制备用于质谱分析的样品和/或将制备的样品转移到质谱仪的任何流体系统，具体是用于在通过质谱仪检测之前分离样品中的感兴趣的分析物。

“流体流”是一种流体路径，通过该流体路径，液体可以流动，并且具体地，通过该流体路径，来自样品注射点的样品可以被转移到质谱仪；并且通过该流体路径，样品可以经历分离和/或纯化过程。通过该流体流的不同部分的流体连接可以是不连续的。这是因为流体流可包括诸如开关阀之类的元件，该元件可建立替代连接并在不同时间调节流体流的不同部分之间的流体流动。

根据一实施方案，流体流可以包括至少一个液相色谱(LC)柱，并且分析流体系统为或包括液相色谱(LC)系统。

“液相色谱系统或LC系统”是用于进行液相色谱分析的分析器件或分析器件中的模块或单元。LC系统可具体化为具有一个流体流的单通道系统或具有多个流体流的多通道系统，该系统可包括一个或多个并联和/或串联布置的LC柱。LC系统还可包括诸如进样器、阀、液体源、流体连接件和部件的元件(例如，用于混合液体、液体脱气、液体回火等)、一个或多个传感器(诸如压力传感器、温度传感器等)，以及特别地至少一个LC泵。该列表并不详尽。该至少一个LC柱可以是可互换的。具体地，LC系统可包括比流体流更多的LC柱，其中多个LC柱可以是可选择的，例如可互换地耦接至同一流体流。毛细管也可用来绕过LC柱。流体流可包括多个子流。

“液相色谱或LC”是一种分析过程，其使样品注入器所注入的样品通过LC柱进行色谱分离以便例如将目标分析物与基质成分分离，该基质成分例如是在样品制备后剩余的基质成分，其仍可能干扰后续检测例如质谱检测，和/或以便将目标分析物彼此分离，以便对其进行单独检测。“高效液相色谱”或HPLC、“超高效液相色谱”或UHPLC、“微型液相色谱”或μLC和“小口径液相色谱”或小口径LC是在压力下执行的液相色谱的形式。

“LC柱”可指用于执行色谱性质的分离的柱、筒、毛细管等中的任一种。柱通常填充或装载有固定相，通过该固定相泵送流动相，以便在所选择的条件下(例如，根据目标分析物的极性或log P值、尺寸或亲和力，如众所周知的那样)捕集和/或分离和洗脱和/或转移目标分析物。该固定相可为微粒状或珠状或多孔整料。然而，术语“柱”也可指未填充或装载有固定相而是依赖于内毛细管壁或几何结构的表面积来实现分离的毛细管或通道。柱阵列色谱提供了一个实例，其中分离床是通过蚀刻掉固体硅晶片上的间隙体积而形成的，留下柱阵列。通过使用限制峰分散的优化流量分配器串联床段，可以将所得通道折叠到较小的占位面积上。这将创建一个固定相支撑结构，该结构以可重现的有序模式进行组织。

LC柱可与一个或多个其他LC柱互换和/或并行或顺序操作。LC柱可以例如是快速捕集和洗脱LC柱(或简称“捕集柱”)、HPLC柱或UHPLC柱等，且可以是任何尺寸的柱，包括微型LC柱和小口径LC柱、或柱阵列LC柱。在捕集柱的情况下，可以选择固定相，其保留目标分析物，而任何盐类、缓冲剂、洗涤剂和其他基质成分都不会被保留并会被洗去。在此过程之后，通常是用不同的流动相或溶剂梯度洗脱分析物，例如，在反向冲洗模式下。视分析物而定，在某些情况下可以分离一些分析物。另一方面，如果分析物具有相同的质量(同重元素)和/或在多反应监测(MRM)中子离子光谱重叠，当涉及到质谱时，更广泛的色谱分离是可取的。在这种情况下，在HPLC或UHPLC柱中进行分离可能是有利的。

“液相色谱泵或LC泵”是一种高压泵，其压力容量可能会有所不同，但可通过LC通道产生一致且可重现的体积流量。HPLC中的压力通常可高达60MPa或约600个大气压，而UHPLC和μ-LC系统已开发用于在甚至更高的压力下工作(例如高达140MPa或约1400个大气压)，因此在LC柱中能够使用小得多的粒径(<2μm)。LC泵可以配置为二元泵或甚至四元泵，例如，在需要通过逐渐改变多达四种洗脱溶剂之间的比率来使用洗脱梯度的情况下。

根据一个实施方案，LC泵可产生60MPa至140MPa(通常75MPa至100MPa，并且更通常地80MPa)的压力。

根据一个实施方案，LC泵可配置为以1μl/min和500μl/min之间或更大的流速(通常高达1500μl/min)操作，并且更通常地以100μl/min至300μl/min之间的流速和例如约±5％或更小的精度操作。

关于流体流的术语“液体”是指常用于液相色谱中的液体，例如用作溶剂或所用溶剂的混合物，例如用作流动相或洗脱液(洗脱溶剂)，并且是本领域已知的。

“下游泵”是至少在功能上区别于LC泵的辅助泵，可能是多功能泵，至少包括以下功能：根据需要稀释经浓缩校准溶液(组合物)，并将经稀释组合物注入电离源中的功能，同时经由下游阀绕过分析流体系统。另一个可能的功能是连接到在分析流体系统的两个连续流体流之间的电离源，以便在来自后续流体流的液体进入导管之前，用洗涤液将来自先前流体流的液体从下游阀与电离源之间的导管洗掉，同时经由下游阀绕过分析流体系统。另一种可能的功能是连接到包括HPLC柱的分析流体系统的至少一个流体流，以便经由下游阀用洗涤液反向冲洗并且由此清洁HPLC柱。总的来说，与LC泵相比，下游泵是低压且高容积(高流速)泵，流体连接到下游阀。通常地，根据本公开，下游泵也是低精度泵，因而与LC泵相比，它具有更简单的结构和更低的价格。根据本公开的实施方案，下游泵是正压泵。经由流体选择阀可以使用适合于产生正压以便主动从通过在反向冲洗中的该至少一个HPLC柱和/或通过阀-至-检测器导管的液体源中泵送洗涤液或流动相的任何泵，例如，膜式泵/隔膜泵、单柱塞高速泵、注射器活塞泵、齿轮泵等。根据实施方案，正压和主动泵送可以通过向连接到上游进气阀的密封液体容器中施加气动压力(例如通过压缩气体，例如通过氮源)来实现。

根据一实施方案，分析流体系统包括多个流体流，其中至少一个流体容器包括洗涤液，并且其中控制器被进一步配置为控制下游泵和下游阀以连接到在两个连续的流体流之间的电离源，以便在来自后续流体流的液体进入导管之前用洗涤液将来自先前流体流的液体从下游阀与电离源之间的导管洗掉。

根据一实施方案，分析流体系统包括至少一个流体流，该流体流包括HPLC柱，其中至少一个流体容器包括洗涤液，并且其中控制器还被配置为控制下游泵和下游阀以连接到至少一个流体流，以便用洗涤液反向冲洗并且由此清洁至少一个HPLC柱。

控制器可以被配置为以规则时间和/或在检测到该至少一个流体流中压力上升至预定阈值以上时和/或在检测到性能降低至预定阈值以下时自动反向冲洗该至少一个HPLC柱，例如，通过在使用该至少一个HPLC柱时监测如信号背景增加、分析物保留时间变化、峰形改变等数据。

根据一实施方案，控制器可以被配置为通过控制包括下游阀的任一个或多个阀的开关来管理以下：流体流-至-质谱仪连接时间，即该至少一个流体流与电离源之间的连接时间；下游泵-至-质谱仪连接时间，即下游泵与电离源之间的连接时间；以及下游泵-至-流体流连接时间，即该至少一个流体流与下游泵之间的连接时间。

根据一实施方案，流体流-至-质谱仪连接时间是固定的并且针对每个流体流是相同的。另外，当下游泵用于将来自先前流体流的液体从下游阀与电离源之间的导管洗掉时，下游泵-至-质谱仪连接时间可以是固定的，并且是流体流-至-质谱仪连接时间的一小部分，由此引起至少暂时以规则节奏连续开关。如果下游泵-至-质谱仪连接时间是流体流-至-质谱仪连接时间的20％或更少(通常10％或更少、或更通常5％或更少)，并且下游泵在例如流速和/或洗涤液方面的条件被如此调整以使得下游泵-至-质谱仪连接时间最小化，这可能是特别有利的。按绝对值计算，下游泵-至-质谱仪连接时间可以短至几秒，通常5s或更少、更通常3s或更少。

根据一实施方案，下游泵被配置为通过HPLC柱和/或通过下游阀与电离源之间的导管以高于流体流的流速(例如，高数倍，例如，5倍、10倍、20倍或更高)的流速泵送洗涤液。例如，如果是通常流速为约1μL/min的μ-LC，洗涤泵流速为5μL/min已经比较有利了。如果流体流的流速约为100μL/min，下游泵的有效流速可以约为500μL/min至1000μL/min或更高。根据一实施方案，流体流的流速为约440μL/min并且下游泵的流速为其的约5至10倍。根据一些实施方案，下游泵的流速高达5000μL/min是可能的。流速可以是变化的，这取决于洗涤液是否被引导至HPLC柱或阀-至-检测器导管。根据一实施方案，下游泵被配置为以与至少一种流体流相似的流速(例如，约500μL/min或更小，例如440μL/min、100μL/min或更小，例如50μL/min或更小，例如30μL/min)将至少一种经稀释组合物注入电离源中。

“洗涤液”可以是适合于洗掉并最终溶解在多次样品注射周期中堆积在HPLC柱头的颗粒物、吸附的基质成分等的液体。洗涤液可以是适合于洗掉并最终溶解来自于阀-至-检测器导管的样品的最终痕迹、同时还与所使用的检测器兼容(例如质谱仪)的液体。洗涤液可以与用于色谱分析的洗脱溶剂相同或相似，这取决于柱的类型、或样品的类型以及通过柱的分析物可能是不同的。例如，对于通常使用反相色谱的分析物，适合的溶剂可以是有机溶剂，如甲醇、乙腈、四氢呋喃、和/或异丙醇。这些溶剂也可以相互混合和/或与水混合。酸性或碱性添加剂可以加入以调节pH。常用的添加剂可以包括甲酸、甲酸铵、乙酸铵等。例如，对于通常使用正常相色谱的分析物，适合的溶剂可以包括如己烷、与极性有机溶剂(诸如乙酸乙酯)混合的庚烷、氯仿或2-丙醇。洗涤液可以为相同或不同的，分别用于对HPLC柱进行反向冲洗以及用于洗涤下游阀与电离源之间的导管，这取决于HPLC柱。

根据一实施方案，用于稀释至少一种经浓缩组合物的至少一种稀释剂和洗涤液为相同的液体。

为了本公开的目的并且关联反向冲洗，为简单起见，术语“HPLC”也可以包括UHPLC或其他高性能柱(如μ-LC和小孔径柱)，其不同于快速捕集和洗脱LC柱，在分析运行期间通常不会经历反向冲洗，并且通常需要通过以下方式进行手动干预：将柱断开连接，通过以反向取向重新连接柱来反转流动方向，以及将流引导至废物而非检测器以便对柱进行反向冲洗以实现洗涤柱的唯一目的。

术语“阀”是指控制、重定向、限制或截断流的流量调节装置，具体是LC开关阀，即控制连接到孔的元件之间的流量的多孔阀。这通常是通过移动一个或多个阀导管以切换不同元件之间的通信来实现的。元件可经由另外的导管(如管道、管、毛细管、微流通道等)以及且通过配件(如螺钉/螺母和套圈)或替代的液密密封件流体连接到孔，例如，通过夹紧机构保持在适当的位置。LC开关阀通常能够允许液体压力达到用于HPLC或更高的数量级。

具体地，“下游阀”为在朝向电离源流通流体流的法向方向上相对于分析流体系统位于下游的LC开关阀。下游阀可以包括用于每个流体流的孔、用于通向电离源的导管的孔、一个或多个下游泵孔以及一个或多个废物孔。

根据实施方案，下游阀具有内径小于0.6mm(通常在约0.5mm至0.2mm之间、更通常约0.4mm、甚至更通常约0.25mm)的内阀导管。然而，内阀导管可以具有在通常使用范围内的其他直径。

根据实施方案，下游阀具有约500ms或更少的标准开关时间。但开关时间也可以长于500ms。

根据一实施方案，下游泵经由洗涤选择阀连接到下游阀，其中洗涤选择阀被配置为交替地经由下游阀连接到该至少一个流体流中的任何一个流体流并且以连接到通向电离源的导管。

“洗涤选择阀”是位于下游泵和下游阀之间的LC开关阀，且包括下游泵入口孔、每个被反向冲洗的流体流的洗涤出口孔，其中出口孔和相应的流体流之间的流体连接是经由下游阀进行的，且最终经由下游阀可连接到阀-至-检测器导管的一个废物出口孔进行的。

根据实施方案，洗涤选择阀经由流体连接到下游阀的相应三通阀可连接到该至少一个流体流，该三通阀包括洗涤选择阀入口孔，下游阀出口孔和废物出口孔。

如本文所使用的，术语“经浓缩组合物”涉及化合物的混合物，该化合物的混合物因其在校准质谱仪中的特定适用性而选择性地被选择，并且具有比稀释后获得的用于校准的最终浓度更高的相应浓度。在一实施方案中，该组合物包含指定的化合物，在进一步的实施方案中，该组合物基本上由指定的化合物组成，在进一步的实施方案中，该组合物由指定的化合物组成。在一实施方案中，该组合物为液体组合物，在进一步的实施方案中，该组合物在标准条件下为液体。

术语“经稀释组合物”是指通过自动混合至少一种经浓缩组合物与至少一种稀释剂来获得的组合物，以便获得校准质谱仪所需的组合物中每种化合物的最终浓度。

如本文所使用的，如果没有另做标注，则术语“标准条件”涉及IUPAC标准环境温度和压力(SATP)条件，即在一实施方案中，25℃的温度和100kPa的绝对压力；同样在一实施方案中，标准条件包括pH为7。此外，如果没有另外说明，则术语“约”涉及具有相关领域公认的技术精度的指示值，在一实施方案中涉及指示值±20％，在进一步的实施方案中为±10％，在进一步的实施方案中为±5％。此外，术语“基本上”表示不存在对所指示的结果或使用有影响的偏差，即潜在偏差不会导致所指示的结果偏离超过±20％，在进一步的实施方案中超过±10％，在进一步的实施方案中超过±5％。因此，“基本上由......组成”意指包括所指定的组分，但排除其他组分，除了作为杂质存在的材料、作为用于提供组分的过程的结果而存在的不可避免的材料，以及为了实现本发明的技术效果以外的目的而添加的组分。例如，使用短语“基本上由......组成”定义的组合物涵盖任何已知的可接受的添加剂、赋形剂、稀释剂、载体等。在一实施方案中，基本上由一组组分组成的组合物将包含小于5重量％、在进一步的实施方案中小于3重量％、在进一步的实施方案中小于1重量％、在进一步的实施方案中小于0.1重量％的一种或多种非指定组分。

根据一实施方案，至少一种经浓缩组合物包含(i)碘化铯；(ii)乙胺和/或甲酸；和(iii)甲醇和/或水；以及任选地(iv)环孢素A和/或5-(4-羟基苯基)-5-苯基乙内酰脲和/或甲酸铵。

根据一实施方案，在至少一种经浓缩组合物中：

(i)碘化铯具有0.1μg/mL至100mg/mL的浓度；

(ii)乙胺在存在的情况下具有0.01μg/mL至1mg/mL的浓度，并且

甲酸在存在的情况下具有0.001％(v/v)至10％(v/v)的浓度

(iii)环孢素A在存在的情况下具有0.01μg/mL至1000μg/mL的浓度，5-(4-羟基苯基)-5-苯基乙内酰脲在存在的情况下具有0.01μg/mL至1000μg/mL的浓度，甲酸铵在存在的情况下具有0.01mM至1M的浓度；

(iv)加入极性溶剂，诸如甲醇、水或其混合物至100％；

根据一实施方案，通过将至少一种经浓缩组合物与至少一种稀释剂以1:99至99:1、通常1:99至20:80、例如10:90的比率混合来获得至少一种经稀释组合物。

术语“极性溶剂”是技术人员所理解的。优选地，该术语涉及溶剂或溶剂的混合物，该溶剂或溶剂的混合物具有至少1.5D、优选至少1.7D的偶极矩。通常，极性溶剂为甲醇、水、乙醇、乙腈、正丙醇、异丙醇，或前述极性溶剂中的至少两者的任意组合的混合物。更典型地，极性溶剂为甲醇、水或其混合物。

根据一实施方案，在至少一种经浓缩组合物中：碘化铯的浓度为500μg/mL，乙胺(在存在的情况下)的浓度为10μg/mL，甲酸(在存在的情况下)的浓度为1％(v/v)，甲醇的浓度为30％(v/v)，并且加入水至100％。

根据一实施方案，至少一种经浓缩组合物包含碘化铯、乙胺、甲酸、甲醇和水。

根据一实施方案，至少一种稀释剂为以下中的任一者：甲醇、乙腈、乙醇、丙醇、异丙醇，或其任意组合。

根据一实施方案，通过将至少一种经浓缩组合物与作为稀释剂的甲醇和乙腈的组合混合来获得至少一种经稀释组合物，相应比率为10:45:45，以便获得10:90的稀释倍数。

在一实施方案中，组合物包含本文指定浓度的指定组分。除非另有说明，添加极性溶剂(例如甲醇、水或其混合物)至100％。在一实施方案中，组合物中包含指定浓度的甲醇，并且添加水至100％；因此，在一实施方案中，组合物中未考虑的任何份额为水。如本领域技术人员所理解的，术语“X的浓度为到100％”涉及以提供组合物中的其他化合物具有所需浓度所需的体积的量添加化合物X。因此，添加至100％的化合物X通常为液体，在一实施方案中为水或甲醇，在进一步的实施方案中为水。在一实施方案中，组合物的组分的纯度独立地选自至少90％，在一实施方案中至少95％，在进一步的实施方案中至少98％，在进一步的实施方案中至少99％，至少99.5％，在进一步的实施方案中至少99.9％。

术语“校准”在本文中以与本领域技术人员的典型使用一致的广泛意义来使用。因此，术语校准包括在指定条件下建立用测量标准获得的数量值与经校准的仪器的对应数量值之间的关系的操作，即严格意义上的校准。然而，校准也可以为对测量值的验证。术语校准进一步包括调整或重新调整经校准的仪器或其输出以便与用测量标准获得的前述数量值一致的措施，即通常的、更广泛意义上的校准。因此，校准可以具体地是质谱中的质量轴校验(MAC)和/或质量轴调整(MAA)。在一实施方案中，组合物为用于正离子模式和用于负离子模式MS的通用校准溶液。在一实施方案中，在校准组合物至少包含乙胺、甲酸和碘化铯以及甲醇和水中的至少一者的情况下，主信号的m/z值在正离子模式下为：46、133、393、653、912、1172、1432、1692和/或1952，在一实施方案中为46.066、132.905、392.715、652.524、912.334、1172.144、1431.953、1691.763和/或1951.572；以及在负离子模式下为：45、127、387、647、906、1166、1426、1686和/或1946，在一实施方案中为44.998、126.905、386.714、646.524、906.333、1166.143、1425.953、1685.762和/或1945.572。在一实施方案中，组合物进一步包含环孢素A、5-(4-羟基苯基)-5-苯基乙内酰脲和甲酸铵中的至少一者，并且所得额外离子的m/z值为601.921、1202.841、1219.841、1224.841、1334.751和269.0848(在正离子模式下)，以及267.0848和1200.841(在负离子模式下)。因此，在一实施方案中，校准是从46到1952的m/z范围内的校准(在正离子模式下)，和/或从45到1946的m/z范围内的校准(在正离子模式下)。

有利地，在本公开的基础工作中发现，本文描述的组合物可用作适合在正离子和负离子模式下使用的质谱中的通用校准溶液，提供在宽范围内的m/z值上进行校准的选择，并且提供在整个范围内的适当数量的校准点。此外，即使在使用质谱仪的典型温度下，该溶液也能稳定至少一年。

在一实施方案中，校准包括执行质量轴校验(MAC)，即验证质量轴是否被正确地调整。在一实施方案中，所述质量轴校验包括评定如本文所指定的经稀释组合物的质谱，并验证针对如上所指定的m/z比中的任何一个或多个或所有m/z比，信号为在预定参考范围内获得的。在一实施方案中，如果m/z比是在所述预定范围内获得的，则该方法可以指示质量轴校验成功通过，随后终止该方法。如果m/z比中的至少一个m/z比不是在所述预定范围内获得的，则该方法可以指示质量轴校验失败；在这种情况下，该方法可以继续执行如下文所指定的质量轴调整步骤。

在一实施方案中，校准包括执行质量轴调整(MAA)，即调整或重新调整质谱仪的至少一个参数，使得针对上文指定的m/z比中的任何一个或多个或所有m/z比测量的m/z值为在预定参考范围内获得的。为实现上述质量轴调整而可调整的参数对于本领域技术人员来说是已知的，并且可以包括硬件和软件/设置调整/调试，如调整RF DAC(射频数模转换器)、DC(直流电)和电压值等，最终包括离子源参数的调整。

具体地，基于对至少一种经稀释组合物的质谱的评定，在质量轴校验和/或质量轴调整失败或预期失败的情况下，控制器可以被进一步配置为在重复所述质量轴校验和/或质量轴调整之前执行选自以下的任何一种或多种动作：调适至少一种经浓缩组合物的稀释倍数、调节一个或多个质谱采集参数、执行维护程序。

质量轴校验和/或质量轴调整可能失败的原因可能是由于下游泵的性能限制(通常低于如上所述的LC泵)，其中混合比精度为约+/-5％，并且混合比精度可以是约+/-30％，因此导致在跨不同的分析系统的约30％与约200％之间变化的可变信号强度。信号和信号强度的变化也可能是由于校准溶液中组分的化学降解和/或老化、质谱仪组件的污染、下游泵组件(包括混合单元、毛细管、阀等)的老化和部分堵塞。上述部件的污染可能引入干扰，这最终可能抑制或干扰信号，其中校准溶液中的不同化合物的抑制和干扰程度可能有所不同，因为它们不同的理化性质导致不同的电离效率。跨宽m/z范围内，需要在质谱仪的动态范围内有足够的信号强度，即与背景噪声区分开但不饱和(即不太高也不太低)的可检测信号，以用于成功进行质量轴校验和质量轴调整。

术语“评定质谱或对质谱的评定”是本领域技术人员所理解的。在一实施方案中，术语涉及测定通过质谱仪从样品或至少一种经稀释组合物获得的一种或多种信号的半定量或定量测量与引起所述信号的离子的m/z值的相关图。可以提供质谱或m/z图谱的图形表示，例如作为质心图和/或作为连续图。M/z图谱可以是通过扫描跨质谱仪的m/z可测量范围获得的全扫描图谱或通过扫描跨m/z可测量范围内的选定m/z范围获得的部分扫描图谱。具体地，可以通过在另一个之后运行m/z扫描，在任何给定时间帧中间隔地或连续地重复获得多个完整或部分m/z扫描数据。具体地，质谱参数可以包括一个或多个m/z峰的形状或面积、信号/噪声比、m/z峰高度、m/z峰高度的比、背景信号强度、最大峰值的m/z值、m/z质量位置、一个或多个意外m/z峰的存在以及一个或多个意外m/z峰的高度中的任一者或多者。

由于导致失败的条件可能是累积的，即随着时间的推移而进展，并且因此每次执行质量轴校验和/或质量轴调整时都可以监视进展，因此质量轴校验和/或质量轴调整的失败可以预见。因此，即使在质量轴校验和/或质量轴调整没有失败的情况下，因为质谱参数仍在参考范围内，本文提到的动作中的任一者都可以在下一个或稍后的质量轴校验和/或质量轴调整之前调度，以便防止以其他方式预期的失败。

“调适至少一种经浓缩组合物的稀释倍数”是指改变至少一种经浓缩组合物与至少一种稀释剂之间的混合比率，例如通过增加或减少稀释倍数，例如从10:90至5:95或15:85或20:80，使得在经稀释组合物中新获得的化合物的浓度下，在质谱的测定时导致相对于参考范围或动态范围太低或太高的任何一个或多个相应信号将落入下一次频谱测定的范围内。改变混合比还可以包括改变经浓缩组合物(如果有超过一种可用，例如，用化合物的不同组合和/或至少部分不同浓度的相同化合物)，和/或改变至少一种稀释剂或相对混合比。

术语“调整质谱采集参数”可以指调整质谱仪的灵敏度，以便增加或减少信号强度、跨谱或甚至单个峰/信号的总信号强度，或者调整m/z范围，调整母分子离子的选择和相对碰撞引起的碎裂，调整有助于改变采集参数的离子源参数，例如帘气压力、补充流条件、电压等。

术语“维护程序”是指电离源(IS)和/或质谱仪(MS)维护程序，该程序为旨在分别解决电离源和/或质谱仪中的技术问题的根本原因的程序，该技术问题是质量轴校验和/或质量轴调整失败的原因。可能的根本原因可能是电离源和/或质谱仪中污染物的堵塞或积累，诸如导致分析系统的性能下降的分析物和基质成分。根据一实施方案，IS和/或MS维护程序是IS清洁程序、IS和/或MS加热驱除程序以及干预程序中的任意一者或多者。

“IS清洁程序”是指自动启动并执行的电离源清洁程序，包括将液体注入电离源中。液体注入可以包括通过增加流量(例如高达1或甚至数mL/min)通过喷雾器针来吹扫。可选地，其可以进一步包括增加温度和/或气压和/或改变所施加的电势。

“IS和/或MS加热驱除程序”是指自动启动和执行的程序，包括增加IS或IS部件和/或MS部件、特别是金属部件的温度，例如高达200℃的温度，以便加速最终吸附物的解吸动力学。加热可能另外有利于在排气后更快地重建真空条件，例如高达10^-10mbar的压力条件。

“干预程序”是指半自动程序，包括IS或IS部件和/或MS部件的手动清洁和/或修理和/或更换；并且包括在手动干预之前IS和/或MS温度的自动降低、以及在手动干预之后IS和/或MS温度的自动增加、并且/或者在手动干预之前IS和/或MS中的真空条件的自动降低或去除以及在人工干预后IS和/或MS中的真空条件的自动重建。这样，手动步骤减少到最少，并且过程也大大简化。此外，由于系统自动为手动干预做好准备并且在手动干预后自动返回到运行状态，因此将手动干预时间降至最低。

根据某些实施方案，IS和/或MS维护程序进一步包括以下中的一者或多者：气体流量(例如帘气体)的自动增加，以便降低IS和/或MS温度；IS和/或MS从电源的自动断开(例如，在手动干预之前)以及在手动干预后的最终自动重新连接；通过自动联锁激活/停用对IS和/或MS的手动访问的自动启用/禁用；以及IS和/或质谱仪中的真空条件的自动更改。

本文还公开了一种包括质谱仪的使用的自动化分析方法，该方法包括：经由布置在分析流体系统下游的下游阀将下游泵连接到耦接到质谱仪的电离源，其中下游泵流体连接到包括相应流体的多个流体容器，该流体包含用于校准质谱仪的至少一种经浓缩组合物以及用于稀释至少一种经浓缩组合物的至少一种稀释剂。该方法进一步包括：控制下游泵以便通过以预定稀释倍数自动混合至少一种经浓缩组合物与至少一种稀释剂来获得至少一种经稀释组合物，将至少一种经稀释组合物注入电离源中，获得至少一种经稀释组合物的质谱，基于对质谱的评定执行对质谱仪的校准。

根据一实施方案，执行校准包括校验质量轴和/或调整质量轴。

根据一实施方案，基于对至少一种经稀释组合物的质谱的评定，在质量轴校验和/或质量轴调整失败或预期失败的情况下，该方法包括在重复质量轴校验和/或质量轴调整之前执行选自以下的任何一个或多个动作：调适至少一种组合物的稀释倍数、调节一个或多个质谱采集参数、执行维护程序。

根据一实施方案，该方法包括控制下游泵和下游阀以连接到分析流体系统的两个连续流体流之间的电离源，以便在来自后续流体流的液体进入导管之前，用洗涤液将来自先前流体流的液体从下游阀与电离源之间的导管洗掉。

根据一实施方案，该方法包括控制下游泵和下游阀以连接到包括HPLC柱的分析流体系统的至少一个流体流，以便用洗涤液反向冲洗并且由此清洁HPLC柱。

根据一实施方案，该方法包括经由洗涤选择阀将下游泵连接到下游阀，以及交替地经由下游阀将洗涤选择阀连接到该至少一个流体流中的任何一个并且以连接到电离源。

根据一实施方案，该方法包括经由流体连接到下游阀的相应三通阀将洗涤选择阀连接到该至少一个流体流，该三通阀包括洗涤选择阀入口孔，下游阀出口孔以及废物出口孔。

根据一实施方案，该方法包括以规则时间和/或在检测到该至少一个流体流中压力上升至预定阈值以上时和/或在检测到性能降低至预定阈值以下时自动反向冲洗该至少一个HPLC柱，例如，通过在使用该至少一个HPLC柱期间监测如信号背景增加、分析物保留时间变化、峰形改变等数据。

根据一实施方案，该方法包括通过控制器控制下游阀、洗涤选择阀、三通阀中的任何一者或多者的开关来自动管理：流体流-至-质谱仪连接时间，即该至少一个流体流与电离源之间的连接时间；下游泵-至-质谱仪连接时间，即下游泵与电离源之间的连接时间；以及下游泵-至-流体流连接时间，即该至少一个流体流与下游泵之间的连接时间。

根据一实施方案，该方法包括固定流体流-至-质谱仪连接时间，例如针对每个流体流具有相同的持续时间，并且当下游泵用于将来自先前流体流中的液体从下游阀与电离源之间的导管洗掉时，该方法可以包括还固定下游泵-至-质谱仪连接时间，并且以为流体流-至-质谱仪连接时间的一小部分，由此引起至少暂时以规则速度连续开关。

其他和进一步的目的、特征和优点将通过结合附图和所附权利要求的示例性实施方案的以下描述而显现。应注意，权利要求的范围由其中的引用而不是由本说明书中阐述的特征和优点的具体讨论来限定。

附图说明

当结合以下附图阅读时，可以最佳地理解以下对本公开的实施方案的详细描述，在附图中，相同的结构用相同的参考编号表示，并且在附图中：

图1示意性地示出分析系统和分析方法，该分析方法包括使用下游泵来校准质谱仪。

图2示意性地示出根据一实施方案，在校准失败或预期失败的情况下，图1的方法的进一步的细节。

图3示意性地示出图1的分析系统和分析方法的进一步的实施方案，其中下游泵具有进一步的功能。

图4示意性地示出图1的分析系统和分析方法的更进一步的实施方案，其中下游泵具有更进一步的功能。

技术人员应理解，图中的元件是为了简单和清晰起见而示出的，并且其并不一定按比例绘制。例如，图中一些元件的尺寸可相对于其他元件予以放大，以帮助增进对本公开的实施方案的理解。

具体实施方式

图1示出了分析系统100的示意性示例，其包括质谱仪60和耦接到质谱仪60的电离源61；分析流体系统10，其经由下游阀20可连接到电离源，以用于经由电离源61将样品注入到质谱仪60中；下游泵40，其经由下游阀20可流体连接到电离源61，其中下游泵40流体连接到包括相应流体41、42、43、44的多个流体容器，流体包含用于校准所述质谱仪60的至少一种经浓缩组合物44以及用于稀释至少一种经浓缩组合物44的至少一种稀释剂42、43。分析系统100进一步包括控制器90，该控制器被配置为控制下游泵40以便通过以预定稀释倍数自动混合至少一种经浓缩组合物44与至少一种稀释剂42、43来获得至少一种经稀释组合物45，将至少一种经稀释组合物45注入电离源61中，获得至少一种经稀释组合物45的质谱62并且基于对质谱62的评定64执行对质谱仪60的校准63。

具体地，分析流体系统10包括多个流体流11、12、13，而下游阀20在这种情况下包括分别用于每个流体流11、12、13的流体流孔21、22、23和分别用于每个流体流11、12、13的废物孔21'、22'、23'，废物孔通向废物50。此外，下游阀20包括阀-至-电离源孔25，该阀-至-电离源孔连接到通向电离源61且交替地经由流体流孔21、22、23分别可连接到流体流11、12、13中的每一者的导管30。具体地，下游阀20进一步包括经由阀-至-电离源孔25也可连接到导管30的下游泵入口孔24以及当连接到下游泵入口孔24时通向废物50的下游泵废物孔24'。应清楚的是：这仅仅是实例，并且孔和连接件的数量可以根据需要以及根据流体流的数量进行调整。

在该示例中，下游泵40由控制器90控制，以将经稀释组合物45以与流体流11、12、13的流速15类似的流速(例如约500μL/min或更小，例如440μL/min，例如约100μL/min或更小，例如50μL/min或更低，例如30μL/min)注入电离源61中。

图1还示意性地示出了包括质谱仪60的使用的自动化分析方法，该方法包括：经由布置在分析流体系统10下游的下游阀20将下游泵40连接到耦接到质谱仪60的电离源61，其中下游泵40流体连接到包括相应流体41、42、43、44的多个流体容器，该流体包含用于校准质谱仪60的至少一种经浓缩组合物44以及用于稀释至少一种经浓缩组合物44的至少一种稀稀释剂42、43。该方法进一步包括：控制下游泵40以便通过以预定稀释倍数自动混合至少一种经浓缩组合物44与至少一种稀释剂42、43来获得至少一种经稀释组合物45，将至少一种经稀释组合物45注入电离源61中，获得至少一种经稀释组合物45的质谱62，基于对质谱62的评定64执行对质谱仪60的校准63。

在该示例中，校准包括质量轴校验和/或质量轴调整；经浓缩组合物44包含例如碘化铯、乙胺、甲酸、甲醇和水，其浓度为所需浓度的10倍，并且通过将经浓缩组合物44与例如作为稀释剂42、43的甲醇和乙腈的组合混合来获得经稀释组合物45，相应比率为例如10(经浓缩组合物):45(甲醇):45(乙腈)，以便获得10:90的稀释倍数，即10倍稀释。

图2示意性地示出基于对经稀释组合物45的质谱62的评定64，在质量轴校验(MAC)和/或质量轴调整(MAA)失败或预期失败的情况下，图1的分析系统100和方法的进一步细节。具体地，参考图2，控制器90被进一步配置为执行选自以下的任何一个或多个动作：在重复质量轴校验(MAC)和/或质量轴调整(MAA)之前，调适经浓缩组合物的稀释倍数、调节一个或多个质谱(MS)采集参数、执行维护程序(诸如加热驱除和/或IS清洁程序)。具体地，该方法可以包括评定质谱的参数，诸如信号强度、峰形状、背景和干扰的存在。例如，在信号强度低于参考范围的情况下，例如对于至少一个或多个峰，例如对于最高m/z簇，例如对于碘化铯簇，其与更丰富的m/z簇相比，往往具有较低的信号强度，该动作可能包括对于单个m/z值或范围或对于整个光谱，降低稀释倍数，诸如以获得稀释程度较低的校准溶液，或增强MS采集参数，诸如以增加检测器灵敏度。另一方面，在信号强度高于参考范围的情况下，例如在信号饱和的情况下，例如对于最丰富的簇，该动作可能包括对于单个m/z值或范围或对于整个频谱，增加稀释倍数，诸如以获得更稀释的校准溶液，或减少MS采集参数，诸如以降低检测器灵敏度。类似地，在异常峰形状的情况下，该动作可能包括改变MS采集参数(相应地增强或减少)。在背景信号高于参考范围的情况下，该动作可能包括加热驱除和/或IS清洁程序和/或降低稀释倍数，诸如以获得更高的信噪比。类似地，在存在干扰的情况下，该动作可能包括加热驱除和/或IS清洁程序和/或降低稀释倍数，诸如以增强校准溶液组分相对于干扰的信号的相对信号。

图3示意性地示出图1的分析系统100和分析方法的进一步的实施方案，其中下游泵40除了提供结合图1(在图3中以虚线表示)描述的至少一种经稀释组合物的功能之外还具有进一步的功能。具体地，至少一个流体容器包括至少一种洗涤液41，并且控制器90被进一步配置为控制下游泵40和下游阀20以连接到两个连续流体流11、12；12、13；13、11之间的电离源61，以便在来自后续流体流的液体进入导管30之前，用洗涤液41将来自先前流体流的液体从下游阀20与电离源61之间的导管30洗掉。

因此，该方法包括交替地将多个流体流11、12、13经由下游阀20连接到导管30，以及将下游泵40经由下游阀20连接到两个连续流体流11、12；12、13；13、11之间的导管30，以便在来自后续流体流的液体进入导管30之前，将来自先前流体流的液体从导管30洗掉。

至少一种洗涤液41可以为例如水、乙腈、甲醇、四氢呋喃或异丙醇，它们可以单独泵送或以任何组合和比率相互混合，取决于例如LC条件、流进其间的样品和/或分析物的种类以及期望的洗涤效果。根据一实施方案，用于稀释至少一种经浓缩组合物44的至少一种稀释剂42、43可以用作洗涤液和/或与另一种洗涤液41混合。

在这种情况下，下游泵40可由控制器90控制，以将洗涤液以高于流体流11、12、13的流速15的流速泵送通过导管30。

图4示意性地示出了分析系统100'，其是图1和图3的分析系统100和分析方法的又一变体，其中下游泵40还具有进一步的功能。具体地，分析流体系统10'包括至少一个流体流11、12、13，该流体流包括HPLC柱，并且至少一个流体容器包括洗涤液41，如图3的实施方案所示。控制器90在此被进一步配置为控制下游泵40和下游阀20以连接到至少一个流体流11、12、13，以便用洗涤液41反向冲洗并且由此清洁至少一个HPLC柱。更具体地，下游泵40经由洗涤选择阀70连接到下游阀20。洗涤选择阀70被配置为交替地经由下游阀20将下游泵40连接到流体流11、12、13中的任一个流体流并且连接到导管30。具体地，洗涤选择阀70经由通向相应三通阀16、17、18的相应流体流洗涤孔71、72、73可连接到流体流11、12、13，三通阀经由也是废物孔21'、22'、23'的下游泵入口孔21'、22'、23'流体连接到下游阀20，三通阀16、17、18各自包括洗涤选择阀入口孔、下游阀出口孔以及通向废物50的废物出口孔。洗涤选择阀70进一步包括经由下游泵入口孔24连接到下游阀20的阀-至-导管洗涤孔74以用于连接到导管30。在如图4所示的示例中，洗涤选择阀70、下游阀20以及三通阀16被开关使得下游泵40经由流体流洗涤孔71、三通阀16、下游泵入口孔21'以及流体流孔21连接到流体流11，以便用至少一种洗涤液41反向冲洗并且由此清洁该流体流11。同时，流体流12经由流体流孔22和阀-至-电离源孔25连接到导管30，但流体流13分别经由流体流孔23、废物孔23'以及三通阀18被引导至废物50。应当注意的是，流体流11的流动方向15相对于常规流动方向是相反的，如图1和图3所示。分析系统100'可以包括其他阀(未示出)，例如一个或多个上游阀，该一个或多个上游阀在流体流11、12、13的上游，使得例如以反向冲洗模式实现洗涤液的排出和浪费。

控制器90可以被配置为以规则时间和/或在检测到该至少一个流体流中压力上升至预定阈值以上时和/或在检测到HPLC柱的性能降低至预定阈值以下时自动反向冲洗相应流体流11、12、13的HPLC柱。

控制器90可以被配置为通过控制包括下游阀20、洗涤选择阀70以及三通阀16、17、18中的任一者或多者的开关来管理：流体流-至-质谱仪连接时间，即该至少一个流体流11、12、13与电离源61之间的连接时间；下游泵-至-质谱仪连接时间，即下游泵40与电离源61之间的连接时间；以及下游泵-至-流体流连接时间，即至少一个流体流11、12、13与下游泵40之间的连接时间。

在前述说明书中，阐述了许多具体细节以便提供对本公开的透彻理解。然而，对于本领域的普通技术人员显而易见，不需要采用具体细节来实践本文所教导的内容。在其他情况下，没有详细描述公知的材料或方法，以避免模糊本公开。

特别地，根据以上描述，所公开的实施方案的修改和变化当然是可能的。因此，应当理解，在所附权利要求的范围内，本发明可以不同于以上实例中具体设计的方式实践。

在本说明书全文中，所提及的“一个实施方案”、“一实施方案”、“一个实例”或“一实例”、“一个方面”或“一方面”是指所描述的与实施方案或实例或方面有关的特定的特征、结构或特性包括在至少一个实施方案中。因此，在本说明书通篇中各处出现的短语“在一个实施方案中”或“在一实施方案中”、“一个实例”或“一实例”、“一个方面”或“一方面”不一定都是指同一个实施方案或实例或方面。

此外，特定的特征、结构或特性可以在一个或多个实施方案或实例或方面中以任何合适的组合和/或子组合进行组合。

Claims

1.一种分析系统(100，100')，其包括

-质谱仪(60)和耦接到所述质谱仪(60)的电离源(61)，

-分析流体系统(10，10')，其经由下游阀(20)可连接到所述电离源(61)以用于经由所述电离源(61)将样品注入所述质谱仪(60)中，

-下游泵(40)，其经由所述下游阀(20)可流体连接到所述电离源(61)，其中所述下游泵(40)流体连接到包括相应流体(41，

42，43，44)的多个流体容器，所述流体包含用于校准所述质谱仪(60)的至少一种经浓缩组合物(44)以及用于稀释所述至少一种经浓缩组合物(44)的至少一种稀释剂(42，43)，

-控制器(90)，其被配置为控制所述下游泵(40)以便通过以预定稀释倍数自动混合至少一种经浓缩组合物(44)与至少一种稀释剂(42，43)来获得至少一种经稀释组合物(45)，将所述至少一种经稀释组合物(45)注入所述电离源(61)中，获得所述至少一种经稀释组合物(45)的质谱(62)并且基于对所述质谱(62)的评定(64)执行对所述质谱仪(60)的校准(63)。

2.根据权利要求1所述的分析系统(100，100')，其中所述校准包括质量轴校验和/或质量轴调整。

3.根据权利要求2所述的分析系统(100，100')，其中基于对所述至少一种经稀释组合物(45)的所述质谱(62)的所述评定(64)，在所述质量轴校验和/或质量轴调整失败或预期失败的情况下，所述控制器(90)可以被进一步配置为在重复所述质量轴校验和/或质量轴调整之前执行选自以下的任何一种或多种动作：调适所述至少一种经浓缩组合物的稀释倍数、调节一个或多个质谱采集参数、执行维护程序。

4.根据前述权利要求中任一项所述的分析系统(100，100')，其中所述至少一种经浓缩组合物(44)包含：(i)碘化铯；任选地(ii)乙胺和/或甲酸；(iii)极性溶剂，在一实施方案中，甲醇和/或水；以及任选地(iv)环孢素A和/或5-(4-羟基苯基)-5-苯基乙内酰脲和/或甲酸铵，并且其中所述至少一种稀释剂为以下中的任一者：甲醇、乙腈、乙醇、丙醇、异丙醇，或其任意组合。

5.根据权利要求3所述的分析系统(100，100')，其中在所述至少一种经浓缩组合物(44)中：

(i)碘化铯具有0.1μg/mL至100mg/mL的浓度；

(ii)乙胺在存在的情况下具有0.01μg/mL至1mg/mL的浓度，并且甲酸在存在的情况下具有0.001％(v/v)至10％(v/v)的浓度

(iv)加入极性溶剂，在一实施方案中，甲醇、水或其混合物至100％。

6.根据前述权利要求中任一项所述的分析系统(100，100')，其中所述至少一种稀释剂(42，43)为以下中的任一者：甲醇、乙腈、乙醇、丙醇、异丙醇，或其任意组合。

7.根据前述权利要求中任一项所述的分析系统(100)，其中所述分析流体系统(10)包括多个流体流(11，12，13)，其中至少一个流体容器包括洗涤液(41)，并且其中所述控制器(90)被进一步配置为控制所述下游泵(40)和所述下游阀(20)以在两个连续流体流之间连接到所述电离源(61)，以便在来自后续流体流的液体进入所述下游阀(20)与所述电离源(61)之间的导管(30)之前，用所述洗涤液(41)将来自先前流体流的液体从所述导管(30)洗掉。

8.根据前述权利要求中任一项所述的分析系统(100')，其中所述分析流体系统(10')包括至少一个流体流(11，12，13)，所述至少一个流体流包括HPLC柱，其中至少一个流体容器包括洗涤液(41)，并且其中所述控制器(90)被进一步配置为控制所述下游泵(40)和所述下游阀(20)以连接到所述至少一个流体流(11，12，13)，以便用所述洗涤液(41)反向冲洗并且由此清洗所述至少一个HPLC柱。

9.一种包括质谱仪(60)的使用的自动化分析方法，所述方法包括

-经由布置在分析流体系统(10)下游的下游阀(20)将下游泵(40)连接到耦接到所述质谱仪(60)的电离源(61)，其中所述下游泵(40)流体连接到包括相应流体(41，42，43，44)的多个流体容器，所述流体包含用于校准所述质谱仪(60)的至少一种经浓缩组合物(44)以及用于稀释所述至少一种经浓缩组合物(44)的至少一种稀释剂(42，43)，

-控制所述下游泵(40)以便通过以预定稀释倍数自动混合至少一种经浓缩组合物(44)与至少一种稀释剂(42，43)来获得至少一种经稀释组合物(45)，

-将所述至少一种经稀释组合物(45)注入所述电离源(61)中，

-获得所述至少一种经稀释组合物(45)的质谱(62)，

-基于对所述质谱(62)的评定(64)执行对所述质谱仪(60)的校准(63)。

10.根据权利要求9所述的自动化方法，其中执行所述校准(63)包括校验质量轴和/或调整质量轴。

11.根据权利要求10所述的自动化方法，其中基于对所述至少一种经稀释组合物(45)的所述质谱(62)的所述评定(64)，在质量轴校验和/或质量轴调整失败或预期失败的情况下，所述方法包括在重复所述质量轴校验和/或质量轴调整之前执行选自以下的任何一种或多种动作：调适至少一种组合物的稀释倍数、调节一个或多个质谱采集参数、执行维护程序。

12.根据权利要求9至11中任一项所述的自动化方法，其中所述至少一种经浓缩组合物(44)包含：(i)碘化铯；任选地(ii)乙胺和/或甲酸；(iii)甲醇和/或水；以及任选地(iv)环孢素A和/或5-(4-羟基苯基)-5-苯基乙内酰脲和/或甲酸铵，并且其中所述至少一种稀释剂为以下中的任一者：甲醇、乙腈、乙醇、丙醇、异丙醇，或其任意组合。

13.根据权利要求11所述的自动化方法，其中在所述至少一种经浓缩组合物(44)中：

(i)碘化铯具有0.1μg/mL至100mg/mL的浓度；

(iv)加入甲醇、水或其混合物至100％；

14.根据权利要求9至12中任一项所述的自动化方法，其包括：控制所述下游泵(40)和所述下游阀(20)以在所述分析流体系统(10)的两个连续流体流之间连接到所述电离源(61)，以便在来自后续流体流的液体进入所述下游阀(20)与所述电离源(61)之间的导管(30)之前，用所述洗涤液(41)将来自先前流体流的液体从所述导管(30)洗掉。

15.根据权利要求9至13中任一项所述的自动化方法，其包括：控制所述下游泵(40)和包括所述下游阀(20)的任何一个或多个阀以连接到包括HPLC柱的所述分析流体系统(10)的至少一个流体流(11，12，13)，以便用洗涤液(41)反向冲洗并且由此清洁所述HPLC柱。