CN117826306A - 一种低雾度薄膜偏光片及其制备方法 - Google Patents

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郑文俊
高艺洋
钟建文
V·V·瓦什琴科
O·瓦什琴科
邓树端
郭海成
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Abstract

本发明提供了一种低雾度薄膜偏光片,包括:基材;第一膜层,所述第一膜层为雾度抑制层,其是通过将能够减少偏光层的光学雾度的材料涂布于所述基材之上而形成的;第二膜层,所述第二膜层为功能性偏光层,其是通过将偏光材料涂布于所述第一膜层之上而形成的。本发明还提供了另一种低雾度薄膜偏光片,包括:基材;以及混合膜层,所述混合膜层是通过将减少偏光层的光学雾度的材料与偏光材料的混合溶液涂布于所述基材之上而形成的。此外,本发明还提供了上述两种低雾度薄膜偏光片的制备方法及其应用。

Description

一种低雾度薄膜偏光片及其制备方法
技术领域
本发明涉及显示器件领域,具体地,涉及一种低雾度薄膜偏光片、其制备方法以及包括该低雾度薄膜偏光片的用于显示应用的装置。
背景技术
偏光片,是指一种从非偏振光(例如自然光)中提取具有特定振动方向的直线偏振光的光学器件,是许多光学和显示器件中必不可少的组件。通常,广泛使用的是吸收型偏光片,其主要类型包括商用聚乙烯醇(PVA)-碘偏光片、染料掺杂的液晶宾主型-偏光片和基于溶致液晶的偏光片。这些偏光片各有优缺点。例如,公认的局限性包括大的膜厚度、机械收缩、二向色比不足、成本高和可涂布性问题等。
近年来,基于偶氮染料光取向的偏光膜成为填补空白并满足高级显示器应用要求的有前途的候选者。US 8,576.485B2已经报道了一种光取向的偏光膜的制造方法。将偶氮染料膜涂覆在基材上,然后曝照于偏振光下。染料分子通过吸收偏振光而取向,并且取向的染料膜将整体(bulk)表现出二向色性。染料取向可以通过一种聚合作用来稳定,要么染料具有可聚合基团,要么将染料与其他可以聚合的单体混合。还可以通过进行某种化学改性来稳定染料,使得不可能进行进一步的光取向。还发现通过将具有不同吸收带的偶氮染料混合并通过染料的化学处理可以获得宽带偏振膜。这些光取向的偶氮染料膜在整个可见光谱上具有高的二向色比。同时,它们允许亚微米膜具有足够的偏光效率。但是,这些化学改性膜的透射雾度相对较高。对于应用于显示器的偏光片,透射雾度不仅影响平行透射光强度,而且还影响显示器的清晰度。
遵循先前的光取向偶氮染料偏光膜制造技术,在化学改性之前和之后,光学雾度为约4-6%和12-20%。相应的均方根表面粗糙度为12-18nm和35-50nm的范围。薄膜的雾度是由表面粗糙度和内部不均匀性所引起的。晶体结构和各种不规则性是典型的雾度发生原因。在溶剂蒸发过程中,染料的浓度会增加,分子相互作用会增强,而线性排列的取向的偶氮染料很可能会聚集并结晶。在对偶氮染料进行化学改性后,也会促进结晶并增加表面粗糙度。雾度与结晶度和颗粒大小直接相关。因此,为了减少偶氮染料偏光膜的光学雾度,结晶控制是关键的过程。
发明内容
有鉴于此,本发明提供了一种低雾度薄膜偏光片、其制备方法以及包括该低雾度薄膜偏光片的用于显示应用的装置。基于本发明提供的制备方法制备的低雾度薄膜偏光片具有显著降低的光学雾度和高二向色比,从而使得可以提供良好的膜透明度和透光率。
根据本发明的第一方面,本发明提供了一种低雾度薄膜偏光片,包括:a)基材;b)第一膜层,所述第一膜层为雾度抑制层,其是通过将能够减少偏光层的光学雾度的材料涂布于所述基材之上而形成的;以及c)第二膜层,所述第二膜层为功能性偏光层,其是通过将偏光材料涂布于所述第一膜层之上而形成的。
根据本发明的第二方面,本发明提供了一种制备本发明第一方面的低雾度薄膜偏光片的方法,所述方法包括:1)在基材上涂布含有减少偏光层的光学雾度的材料的溶液,从而形成作为雾度抑制层的第一膜层;2)任选地,干燥所述第一膜层,例如自然干燥所述第一膜层1-5分钟;3)在所述第一膜层上涂布含有偏光材料的溶液,从而形成作为功能性偏光层的第二膜层;4)将所得到的所述第一膜层和所述第二膜层曝照于偏振光(例如总能量为100J/cm2的线性偏振光)照射下,以进行光取向;以及5)对经步骤4)处理的所述第一膜层和所述第二膜层进行化学改性。
根据本发明的第三方面,本发明提供了另一种低雾度薄膜偏光片,包括:a)基材;以及b)混合膜层,所述混合膜层是通过将减少偏光层的光学雾度的材料与偏光材料的混合溶液涂布于所述基材之上而形成的。
根据本发明的第四方面,本发明提供了另一种制备本发明的第三方面所述的低雾度薄膜偏光片的方法,所述方法包括:1)将减少偏光层的光学雾度的材料与偏光材料混合,由此得到混合溶液;2)将所述混合溶液涂布于基材上,从而形成混合膜层;3)将所述混合膜层曝照于偏振光(例如总能量为100J/cm2的线性偏振光)照射下,以进行光取向;以及4)对经步骤3)处理的所述混合膜层进行化学改性。
根据本发明的第五方面,本发明提供了用于显示应用的装置,其中,所述装置包括本发明第一方面或本发明第三方面的低雾度薄膜偏光片;优选地,所述装置为有机发光二极管(OLED)显示器或液晶屏(LCD)。
本发明的有益效果:本发明通过在基材上形成雾度抑制层和功能性偏光层的双层膜结构来制备低雾度薄膜偏光片,通过选择合适的减少偏光层的光学雾度的材料来形成雾度抑制层,选择合适的偏光材料形成功能性偏光层,使得用于形成雾度抑制层的材料可以扩散到用于形成功能性偏光层的偏光材料中,从而有效地防止用于形成功能性偏光层的偏光材料的结晶,或者通过在偏光材料中直接掺杂减少偏光层的光学雾度的材料来有效地防止偏光材料的结晶,并且通过控制掺杂的减少偏光层的光学雾度的材料的量可以使得形成混合膜层的材料之间具有共同的或者协同的作用,从而使得所形成的低雾度薄膜偏光片具有低雾度、高二色性。
本发明提供的低雾度、高二色性的薄膜偏光片可以广泛地应用于显示应用的装置,例如有机发光二极管(OLED)显示器或液晶屏(LCD)中。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的实施方案。
图1示意性地示出根据本发明的一些实施方案的具有双层膜结构的低雾度薄膜偏光片,其中,1代表第二膜层,2代表第一膜层,3代表基材。
图2示意性地示出根据本发明的一些实施方案的在第一膜层具有微结构的双层膜结构的低雾度薄膜偏光片,其中,1代表第二膜层,4代表具有微结构的第一膜层,3代表基材。
图3示意性地示出根据本发明的一些实施方案的具有单层膜结构的低雾度薄膜偏光片,其中,5代表混合膜层,3代表基材。
图4a示出了根据本发明的一些实施方案的具有化学改性后的双层膜结构的低雾度薄膜偏光片在两个正交偏振方向上的吸收光谱。
图4b示出了根据本发明的一些实施方案的具有化学改性后的双层膜结构的低雾度薄膜偏光片的二向色比谱。
图4c示出了根据本发明的一些实施方案的具有化学改性后的双层膜结构的低雾度薄膜偏光片与仅具有第二膜层的单层膜结构的低雾度薄膜偏光片的雾度。
图5示出了根据本发明的一些实施方案的具有双层膜结构的低雾度薄膜偏光片的雾度与AD4455溶液浓度的关系。
图6a示出了根据本发明的一些实施方案的AD1单层膜和AD1/PMMA双层膜的吸收光谱。
图6b示出了根据本发明的一些实施方案的AD1单层膜和AD1/PMMA双层膜的二向色比谱。
图6c示出了根据本发明的一些实施方案的AD1单层膜和AD1/PMMA双层膜的雾度。
图7示出了涂布过程的不同相对湿度对具有双层膜结构的低雾度薄膜偏光片的光学雾度的影响。
图8示出了光取向过程中的不同温度对具有双层膜结构的低雾度薄膜偏光片的性能的影响。
图9a示出了具有混合膜层的单层结构的低雾度薄膜偏光片的吸收性能。
图9b示出了具有混合膜层的单层结构的低雾度薄膜偏光片的向色比。
图9c示出掺杂材料(AD4455)的浓度(8-75重量%)对具有混合膜层的单层结构的低雾度薄膜偏光片的光学雾度的影响。
具体实施方式
下面将结合本发明的实施方案和附图,对本发明进行清楚、完整的描述。显然,所描述的实施方案仅仅是本发明的一部分实施方案,而不是全部的实施方案。基于本发明中的实施方案,本领域普通技术人员可以获得的所有其他实施方案,都属于本发明保护的范围。
本发明中的所有术语和短语应根据本领域技术人员所理解的其通常含义进行解释。如无特别说明,本发明中所提及的术语具有相同的含义。在本发明中,仅对首次提及的术语、所使用的材料以及材料所具有的性质等进行详细地描述,如无特别说明,当在本发明中再次提及时,所述术语的含义、所使用的材料的种类、所述材料的性质等均与首次提及时相同,因此不再进行赘述。
偏光片是许多光学和显示器件中必不可少的组件,其广泛应用于有机发光二极管(OLED)显示器、液晶屏(LCD)、护目镜、太阳镜和摄影设备等装置。雾度是衡量偏光片性能的一个重要指标,雾度越低意味着薄膜偏光片的光泽以及透明度尤其成像度越好。基于此,本发明的目的在于提供一种低雾度的薄膜偏光片,从而提高显示装置的清晰度和成像效果。
因此,根据本发明的第一方面,提供了一种低雾度薄膜偏光片,包括:a)基材,例如玻璃或塑料;b)第一膜层,所述第一膜层为雾度抑制层,其是通过将能够减少偏光层的光学雾度的材料涂布于所述基材之上而形成的;以及c)第二膜层,所述第二膜层为功能性偏光层,其是通过将偏光材料涂布于所述第一膜层之上而形成的。
如本领域技术人员所理解的,“雾度”指根据国标GB/T 2410-2008(与ASTM D1003标准相同)中定义的透过试样而偏离入射光方向的散射光通量与透射光通量之比,用百分数表示(对于本方法来说,仅把偏离入射光方向2.5°以上的散射光通量用于计算雾度)。在本发明中,“低雾度”是指散射光通量与透射光通量之比≤30%,例如≤20%、≤10%、≤8%、或≤5%。
如本领域技术人员所理解的,“薄膜”指一种薄而软的透明薄片。薄膜科学上的解释为:由原子、分子或离子沉积在基材表面形成的2维材料,例如,光学薄膜、复合薄膜、超导薄膜、聚酯薄膜、尼龙薄膜、塑料薄膜等等。薄膜材料是指厚度介于单原子到几毫米间的薄金属或有机物层,其被广泛用于电子电器、机械、印刷等行业。
因此,在本发明中,“低雾度薄膜偏光片”是指散射光通量与透射光通量之比≤30%且厚度介于单原子到1000nm之间的偏光片。
如本领域技术人员所理解的,“基材”是指对涂布于其之上的其他物质例如本发明涉及的减少偏光层的光学雾度的材料起支撑作用的材料。在本发明中,所使用的“基材”可以为例如玻璃、塑料等。当然,也可以使用本领域技术人员已知的可用作偏光片的基材的其他材料,只要能够实现本发明目的即可,本领域技术人员可以根据实际需要进行选择。
在本发明中,在基材上形成双层膜结构,其中,第一膜层作为雾度抑制层,其是通过将能够减少偏光层的光学雾度的材料涂布于所述基材之上而形成的;第二膜层作为功能性偏光层,其是通过将偏光材料涂布于所述第一膜层之上而形成的。图1示意性地示出根据本发明的一些实施方案的具有双层膜结构的低雾度薄膜偏光片,其中,1代表第二膜层,2代表第一膜层,3代表基材。
在一些实施方案中,用于形成第一膜层的减少偏光层的光学雾度的材料具有与用于形成第二膜层的偏光材料相当的分子长度。在本文中,所谓“相当的分子长度”是指二者的分子长度在同一个数量级,亦即长度比不应大于10倍,优选是在2倍以下。
在一些实施方案中,减少偏光层的光学雾度的材料具有与偏光材料相似的分子结构。在本文中,所谓“相似的分子结构”是指减少偏光层的光学雾度的材料的分子和偏光材料的分子之间具有相同的主体结构,区别仅在于主体结构上的一个或者多个取代基的不同。
在一些实施方案中,减少偏光层的光学雾度的材料的分子具有棒状形状,并且其分子的尺寸和纵横比与偏光材料的分子的尺寸和纵横比相当。在本文中,所谓“尺寸和纵横比相当”是指二者的尺寸和纵横比在同一个数量级,亦即不应大于10倍,优选是在2倍以下。
另外,还可以理解,在本发明中,所使用的减少偏光层的光学雾度的材料或偏光材料可以为一种或多种例如两种、三种、四种相应材料的组合。
本发明通过在基材上形成双层膜结构,并且选择合适的减少偏光层的光学雾度的材料形成雾度抑制层,选择合适的偏光材料形成功能性偏光层,使得用于形成雾度抑制层的材料可以扩散到用于形成功能性偏光层的偏光材料中,这可以有效地防止功能性偏光层的偏光材料的大量结晶和聚集,从而使雾度最小化。
在一些实施方案中,用于形成第一膜层的减少偏光层的光学雾度的材料能够进行光取向并且具有二向色性。如本领域技术人员所理解的,“光取向”是指材料在曝照于偏振光(例如总能量为100J/cm2的线性偏振光)照射下进行的光取向过程。如本领域技术人员所理解的,“二向色性”是指是指物质对光的吸收系数依赖于入射光的偏振状态的一种性质。如本领域技术人员所理解的,“二向色性材料”是指其中以不同偏振态传播的光会经历不同吸收系数的材料,在本发明中,有机材料具有二向色性,属于二向色性材料。“二向色性材料”具有二向色比,如本领域技术人员所理解的,“二向色比”是指已取向的二向色性材料在平行和垂直方向上的吸收系数之比,其中,“垂直方向”和“平行方向”是相对于偶氮染料分子长轴的取向而定义的,二向色比越高,它作为偏光材料的作用就越好。偶氮染料分子的主吸收轴大约沿着其分子长轴。
在一个实施方案中,减少偏光层的光学雾度的材料为有机材料。在一个实施方案中,所述有机材料为偶氮染料,例如具有化学式(1)的偶氮染料AD4455,或为透明塑料材料,例如具有化学式(2)的聚(甲基丙烯酸甲酯)(PMMA)。当然,也可以使用本领域技术人员已知的可用作雾度抑制层的其他材料,只要能够实现本发明目的即可,本领域技术人员可以根据实际需要进行选择:
在本发明中,用于形成第二膜层的材料为偏光材料。如本领域技术人员所理解的,“偏光材料”是指具有相对较高的二向色比的二向色材料。在一个实施方案中,用于形成第二膜层的材料为偶氮染料。在一个具体的实施方案中,用于形成第二膜层的偶氮染料为具有化学式(3)的偶氮染料AD1:
当然,也可以使用本领域技术人员已知的可用作功能性偏光层的其他材料,只要能够实现本发明目的即可,本领域技术人员可以根据实际需要进行选择。
在一些实施方案中,第一膜层具有微结构。图2示意性地示出根据本发明的一些实施方案的在第一膜层具有微结构的双层膜结构的低雾度薄膜偏光片,其中,1代表第二膜层,4代表具有微结构的第一膜层,3代表基材。在本发明中,可以通过图案化处理来在第一膜层上形成微结构。可以通过纳米压印、光刻、蒸发或印刷等方式来进行图案化处理。当然也可以使用本领域技术人员已知的其他方式来形成微结构或者说进行图案化处理,只要能够实现本发明目的即可,本领域技术人员可以根据实际需要进行选择。
在一些实施方案中,可以根据偏光材料的物理和化学性质来对微结构的尺寸和间距进行优化,优选地,微结构的尺寸和间距不会导致光散射或色散。微结构、形状、大小和密度可以与第二膜层的不同的偶氮染料配合调节。具有微结构的第一膜层可以用作第二膜层的图案化模板,并通过阻止第二膜层偶氮染料的结晶来减少雾度。
根据本发明的第二方面,提供了一种制备本发明第一方面的低雾度薄膜偏光片的方法,所述方法包括:
1)在基材(例如玻璃或塑料)上涂布含有减少偏光层的光学雾度的材料的溶液,从而形成作为雾度抑制层的第一膜层;
2)任选地,干燥所述第一膜层,例如自然干燥所述第一膜层1-5分钟;
3)在所述第一膜层上涂布含有偏光材料的溶液,从而形成作为功能性偏光层的第二膜层;
4)将所得到的所述第一膜层和所述第二膜层曝照于偏振光(例如总能量为100J/cm2的线性偏振光)照射下,以进行光取向;以及
5)对经步骤4)处理的所述第一膜层和所述第二膜层进行化学改性。
根据本发明的一些实施方案,用于形成第一膜层的减少偏光层的光学雾度的材料具有与用于形成第二膜层的偏光材料相当的分子长度。根据本发明的一些实施方案中,减少偏光层的光学雾度的材料具有与偏光材料相似的分子结构。根据本发明的一些实施方案中,减少偏光层的光学雾度的分子的材料具有棒状形状,并且其分子的尺寸和纵横比与偏光材料的分子的尺寸和纵横比相当。根据本发明的一些实施方案,减少偏光层的光学雾度的材料能够进行光取向并且具有二向色性。
根据本发明的一个实施方案中,减少偏光层的光学雾度的材料为有机材料。根据本发明的一些实施方案,有机材料为偶氮染料。根据本发明的一个具体的实施方案,有机材料为具有化学式(1)的偶氮染料AD4455。根据本发明的另一些实施方案,有机材料为透明塑料材料。根据本发明的一个具体的实施方案,有机材料为具有化学式(2)的聚(甲基丙烯酸甲酯)(PMMA)。当然,也可以使用本领域技术人员已知的可用作雾度抑制层的其他材料,只要能够实现本发明目的即可,本领域技术人员可以根据实际需要进行选择。
根据本发明的一些实施方案中,用于形成第二膜层的材料为偶氮染料。根据本发明的一个具体的实施方案中,用于形成第二膜层的偶氮染料为具有化学式(3)的偶氮染料AD1。
根据本发明的一些实施方案,在制备本发明第一方面的低雾度薄膜偏光片的方法中,所述步骤1)和3)在受控的温度和湿度条件下进行。对于温度,优选在25℃以下的温度下进行,例如在25℃、20℃、15℃、10℃、5℃下进行,优选地,在15℃-25℃范围的温度下进行,例如在25℃、20℃、15℃下进行。温度不能过高,因为过高的温度将导致溶剂蒸发过快,从而导致快速结晶和较高的雾度。对于湿度,优选在50%以上的中到高湿度下进行,例如在50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%的相对湿度下进行,优选地,在50%-80%范围的湿度下进行,例如在50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%的湿度下进行。将相对湿度控制在上述范围可以使所形成的第一膜层和第二膜层更加均匀和光滑。
根据本发明的一些实施方案,在制备本发明第一方面的低雾度薄膜偏光片的方法中,所述步骤1)和3)通过旋涂、浸涂、喷涂、刷涂、蒸发、溅射和印刷例如狭缝模头印刷、气溶胶喷射印刷或喷墨印刷进行。当然也可以使用本领域技术人员已知的其他方式来形成第一膜层和第二膜层,只要能够实现本发明目的即可,本领域技术人员可以根据实际需要进行选择。
根据本发明的一些实施方案,在制备本发明的第一方面所述的低雾度薄膜偏光片的方法中,在所述步骤1)中,减少偏光层的光学雾度的材料的溶液的浓度为3.5重量%至5重量%,例如,3.5重量%、4重量%、4.5重量%或5重量%,优选地为5重量%。较高浓度的第一膜层材料更有利于减少雾度,当浓度较低时,第一膜层的材料分子的量不足以有效地隔离第二膜层的材料,在这种情况下,第二膜层的结晶保持会较高水平,从而导致更大的雾度。但是,浓度太高也是不利的,因为这将导致在短波段中吸收的增加,这会降低宽带偏振片的光谱均匀性。因此,通过将用于形成第一膜层的减少偏光层的光学雾度的材料的溶液的溶度控制在上述水平,可以实现雾度和光谱均匀性的良好平衡。
根据本发明的一些实施方案,制备本发明第一方面的低雾度薄膜偏光片的方法还包括在进行步骤3)之前,对所述第一膜层进行图案化处理以形成微结构。通过图案化形成微结构可以使得图案化的作为雾度抑制层的第一膜层与作为功能性偏光层的第二膜层具有更大的接触面积,从而具有更好的雾度抑制效果。在一个实施方案中,仅图案化所述第一膜层的上层部分,即有待与所述第二膜层接触的那一部分。可以通过纳米压印、光刻、蒸发或印刷等方式来进行图案化处理。当然也可以使用本领域技术人员已知的其他方式来形成微结构、其他方式来进行图案化处理,只要能够实现本发明目的即可,本领域技术人员可以根据实际需要进行选择。优选地,根据所述偏光材料的物理和化学性质来优化所述微结构的尺寸和间距。根据本发明的一个优选的实施方案,所述微结构的尺寸和间距不会导致光散射或色散。
根据本发明的一些实施方案,为了在使用第一膜层控制薄膜的雾度方面获得最佳的总体效果,应该对所述第一膜层中的分子密度或图案密度进行微调,以为不同材料提供最佳条件例如最佳的微结构形状、大小和密度。
根据本发明的一些实施方案,在制备本发明第一方面的低雾度薄膜偏光片的方法中,所述步骤4)在受控的温度和湿度条件下进行。对于温度,在15℃-25℃范围的温度下进行,例如在25℃、20℃、15℃下进行。温度不能太高或太低,因为太高的温度会引起高雾度,而太低的温度会影响光取向效应,导致较低的取向度,从而降低二向色比。对于湿度,在50%以上的中到高湿度下进行,例如在50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%的相对湿度下进行,优选地,在50%-80%范围的相对湿度下进行,例如在50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%的相对湿度下进行。将相对湿度控制在上述范围可以获得良好的光取向。
在一些实施方案中,化学改性是指酸处理或质子化过程。在一些实施方案中,化学改性是指偶氮染料的质子化过程。在本发明中,化学改性具有与国际公布号为WO 2021/051258A1的PCT专利申请中的“化学改性”相同的含义,在此将这份PCT专利申请的全部内容并入本文,因此,对于“质子化过程”可以参见该专利申请中的详细描述。
根据本发明的第三方面,提供了另一种低雾度薄膜偏光片,包括:a)基材,例如玻璃或塑料;以及b)混合膜层,所述混合膜层是通过将减少偏光层的光学雾度的材料与偏光材料的混合溶液涂布于所述基材之上而形成的。图3示意性地示出根据本发明的一些实施方案的具有单层膜结构的低雾度薄膜偏光片,其中,5代表混合膜层,3代表基材。在本发明的第三方面中,所使用的基材、形成混合膜层的减少偏光层的光学雾度的材料与偏光材料等与本发明的第一方面相同,故在此不再赘述。
在一些实施方案中,形成混合膜层的混合溶液中的减少偏光层的光学雾度的材料与偏光材料的重量比为1:4至3:7,例如,1:4、1:3、7:18,优选地,所述重量比为1:3。具有上述重量比的混合溶液中的减少偏光层的光学雾度的材料与偏光材料具有共同的或者协同的作用,这样所得到的混合膜层具有良好的光取向,从而使得具有高的二向色比。
本发明通过在偏光材料中直接掺杂减少偏光层的光学雾度的材料形成其混合溶液,然后在基材上形成混合膜层来有效地防止偏光材料的结晶。通过控制掺杂的减少偏光层的光学雾度的材料的量可以使得形成混合膜层的材料之间具有共同的或者协同的作用,这样所得到的薄膜偏光片具有良好的光取向,从而使得具有高的二向色比。
根据本发明的第四方面,提供了一种制备本发明第三方面的低雾度薄膜偏光片的方法,所述方法包括:
1)将减少偏光层的光学雾度的材料与偏光材料混合,由此得到混合溶液;
2)将所述混合溶液涂布于基材(例如玻璃或塑料)上,从而形成混合膜层;
3)将所述混合膜层曝照于偏振光(例如总能量为100J/cm2的线性偏振光)照射下,以进行光取向;以及
4)对经步骤3)处理的所述混合膜层进行化学改性。
根据本发明的一些实施方案,用于形成混合膜层的减少偏光层的光学雾度的材料具有与偏光材料相当的分子长度。根据本发明的一些实施方案中,减少偏光层的光学雾度的材料具有与偏光材料相似的分子结构。根据本发明的一些实施方案中,减少偏光层的光学雾度的材料的分子具有棒状形状,并且其分子的尺寸和纵横比与偏光材料的分子的尺寸和纵横比相当。根据本发明的一些实施方案,减少偏光层的光学雾度的材料能够进行光取向并且具有二向色性。
根据本发明的一些实施方案,减少偏光层的光学雾度的材料为有机材料。根据本发明的一些实施方案,有机材料为偶氮染料。根据本发明的一个具体的实施方案,有机材料为具有化学式(1)的偶氮染料AD4455。根据本发明的另一些实施方案,有机材料为透明塑料材料。根据本发明的一个具体的实施方案,有机材料为具有化学式(2)的聚(甲基丙烯酸甲酯)(PMMA)。当然,也可以使用本领域技术人员已知的其他有机材料,只要能够实现本发明目的即可,本领域技术人员可以根据实际需要进行选择。
根据本发明的一些实施方案中,用于形成混合膜层的偏光材料为偶氮染料。根据本发明的一个具体的实施方案中,用于形成混合膜层的偶氮染料为具有化学式(3)的偶氮染料AD1。当然,也可以使用本领域技术人员已知的其他材料,只要能够实现本发明目的即可,本领域技术人员可以根据实际需要进行选择。
根据本发明的一些实施方案,在制备本发明的第三方面所述的低雾度薄膜偏光片的方法中,在所述步骤1)中,形成混合膜层的混合溶液中的减少偏光层的光学雾度的材料与偏光材料的重量比为1:4至3:7,例如,1:4、1:3、7:18,优选地,所述重量比为1:3。具有上述重量比的混合溶液中的减少偏光层的光学雾度的材料与偏光材料具有共同的或协同的作用,这样所得到的混合膜层具有良好的光取向,从而使得具有高的二向色比。
根据本发明的一些实施方案,在制备本发明第三方面的低雾度薄膜偏光片的方法中,所述步骤2)在受控的温度和湿度条件下进行。对于温度,优选在25℃以下的温度下进行涂布,例如在25℃、20℃、15℃、10℃、5℃下进行涂布,优选地,在15℃-25℃范围的温度下进行涂布,例如在25℃、20℃、15℃下进行涂布。温度不能太高,因为过高的温度将导致溶剂蒸发过快,从而导致快速结晶和较高的雾度。对于湿度,优选在50%以上的中到高湿度下进行涂布,例如在50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%的相对湿度下进行涂布,优选地,在50%-80%范围的相对湿度下进行涂布,例如在50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%的相对湿度下进行涂布。将湿度控制在上述范围可以使所形成的混合膜层更加均匀和光滑。
根据本发明的一些实施方案,在制备本发明第三方面的低雾度薄膜偏光片的方法中,所述步骤2)通过旋涂、浸涂、喷涂、刷涂、蒸发、溅射和印刷例如狭缝模头印刷、气溶胶喷射印刷或喷墨印刷进行。当然也可以使用本领域技术人员已知的其他方式来形成混合膜层,只要能够实现本发明目的即可,本领域技术人员可以根据实际需要进行选择。
根据本发明的一些实施方案,在制备本发明第三方面的低雾度薄膜偏光片的方法中,所述步骤3)在受控的温度和湿度条件下进行。对于温度,优选在15-25℃范围的温度下进行照射,例如在25℃、20℃、15℃下进行,从而使得温度不能太高或太低。太高的温度会引起高雾度,而太低的温度会影响光取向效应,导致较低的取向度,从而降低二向色性比。对于湿度,优选在50%以上的中到高湿度下进行,例如在50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%的湿度下进行,更优选地,在50%-80%范围的湿度下进行,例如在50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%的湿度下进行。将湿度控制在上述范围可以获得良好的光取向。
在偏光片领域中,本发明第一方面和第三方面的低雾度薄膜偏光片可以用于显示应用中。因此,根据本发明的第五方面,提供了一种用于显示应用的装置,其中,所述装置包括本发明第一方面或本发明第三方面所述的低雾度薄膜偏光片。在一些实施方案中,所述装置为有机发光二极管(OLED)显示器或液晶屏(LCD)。当然,也可以用于其他显示应用。
下面结合具体实施例进一步详细地描述本发明。
在下面的实施例中,使用玻璃作为所有薄膜涂层的基材,除非另有说明。
实施例
实施例1:N,N-二丁基-4-((4'-((4-(二戊基氨基)苯基)二氮烯基)-[1,1'-联苯]-4-基)-二氮烯基)苯胺(AD4455)的合成
N,N-二戊基苯胺的合成
将100mL DMF和200mL甲苯中的苯胺(10mL,109.7mmol)、正戊基溴(34mL,274.3mmol)、无水碳酸钾(92g,660mmol)的混合物用Dean-Stark装置回流过夜。然后,继续加入另一部分正戊基溴(5mL,40mmol),混合物继续回流直至反应完成。通过GC-MS监测反应。反应完成后,向混合物中添加300mL水,分离甲苯,水层用50mL甲苯萃取两次。甲苯萃取物用盐水洗涤并蒸发。残余物通过快速色谱法(硅胶-己烷)进行纯化,得到N,N-二戊基苯胺,为淡黄色油状物,24g,产率96%,单独通过GC-MS。GC-MS(m/z(Irel.,%):233(44,M+),176(100),120(98),106(63),91(12),77(26)。
4-((4-溴苯基)二氮烯基)-N,N-二丁基苯胺的合成
将对溴苯胺(4.8g,28mmol)溶解在200mL 1N HCl中并冷却至0℃。将40ml水中的亚硝酸钠(1.93g,28mmol)溶液冷却至5℃,然后在0-2℃滴加到对溴苯胺溶液中,加入后搅拌40分钟。然后,将该溶液滴加到150ml乙醇和50ml水的混合物中的6.4mL N,N-二丁基苯胺(28mmol)的冰冷溶液中。混合后,加入5g乙酸钠在10ml水中的溶液并将混合物搅拌过夜。滤出沉淀,用水洗涤,干燥并用乙醇重结晶两次,橙色晶体的产量为5.8g,产率为53%。
1H NMR(400MHz,CDCl3)δ,ppm:7.86(d,J=9.1Hz,2H),7.72(d,J=8.5Hz,2H),7.61(d,J=8.7Hz,2H),6.69(d,J=9.1Hz,2H),3.42(t,J=7.8Hz,4H),1.72-1.59(m,4H),1.40-1.36(m,4H),0.99(t,J=7.3Hz,6H)。
4-((4-溴苯基)二氮烯基)-N,N-二戊基苯胺的合成
将对溴苯胺(4.8g,28mmol)溶解在200mL 1N HCl中并冷却至0℃。将40ml水中的亚硝酸钠(1.93g,28mmol)溶液冷却至5℃,然后在0-2℃滴加到对溴苯胺溶液中,加入后搅拌40分钟。然后,将该溶液滴加到150ml乙醇和50ml水的混合物中的6.5mL N,N-二戊基苯胺(28mmol)的冰冷溶液中。混合后,加入5g乙酸钠在10ml水中的溶液并将混合物搅拌过夜。滤出沉淀,用水洗涤,干燥并用乙醇重结晶两次,产生5.6g橙色晶体,产率为51%。
1H NMR(400MHz,CDCl3)δ,ppm:7.85(d,J=9.0Hz,2H),7.71(d,J=8.4Hz,2H),7.58(d,J=8.7Hz,2H),6.72(d,J=9.0Hz,2H),3.41(t,J=7.6Hz,4H),1.70-1.57(m,4H),1.40-1.36(m,8H),0.99(t,J=7.3Hz,6H)。
N,N-二戊基-4-((4-(4,4,5,5-四甲基-1,3,2-二氧杂环戊硼烷-2-基)苯基)二氮烯基)苯胺的合成
在惰性(氮气)气氛下,向140mL干二烷中的7g(16.9mmol)4-((4-溴苯基)二氮烯基)-N,N-二戊基苯胺、6.4g(25.3mmol)联硼酸频哪醇酯和5g(50.6mmol)无水乙酸钾的混合物中加入0.25g(0.34mmol)PdCl2(dppf)。将混合物加热至85℃并搅拌10小时。然后,混合物用乙酸乙酯稀释并用盐水洗涤。溶剂蒸发后得到的混合物通过快速色谱法(洗脱液为己烷,或己烷/乙酸乙酯9/1的混合物)进行纯化,并从甲醇中重结晶,获得6.6g橙色沉淀,产率为84%。
1H NMR(400MHz,CDCl3)δ,ppm:7.91(d,J=7.8Hz,2H),7.86(d,J=9.3Hz,2H),7.81(d,J=7.5Hz,2H),6.71(d,J=9.3Hz,2H),3.53(t,J=8.0Hz,4H),1.69-1.61(m,4H),1.42-1.33(m,8H),0.94(t,J=6.7Hz,6H)。
N,N-二丁基-4-((4'-((4-(二戊基氨基)苯基)二氮烯基)-[1,1'-联苯]-4-基)-二氮烯基)苯胺(AD4455)的合成
N,N-二丁基-4-((4'-((4-(二戊基氨基)苯基)二氮烯基)-[1,1'-联苯基]-4-基)-二氮烯基)苯胺由6.6g(14.2mmol)N,N-二戊基-4-((4-(4,4,5,5-四甲基-1,3,2-二氧杂环戊硼烷-2-基)苯基)二氮烯基)苯胺、5.5g(14.2mmol)4-((4-溴苯基)二氮烯基)-N,N-二丁基苯胺、1g SDS、100ml甲苯、80mL水、15mL丁醇、0.310g(0.426mmol)PdCl2(dppf)和6g(56.6mmol)Na2CO3在20mL水中合成。产物依次用异丙醇、庚烷和乙腈进行结晶,得到有光泽的暗红色晶体,产量为6.8g,产率为74%(HPLC纯度>99%)。
1H NMR(400MHz,CDCl3)δ,ppm:7.93(d,J=7.8Hz,4H),7.88(d,J=8.3Hz,4H),7.77(d,J=9.3Hz,4H),6.70(d,J=7.8Hz,4H),3.39–3.34(m,8H),1.67-1.60(m,8H),1.42-1.32(m,12H),0.99(t,J=9.3Hz,6H),0.94(t,J=7.3Hz,6H).HRMS(CI-TOF,m/z)calcd forC42H56N6[M+H]+645.4566,found 646.4689。
实施例2:制备具有双层膜结构的低雾度薄膜偏光片
将偶氮染料AD4455以5重量%的浓度溶解在甲苯中,将溶液涂布在玻璃基材上,形成第一膜层。该第一膜层是通过在室温(20℃-25℃)、相对湿度为60%、旋转速度为3000rpm的条件下旋涂而制备的。在涂覆第二膜层之前,将膜自然干燥1分钟。将AD1以5重量%的浓度溶解在甲苯中,将溶液涂布在第一膜层之上,形成第二膜层。该第二膜层是通过在室温20℃、相对湿度60%、旋转速度3000rpm的条件下旋涂而制备的。然后将各向同性的第一膜层和第二膜层曝照于总能量为100J/cm2的线性偏振光下。曝光期间,温度和相对湿度控制在22℃和70%。然后通过化学改性将该双层窄带偏光膜加工成宽带偏光片,从而得到具有双层膜结构的低雾度薄膜偏光片,这里的化学改性是通过把偶氮染料AD1酸化或质子化完成的。
图4a示出了上述制备的具有化学改性后的双层膜结构的低雾度薄膜偏光片在两个正交偏振方向上的吸收光谱。图4b示出了上述制备的具有化学改性后的双层膜结构的低雾度薄膜偏光片的二向色比。由图中可看出,具有化学改性后的双层膜结构的低雾度薄膜偏光片具有高的整体二向色比,同时也获得了宽吸收光谱,这对于可见光偏光片的应用是非常有利的。
图4c示出了上述制备的具有化学改性后的双层膜结构的低雾度薄膜偏光片与仅具有上述第二膜层的单层膜结构的低雾度薄膜偏光片的雾度。由图4c可以看出,雾度从单层AD1膜的18%变为双层膜的2.5%,低雾度薄膜偏光片的雾度得到了显著的改善,这表明通过引入雾度抑制层,可以制备低雾度、高二向色比的薄膜偏光片。
实施例3:溶液浓度对低雾度薄膜偏光片性能的影响
在实施例3中,使用与实施例1中相同的材料和方法来制备双层膜的结构。不同的是,在此实施例中,我们改变用于形成第一膜层(也即底层)的AD4455在溶液中浓度,AD4455浓度为1重量%至5重量%。
图5示出了具有双层膜结构的低雾度薄膜偏光片的雾度与AD4455浓度的关系,其中,AD4455浓度依次分别为1重量%、2重量%、3重量%、3.5重量%、4重量%、4.5重量%、5重量%。由图5可知,第一膜层中的雾度抑制分子的数量与溶液中的物质浓度有关,较高浓度的第一膜层溶液更有利于减少雾度,当浓度较低时,第一膜层中的分子的量不足以有效地隔离AD1分子,在这种情况下,AD1的结晶保持较高水平,从而导致更大的雾度。不过,浓度太高也是不利的,因为这将导致在短波段中吸收的增加,这会降低宽带偏光片的光谱均匀性。
实施例4:材料类型对低雾度薄膜偏光片性能的影响
在实施例4中应用了双层膜结构。不同的是,第一膜层是普通的透明塑料材料,即聚(甲基丙烯酸甲酯)(PMMA)。将PMMA以30重量%的浓度溶解在溶剂二甲基甲酰胺(DMF)中。通过以3000rpm的旋转速度进行旋涂来制备PMMA膜。在涂覆第二膜层之前,将第一膜层自然干燥1分钟。作为第二膜层的AD1膜按照与实施例1相同的步骤和工艺参数制备。此双层膜也经过化学改性处理。
在此实施例中,第二膜层AD1膜是唯一有助于偏光的层。图6a示出了单层AD1膜和双层AD1/PMMA膜的吸收光谱。由于引入了PMMA层,取向变得更糟。这可以通过以下事实来理解:平行吸收降低,而垂直吸收提高。
图6b示出了相应的二向色比。基于PMMA的AD1双层膜的二向色比明显低于单层AD1膜。由于AD4455可以进行光取向,其分子长度可与AD1媲美,因此AD1的取向不受第一膜层的影响,而在层界面处则由AD4455分子很好地分隔开。但是,对于PMMA,聚合物要长得多,并且是无规取向的。当PMMA嵌入AD1膜中时,它们会在光取向过程中阻碍AD1分子的重新定向运动。
图6c示出了AD1单膜和AD1/PMMA双层膜的雾度性能。尽管该双层膜的二向色比相对较差,但PMMA还是一种不错的防雾剂。
实施例5:涂布过程的相对湿度对低雾度薄膜偏光片性能的影响
以与实施例2中相同的方式制备具有双层膜结构的低雾度薄膜偏光片,但是旋涂过程中的相对湿度在15%至85%之间变化。
图7示出了旋涂过程的不同相对湿度对具有双层膜结构的低雾度薄膜偏光片的光学雾度的影响,其中,相对湿度依次分别为15%、30%、40%、45%、50%、60%、65%、70%、75%、85%。结果表明,50%-80%的适度高的湿度有利于减少偏光层的光学雾度。
实施例6:温度对低雾度薄膜偏光片性能的影响
以与实施例2相同的方式制备具有双层膜结构的低雾度薄膜偏光片,但是光取向过程中的温度在14℃至50℃之间变化。
图8示出了光取向过程中的不同温度对具有双层膜结构的低雾度薄膜偏光片的性能的影响,其中,温度依次分别为14℃、16℃、18℃、20℃、22℃、24℃、26℃、28℃、30℃、35℃、40℃、45℃、50℃。结果表明,15℃至25℃的适度低温有利于减少偏光层的光学雾度。
由上述实施例1至5可以看出,在其均具有双层结构,在第二膜层的偏光材料始终为5重量%的偶氮染料AD1的情况下,改变第一膜层的材料和浓度、工艺温度和相对湿度,可以发现,低雾度的高二向色比偏光膜可以通过选择合适的第一膜层材料、浓度、合适的工艺温度和合适的相对湿度来获得。实施例1是优选实施例。
实施例7:制备具有混合膜层的低雾度薄膜偏光片
实施例7采用本发明的第四方面提供的制备具有混合膜层的单层结构的低雾度薄膜偏光片的方法。将二向色性材料AD1与AD4455以4:1的重量比混合。将该混合物涂覆到玻璃基材上以形成混合膜层。
图9a示出了具有混合膜层的单层结构的低雾度薄膜偏光片的吸收性能。结果表明,低雾度薄膜偏光片的吸收性能是形成混合膜层的两种材料的共同的或协同的作用的结果。
图9b示出了具有混合膜层的单层结构的低雾度薄膜偏光片的二向色比。结果表明,该低雾度薄膜偏光片具有良好的取向质量,这表现为高的二向色比。
图9c示出掺杂材料(AD4455)的浓度(8-75重量%)对具有混合膜层的单层结构的低雾度薄膜偏光片的光学雾度的影响,其中,掺杂浓度依次分别为8重量%、12.5重量%、16.7重量%、20重量%、25重量%、28重量%、33.3重量%、45重量%、56重量%、66.6重量%、75重量%。结果表明,AD4455的掺杂浓度为约20%-约30%时是较优的,所得偏光片具有较小的光学雾度,该光学雾度为约7%。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (19)

1.一种低雾度薄膜偏光片,包括:
a)基材;
b)第一膜层,所述第一膜层为雾度抑制层,其是通过将能够减少偏光层的光学雾度的材料涂布于所述基材之上而形成的;以及
c)第二膜层,所述第二膜层为功能性偏光层,其是通过将偏光材料涂布于所述第一膜层之上而形成的。
2.根据权利要求1所述的低雾度薄膜偏光片,其中,所述减少偏光层的光学雾度的材料具有与所述偏光材料相当的分子长度;
优选地,所述减少偏光层的光学雾度的材料具有与所述偏光材料相似的分子结构;
优选地,所述减少偏光层的光学雾度的材料的分子具有棒状形状,并且其分子的尺寸和纵横比与所述偏光材料的分子的尺寸和纵横比相当;
优选地,所述减少偏光层的光学雾度的材料能够进行光取向并且具有二向色性;
优选地,所述减少偏光层的光学雾度的材料为有机材料;
优选地,所述有机材料为偶氮染料例如具有化学式(1)的偶氮染料AD4455:
优选地,所述偏光材料为偶氮染料,例如具有化学式(3)的偶氮染料AD1:
3.根据权利要求1或2所述的低雾度薄膜偏光片,其中,所述第一膜层具有微结构;
优选地,所述微结构的尺寸和间距是根据所述偏光材料的物理和化学性质而优化的;
优选地,所述微结构的尺寸和间距不会导致光散射或色散。
4.一种制备权利要求1-3中任一项所述的低雾度薄膜偏光片的方法,所述方法包括:
1)在基材上涂布含有减少偏光层的光学雾度的材料的溶液,从而形成作为雾度抑制层的第一膜层;
2)任选地,干燥所述第一膜层,例如自然干燥所述第一膜层1-5分钟;
3)在所述第一膜层上涂布含有偏光材料的溶液,从而形成作为功能性偏光层的第二膜层;
4)将所得到的所述第一膜层和所述第二膜层曝照于偏振光(例如总能量为100J/cm2的线性偏振光)照射下,以进行光取向;以及
5)对经步骤4)处理的所述第一膜层和所述第二膜层进行化学改性。
5.根据权利要求4所述的方法,其中,所述减少偏光层的光学雾度的材料具有与所述偏光材料相当的分子长度;
优选地,所述减少偏光层的光学雾度的材料具有与所述偏光材料相似的分子结构;
优选地,所述减少偏光层的光学雾度的材料的分子具有棒状形状,并且其分子的尺寸和纵横比与所述偏光材料的分子的尺寸和纵横比相当;
优选地,所述减少偏光层的光学雾度的材料能够进行光取向并且具有二向色性;
优选地,所述减少偏光层的光学雾度的材料为有机材料;
优选地,所述有机材料为偶氮染料例如具有化学式(1)的偶氮染料AD4455:
优选地,所述偏光材料为偶氮染料,例如具有化学式(3)的偶氮染料AD1:
6.根据权利要求4或5所述的方法,其中,步骤1)、3)和4)在受控的温度和湿度条件下进行,优选地在25℃以下例如15℃-25℃范围的温度以及在高于50%例如50%-80%范围的相对湿度下进行。
7.根据权利要求4-6中任一项所述的方法,其中,步骤1)和3)通过旋涂、浸涂、喷涂、刷涂、蒸发、溅射和印刷例如狭缝模头印刷、气溶胶喷射印刷或喷墨印刷进行。
8.根据权利要求4-7中任一项所述的方法,其中,所述减少偏光层的光学雾度的材料的溶液的浓度为3.5重量%至5重量%,优选为5重量%。
9.根据权利要求4-8中任一项所述的方法,其中,所述方法还包括:在进行步骤3)之前,对所述第一膜层进行图案化处理以形成微结构;
优选地,根据所述偏光材料的物理和化学性质来优化所述微结构的尺寸和间距;
优选地,所述微结构的尺寸和间距不会导致光散射或色散。
10.根据权利要求9所述的方法,其中,所述图案化处理通过纳米压印、光刻、蒸发或印刷进行。
11.一种低雾度薄膜偏光片,包括:
a)基材;以及
b)混合膜层,所述混合膜层是通过将减少偏光层的光学雾度的材料与偏光材料的混合溶液涂布于所述基材之上而形成的。
12.根据权利要求11所述的低雾度薄膜偏光片,其中,在所述混合溶液中,所述减少偏光层的光学雾度的材料与所述偏光材料的重量比为1:4至3:7,优选为1:3。
13.根据权利要求11或12所述的低雾度薄膜偏光片,其中,所述减少偏光层的光学雾度的材料具有与所述偏光材料相当的分子长度;
优选地,所述减少偏光层的光学雾度的材料具有与所述偏光材料相似的分子结构;
优选地,所述减少偏光层的光学雾度的材料的分子具有棒状形状,并且其分子的尺寸和纵横比与所述偏光材料的分子的尺寸和纵横比相当;
优选地,所述减少偏光层的光学雾度的材料能够进行光取向并且具有二向色性;
优选地,所述减少偏光层的光学雾度的材料为有机材料;
优选地,所述减少偏光层的光学雾度的材料为偶氮染料例如具有化学式(1)的偶氮染料AD4455:
优选地,所述偏光材料为偶氮染料,例如具有化学式(3)的偶氮染料AD1:
14.一种制备权利要求11-13中任一项所述的低雾度薄膜偏光片的方法,其中,所述方法包括:
1)将减少偏光层的光学雾度的材料与偏光材料混合,由此得到混合溶液;
2)将所述混合溶液涂布于基材上,从而形成混合膜层;
3)将所述混合膜层曝照于偏振光(例如总能量为100J/cm2的线性偏振光)照射下,以进行光取向;以及
4)对经步骤3)处理的所述混合膜层进行化学改性。
15.根据权利要求14所述的方法,其中,所述减少偏光层的光学雾度的材料具有与所述偏光材料相当的分子长度;
优选地,所述减少偏光层的光学雾度的材料具有与所述偏光材料相似的分子结构;
优选地,所述减少偏光层的光学雾度的材料的分子具有棒状形状,并且其分子的尺寸和纵横比与所述偏光材料的分子的尺寸和纵横比相当;
优选地,所述减少偏光层的光学雾度的材料能够进行光取向并且具有二向色性;
优选地,所述减少偏光层的光学雾度的材料为有机材料;
优选地,有机材料为偶氮染料例如具有化学式(1)的偶氮染料AD4455:
优选地,所述偏光材料为偶氮染料,例如具有化学式(3)的偶氮染料AD1:
16.根据权利要求14或15所述的方法,其中,步骤2)和3)在受控的温度和湿度条件下进行,优选地在25℃以下例如15℃-25℃范围的温度以及在高于50%例如50%-80%范围的相对湿度下进行。
17.根据权利要求14-16中任一项所述的方法,其中,步骤2)通过旋涂、浸涂、喷涂、刷涂、蒸发、溅射和印刷例如狭缝模头印刷、气溶胶喷射印刷或喷墨印刷进行。
18.根据权利要求14-17中任一项所述的方法,其中,在所述混合溶液中,所述减少偏光层的光学雾度的材料与所述偏光材料的重量比为1:4至3:7,优选为1:3。
19.一种用于显示应用的装置,其中,所述装置包括权利要求1-3或11-13中任一项所述的低雾度薄膜偏光片;
优选地,所述装置为有机发光二极管(OLED)显示器或液晶屏(LCD)。
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