CN117769328A - 显示装置和制造显示装置的方法 - Google Patents
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Abstract
公开了显示装置和制造显示装置的方法。显示装置包括：衬底，该衬底包括发光区域和非发光区域；发光元件，该发光元件包括布置在衬底上的发光区域中的发光层；封装层，该封装层布置在发光层上；透明层，该透明层限定多个第一开口和多个第二开口并且布置在封装层上；多个阻光图案，该多个阻光图案布置在封装层上并且填充多个第一开口中的每一个；第一透明图案，该第一透明图案布置在封装层上并且填充多个第二开口中的每一个；以及第二透明图案，该第二透明图案具有与第一透明图案的折射率不同的折射率并且布置在第一透明图案上。
Description
技术领域
实施方式涉及显示装置和制造显示装置的方法。更具体地，实施方式涉及提供视觉信息的显示装置和制造显示装置的方法。
背景技术
随着信息技术的发展，作为用户与信息之间的连接介质的显示装置的重要性已突显。因此，诸如液晶显示装置(“LCD”)、有机发光显示装置(“OLED”)、等离子显示装置(“PDP”)等的显示装置的使用正在增加。
这种显示装置可显示具有宽视角的图像，或者可限制显示在显示装置上的图像的视角以改善安全性或图像反射。
发明内容
实施方式提供了具有有限视角的显示装置。
实施方式提供了制造显示装置的方法。
根据实施方式的显示装置包括：衬底，该衬底包括发光区域和非发光区域；发光元件，该发光元件布置在衬底上的发光区域中；封装层，该封装层布置在发光元件上；透明层，该透明层布置在封装层上，其中，通过透明层限定多个第一开口和多个第二开口；多个阻光图案，该多个阻光图案布置在封装层上并且分别填充多个第一开口；第一透明图案，该第一透明图案在多个第二开口中的每一个中布置在封装层上；以及第二透明图案，该第二透明图案布置在第一透明图案上，其中，第二透明图案具有与第一透明图案的折射率不同的折射率。
在实施方式中，在第一透明图案的上表面上可限定有凹部，并且第二透明图案可填充凹部。
在实施方式中，第一透明图案的上表面在剖面中可具有凹入形状。
在实施方式中，透明层的折射率可小于第一透明图案的折射率。
在实施方式中，第一透明图案的折射率可大于第二透明图案的折射率。
在实施方式中，透明层、第一透明图案和第二透明图案中的每一个可包括有机材料。
在实施方式中，多个阻光图案中的每一个可包括选自氧化钼钽和包括黑色颜料的有机材料中的至少一种。
在实施方式中，透明层和第二透明图案可包括彼此相同的材料。
在实施方式中，多个阻光图案中的每一个与封装层之间的角可为锐角或直角。
在实施方式中，透明层和第一透明图案彼此接触的边界线与封装层之间的角可为锐角或直角。
在实施方式中，多个阻光图案中的每一个可不与发光区域重叠，并且可与非发光区域重叠。
在实施方式中，阻光图案的一部分可不与发光区域重叠，并且阻光图案的另一部分可与非发光区域重叠。
在实施方式中，多个阻光图案中的每一个可沿第二方向延伸，并且多个阻光图案可沿与第二方向交叉的第一方向彼此间隔开。
根据实施方式的制造显示装置的方法包括：在包括发光区域和非发光区域的衬底上形成发光元件；在发光元件上形成封装层；在封装层上形成初步透明层；通过去除初步透明层的第一部分来形成多个第一开口；形成填充多个第一开口的多个阻光图案；通过去除初步透明层的第二部分来形成通过其形成多个第二开口的透明层；在多个第二开口中的每一个中形成第一透明图案；以及在第一透明图案上形成第二透明图案。
在实施方式中，通过去除初步透明层的第一部分来形成多个第一开口可包括：在初步透明层上形成第一硬掩模；将第一硬掩模图案化；以及通过去除初步透明层的通过图案化的第一硬掩模暴露的一部分来形成多个第一开口。
在实施方式中，通过去除初步透明层的第二部分来形成通过其形成多个第二开口的透明层可包括：在初步透明层和阻光图案上形成第二硬掩模；将第二硬掩模图案化；以及通过去除初步透明层的通过图案化的第二硬掩模暴露的一部分来形成多个第二开口。
在实施方式中，在多个第二开口中的每一个中形成第一透明图案可包括：形成填充第二开口并且布置在透明层上的初步透明图案；以及通过去除初步透明图案的上部来形成具有其中形成有凹部的上表面的第一透明图案。
在实施方式中，在第一透明图案上形成第二透明图案可包括将第二透明图案填充在第一透明图案的凹部中。
在实施方式中，透明层和第二透明图案可包括彼此相同的材料。
在实施方式中，透明层的折射率可小于第一透明图案的折射率，并且第一透明图案的折射率可大于第二透明图案的折射率。
根据本公开的实施方式的显示装置可包括：透明层，通过透明层限定多个第一开口和多个第二开口；多个阻光图案，该多个阻光图案分别填充多个第一开口；第一透明图案，该第一透明图案在多个第二开口中的每一个中；以及第二透明图案，该第二透明图案布置在第一透明图案上。在这种实施方式中，第一透明图案的折射率可与透明层的折射率不同，并且第一透明图案可在剖面中具有凹入形状。因此，在这种实施方式中，可允许相邻阻光图案的宽度增加以增加显示装置的正面透射率，同时可减少显示装置的视角的增加率。
附图说明
根据结合附图的以下详细描述，将更清楚地理解说明性、非限制性的实施方式。
图1是图示根据实施方式的显示装置的平面图。
图2是图示图1的显示装置的显示区域的一部分的放大平面图。
图3是沿图2的线I-I'截取的剖面图。
图4是图示图3的区域“X'”的放大剖面图。
图5A和图5B是用于解释根据比较示例和实施方式的入射在透光层的一侧上的光的传播路径的剖面图。
图6A和图6B是用于解释根据比较示例和实施方式的入射在透光层的中间上的光的传播路径的剖面图。
图7至图17是图示制造图3的显示装置的方法的实施方式的剖面图。
图18是示出根据替代性的实施方式的显示装置上的显示区域的平面图。
具体实施方式
现将在下文中参考其中示出了各种实施方式的附图对本发明进行更加全面的描述。然而，本发明可以许多不同的形式实施，并且不应当被解释为受限于本文中所阐述的实施方式。相反，提供这些实施方式以使得本公开将是彻底和完整的，并且将向本领域技术人员全面地传达本发明的范围。
将理解，当一个元件被称为在另一元件“上”时，该一个元件能够直接在另一元件上，或者它们之间可存在居间元件。相反，当一个元件被称为“直接”在另一元件“上”时，不存在居间元件。
将理解，尽管术语“第一”、“第二”、“第三”等可在本文中用于描述各种元件、部件、区、层和/或区段，但是这些元件、部件、区、层和/或部分不应受这些术语限制。这些术语仅用于将一个元件、部件、区、层或者部分与另一元件、部件、区、层或者区段区分开。因此，下面讨论的“第一元件”、“第一部件”、“第一区”、“第一层”或“第一区段”可被称为第二元件、第二部件、第二区、第二层或第二区段，而不背离本文中的教导。
本文中使用的术语是仅出于描述特定实施方式的目的，而不旨在限制。除非上下文中另有明确指示，否则如本文中所使用的“一(a)”、“一个(an)”、“该(the)”和“至少一个”不表示数量的限制，而是旨在包括单数和复数两者。例如，除非上下文中另有明确指出，否则“元件”具有与“至少一个元件”的含义相同的含义。“至少一个”不应当被解释为限制于“一(a)”或“一个(an)”。“或者”意味着“和/或”。如本文中所使用的，术语“和/或”包括相关所列项目中的一个或多个的任何和所有组合。还将理解，术语“包括(comprise)”和/或“包括有(comprising)”或者“包括(include)”和/或“包括有(including)”在本说明书中使用时，指定所述特征、区、整体、步骤、操作、元件和/或部件的存在，但不排除一个或多个其它特征、区、整体、步骤、操作、元件、部件和/或它们的组的存在或添加。
此外，在本文中可使用诸如“下(lower)”或“底部(bottom)”和“上(upper)”或“顶部(top)”的相对术语来描述如图图示的一个元件与另一元件的关系。将理解，除了图中描绘的取向以外，相对术语旨在包括装置的不同取向。例如，如果一个图中的装置被翻转，则描述为位于其它元件的“下”侧上的元件将随后被取向在其它元件的“上”侧上。因此，术语“下”能够包括取决于图的特定取向的“下”和“上”的取向两者。相似地，如果一个图中的装置被翻转，则被描述为在其它元件“下方(below)”或“之下(beneath)”的元件将随后被取向为在其它元件“上方(above)”。因此，术语“下方”或“之下”能够包括上方和下方的取向两者。
考虑到有关测量和与特定数量的测量相关的误差(即，测量系统的限制)，如本文中所使用的“约(about)”或者“大约(approximately)”包括所述值，并且意味着在如由本领域普通技术人员确定的针对特定值的可接受偏差范围内。例如，“约”能够意味着在一个或者多个标准偏差内，或者在所述值的±30％、20％、10％或5％内。
除非另有限定，否则本文中所使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开所属领域的普通技术人员通常理解的含义相同的含义。还将理解，除非在本文中明确地这样限定，否则术语(诸如在常用词典中限定的那些术语)应当被解释为具有与它们在相关技术和本公开的上下文中的含义一致的含义，并且将不以理想化或过于正式的意义来解释。
在本文中参考作为理想化实施方式的示意性图示的剖面图示对实施方式进行描述。这样，由例如制造技术和/或公差导致的图示的形状的变体将被预期。因此，本文中所描述的实施方式不应当被解释为受限于本文中图示的特定的区形状，而是包括由例如制造而导致的形状上的偏差。例如，图示或描述为平坦的区通常可具有粗糙和/或非线性特征。此外，图示的尖角可被倒圆。因此，图中图示的区本质上是示意性的，并且它们的形状并不旨在图示区的精确形状，并且不意在限制本权利要求书的范围。
在下文中，将参考附图更详细地描述根据实施方式的显示装置。在附图中，相同的附图标记用于相同的部件，并且将省略相同部件的任何重复详细描述。
图1是图示根据实施方式的显示装置的平面图。
参考图1，根据实施方式的显示装置DD可包括显示区域DA和非显示区域NDA。
在显示区域DA中可布置有多个像素PX。多个像素PX中的每一个可发射光。多个像素PX可包括第一像素PX1和第二像素PX2。在实施方式中，例如，第一像素PX1和第二像素PX2可同时发射光。替代性地，当第一像素PX1发射光时，第二像素PX2可不发射光。替代性地，当第一像素PX1不发射光时，第二像素PX2可发射光。当多个像素PX中的每一个发射光时，显示区域DA可显示图像。
多个像素PX可在平面上沿第一方向DR1和与第一方向DR1交叉的第二方向DR2重复地排列。在实施方式中，例如，第二像素PX2可与第一像素PX1相邻。在这种实施方式中，第二像素PX2可在第二方向DR2上与第一像素PX1相邻。
非显示区域NDA可布置在显示区域DA周围。在实施方式中，例如，非显示区域NDA可围绕显示区域DA的至少一部分。在非显示区域NDA中可布置有驱动单元。驱动单元可将信号或电压提供到多个像素PX。在实施方式中，例如，驱动单元可包括数据驱动单元、栅极驱动单元等。非显示区域NDA可不显示图像。
在实施方式中，显示装置DD的显示表面可在由第一方向DR1和与第一方向DR1交叉的第二方向DR2限定的平面上，并且，例如，第一方向DR1可垂直于第二方向DR2。此外，第三方向DR3可分别垂直于第一方向DR1和第二方向DR2。第三方向DR3可为显示装置DD的厚度方向。
在实施方式中，例如，显示装置DD可为有机发光显示装置(“OLED”)、液晶显示装置(“LCD”)、场发射显示装置(“FED”)、等离子显示装置(“PDP”)、电泳显示装置(“EPD”)或无机发光显示装置(“ILED”)。
图2是图示图1的显示装置的显示区域的一部分的放大平面图。
参考图1和图2，如上所述，显示装置DD可包括显示区域DA和非显示区域NDA，并且多个像素PX可布置在显示区域DA中。多个像素PX可包括第一像素PX1和第二像素PX2。
第一像素PX1和第二像素PX2中的每一个可包括第一发光区域LA1、第二发光区域LA2、第三发光区域LA3和非发光区域NLA。
第一发光区域LA1可发射第一颜色的光，第二发光区域LA2可发射第二颜色的光并且第三发光区域LA3可发射第三颜色的光。在实施方式中，第一颜色可为红色，第二颜色可为绿色并且第三颜色可为蓝色。当第一颜色、第二颜色和第三颜色组合时，第一像素PX1和第二像素PX2中的每一个可发射各种颜色的光。非发光区域NLA可不发射光。
在实施方式中，显示装置DD可包括多个阻光图案LP。在实施方式中，例如，多个阻光图案LP中的每一个可与非发光区域NLA重叠。在这种实施方式中，多个阻光图案LP中的每一个可不与第一发光区域LA1、第二发光区域LA2和第三发光区域LA3重叠。
图3是沿图2的线I-I'截取的剖面图。图4是图示图3的区域“X'”的放大剖面图。
参考图3和图4，根据实施方式的显示装置DD可包括衬底SUB、缓冲层BUF、第一晶体管TR1、第二晶体管TR2、栅极绝缘层GI、层间绝缘层ILD、通孔绝缘层VIA、像素限定层PDL、第一像素电极PE1、第一发光层EML1、第一公共电极CE1、第二像素电极PE2、第二发光层EML2、第二公共电极CE2、封装层TFE、多个阻光图案LP、透明层OL、第一透明图案OL1和第二透明图案OL2。
在这种实施方式中，第一晶体管TR1可包括第一有源图案ACT1、第一栅极电极GE1、第一源极电极SE1和第一漏极电极DE1(或由第一有源图案ACT1、第一栅极电极GE1、第一源极电极SE1和第一漏极电极DE1限定)。此外，第二晶体管TR2可包括第二有源图案ACT2、第二栅极电极GE2、第二源极电极SE2和第二漏极电极DE2。
衬底SUB可包括透明材料或不透明材料。衬底SUB可包括透明树脂衬底或由透明树脂衬底形成。在实施方式中，例如，透明树脂衬底可包括聚酰亚胺衬底。在这种实施方式中，聚酰亚胺衬底可包括第一有机层、第一阻挡层、第二有机层等。替代性地，衬底SUB可包括石英衬底、合成石英衬底、氟化钙衬底、掺氟石英衬底、钠钙衬底、非碱玻璃衬底等。它们可单独使用或彼此结合使用。
缓冲层BUF可布置在衬底SUB上。缓冲层BUF可防止金属原子或杂质从衬底SUB扩散到第一晶体管TR1和第二晶体管TR2。此外，当衬底SUB的表面不均匀时，缓冲层BUF可改善衬底SUB的表面的平坦度。在实施方式中，例如，缓冲层BUF可包括无机材料，诸如氧化硅、氮化硅、氮氧化硅等。它们可单独使用或彼此结合使用。
第一有源图案ACT1和第二有源图案ACT2可布置在缓冲层BUF上。第一有源图案ACT1和第二有源图案ACT2中的每一个可包括金属氧化物半导体、无机半导体(例如，非晶硅、多晶硅)或有机半导体。第一有源图案ACT1和第二有源图案ACT2中的每一个可包括源极区、漏极区和定位在源极区与漏极区之间的沟道区。第一有源图案ACT1和第二有源图案ACT2可通过相同的工艺形成，并且可包括彼此相同的材料。
金属氧化物半导体可包括包含铟(In)、锌(Zn)、镓(Ga)、锡(Sn)、钛(Ti)、铝(Al)、铪(Hf)、锆(Zr)、镁(Mg)等的二元化合物(ABx)、三元化合物(ABxCy)、四元化合物(ABxCyDz)等。在实施方式中，例如，金属氧化物半导体可包括氧化锌(ZnOx)、氧化镓(GaOx)、氧化锡(SnOx)、氧化铟(InOx)、氧化铟镓(“IGO”)、氧化铟锌(“IZO”)、氧化铟锡(“ITO”)、氧化铟锌锡(“IZTO”)等。它们可单独使用或彼此结合地使用。
栅极绝缘层GI可布置在缓冲层BUF上。栅极绝缘层GI可充分覆盖第一有源图案ACT1和第二有源图案ACT2，并且可具有实质上平坦的上表面，而不在第一有源图案ACT1和第二有源图案ACT2周围生成台阶。替代性地，栅极绝缘层GI可覆盖第一有源图案ACT1和第二有源图案ACT2，并且可以均匀的厚度沿第一有源图案ACT1和第二有源图案ACT2中的每一个的轮廓布置。在实施方式中，例如，栅极绝缘层GI可包括无机材料，诸如氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)、碳化硅(SiCx)、氮氧化硅(SiOxNy)、碳氧化硅(SiOxCy)等。它们可单独使用或彼此结合使用。
第一栅极电极GE1和第二栅极电极GE2可布置在栅极绝缘层GI上。第一栅极电极GE1可与第一有源图案ACT1的沟道区重叠，并且第二栅极电极GE2可与第二有源图案ACT2的沟道区重叠。
第一栅极电极GE1和第二栅极电极GE2中的每一个可包括金属、合金金属氮化物、导电金属氧化物、透明导电材料等。在实施方式中，例如，金属可包括银(Ag)、钼(Mo)、铝(Al)、钨(W)、铜(Cu)、镍(Ni)、铬(Cr)、钛(Ti)、钽(Ta)、铂(Pt)或钪(Sc)。在实施方式中，例如，导电金属氧化物可包括ITO和IZO。在实施方式中，例如，合金金属氮化物可包括氮化铝(AlNx)、氮化钨(WNx)、氮化铬(CrNx)等。它们可单独使用或彼此结合地使用。
第一栅极电极GE1和第二栅极电极GE2可通过相同的工艺形成，并且可包括彼此相同的材料。
层间绝缘层ILD可布置在栅极绝缘层GI上。层间绝缘层ILD可充分覆盖第一栅极电极GE1和第二栅极电极GE2，并且可具有实质上平坦的上表面，而不在第一栅极电极GE1和第二栅极电极GE2周围生成台阶。替代性地，层间绝缘层ILD可覆盖第一栅极电极GE1和第二栅极电极GE2，并且可以均匀的厚度沿第一栅极电极GE1和第二栅极电极GE2中的每一个的轮廓布置。在实施方式中，例如，层间绝缘层ILD可包括诸如氧化硅、氮化硅、碳化硅、氮氧化硅、碳氧化硅等的无机材料。它们可单独使用或彼此结合使用。
第一源极电极SE1和第二源极电极SE2可布置在层间绝缘层ILD上。第一源极电极SE1可通过限定在栅极绝缘层GI和层间绝缘层ILD中的接触孔而连接到第一有源图案ACT1的源极区。第二源极电极SE2可通过限定在栅极绝缘层GI和层间绝缘层ILD中的接触孔而连接到第二有源图案ACT2的源极区。
第一漏极电极DE1和第二漏极电极DE2可布置在层间绝缘层ILD上。第一漏极电极DE1可通过限定在栅极绝缘层GI和层间绝缘层ILD中的接触孔而连接到第一有源图案ACT1的漏极区。第二漏极电极DE2可通过限定在栅极绝缘层GI和层间绝缘层ILD中的接触孔而连接到第二有源图案ACT2的漏极区。
在实施方式中，例如，第一源极电极SE1和第二源极电极SE2中的每一个可包括金属、合金、金属氮化物、导电金属氧化物、透明导电材料等。它们可单独使用或彼此结合使用。第一漏极电极DE1和第二漏极电极DE2可通过与第一源极电极SE1和第二源极电极SE2的工艺相同的工艺形成，并且可包括与第一源极电极SE1或第二源极电极SE2的材料相同的材料。
因此，包括第一有源图案ACT1、第一栅极电极GE1、第一源极电极SE1和第一漏极电极DE1的第一晶体管TR1可布置在衬底SUB上，并且包括第二有源图案ACT2、第二栅极电极GE2、第二源极电极SE2和第二漏极电极DE2的第二晶体管TR2可布置在衬底SUB上。
通孔绝缘层VIA可布置在层间绝缘层ILD上。通孔绝缘层VIA可充分覆盖第一源极电极SE1、第二源极电极SE2、第一漏极电极DE1和第二漏极电极DE2。通孔绝缘层VIA可包括有机材料。在实施方式中，例如，通孔绝缘层VIA可包括诸如酚醛树脂、丙烯酸树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺树脂、硅氧烷树脂、环氧树脂等的有机材料。它们可单独使用或彼此结合使用。
第一像素电极PE1和第二像素电极PE2可布置在通孔绝缘层VIA上。第一像素电极PE1可与第一发光区域LA1重叠，并且第二像素电极PE2可与第二发光区域LA2重叠。第一像素电极PE1可通过限定在通孔绝缘层VIA中的接触孔而连接到第一漏极电极DE1，并且第二像素电极PE2可通过限定在通孔绝缘层VIA中的接触孔而连接到第二漏极电极DE2。
在实施方式中，例如，第一像素电极PE1和第二像素电极PE2中的每一个可包括金属、合金、金属氮化物、导电金属氧化物、透明导电材料等。它们可单独使用或彼此结合使用。在实施方式中，第一像素电极PE1和第二像素电极PE2中的每一个可具有包括ITO/Ag/ITO的堆叠结构。第一像素电极PE1和第二像素电极PE2可通过相同的工艺形成，并且可包括彼此相同的材料。在实施方式中，例如，第一像素电极PE1和第二像素电极PE2中的每一个可作为阳极操作。
像素限定层PDL可布置在通孔绝缘层VIA上。像素限定层PDL可与非发光区域NLA重叠。像素限定层PDL可覆盖第一像素电极PE1和第二像素电极PE2中的每一个的相对侧部。此外，暴露第一像素电极PE1和第二像素电极PE2中的每一个的上表面的一部分的开口可限定在像素限定层PDL中。在实施方式中，例如，像素限定层PDL可包括无机材料或有机材料。在实施方式中，像素限定层PDL可包括诸如环氧树脂、硅氧烷树脂等的有机材料。它们可单独使用或彼此结合使用。在替代性的实施方式中，像素限定层PDL还可包括包含黑色颜料、黑色染料等的阻光材料。
第一发光层EML1可布置在第一像素电极PE1上，并且第二发光层EML2可布置在第二像素电极PE2上。第一发光层EML1和第二发光层EML2中的每一个可包括发射预定颜色的光的有机材料。在实施方式中，例如，第一发光层EML1可包括发射红色光的有机材料，并且第二发光层EML2可包括发射绿色光的有机材料。
第一公共电极CE1可布置在第一发光层EML1和像素限定层PDL上，并且第二公共电极CE2可布置在第二发光层EML2和像素限定层PDL上。第一公共电极CE1和第二公共电极CE2可彼此一体地形成为单个一体并且不可分割的部分。在实施方式中，例如，第一公共电极CE1和第二公共电极CE2中的每一个可包括金属、合金、金属氮化物、导电金属氧化物、透明导电材料等。它们可单独使用或彼此结合使用。第一公共电极CE1和第二公共电极CE2可作为阴极操作。
在实施方式中，第一发光元件可包括第一公共电极CE1、第一发光层EML1和第一像素电极PE1(或由第一公共电极CE1、第一发光层EML1和第一像素电极PE1限定)。此外，第二发光元件可包括第二公共电极CE2、第二发光层EML2和第二像素电极PE2。
封装层TFE可布置在第一公共电极CE1和第二公共电极CE2上。封装层TFE可防止杂质和湿气从外部渗透到第一像素电极PE1、第一发光层EML1、第一公共电极CE1、第二像素电极PE2、第二发光层EML2和第二公共电极CE2中。封装层TFE可包括至少一个无机层和至少一个有机层。在实施方式中，例如，无机层可包括氧化硅、氮化硅、氮氧化硅等。它们可单独使用或彼此结合使用。有机层可包括聚合物固化产物，诸如聚丙烯酸酯。
透明层OL可布置在封装层TFE上。在实施方式中，在透明层OL中可限定有多个第一开口(例如，图9的第一开口OP1)和多个第二开口(例如，图14的第二开口OP2)。第一开口可与第二开口间隔开。此外，第一开口和第二开口中的每一个可暴露封装层TFE的上表面的一部分。透明层OL可具有实质上平坦的上表面。透明层OL可包括有机材料。在实施方式中，例如，透明层OL可包括诸如环氧树脂、硅氧烷树脂、聚酰亚胺树脂、光致抗蚀剂等的有机材料。它们可单独使用或彼此结合使用。
多个阻光图案LP可布置在封装层TFE上。在实施方式中，多个阻光图案LP中的每一个可布置为填充多个第一开口中的每一个。因此，多个阻光图案LP可彼此间隔开。如上所述，多个阻光图案LP中的每一个可与非发光区域NLA重叠。即，多个阻光图案LP中的每一个可不与第一发光区域LA1、第二发光区域LA2和第三发光区域LA3重叠。
从第一发光层EML1和第二发光层EML2发射的光可入射在多个阻光图案LP上，或者可在多个阻光图案LP之间穿过。入射在多个阻光图案LP上的光可从多个阻光图案LP反射，可穿过多个阻光图案LP，或者可由多个阻光图案LP吸收。在实施方式中，入射在多个阻光图案LP上的光的大部分可由多个阻光图案LP吸收。因此，多个阻光图案LP可控制显示装置DD的视角。
多个阻光图案LP中的每一个可包括无机材料。在实施方式中，多个阻光图案LP中的每一个可包括诸如氧化钼钽(“MTO”)的无机材料。多个阻光图案LP中的每一个可具有多层结构。在实施方式中，例如，多个阻光图案LP中的每一个可具有MTO单层结构。替代性地，多个阻光图案LP可具有包括MTO/Mo、MTO/Cu、MTO/Al等的双层结构。可选择地，多个阻光图案LP中的每一个可具有包括MTO/Mo/MTO、MTO/Cu/MTO、MTO/Al/MTO等的三层结构。它们可单独使用或彼此结合使用。然而，多个阻光图案LP中的每一个不限于包括MTO。在实施方式中，例如，多个阻光图案LP可包括具有相对低的透射率和反射率以及相对高的吸收率的各种材料。
多个阻光图案LP中的每一个可包括有机材料。在替代性的实施方式中，多个阻光图案LP中的每一个可包括包含黑色颜料的有机材料。
在实施方式中，由多个阻光图案LP中的每一个与封装层TFE形成的角θ1可为直角。在替代性的实施方式中，由多个阻光图案LP中的每一个与封装层TFE形成的角θ1可为锐角(参见图4)。
第一透明图案OL1可布置在封装层TFE上。在实施方式中，第一透明图案OL1可布置为填充多个第二开口中的每一个。第一透明图案OL1可包括有机材料。在实施方式中，例如，第一透明图案OL1可包括诸如环氧树脂、硅氧烷树脂、聚酰亚胺树脂、光致抗蚀剂等的有机材料。它们可单独使用或彼此结合使用。
在实施方式中，在第一透明图案OL1的上表面上可限定有凹部RCS。在实施方式中，例如，由于限定在第一透明图案OL1上的凹部RCS，因此第一透明图案OL1在剖面上可具有凹入形状。
第二透明图案OL2可布置在第一透明图案OL1上。在实施方式中，第二透明图案OL2可填充第一透明图案OL1的凹部RCS。第二透明图案OL2可包括有机材料。在实施方式中，例如，第二透明图案OL2可包括诸如环氧树脂、硅氧烷树脂、聚酰亚胺树脂、光致抗蚀剂等的有机材料。它们可单独使用或彼此结合使用。
由于透明层OL、第一透明图案OL1和第二透明图案OL2中的每一个是透明的，因此从第一发光层EML1和第二发光层EML2发射的光可穿过透明层OL、第一透明图案OL1和第二透明图案OL2。
第二透明图案OL2的上表面可在衬底SUB上定位在与透明层OL的上表面的水平(或高度)相同的水平(或高度)处。替代性地，第二透明图案OL2的上表面可在衬底SUB上定位在比透明层OL的上表面高的水平处。在这种实施方式中，第二透明图案OL2可布置在透明层OL和第一透明图案OL1上。
在可见光区中，透明层OL的折射率可与第一透明图案OL1的折射率不同。在实施方式中，在可见光区中，透明层OL的折射率可小于第一透明图案OL1的折射率。
在可见光区中，第一透明图案OL1的折射率可与第二透明图案OL2的折射率不同。在实施方式中，在可见光区中，第一透明图案OL1的折射率可大于第二透明图案OL2的折射率。
在显示装置DD中，多个相邻的阻光图案LP之间的间隔可增加，以增加显示装置DD的正面透射率。然而，当多个相邻的阻光图案LP之间的距离增加时，显示装置DD的视角也可增加。
根据实施方式，即使在多个相邻的阻光图案LP之间的距离增加以增加正面透射率的情况下，显示装置DD相对于从第一发光层EML1和第二发光层EML2发射的光的视角的增加率也可由于透明层OL与第一透明图案OL1之间以及第一透明图案OL1与第二透明图案OL2之间的折射率的差而相对减少。
在实施方式中，透明层OL和第二透明图案OL2可包括彼此相同的有机材料。在替代性的实施方式中，透明层OL和第二透明图案OL2可包括彼此不同的有机材料。
在实施方式中，由透明层OL与第一透明图案OL1之间的边界线与封装层TFE形成的角θ2可为直角。在替代性实施方式中，由透明层OL与第一透明图案OL1之间的边界线与封装层TFE形成的角θ2可为锐角(参见图4)。
图5A和图5B是用于解释根据比较示例和实施方式的入射在透光层的一侧上的光的传播路径的剖面图。图6A和图6B是用于解释根据比较示例和实施方式的入射在透光层的中间上的光的传播路径的剖面图。
参考图5A至图6B，图5A和图6A示出了仅限定有透明层OL的比较示例，并且图5B和图6B示出了限定有透明层OL、第一透明图案OL1和第二透明图案OL2的实施方式。在下文中，将图示从第一发光层(例如，图3的第一发光层EML1)和第二发光层(例如，图3的第二发光层EML2)发射到透光层的内部的入射光作为示例。
图5A、图5B、图6A和图6B示出了假设当光穿过具有不同折射率的其它介质时，光具有朝着具有较大折射率的介质折射的性质的情况。
图5A和图5B图示了根据比较示例和实施方式的入射在透光层的侧表面上的光的行进路径。例如，入射在图5A中的透光层的侧表面上的光可包括第一入射光1、第二入射光2和第三入射光3，并且入射在图5B中的透光层的侧表面上的光可包括第一入射光1'、第二入射光2'和第三入射光3'。
图5A图示了根据比较示例的入射在透光层的侧表面上的光的行进路径，并且图5B图示了在根据本公开的实施方式的结构中入射在透光层的侧表面上的光的行进路径。
图5A中由穿过透光层的内部的第三入射光3与封装层(例如，图3的封装层TFE)形成的角α可与图5B中由穿过透光层的内部的第三入射光3'与封装层形成的角α相同。
此外，图5A中由穿过透光层的内部的第二入射光2与封装层形成的角β可与图5B中由穿过透光层的内部的第二入射光2'与封装层形成的角β相同。
此外，图5A中由穿过透光层的内部的第一入射光1与封装层形成的角γ可与图5B中由穿过透光层的内部的第一入射光1'与封装层形成的角γ相同。
图5A中通过由透明层OL与空气层之间的折射率的差折射的第一入射光1与垂直于透明层OL的上表面的假想法线形成的视角θⅠ可大于图5B中通过由透明层OL与第一透明图案OL1之间的折射率的差、第一透明图案OL1与第二透明图案OL2之间的折射率的差以及第二透明图案OL2与空气层之间的折射率的差折射多次的第一入射光1'与垂直于第二透明图案OL2的上表面的假想法线形成的视角θⅠ'。
另一方面，如图5B中所示，通过透明层OL与第一透明图案OL1之间的折射率的差折射多次的第二入射光2'和第三入射光3'可由阻光图案LP吸收。
因此，可确认，根据实施方式的显示装置DD关于入射在透光层的侧表面上的光的视角小于根据比较示例的显示装置关于入射在透光层的侧表面上的光的视角。
图6A和图6B是图示根据比较示例和实施方式的入射在透光层的中心的光的行进路径的剖面图。例如，图6A中入射在透光层的中心的光可包括第一入射光1、第二入射光2、第三入射光3和第四入射光4，并且图6B中入射在透光层的中心的光可包括第一入射光1'、第二入射光2'、第三入射光3'和第四入射光4'。
在图6A中，第一入射光1和第二入射光2可相对于透光层的中间分别与第三入射光3和第四入射光4对称。
在图6B中，第一入射光1'和第二入射光2'可相对于透光层的中间分别与第三入射光3'和第四入射光4'对称。
图6A可图示在比较示例中入射在透光层的中间的光的传播路径，并且图6B可图示在实施方式中入射在透光层的中间的光的传播路径。
图6A中由穿过透光层的内部的第四入射光4与封装层(例如，图3的封装层TFE)形成的角α'可与图6B中由穿过透光层的内部的第四入射光4'与封装层形成的角α'相同。此外，图6A中由穿过透光层的内部的第三入射光3与封装层(例如，图3的封装层TFE)形成的角β'可与图6B中由穿过透光层的内部的第三入射光3'与封装层形成的角β'相同。
图6A中通过由透明层OL与空气层之间的折射率的差折射的第四入射光4与垂直于透明层OL的上表面的假想法线形成的视角θⅠⅠ可大于图6B中通过由透明层OL和第一透明图案OL1之间的折射率的差以及第一透明图案OL1与空气层之间的折射率的差折射多次的第四入射光4'与垂直于第二透明图案OL2的上表面的假想法线形成的视角θⅠⅠ'。
因此，可确认，根据实施方式的显示装置DD关于入射在透光层的中间的光的视角小于根据比较示例的显示装置关于入射在透光层的中间的光的视角。
图7至图17是图示制造图3的显示装置的方法的实施方式的剖面图。
参考图3和图7，可在衬底SUB上顺序地形成缓冲层BUF、第一有源图案ACT1和第二有源图案ACT2、栅极绝缘层GI、第一栅极电极GE1和第二栅极电极GE2、层间绝缘层ILD、第一源极电极SE1和第二源极电极SE2、第一漏极电极DE1和第二漏极电极DE2、通孔绝缘层VIA、第一像素电极PE1和第二像素电极PE2、像素限定层PDL、第一发光层EML1和第二发光层EML2、第一公共电极CE1和第二公共电极CE2以及封装层。
可在封装层TFE上形成初步透明层POL。在实施方式中，例如，可使用有机材料形成初步透明层POL。在实施方式中，可使用光敏有机材料形成初步透明层POL。
可在初步透明层POL上形成第一硬掩模(或掩模层)MK1。在实施方式中，例如，可使用金属材料形成第一硬掩模MK1。
参考图7和图8，可将第一硬掩模MK1图案化在初步透明层POL上。
参考图9，可通过去除暴露的初步透明层POL的不与图案化的第一硬掩模MK1重叠的部分来形成第一开口OP1。在实施方式中，可通过蚀刻工艺去除初步透明层POL的暴露部分。在形成第一开口OP1之后，可去除第一硬掩模MK1。
参考图10，可在透明层OL上形成填充第一开口OP1的初步阻光图案PLP。在实施方式中，例如，可使用无机材料或有机材料形成初步阻光图案PLP。
参考图11，可去除初步阻光图案PLP的未填充第一开口OP1的部分。即，可去除初步阻光图案PLP的上部的一部分。在实施方式中，例如，可通过显影剂去除初步阻光图案PLP的上部的一部分。因此，可形成填充第一开口OP1的多个阻光图案LP。
参考图12，可在透明层OL和多个阻光图案LP上形成第二硬掩模MK2。在实施方式中，例如，第二硬掩模MK2可包括金属材料。
参考图13，可将第二硬掩模MK2图案化在透明层OL和多个阻光图案LP上。
参考图14，能够通过去除透明层OL的被暴露并且不与图案化的第二硬掩模MK2重叠的部分来形成第二开口OP2。在实施方式中，可通过蚀刻工艺去除透明层OL的被暴露的部分。在形成第二开口OP2之后，可去除第二硬掩模MK2。
参考图15，可在多个阻光图案LP和透明层OL上形成填充第二开口OP2的初步透明图案POL1。在实施方式中，可使用有机材料形成初步透明图案POL1。在实施方式中，例如，初步透明图案POL1可包括诸如环氧树脂、硅氧烷树脂、聚酰亚胺树脂、光致抗蚀剂等的有机材料。
参考图16，可去除第一透明图案OL1的上部的一部分。在实施方式中，例如，可通过显影剂去除第一透明图案OL1的上部的一部分。因此，可形成填充第二开口OP2并且具有形成在其上表面上的凹部RCS的第一透明图案OL1。即，通过去除第一透明图案OL1的上部的一部分，可在剖面上形成具有凹入形状的第一透明图案OL1。
参考图17，可在第一透明图案OL1上形成第二透明图案OL2。在实施方式中，可使用有机材料形成第二透明图案OL2。在实施方式中，例如，第二透明图案OL2可包括诸如环氧树脂、硅氧烷树脂、聚酰亚胺树脂、光致抗蚀剂等的有机材料。具体地，第二透明图案OL2可填充第一透明图案OL1的凹部RCS。在实施方式中，透明层OL的折射率可小于第一透明图案OL1的折射率，并且第一透明图案OL1的折射率可大于第二透明图案OL2的折射率。
因此，可制造图3中图示的显示装置DD。
图18是放大根据替代性的实施方式的显示装置上的显示区域的平面图。
参考图18，根据本公开的替代性的实施方式的显示装置可包括多个阻光图案LP。在下文中，将省略或简化与参考图2描述的显示装置DD的元件相同或相似的元件的任何重复的详细描述。
多个阻光图案LP可并排地排列在平面上。多个阻光图案LP中的每一个可在第二方向DR2上延伸。多个阻光图案LP可在与第二方向DR2交叉的第一方向DR1上彼此间隔开。多个阻光图案LP可彼此平行。在实施方式中，多个阻光图案LP中的一些可与第一发光区域LA1、第二发光区域LA2和第三发光区域LA3重叠，并且多个阻光图案LP的其它部分可与非发光区域NLA重叠。
例如，本公开的实施方式能够应用于各种显示装置，诸如用于车辆、船舶和飞行器的显示装置、便携式通信装置、用于展览或信息传输的显示装置、医疗显示装置等。
本发明不应当被解释为限于本文中阐述的实施方式。相反，提供这些实施方式，使得本公开将是彻底和完整的，并且将向本领域技术人员全面地传达本发明的内容。
虽然已参考本发明的实施方式对本发明进行了特定示出和描述，但是本领域普通技术人员将理解，在不背离如随附权利要求书限定的本发明的精神或范围的情况下，可在其中进行形式和细节上的各种改变。
Claims (10)
1.一种显示装置，包括：
衬底，所述衬底包括发光区域和非发光区域；
发光元件，所述发光元件布置在所述衬底上的所述发光区域中；
封装层，所述封装层布置在所述发光元件上；
透明层，所述透明层布置在所述封装层上，其中，通过所述透明层限定多个第一开口和多个第二开口；
多个阻光图案，所述多个阻光图案布置在所述封装层上并且分别填充所述多个第一开口；
第一透明图案，所述第一透明图案在所述多个第二开口中的每一个中布置在所述封装层上；以及
第二透明图案，所述第二透明图案布置在所述第一透明图案上，其中，所述第二透明图案具有与所述第一透明图案的折射率不同的折射率。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，在所述第一透明图案的上表面上限定凹部，并且所述第二透明图案填充所述凹部。
3.权利要求1所述的显示装置，其中，所述透明层的折射率小于所述第一透明图案的所述折射率。
4.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第一透明图案的所述折射率大于所述第二透明图案的所述折射率。
5.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述透明层和所述第二透明图案包括彼此相同的材料。
6.一种制造显示装置的方法，所述方法包括：
在包括发光区域和非发光区域的衬底上形成发光元件；
在所述发光元件上形成封装层；
在所述封装层上形成初步透明层；
通过去除所述初步透明层的第一部分来形成多个第一开口；
形成填充所述多个第一开口的多个阻光图案；
形成通过去除所述初步透明层的第二部分而形成有多个第二开口的透明层；
在所述多个第二开口中的每一个中形成第一透明图案；以及
在所述第一透明图案上形成第二透明图案。
7.根据权利要求6所述的方法，其中，通过去除所述初步透明层的所述第一部分来形成所述多个第一开口包括：
在所述初步透明层上形成第一硬掩模；
将所述第一硬掩模图案化；以及
通过去除所述初步透明层的通过图案化的所述第一硬掩模暴露的一部分来形成所述多个第一开口。
8.根据权利要求6所述的方法，其中，形成通过去除所述初步透明层的所述第二部分而形成有所述多个第二开口的所述透明层包括：
在所述初步透明层和所述多个阻光图案上形成第二硬掩模；
将所述第二硬掩模图案化；以及
通过去除所述初步透明层的通过图案化的所述第二硬掩模暴露的一部分来形成所述多个第二开口。
9.根据权利要求6所述的方法，其中，在所述多个第二开口中的每一个中形成所述第一透明图案包括：
形成填充所述多个第二开口并且布置在所述透明层上的初步透明图案；以及
通过去除所述初步透明图案的上部来形成具有上表面的所述第一透明图案，在所述上表面中形成有凹部。
10.根据权利要求6所述的方法，其中，
所述透明层的折射率小于所述第一透明图案的折射率，以及
所述第一透明图案的所述折射率大于所述第二透明图案的折射率。
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