CN117964243A - 一种微晶玻璃及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种微晶玻璃及其制备方法。按摩尔计,该微晶玻璃包含如下组分:65~72份二氧化硅、2~8份三氧化二铝、0.5~3份五氧化二磷、20~25份氧化锂、0.1~1份氧化钠、0.1~1份氧化钾、1.5~5份二氧化锆、0.1~1份氧化钙、0.1~2份氧化镁、2~3份晶核剂。与现有技术相比,本发明制备的微晶玻璃相比传统的玻璃材料具有较高的硬度、较高的透光率、较好的耐高温性能,可应用于需要高硬度、高透光率和高热稳定性的领域,如光学器件、电子显示等。
Description
技术领域
本发明涉及玻璃-陶瓷技术领域,尤其涉及一种微晶玻璃。
背景技术
微晶玻璃是一种具有微细晶体结构和非晶体结构相结合的特殊玻璃材料。它具有高硬度、高抗磨损性、良好的透明性和化学稳定性等特点,因此在许多领域得到广泛应用。
微晶玻璃的制备通常包括两个主要步骤:熔融和晶化。在熔融步骤中,通过加热和混合适量的玻璃原料,形成均匀的玻璃熔体。然后,在特定的温度和时间条件下进行晶化处理,使部分非晶体结构转变为微细晶体结构,从而形成微晶玻璃。微晶玻璃的主要特点和优势包括:高硬度、良好的透明性、高化学稳定性、良好的热稳定性、特殊的微细晶体结构,在许多领域都有广泛的应用。
总的来说,微晶玻璃由于其特殊的结构和优异的性能,在多个领域都有重要的应用价值,并且在制备方法和应用技术上还有不断的研究和发展。
中国授权发明专利CN110981206B公开一种多晶核复合透明玻璃陶瓷及其制备方法,所述的多晶核复合透明玻璃陶瓷的制备方法包括以下步骤:在玻璃熔制时加入多种晶核剂,加工后获取具有一定外形尺寸的素玻璃;将S2中所得的素玻璃置于温度为T1的条件下,加热1h~6h进行退火处理,退火处理完成后置于温度为T2的条件下,加热1h~6h,做核化处理,核化处理完成后置于温度为T3的条件下,加热0~3h进行晶化处理,且所述T1<T2。该发明制备出含有多种晶核,晶相为二硅酸锂和透锂长石的玻璃陶瓷,多晶核降低了晶体析出所需的核化和晶化能,能够降低热处理温度和时间,并且调整晶体的比例,通过该制备方法制备出的玻璃陶瓷耐损坏性增强,断裂韧度好,应用范围广。但是该发明制备的玻璃陶瓷硬度、透光率较低,而且耐高温性能差。
发明内容
针对现有技术中存在的不足,本发明所要解决的技术问题是:提供一种具有较好硬度、透光率和耐高温性能的微晶玻璃。
为了实现上述发明目的,本发明采用了如下的技术方案:
一种微晶玻璃的制备方法如下:
S1、将如下原料:二氧化硅、三氧化二铝、五氧化二磷、氧化锂、氧化钠、氧化钾、二氧化锆、氧化钙、氧化镁采用常规工艺进行熔制玻璃时,加入晶核剂,加入模具中,制备出素玻璃,厚度为50~700μm;
S2、将S1中所得的素玻璃置于温度为500~600℃、优选为520~600℃的条件下,加热180~220min进行退火处理,进行退火处理后,将所述素玻璃置于温度为580~650℃条件下,加热180~220min,进行核化处理,完成核化处理后,进一步置于温度为630~750℃、优选为680~750℃条件下,加热80~120min,制备出玻璃粗料;
S3、将制得的玻璃粗料置于混合盐浴中进行强化处理工艺,得到强化玻璃,即所述微晶玻璃。
所述步骤S1中各原料用量以摩尔计为:65~72份二氧化硅、2~8份三氧化二铝、0.5~3份五氧化二磷、20~25份氧化锂、0.1~1份氧化钠、0.1~1份氧化钾、1.5~5份二氧化锆、0.1~1份氧化钙、0.1~2份氧化镁、2~3份晶核剂。
所述晶核剂按摩尔计,包含如下组分:0.5~2份氟化钠、0.2~0.4份二氧化钛、0.5~2份氟化钙。
所述混合盐浴中含有硝酸钠、硝酸钾、碳酸钠、碳酸钾中的至少两种。
所述强化处理工艺的强化温度为350~450℃,强化时间为4~6h。
所述高强微晶玻璃的制备方法如下,以重量份计:
步骤1、将3~5份氮化硅粉和1~3份分散剂加入到50~70份无水乙醇中搅拌1~4h,得到氮化硅粉浆料;
步骤2、将1~3份硅烷化合物A和8~12份硅烷化合物B混合在一起,然后加入2~4份水,再加入1~2份无水乙醇和0.3~0.8份0.05~0.2mol/L的硝酸,超声处理20~40min、超声功率为150~300W、超声频率为20~60kHz,得到溶胶,将溶胶涂覆在前述的微晶玻璃表面,涂覆厚度为3~8μm,在100~130℃下干燥20~40min后,在氮气气氛下烧结5~12h后,得到溶胶层;
步骤3、将步骤1制备的氮化硅粉浆料涂刷在步骤2制备的溶胶层表面,涂刷厚度为1~3μm,静置20~30h,得到氮化硅粉层;
步骤4、将1~3份三氧化二钇、1~2份三氧化二铝、1~2份二氧化硅、0.2~0.4份氮化硅粉与50~70份无水乙醇混合,得到混合浆料;将混合浆料刷在步骤3制备的氮化硅粉层表面,刷的厚度为2~4μm,然后在氮气气氛下烧结0.5~2h,得到高强微晶玻璃。优选地,烧结时采用激光烧结。
所述分散剂为4,4’,4’’-三苯甲烷三异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯中的一种。
所述硅烷化合物A为硅酸四烯丙酯、二甲氧基二甲基硅烷中的至少一种。
所述硅烷化合物B为乙烯基三甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷中的至少一种。
本发明中各物质的作用如下:
氮化硅粉:在步骤1中使用的氮化硅粉与异氰酸酯化合物作用形成氮化硅粉浆料。在步骤3中,氮化硅粉浆料涂刷在溶胶层表面形成氮化硅粉层。氮化硅粉层的引入可以增加微晶玻璃的硬度和强化效果。
4,4',4''-三苯甲烷三异氰酸酯:在步骤1中与氮化硅粉作用生成氮化硅粉浆料,具有良好的分散效果。
硅酸四烯丙酯和乙烯基三甲氧基硅烷:在步骤2中与水反应形成溶胶。它们是溶胶制备过程中的前体物质。
水:在步骤2中与硅酸四烯丙酯和乙烯基三甲氧基硅烷反应形成溶胶。水的存在有助于反应进行和溶胶的形成。
无水乙醇:在步骤1和步骤2中使用的无水乙醇作为反应介质和稀释剂。它有助于溶解和混合反应物,并在溶胶制备过程中起到溶剂的作用。
硝酸的存在可能有助于反应进行和溶胶的形成。
三氧化二钇、三氧化二铝、二氧化硅、氮化硅粉:在步骤4中与无水乙醇混合形成混合浆料。这些物质是制备高强微晶玻璃的成分之一,参与烧结过程,形成高强微晶玻璃的组成成分。
在微晶玻璃的制备方法中:
二氧化硅、三氧化二铝、五氧化二磷、氧化锂、氧化钠、氧化钾、二氧化锆、氧化钙、氧化镁:这些物质是制备微晶玻璃的基础原料,通过熔制玻璃的方式形成素玻璃。
晶核剂(氟化钠、二氧化钛、氟化钙):在S1步骤中加入素玻璃的熔融过程中,晶核剂被加入以促进晶化和控制玻璃的晶化行为,从而形成微晶玻璃。
硝酸钠、硝酸钾:在S3步骤中作为混合盐浴的组成成分,用于进行强化处理工艺。这些盐浴的存在有助于提高微晶玻璃的表面强度和耐磨性。
不同物质在制备过程中扮演着不同的角色,参与反应、溶解、形成溶胶、控制晶化行为和提高微晶玻璃的性能等关键步骤,最终实现高强微晶玻璃的制备。
与现有技术相比,本发明的有益效果:
1)本发明制备的微晶玻璃相比传统的玻璃材料具有较好的效果,具有较高的硬度、较高的透光率、较好的耐高温性能和较强的强化效果,可应用于需要高硬度、高透光率和高热稳定性的领域,如光学器件、电子显示等。
2)本发明制备的高强微晶玻璃在微晶玻璃表面形成氮化硅粉层和多孔纳米层,氮化硅粉层和纳米层的引入可以增加微晶玻璃的硬度,使其具有更好的耐磨性和抗刮擦性能。
3)本发明制备的高强微晶玻璃经过高温烧结和处理,形成了高温稳定的结构,该微晶玻璃具有较高的热稳定性,可以在高温条件下保持其物理和化学性质,不易发生热膨胀或热变形,从而具有更好的耐高温性能。
附图说明
图1为实施例2中制备的微晶玻璃的XRD图谱。
具体实施方式
主要物质来源:
氮化硅粉:苏州友研新材料实业有限公司,牌号:YY-Si3N4-01,粒径:20nm。
三氧化二钇:清河县翔飞金属材料有限公司,货号:458560。
三氧化二铝:比斯利新材料(苏州)有限公司,牌号:BSL-AI2O3。
二氧化硅:山东长霄生物工程有限公司,货号:101。
氮化硅粉:江苏甫展药业有限公司,型号:MYHJ。
五氧化二磷:济南凯创化工有限公司,货号:01。
氧化锂:武汉克米克生物医药技术有限公司,货号:12057-24-8。
实施例1
一种高强微晶玻璃的制备方法如下:
步骤1、将4g氮化硅粉和2g 4,4’,4’’-三苯甲烷三异氰酸酯加入到60g无水乙醇中搅拌3h,得到氮化硅粉浆料;
步骤2、将2g硅酸四烯丙酯和10g乙烯基三甲氧基硅烷混合在一起,然后加入3g水,再加入1.5g无水乙醇和0.5g 0.1mol/L的硝酸,超声处理30min、超声功率为200W、超声频率为40kHz,得到溶胶,将溶胶涂覆在微晶玻璃表面,涂覆厚度为5μm,在120℃下干燥30min后,在氮气气氛下烧结10h后,得到溶胶层;
步骤3、将步骤1制备的氮化硅粉浆料涂刷在步骤2制备的溶胶层表面,涂刷厚度为2μm,静置24h,得到氮化硅粉层;
步骤4、将2g三氧化二钇、1.5g三氧化二铝、1.5g二氧化硅、0.3g氮化硅粉与60g无水乙醇混合,得到混合浆料;将混合浆料刷在步骤3制备的氮化硅粉层表面,刷的厚度为3μm,然后在氮气气氛下,采用激光烧结1h,得到高强微晶玻璃。
所述微晶玻璃的制备方法如下:
S1、将如下原料:68mol二氧化硅、4mol三氧化二铝、1mol五氧化二磷、22mol氧化锂、0.5mol氧化钠、0.5mol氧化钾、2mol二氧化锆、0.5mol氧化钙、1mol氧化镁采用常规工艺进行熔制玻璃时,加入晶核剂,所述晶核剂包括以下组分:1mol氟化钠、0.3mol二氧化钛、1mol氟化钙,加入模具中,制备出素玻璃,厚度为200μm;
S2、将S1中所得的素玻璃置于温度为580℃的条件下,加热200min进行退火处理,进行退火处理后,将所述素玻璃置于温度为600℃条件下,加热200min,进行核化处理,完成核化处理后,进一步置于温度为650℃条件下,加热100min,制备出玻璃粗料;
S3、将制得的玻璃粗料置于含有70wt%的硝酸钠、5wt%的硝酸钾的混合盐浴中进行第一次强化处理工艺,强化温度为400℃,强化时间为5h,得到微晶玻璃。
实施例2
一种微晶玻璃的制备方法如下:
S1、将如下原料:68mol二氧化硅、4mol三氧化二铝、1mol五氧化二磷、22mol氧化锂、0.5mol氧化钠、0.5mol氧化钾、2mol二氧化锆、0.5mol氧化钙、1mol氧化镁采用常规工艺进行熔制玻璃时,加入晶核剂,所述晶核剂包括以下组分:1mol氟化钠、0.3mol二氧化钛、1mol氟化钙,加入模具中,制备出素玻璃,厚度为200μm;
S2、将S1中所得的素玻璃置于温度为580℃的条件下,加热200min进行退火处理,进行退火处理后,将所述素玻璃置于温度为600℃条件下,加热200min,进行核化处理,完成核化处理后,进一步置于温度为650℃条件下,加热100min,制备出玻璃粗料;
S3、将制得的玻璃粗料置于含有70wt%的硝酸钠、5wt%的硝酸钾的混合盐浴中进行第一次强化处理工艺,强化温度为400℃,强化时间为5h,得到微晶玻璃。
对比例1
一种高强微晶玻璃的制备方法如下:
步骤1、将4g氮化硅粉和2g 二苯基甲烷二异氰酸酯加入到60g无水乙醇中搅拌3h,得到氮化硅粉浆料;
步骤2、将2g硅酸四烯丙酯和10g乙烯基三甲氧基硅烷混合在一起,然后加入3g水,再加入1.5g无水乙醇和0.5g 0.1mol/L的硝酸,超声处理30min、超声功率为200W、超声频率为40kHz,得到溶胶,将溶胶涂覆在微晶玻璃表面,涂覆厚度为5μm,在120℃下干燥30min后,在氮气气氛下烧结10h后,得到溶胶层;
步骤3、将步骤1制备的氮化硅粉浆料涂刷在步骤2制备的溶胶层表面,涂刷厚度为2μm,静置24h,得到氮化硅粉层;
步骤4、将2g三氧化二钇、1.5g三氧化二铝、1.5g二氧化硅、0.3g氮化硅粉与60g无水乙醇混合,得到混合浆料;将混合浆料刷在步骤3制备的氮化硅粉层表面,刷的厚度为3μm,然后在氮气气氛下,采用激光烧结1h,得到高强微晶玻璃。
所述微晶玻璃的制备方法与实施例1相同。
对比例2
一种高强微晶玻璃的制备方法如下:
步骤1、将4g氮化硅粉和2g 4,4’,4’’-三苯甲烷三异氰酸酯加入到60g无水乙醇中搅拌3h,得到氮化硅粉浆料;
步骤2、将2g二甲氧基二甲基硅烷和10g乙烯基三甲氧基硅烷混合在一起,然后加入3g水,再加入1.5g无水乙醇和0.5g 0.1mol/L的硝酸,超声处理30min、超声功率为200W、超声频率为40kHz,得到溶胶,将溶胶涂覆在微晶玻璃表面,涂覆厚度为5μm,在120℃下干燥30min后,在氮气气氛下烧结10h后,得到溶胶层;
步骤3、将步骤1制备的氮化硅粉浆料涂刷在步骤2制备的溶胶层表面,涂刷厚度为2μm,静置24h,得到氮化硅粉层;
步骤4、将2g三氧化二钇、1.5g三氧化二铝、1.5g二氧化硅、0.3g氮化硅粉与60g无水乙醇混合,得到混合浆料;将混合浆料刷在步骤3制备的氮化硅粉层表面,刷的厚度为3μm,然后在氮气气氛下,采用激光烧结1h,得到高强微晶玻璃。
所述微晶玻璃的制备方法与实施例1相同。
对比例3
一种高强微晶玻璃的制备方法如下:
步骤1、将4g氮化硅粉和2g 4,4’,4’’-三苯甲烷三异氰酸酯加入到60g无水乙醇中搅拌3h,得到氮化硅粉浆料;
步骤2、将2g硅酸四烯丙酯和10g甲基三甲氧基硅烷混合在一起,然后加入3g水,再加入1.5g无水乙醇和0.5g 0.1mol/L的硝酸,超声处理30min、超声功率为200W、超声频率为40kHz,得到溶胶,将溶胶涂覆在微晶玻璃表面,涂覆厚度为5μm,在120℃下干燥30min后,在氮气气氛下烧结10h后,得到溶胶层;
步骤3、将步骤1制备的氮化硅粉浆料涂刷在步骤2制备的溶胶层表面,涂刷厚度为2μm,静置24h,得到氮化硅粉层;
步骤4、将2g三氧化二钇、1.5g三氧化二铝、1.5g二氧化硅、0.3g氮化硅粉与60g无水乙醇混合,得到混合浆料;将混合浆料刷在步骤3制备的氮化硅粉层表面,刷的厚度为3μm,然后在氮气气氛下,采用激光烧结1h,得到高强微晶玻璃。
所述微晶玻璃的制备方法与实施例1相同。
对比例4
一种高强微晶玻璃的制备方法如下:
步骤1、将4g氮化硅粉和2g 二苯基甲烷二异氰酸酯加入到60g无水乙醇中搅拌3h,得到氮化硅粉浆料;
步骤2、将2g二甲氧基二甲基硅烷和10g甲基三甲氧基硅烷混合在一起,然后加入3g水,再加入1.5g无水乙醇和0.5g 0.1mol/L的硝酸,超声处理30min、超声功率为200W、超声频率为40kHz,得到溶胶,将溶胶涂覆在微晶玻璃表面,涂覆厚度为5μm,在120℃下干燥30min后,在氮气气氛下烧结10h后,得到溶胶层;
步骤3、将步骤1制备的氮化硅粉浆料涂刷在步骤2制备的溶胶层表面,涂刷厚度为2μm,静置24h,得到氮化硅粉层;
步骤4、将2g三氧化二钇、1.5g三氧化二铝、1.5g二氧化硅、0.3g氮化硅粉与60g无水乙醇混合,得到混合浆料;将混合浆料刷在步骤3制备的氮化硅粉层表面,刷的厚度为3μm,然后在氮气气氛下,采用激光烧结1h,得到高强微晶玻璃。
所述微晶玻璃的制备方法与实施例1相同。
测试例1
维氏显微硬度测试
采用HV-50型维氏硬度计来测试本发明实施例1~2和对比例1~4制备的材料硬度,载荷1kg,加载时间为10s。把样品制成标准试样需要将材料表面抛光成镜面,保证其上下两面平行。每个样测试15个点,然后取其平均值。
维氏显微硬度的计算公式是:
HV=1.8444(P/d2)
其中公式中P为试验载荷,单位N;d为压头压痕对角线的平均长度,单位mm。结果见表1。
表1 维氏硬度测试结果
实验方案 | 维氏硬度(kgf/m2) |
实施例1 | 1124 |
实施例2 | 1015 |
对比例1 | 1057 |
对比例2 | 1046 |
对比例3 | 1050 |
对比例4 | 1032 |
测试例2
透光率测试
本发明实施例1~2和对比例1~4制备的材料的透光率测试方法按照GB/T2680规定的方法测试。
测试结果见表2。
表2 透光率测试结果
实验方案 | 可见光透射比 |
实施例1 | 84.1% |
实施例2 | 87.2% |
对比例1 | 82.4% |
对比例2 | 81.8% |
对比例3 | 82.7% |
对比例4 | 78.7% |
测试例3
热稳定性测试
测试本发明实施例1~2和对比例1~4制备的材料在300℃温度条件下的膨胀系数;测试结果见表3。
表3 热稳定性测试结果
实验方案 | 300℃膨胀系数(×10-6) |
实施例1 | 5.36 |
实施例2 | 6.53 |
对比例1 | 5.84 |
对比例2 | 5.95 |
对比例3 | 5.88 |
对比例4 | 6.02 |
玻璃的热膨胀系数越小,其热稳定性越好,试样能承受的温差也越大。
从表1~3的测试数据可以看出本发明实施例1制备的高强微晶玻璃在维氏硬度、透光率和热稳定性方面具有更好的效果。
实施例1与对比例1相比,实施例1采用的4,4',4''-三苯甲烷三异氰酸酯在高强微晶玻璃制备方法中作为分散剂的主要作用是促进氮化硅粉和乙醇的均匀分散,并帮助形成氮化硅粉浆料。具体而言,它在溶液中的存在可以降低氮化硅粉和乙醇之间的表面张力,使它们更容易混合并形成均匀的浆料。4,4',4''-三苯甲烷三异氰酸酯分子结构中的苯环和异氰酸酯基团能够与氮化硅粉表面的氢键和化学键发生相互作用,从而改善氮化硅粉在乙醇中的分散性。这有助于防止氮化硅粉的团聚和沉淀,使其均匀地分散在乙醇中。
相比之下,对比例1采用的二苯基甲烷二异氰酸酯在这个制备方法中可能没有4,4',4''-三苯甲烷三异氰酸酯那么好的分散效果。这是因为4,4',4''-三苯甲烷三异氰酸酯的分子结构更有利于与氮化硅粉表面发生相互作用,从而更有效地分散氮化硅粉。有助于获得更均匀、更稳定的材料性能。
实施例1与对比例2相比,实施例1采用的硅酸四烯丙酯与乙烯基三甲氧基硅烷一起使用,起到了溶胶的形成和涂覆的作用。可以形成一个硅氧烷凝胶体系。硅酸四烯丙酯具有较强的水解性和聚合性。在添加水和无水乙醇的条件下,硅酸四烯丙酯分解产生的硅醇基(Si-OH)可以与其他硅醇基或硅氧烷物种发生缩聚反应,形成硅氧烷凝胶。这种凝胶体系在烧结过程中可以发生聚合反应和重构,得到溶胶层。硅酸四烯丙酯的加入有助于形成硅氧烷凝胶体系,进而催化β-SiN晶核的原位生长。这些可以作为成核位点,促进涂层的结晶,从而提高微晶玻璃的力学性能和抗热震性。相比之下,二甲氧基二甲基硅烷在制备溶胶的过程中可能不具备与硅酸四烯丙酯相似的聚合和重构性质,因此其作用效果可能较弱。
实施例1与对比例3相比,实施例1采用的乙烯基三甲氧基硅烷相比采用甲基三甲氧基硅烷具有一定的益处。乙烯基三甲氧基硅烷是一种有机硅化合物,其中含有乙烯基基团。相比之下,甲基三甲氧基硅烷中的有机基团是甲基基团。由于有机基团的不同,两者在化学性质和反应机理上有所区别。乙烯基三甲氧基硅烷的引入有助于调节溶胶的性质和稳定性,从而提高涂覆过程的可行性和溶胶的均匀性。硅氧烷凝胶在高温下可以形成高强微晶玻璃的主要组分,具有良好的热稳定性和力学性能。促进β-SiN晶核的生成,乙烯基三甲氧基硅烷在烧结过程中分解,产生挥发性的气体。与氮气反应,生成β-SiN晶核。β-SiN晶核可以作为成核位点,在涂层中促进的结晶,从而提高高强微晶玻璃的维氏硬度、透光率和热稳定性。
Claims (8)
1.一种微晶玻璃的制备方法,其特征在于,方法如下:
S1、将以摩尔计为:65~72份二氧化硅、2~8份三氧化二铝、0.5~3份五氧化二磷、20~25份氧化锂、0.1~1份氧化钠、0.1~1份氧化钾、1.5~5份二氧化锆、0.1~1份氧化钙、0.1~2份氧化镁采用常规工艺进行熔制玻璃时,加入2~3份晶核剂,加入模具中,制备出素玻璃,厚度为50~700μm,其中所述晶核剂按摩尔计,包含如下组分:0.5~2份氟化钠、0.2~0.4份二氧化钛、0.5~2份氟化钙;
S2、将S1中所得的素玻璃置于温度为500~600℃的条件下,加热180~220min进行退火处理,进行退火处理后,将所述素玻璃置于温度为580~650℃条件下,加热180~220min,进行核化处理,完成核化处理后,进一步置于温度为630~750℃条件下,加热80~120min,制备出玻璃粗料;
S3、将制得的玻璃粗料置于混合盐浴中进行强化处理工艺,得到强化玻璃,即所述微晶玻璃。
2.如权利要求1所述微晶玻璃的制备方法,其特征在于,所述混合盐浴中含有硝酸钠、硝酸钾、碳酸钠、碳酸钾中的至少两种。
3.如权利要求1或2所述微晶玻璃的制备方法,其特征在于,所述强化处理工艺的强化温度为350~450℃,强化时间为4~6h。
4.一种微晶玻璃,其特征在于:由权利要求1~3任一项所述的方法制备而成。
5.一种高强微晶玻璃的制备方法,其特征在于,包括如下步骤,以重量份计:
步骤1、将3~5份氮化硅粉和1~3份分散剂加入到50~70份无水乙醇中搅拌1~4h,得到氮化硅粉浆料;
步骤2、将1~3份硅烷化合物A和8~12份硅烷化合物B混合在一起,然后加入2~4份水,再加入1~2份无水乙醇和0.3~0.8份0.05~0.2mol/L的硝酸,超声处理20~40min、超声功率为150~300W、超声频率为20~60kHz,得到溶胶,将溶胶涂覆在权利要求4所述的微晶玻璃表面,涂覆厚度为3~8μm,在100~130℃下干燥20~40min后,在氮气气氛下烧结5~12h后,得到溶胶层;
步骤3、将步骤1制备的氮化硅粉浆料涂刷在步骤2制备的溶胶层表面,涂刷厚度为1~3μm,静置20~30h,得到氮化硅粉层;
步骤4、将1~3份三氧化二钇、1~2份三氧化二铝、1~2份二氧化硅、0.2~0.4份氮化硅粉与50~70份无水乙醇混合,得到混合浆料;将混合浆料刷在步骤3制备的氮化硅粉层表面,刷的厚度为2~4μm,然后在氮气气氛下烧结0.5~2h,得到高强微晶玻璃。
6.如权利要求5所述的方法,其特征在于,所述分散剂为4,4’,4’’-三苯甲烷三异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯中的一种。
7.如权利要求5所述的方法,其特征在于,所述硅烷化合物A为硅酸四烯丙酯、二甲氧基二甲基硅烷中的至少一种。
8.如权利要求5所述的方法,其特征在于,所述硅烷化合物B为乙烯基三甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷中的至少一种。
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Family
ID=
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101580343A (zh) * | 2009-06-18 | 2009-11-18 | 中南大学 | 稀土掺杂高强度二硅酸锂微晶玻璃材料及其制备方法 |
CN107759240A (zh) * | 2016-11-18 | 2018-03-06 | 航天特种材料及工艺技术研究所 | 一种Si3 N4 /BAS复相陶瓷材料的制备方法 |
US20180339938A1 (en) * | 2017-05-26 | 2018-11-29 | Corning Incorporated | Glass, glass-ceramic and ceramic articles with protective coatings having hardness and toughness |
US20200156992A1 (en) * | 2018-11-21 | 2020-05-21 | Corning Incorporated | Glass, glass-ceramic and ceramic articles with protective coatings having hardness and toughness |
CN112608033A (zh) * | 2020-09-12 | 2021-04-06 | 重庆鑫景特种玻璃有限公司 | 一种化学强化微晶玻璃及强化方法 |
CN114605074A (zh) * | 2022-04-07 | 2022-06-10 | 深圳市新旗滨科技有限公司 | 微晶玻璃及其制备方法 |
WO2023086238A1 (en) * | 2021-11-15 | 2023-05-19 | Corning Incorporated | Coated articles and methods of making |
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101580343A (zh) * | 2009-06-18 | 2009-11-18 | 中南大学 | 稀土掺杂高强度二硅酸锂微晶玻璃材料及其制备方法 |
CN107759240A (zh) * | 2016-11-18 | 2018-03-06 | 航天特种材料及工艺技术研究所 | 一种Si3 N4 /BAS复相陶瓷材料的制备方法 |
US20180339938A1 (en) * | 2017-05-26 | 2018-11-29 | Corning Incorporated | Glass, glass-ceramic and ceramic articles with protective coatings having hardness and toughness |
US20200156992A1 (en) * | 2018-11-21 | 2020-05-21 | Corning Incorporated | Glass, glass-ceramic and ceramic articles with protective coatings having hardness and toughness |
CN112608033A (zh) * | 2020-09-12 | 2021-04-06 | 重庆鑫景特种玻璃有限公司 | 一种化学强化微晶玻璃及强化方法 |
WO2023086238A1 (en) * | 2021-11-15 | 2023-05-19 | Corning Incorporated | Coated articles and methods of making |
CN114605074A (zh) * | 2022-04-07 | 2022-06-10 | 深圳市新旗滨科技有限公司 | 微晶玻璃及其制备方法 |
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