CN117900220A - 用于放射性环境下的超声波去污池及超声波去污装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种用于放射性环境下的超声波去污池及超声波去污装置，超声波去污池包括：超声波去污池壳体、超声波去污池顶盖、冷却机构、超声波振荡机构、气体移除机构，超声波去污池顶盖与超声波去污池壳体转动连接，超声波去污池顶盖通过转动到预设位置对超声波去污池壳体启闭，冷却机构、超声波振荡机构、气体移除机构分别设置于超声波去污池壳体内，超声波振荡机构用于通过超声波振荡进行清洗，气体移除机构用于移除被去污容器底部存积的气体。本发明中的用于放射性环境下的超声波去污池及超声波去污装置，对产品容器表面的气溶胶具有良好的去污清洗作用，控制了污染的扩散，大大降低了对后续相关设备的污染，减少了废物量。
Description
技术领域
本发明属于放射性废物处理技术领域，具体涉及一种用于放射性环境下的超声波去污池及超声波去污装置。
背景技术
玻璃固化技术是指将放射性废物和玻璃基材在高温下熔制成玻璃固化体的技术。熔融玻璃通过出料装置注入产品容器中。在高温出料过程中，会形成放射性气溶胶，尽管通过气膜保护、负压保护等方式减少气溶胶在产品容器表面的残留，仍有大量气溶胶残留至产品容器表面，在后续产品容器的转运、暂存过程中扩大污染，增加废物量。
因此，产品容器的去污清洗至关重要，由于产品容器处理过程在热室中进行，现有技术无法满足在放射性环境下对产品容器的去污清洗。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是针对现有技术中存在的上述不足，提供一种用于放射性环境下的超声波去污池及超声波去污装置，可实现在放射性环境下，对产品容器进行去污清洗，以满足检测标准进行后续处理。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是提供一种用于放射性环境下的超声波去污池，包括：超声波去污池壳体、超声波去污池顶盖、冷却机构、超声波振荡机构、气体移除机构，超声波去污池顶盖与超声波去污池壳体转动连接，超声波去污池顶盖通过转动到预设位置对超声波去污池壳体启闭，超声波去污池壳体用于盛放清洗液对清洗件进行清洗，冷却机构、超声波振荡机构、气体移除机构分别设置于超声波去污池壳体内，冷却机构用于对超声波去污池壳体内的清洗液进行冷却，超声波振荡机构用于通过超声波振荡进行清洗，气体移除机构用于移除被去污容器底部存积的气体。
优选的是，所述的超声波去污池，还包括第一控制机构、第一执行机构，第一控制机构与第一执行机构连接，第一执行机构与超声波去污池顶盖连接，第一控制机构用于控制第一执行机构翻转超声波去污池顶盖对超声波去污池壳体启闭。
优选的是，所述的超声波去污池，还包括：设置于超声波去污池壳体内的温度测量机构，冷却机构包括：冷却水上水管道、冷却管路、冷却阀门，冷却阀门设置于冷却水上水管道上，冷却水上水管道与冷却管路连接，冷却管路用于对超声波去污池壳体内的清洗液进行冷却，温度测量机构用于检测超声波去污池壳体内的液体温度并发送给第一控制机构，当温度测量机构检测到的温度超过预设温度，则第一控制机构调节冷却阀门开度增大冷却管路内的冷却剂流量。
优选的是，所述的超声波去污池，还包括：设置于超声波去污池壳体内的第一液位检测机构，第一液位检测机构用于检测超声波去污池壳体内的液位高度并发送给第一控制机构，第一控制机构用于监测超声波去污池壳体内的液位高度。
优选的是，所述的超声波去污池还包括：第二执行机构、第一框架，第一框架设置于超声波去污池壳体内，第一控制机构与第二执行机构连接，第一框架与超声波振荡机构连接，第一控制机构控制第二执行机构更换第一框架。
优选的是，气体移除机构包括至少一根压缩空气管道，压缩空气管道用于向超声波去污池壳体内的产品容器底部通入压缩空气，将产品容器底部的气体移除。
优选的是，所述的超声波去污池，还包括设置于超声波去污池壳体内的第一定位机构、第一框架，第一定位机构包括至少一个第一导向部，第一导向部包括第一支撑部、第一导向件，第一支撑部第一端与第一框架内壁连接，第一导向件第一端与第一框架内壁连接，第一导向件第二端与第一支撑部第二端连接，第一导向件第二端相对于第一导向件第一端靠近超声波去污池壳体中心。
优选的是，所述的超声波去污池，还包括超声波去污池集水坑，超声波去污池集水坑设置于超声波去污池壳体下方，超声波去污池集水坑与超声波去污池壳体连接且联通。
优选的是，所述的超声波去污池，还包括至少一根第一出口管，第一出口管与超声波去污池集水坑连接，通过第一出口管将超声波去污池集水坑内部的液体排出。
本发明还提供一种用于放射性环境下的超声波去污装置，包括：上述的超声波去污池、清洗池，清洗池包括清洗池壳体、清洗池顶盖、喷淋机构，清洗池顶盖与清洗池壳体转动连接，清洗池顶盖通过转动到预设位置对清洗池壳体启闭，喷淋机构设置于清洗池壳体内，喷淋机构用于进行喷淋。
优选的是，所述的用于放射性环境下的超声波去污装置，还包括第二控制机构、第三执行机构，第二控制机构与第三执行机构连接，第三执行机构与清洗池顶盖连接，第二控制机构用于控制第三执行机构翻转清洗池顶盖对清洗池壳体启闭。
优选的是，所述的用于放射性环境下的超声波去污装置，还包括：设置于清洗池壳体内的第二液位检测机构，第二液位检测机构用于检测清洗池壳体内的液位高度并发送给第二控制机构，第二控制机构用于监测清洗池壳体内的液位高度。
优选的是，用于放射性环境下的超声波去污装置，还包括第四执行机构，第二控制机构与第四执行机构连接，第二控制机构控制第四执行机构更换喷淋机构。
优选的是，喷淋机构包括至少一个喷淋管，喷淋管为环状，喷淋管上设置有喷嘴，喷淋管用于对放置于其中心的清洗件清洗。
优选的是，所述的用于放射性环境下的超声波去污装置，还包括设置于清洗池壳体内的第二定位机构、第二框架，第二定位机构包括至少一个第二导向部，第二导向部包括第二支撑部、第二导向件，第二支撑部第一端与第二框架内壁连接，第二导向件第一端与第二框架内壁连接，第二导向件第二端与第二支撑部第二端连接，第二导向件第二端相对于第二导向件第一端靠近清洗池壳体中心。
优选的是，所述的用于放射性环境下的超声波去污装置，还包括清洗池集水坑，清洗池集水坑设置于清洗池壳体下方，清洗池集水坑与清洗池壳体连接且联通。
优选的是，所述的用于放射性环境下的超声波去污装置，还包括至少一根第二出口管，第二出口管与清洗池集水坑连接，通过第二出口管将清洗池集水坑内部的液体排出。
本发明中的用于放射性环境下的超声波去污池及超声波去污装置，对产品容器表面的气溶胶具有良好的去污清洗作用，控制了污染的扩散，大大降低了对后续相关设备的污染，减少了废物量。
附图说明
图1是本发明实施例2中的超声波去污池的结构示意图；
图2是本发明实施例2中的超声波去污池的结构示意图；
图3是本发明实施例2中的清洗池的结构示意图。
图中：1—超声波去污池壳体，2—超声波去污池集水坑，3—
第一定位结构，4—超声波振荡机构，5—冷却机构，6—气体移除机构，7—超声波去污池顶盖，8—清洗池壳体，9—清洗池集水坑，10—第二定位结构，11—清洗池顶盖，12—喷淋机构。
具体实施方式
为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。
下面详细描述本专利的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本专利，而不能理解为对本专利的限制。
在本专利的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利的限制。
在本专利的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“设置”应做广义理解，例如，可以是固定相连、设置，也可以是可拆卸连接、设置，或一体地连接、设置。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本专利中的具体含义。
实施例1
本实施例提供一种用于放射性环境下的超声波去污池，包括：超声波去污池壳体、超声波去污池顶盖、冷却机构、超声波振荡机构、气体移除机构，超声波去污池顶盖与超声波去污池壳体转动连接，超声波去污池顶盖通过转动到预设位置对超声波去污池壳体启闭，超声波去污池壳体用于盛放清洗液对清洗件进行清洗，冷却机构、超声波振荡机构、气体移除机构分别设置于超声波去污池壳体内，冷却机构用于对超声波去污池壳体内的清洗液进行冷却，超声波振荡机构用于通过超声波振荡进行清洗，气体移除机构用于移除被去污容器底部存积的气体。
本实施例还提供一种用于放射性环境下的超声波去污装置，包括：上述的超声波去污池、清洗池，清洗池包括清洗池壳体、清洗池顶盖、喷淋机构，清洗池顶盖与清洗池壳体转动连接，清洗池顶盖通过转动到预设位置对清洗池壳体启闭，喷淋机构设置于清洗池壳体内，喷淋机构用于进行喷淋。
本实施例中的用于放射性环境下的超声波去污池及超声波去污装置，对产品容器表面的气溶胶具有良好的去污清洗作用，控制了污染的扩散，大大降低了对后续相关设备的污染，减少了废物量。
实施例2
如图1、2所示，本实施例提供一种用于放射性环境下的超声波去污池，包括：超声波去污池壳体1、超声波去污池顶盖7、冷却机构5、超声波振荡机构4、气体移除机构6，超声波去污池顶盖7与超声波去污池壳体1转动连接，超声波去污池顶盖7通过转动到预设位置对超声波去污池壳体1启闭，超声波去污池壳体1用于盛放清洗液对清洗件进行清洗，冷却机构5、超声波振荡机构4、气体移除机构6分别设置于超声波去污池壳体1内，冷却机构5用于对超声波去污池壳体1内的清洗液进行冷却，超声波振荡机构4用于通过超声波振荡进行清洗，气体移除机构6用于移除被去污容器底部存积的气体。
超声波振荡机构4与超声波去污池壳体1可拆卸连接，超声波振荡机构4可更换，超声波振荡机构4具体为超声波振荡器。超声波去污池为一个带有铰链盖的平底圆筒容器。
优选的是，所述的超声波去污池，还包括第一控制机构、第一执行机构，第一控制机构与第一执行机构连接，第一执行机构与超声波去污池顶盖7连接，第一控制机构用于控制第一执行机构翻转超声波去污池顶盖7对超声波去污池壳体1启闭。具体的，第一执行机构为机械手。
优选的是，所述的超声波去污池，还包括：设置于超声波去污池壳体1内的温度测量机构，冷却机构5包括：冷却水上水管道、冷却管路、冷却阀门，冷却阀门设置于冷却水上水管道上，冷却水上水管道与冷却管路连接，冷却管路用于对超声波去污池壳体1内的清洗液进行冷却，温度测量机构用于检测超声波去污池壳体1内的液体温度并发送给第一控制机构，当温度测量机构检测到的温度超过预设温度，则第一控制机构调节冷却阀门开度增大冷却管路内的冷却剂流量。
具体的，本实施例中的冷却管路为冷却环管，通过冷却机构5消除产品容器和超声波振荡器的产生的热量。产品容器是指一种专门用于盛装废物玻璃固化体的容器。
本实施例中超声波去污池用于陶瓷电熔炉高放废液玻璃固化产品容器去污清洗。
为了能在产品容器顶部不受力的情况下垂直叠放产品容器，每个产品容器底部做了一个向内凹陷的球形结构，即底部凹球形区域。在将产品容器垂直放进去超声波去污池的过程中，就会有气体残留。
超声波去污池壳体1内设有温度测量点，连接至冷却水上水管道上的冷却阀门为气动调节阀，以实现超声波去污池壳体1内的产品容器在去污时，自动调节冷却水流量，保证超声波去污池壳体1中的温度低于或等于最高温度。超声波去污池壳体1内去污液的目标温度可通过第一控制机构调整。
优选的是，所述的超声波去污池，还包括：设置于超声波去污池壳体1内的第一液位检测机构，第一液位检测机构用于检测超声波去污池壳体1内的液位高度并发送给第一控制机构，第一控制机构用于监测超声波去污池壳体1内的液位高度。超声波去污池还配备了液位测量点，用于监测超声波去污池内液位高度。
优选的是，所述的超声波去污池还包括：第二执行机构、第一框架，第一框架设置于超声波去污池壳体1内，第一控制机构与第二执行机构连接，第一框架与超声波振荡机构4连接，第一控制机构控制第二执行机构更换第一框架。具体的，超声波振荡机构4为超声波振荡器。具体的，第二执行机构为吊车。
在超声波去污池壳体1内部，超声波振荡器安装在超声波去污池壳体1筒体周围的径向位置和筒体底的第一框架上，此第一框架可通过远距离操作更换。
优选的是，气体移除机构6包括至少一根压缩空气管道，压缩空气管道用于向超声波去污池壳体1内的产品容器底部通入压缩空气，将产品容器底部的气体移除。压缩空气管道通入产品容器底部。
为了去除产品容器放入去污液时底部积累的气体，在超声波去污池壳体1底部设置了底部气体移除机构6，用于带走产品容器底部积累的气体。
为了防止去污时去污液溅出，超声波去污池壳体1顶部设置了带铰链的、可以打开的超声波去污池顶盖7。
优选的是，所述的超声波去污池，还包括设置于超声波去污池壳体1内的第一定位机构、第一框架，第一定位机构包括至少一个第一导向部，第一导向部包括第一支撑部、第一导向件，第一支撑部第一端与第一框架内壁连接，第一导向件第一端与第一框架内壁连接，第一导向件第二端与第一支撑部第二端连接，第一导向件第二端相对于第一导向件第一端靠近超声波去污池壳体1中心。
第一定位机构设置于超声波去污池壳体1中心位置，便于产品容器在超声波去污池壳体1内对中、定位。
优选的是，所述的超声波去污池，还包括超声波去污池集水坑2，超声波去污池集水坑2设置于超声波去污池壳体1下方，超声波去污池集水坑2与超声波去污池壳体1连接且联通。超声波去污池集水坑2用于将超声波去污池中的去污液完全排出。
优选的是，所述的超声波去污池，还包括至少一根第一出口管，第一出口管与超声波去污池集水坑2连接，通过第一出口管将超声波去污池集水坑2内部的液体排出。
如图1～3所示，本实施例还提供一种用于放射性环境下的超声波去污装置，包括：上述的超声波去污池、清洗池，清洗池包括清洗池壳体8、清洗池顶盖11、喷淋机构12，清洗池顶盖11与清洗池壳体8转动连接，清洗池顶盖11通过转动到预设位置对清洗池壳体8启闭，喷淋机构12设置于清洗池壳体8内，喷淋机构12用于进行喷淋。
优选的是，所述的用于放射性环境下的超声波去污装置，还包括第二控制机构、第三执行机构，第二控制机构与第三执行机构连接，第三执行机构与清洗池顶盖11连接，第二控制机构用于控制第三执行机构翻转清洗池顶盖11对清洗池壳体8启闭。具体的，第三执行机构为机械手。
优选的是，所述的用于放射性环境下的超声波去污装置，还包括：设置于清洗池壳体8内的第二液位检测机构，第二液位检测机构用于检测清洗池壳体8内的液位高度并发送给第二控制机构，第二控制机构用于监测清洗池壳体8内的液位高度。清洗池壳体8内设置有液位测量点。
优选的是，用于放射性环境下的超声波去污装置，还包括第四执行机构，第二控制机构与第四执行机构连接，第二控制机构控制第四执行机构更换喷淋机构12。具体的，第四执行机构为吊车。
优选的是，喷淋机构12包括至少一个喷淋管，喷淋管为环状，喷淋管为喷淋环管，喷淋管上设置有喷嘴，喷淋管用于对放置于其中心的清洗件清洗。喷嘴位于清洗池壳体8底部，通过喷嘴冲洗产品容器表面残留的去污液，此内部构件可通过远距离操作更换。
优选的是，所述的用于放射性环境下的超声波去污装置，还包括设置于清洗池壳体8内的第二定位机构、第二框架，第二定位机构包括至少一个第二导向部，第二导向部包括第二支撑部、第二导向件，第二支撑部第一端与第二框架内壁连接，第二导向件第一端与第二框架内壁连接，第二导向件第二端与第二支撑部第二端连接，第二导向件第二端相对于第二导向件第一端靠近清洗池壳体8中心。
第二定位机构设置于清洗池壳体8中心位置，便于产品容器在清洗池壳体8内对中、定位。
优选的是，所述的用于放射性环境下的超声波去污装置，还包括清洗池集水坑9，清洗池集水坑9设置于清洗池壳体8下方，清洗池集水坑9与清洗池壳体8连接且联通。
清洗池为一个带有铰链盖的平底圆筒容器，底部设有一个清洗池集水坑9，用于将清洗池中的清洗液完全排出。
优选的是，所述的用于放射性环境下的超声波去污装置，还包括至少一根第二出口管，第二出口管与清洗池集水坑9连接，通过第二出口管将清洗池集水坑9内部的液体排出。
为了防止去污时去污液溅出，清洗池壳体8顶部设置了带铰链的、可以打开的清洗池顶盖11。
高放废液玻璃固化后产生的玻璃固化体进入产品容器中。产品容器焊接完成后，通过超声波去污装置进行表面清洗。超声波去污池壳体1内的清洗液通常为1mol/L硝酸溶液。远距离操作打开超声波去污池顶盖7，吊运产品容器至超声波去污池壳体1内，通过第一定位结构3保证产品容器在超声波去污池壳体1合适位置。远距离操作关闭超声波去污池顶盖7，使用气体移除机构6去除产品容器底部凹球形区域的气体，然后电控打开超声振荡机构4进行超声波去污，超声去污持续约2小时，移除产品容器表面附着的污染物；去污过程中，通过温度测量机构检测超声去污池壳体内清洗液的温度，如果超过设定温度，可以通过连锁控制自动打开冷却环管内的冷却水对清洗液进行冷却，避免温度过高。超声波去污池壳体1内的清洗液在需要定期更换，清洗液通过泵排出，第一出口管最低处在底部超声波去污池集水坑2，可以最大限度倒空超声波去污池。
去污后，远距离操作打开超声波去污池顶盖7，吊运产品容器至清洗池内，通过第二定位结构10保证产品容器在清洗池壳体8合适位置。远距离操作关闭清洗池顶盖11，打开冲洗水供应阀门，通过喷淋机构12冲洗玻璃产品容器表面，将玻璃固化产品容器表面附着的硝酸清洗掉，每清洗一罐产品容器，清洗池内的冲洗水进行一次更换。冲洗液通过泵排出，第二出口管最低处在清洗池集水坑9，可以最大限度倒空清洗池。
完成清洗后，将产品容器吊起保持，以沥干玻璃产品容器表面的水。随后可进行后续的处理。
清洗后可对产品容器表面进行表面污染检测。使用擦拭纸擦拭产品容器表面，并对擦拭纸进行检测。
同时，本实施例中的超声波去污池及超声波去污装置适用于其他放射性环境下废物桶表面的去污。
产品容器的去污清洗至关重要，由于产品容器处理过程在热室中进行，本实施例中的用于放射性环境下的超声波去污池及超声波去污装置，满足在放射性环境下对产品容器的去污清洗。
本实施例中的用于放射性环境下的超声波去污池及超声波去污装置，对产品容器表面的气溶胶具有良好的去污清洗作用，控制了污染的扩散，大大降低了对后续相关设备的污染，减少了废物量。
本实施例中的用于放射性环境下的超声波去污池及超声波去污装置，操作简单、便于维护，内部构件可远距离操作更换，在产品容器焊封后，对产品容器表面进行去污清洗。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
Claims (17)
1.一种用于放射性环境下的超声波去污池，其特征在于，包括：超声波去污池壳体、超声波去污池顶盖、冷却机构、超声波振荡机构、气体移除机构，超声波去污池顶盖与超声波去污池壳体转动连接，超声波去污池顶盖通过转动到预设位置对超声波去污池壳体启闭，冷却机构、超声波振荡机构、气体移除机构分别设置于超声波去污池壳体内，冷却机构用于对超声波去污池壳体内的清洗液进行冷却，超声波振荡机构用于通过超声波振荡进行清洗，气体移除机构用于移除被去污容器底部存积的气体。
2.根据权利要求1所述的超声波去污池，其特征在于，还包括第一控制机构、第一执行机构，第一控制机构与第一执行机构连接，第一执行机构与超声波去污池顶盖连接，第一控制机构用于控制第一执行机构翻转超声波去污池顶盖对超声波去污池壳体启闭。
3.根据权利要求2所述的超声波去污池，其特征在于，还包括：设置于超声波去污池壳体内的温度测量机构，冷却机构包括：冷却水上水管道、冷却管路、冷却阀门，冷却阀门设置于冷却水上水管道上，冷却水上水管道与冷却管路连接，冷却管路用于对超声波去污池壳体内的清洗液进行冷却，温度测量机构用于检测超声波去污池壳体内的液体温度并发送给第一控制机构，当温度测量机构检测到的温度超过预设温度，则第一控制机构调节冷却阀门开度增大冷却管路内的冷却剂流量。
4.根据权利要求2所述的超声波去污池，其特征在于，还包括：设置于超声波去污池壳体内的第一液位检测机构，第一液位检测机构用于检测超声波去污池壳体内的液位高度并发送给第一控制机构，第一控制机构用于监测超声波去污池壳体内的液位高度。
5.根据权利要求2所述的超声波去污池，其特征在于，还包括：第二执行机构、第一框架，第一框架设置于超声波去污池壳体内，第一控制机构与第二执行机构连接，第一框架与超声波振荡机构连接，第一控制机构控制第二执行机构更换第一框架。
6.根据权利要求1所述的超声波去污池，其特征在于，气体移除机构包括至少一根压缩空气管道，压缩空气管道用于向超声波去污池壳体内的产品容器底部通入压缩空气，将产品容器底部的气体移除。
7.根据权利要求1所述的超声波去污池，其特征在于，还包括设置于超声波去污池壳体内的第一定位机构、第一框架，第一定位机构包括至少一个第一导向部，第一导向部包括第一支撑部、第一导向件，第一支撑部第一端与第一框架内壁连接，第一导向件第一端与第一框架内壁连接，第一导向件第二端与第一支撑部第二端连接，第一导向件第二端相对于第一导向件第一端靠近超声波去污池壳体中心。
8.根据权利要求1～7任意一项所述的超声波去污池，其特征在于，还包括超声波去污池集水坑，超声波去污池集水坑设置于超声波去污池壳体下方，超声波去污池集水坑与超声波去污池壳体连接且联通。
9.根据权利要求8所述的超声波去污池，其特征在于，还包括至少一根第一出口管，第一出口管与超声波去污池集水坑连接，通过第一出口管将超声波去污池集水坑内部的液体排出。
10.一种用于放射性环境下的超声波去污装置，其特征在于，包括：权利要求1～9任意一项所述的超声波去污池、清洗池，清洗池包括清洗池壳体、清洗池顶盖、喷淋机构，清洗池顶盖与清洗池壳体转动连接，清洗池顶盖通过转动到预设位置对清洗池壳体启闭，喷淋机构设置于清洗池壳体内，喷淋机构用于进行喷淋。
11.根据权利要求10所述的用于放射性环境下的超声波去污装置，其特征在于，还包括第二控制机构、第三执行机构，第二控制机构与第三执行机构连接，第三执行机构与清洗池顶盖连接，第二控制机构用于控制第三执行机构翻转清洗池顶盖对清洗池壳体启闭。
12.根据权利要求11所述的用于放射性环境下的超声波去污装置，其特征在于，还包括：设置于清洗池壳体内的第二液位检测机构，第二液位检测机构用于检测清洗池壳体内的液位高度并发送给第二控制机构，第二控制机构用于监测清洗池壳体内的液位高度。
13.根据权利要求11所述的用于放射性环境下的超声波去污装置，其特征在于，还包括第四执行机构，第二控制机构与第四执行机构连接，第二控制机构控制第四执行机构更换喷淋机构。
14.根据权利要求10所述的用于放射性环境下的超声波去污装置，其特征在于，喷淋机构包括至少一个喷淋管，喷淋管为环状，喷淋管上设置有喷嘴，喷淋管用于对放置于其中心的清洗件清洗。
15.根据权利要求10所述的用于放射性环境下的超声波去污装置，其特征在于，还包括设置于清洗池壳体内的第二定位机构、第二框架，第二定位机构包括至少一个第二导向部，第二导向部包括第二支撑部、第二导向件，第二支撑部第一端与第二框架内壁连接，第二导向件第一端与第二框架内壁连接，第二导向件第二端与第二支撑部第二端连接，第二导向件第二端相对于第二导向件第一端靠近清洗池壳体中心。
16.根据权利要求10～15任意一项所述的用于放射性环境下的超声波去污装置，其特征在于，还包括清洗池集水坑，清洗池集水坑设置于清洗池壳体下方，清洗池集水坑与清洗池壳体连接且联通。
17.根据权利要求16所述的用于放射性环境下的超声波去污装置，其特征在于，还包括至少一根第二出口管，第二出口管与清洗池集水坑连接，通过第二出口管将清洗池集水坑内部的液体排出。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202410263204.8A CN117900220A (zh) | 2024-03-07 | 2024-03-07 | 用于放射性环境下的超声波去污池及超声波去污装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202410263204.8A CN117900220A (zh) | 2024-03-07 | 2024-03-07 | 用于放射性环境下的超声波去污池及超声波去污装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN117900220A true CN117900220A (zh) | 2024-04-19 |
Family
ID=90682229
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202410263204.8A Pending CN117900220A (zh) | 2024-03-07 | 2024-03-07 | 用于放射性环境下的超声波去污池及超声波去污装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN117900220A (zh) |
-
2024
- 2024-03-07 CN CN202410263204.8A patent/CN117900220A/zh active Pending
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