CN117658461A - 低反射率玻璃及其制备方法和应用 - Google Patents
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Abstract
本公开提供一种低反射率玻璃及其制备方法和应用，具体步骤为：对玻璃基板进行强化，使所述玻璃基板中的锂离子与外界的钠离子交换，交换深度为d1，钠离子与外界的钾离子交换，交换深度为d2，得到低反射率玻璃；其中，d1＞d2，玻璃基板的最大光程差小于2。通过双离子交换的方法在玻璃表面形成具有梯度折射率的高钾强化层和高钠强化层，减少光的反射，进一步降低玻璃的反射率，并提高玻璃的耐划伤性。本公开制备的低反射率玻璃在厚度为1.3mm时，550nm反射率能达到小于8.1％，同时还具有良好的耐划伤性能，负载1kg时划痕宽度小于100μm。
Description
技术领域
本公开涉及玻璃制造技术领域，特别是涉及一种低反射率玻璃及其制备方法和应用。
背景技术
手机、平板电脑、车载导航等带屏幕的电子设备在人们的生活中日渐普及。但在有强光照射时，电子设备的屏幕产生的反射光会使其显示效果大打折扣，影响使用体验。
在电子设备的屏幕上覆盖一层低反射率的玻璃盖板能降低屏幕产生的反射光，提升使用体验。玻璃盖板在使用的过程中，需要不断的进行人机交互，良好的耐划伤性能避免在使用过程中产生划伤印迹等不良痕迹，因此，玻璃盖板在具有低反射率的同时，还需要具有良好的耐划伤性。
现有技术中，往往通过镀膜或者刻蚀的方法降低玻璃的反射率。但是，镀膜后，膜层与玻璃基板间存在界面反射，反射率降低有限，且工艺较为复杂。刻蚀法虽然可以有效降低玻璃的反射率，但是刻蚀会影响玻璃表面的强度，降低玻璃的耐划伤性能。
发明内容
本公开所要解决的一个技术问题是：如何降低玻璃的反射率，并提高玻璃的耐划伤性能，从而更加适于实用。
本公开解决其技术问题采用以下的技术方案来实现。
本公开实施例提供一种低反射率玻璃的制备方法，对玻璃基板进行强化，使前述的玻璃基板中的锂离子与外界的钠离子交换，交换深度为d1，钠离子与外界的钾离子交换，交换深度为d2，得到低反射率玻璃；其中，d1＞d2；以及，前述的玻璃基板的最大光程差小于2。
在一些实施例中，d1的范围为10-12μm，d2的范围为3-5μm。
在一些实施例中，对前述的玻璃基板进行强化的方法为：将前述的玻璃基板浸入400-470℃的NaNO3熔盐中1-5h，然后浸入380-450℃的KNO3熔盐中0.25-3h。
在一些实施例中，将前述的玻璃基板浸入400-450℃的NaNO3熔盐中2-5h，然后浸入380-435℃的KNO3熔盐中0.25-1.5h。
在一些实施例中，对前述的玻璃基板进行强化的方法为：将前述的玻璃基板浸入400-470℃的混合熔盐中4-8h；前述的混合熔盐包括3-10％KNO3和90-97％NaNO3。
在一些实施例中，前述的玻璃基板浸入420-450℃的混合熔盐中进行离子交换，时间为4-6h。
在一些实施例中，前述的玻璃基板组分按氧化物质量百分比计，Li2O：4-7％；以及，Na2O：4-8％。
在一些实施例中，前述的玻璃基板组分按氧化物质量百分比计，
SiO2：55-67％；
Al2O3：16-25％；
B2O3：2-6％；
ZrO2：0.5-2％；
BeO：0.5-2％；
K2O：0-3％；
MgO：0-3％；
CaO：0-1％；
SrO：0-2％；以及，
ZnO：0-2％。
本公开解决其技术问题还采用以下的技术方案来实现。
本公开实施例提供一种低反射率玻璃，包括：
玻璃基底；
高钠强化层，设置于前述的玻璃基底的表面上；前述的高钠强化层是将前述的玻璃基底中部分锂离子与外界钠离子进行了交换的玻璃；以及，
高钾强化层，设置于前述的高钠强化层的表面上；前述的高钾强化层是将前述的高钠强化层中部分钠离子与外界钾离子进行了交换的玻璃。
本公开解决其技术问题还采用以下的技术方案来实现。
本公开实施例提供一种屏幕盖板，包含前述的低反射率玻璃。
借由上述技术方案，本公开提供的低反射率玻璃及其制备方法和应用至少具有下列优点：
本公开采用双离子交换的方法对玻璃基板进行强化，使玻璃表面形成两层不同的强化层，从外向内，依次为高钾强化层、高钠强化层和玻璃基板。其中，高钠强化层由玻璃基板中的锂离子与外界的钠离子进行交换后得到；高钾强化层由高钠强化层中的钠离子与外界的钾离子交换得到。需要注意的是，玻璃中不同元素对折射率的影响不同，越接近玻璃表面，交换离子的浓度越大，对折射率的影响越大；越接近玻璃基板，交换离子的浓度越小，对折射率的影响越小。因此高钠强化层和高钾强化层均为梯度折射率强化层，即两强化层的折射率均随着深度的变化而渐变。且由于折射率是渐变的，因此在两强化层与玻璃基板之间不存在明显的界面之分，没有界面反射。
玻璃元素中，Li、Na、K的折射率大小排序是：K＞Li＞Na。在高钾强化层中，从外部向内，钾离子浓度逐渐下降，钠离子浓度逐渐上升，折射率由高到低变化；在高钠强化层中，从外部向内，钠离子浓度逐渐下降，锂离子浓度逐渐上升，折射率由低到高变化。申请人认为，光线入射到高钾强化层中后，该从外向内折射率由高到低的折射率渐变结构使光线在其中不断地重复发生折射-反射-折射的过程直到射出，相比均一介质，大大减少了光的反射。光线入射到高钠强化层中后，该从外向内折射率由低到高的折射率渐变结构能够使更多大角度入射的光最终射入基底，大幅提高透过率。通过上述的两个不同的梯度折射率强化层的共同作用，进一步降低玻璃的反射率，且高钾强化层能大幅提高玻璃表面的硬度。采用本公开的方法制备的低反射率玻璃在厚度为1.3mm时，550nm反射率能达到小于8.1％，同时还具有良好的耐划伤性能，负载1kg时划痕宽度小于100μm。
上述说明仅是本公开技术方案的概述，为了能够更清楚了解本公开的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本公开的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
附图说明
为了更清楚地说明本公开实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本公开实施例公开的低反射率玻璃的结构示意图。
附图标记说明：
1、高钾强化层；2、高钠强化层；3、玻璃基底。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本公开的实施方式作进一步详细描述。以下实施例的详细描述和附图用于示例性地说明本公开的原理，但不能用来限制本公开的范围，本公开可以以许多不同的形式实现，不局限于文中公开的特定实施例，而是包括落入权利要求的范围内的所有技术方案。
本公开提供这些实施例是为了使本公开透彻且完整，并且向本领域技术人员充分表达本公开的范围。应注意到：除非另外具体说明，这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、材料的组分、数字表达式和数值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。
需要说明的是，在本公开的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是大于或等于两个；术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系仅是为了便于描述本公开和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本公开的限制。当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
此外，本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的部分。“垂直”并不是严格意义上的垂直，而是在误差允许范围之内。“平行”并不是严格意义上的平行，而是在误差允许范围之内。“包括”或者“包含”等类似的词语意指在该词前的要素涵盖在该词后列举的要素，并不排除也涵盖其他要素的可能。
还需要说明的是，在本公开的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可视具体情况理解上述术语在本公开中的具体含义。当描述到特定器件位于第一器件和第二器件之间时，在该特定器件与第一器件或第二器件之间可以存在居间器件，也可以不存在居间器件。
本公开使用的所有术语与本公开所属领域的普通技术人员理解的含义相同，除非另外特别定义。还应当理解，在诸如通用字典中定义的术语应当被解释为具有与它们在相关技术的上下文中的含义相一致的含义，而不应用理想化或极度形式化的意义来解释，除非这里明确地这样定义。
对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。
本公开实施例提供一种低反射率玻璃的制备方法，具体步骤为：对玻璃基板进行强化，使前述的玻璃基板中的锂离子与外界的钠离子交换，交换深度为d1，钠离子与外界的钾离子交换，交换深度为d2，得到低反射率玻璃；其中，d1＞d2；以及，玻璃基板的最大光程差小于2。
本公开采用双离子交换的方法对玻璃基板进行强化，使玻璃表面形成两层不同的强化层，制得的低反射率玻璃如图1所示，从外向内，依次为高钾强化层1、高钠强化层2和玻璃基底3。其中，高钠强化层2由玻璃基板中的锂离子与外界的钠离子进行交换后得到；高钾强化层1由高钠强化层2中的钠离子与外界的钾离子交换得到。需要注意的是，玻璃中不同元素对折射率的影响不同，越接近玻璃表面，交换离子的浓度越大，对折射率的影响越大；越接近玻璃基底3，交换离子的浓度越小，对折射率的影响越小。因此高钠强化层2和高钾强化层1均为梯度折射率强化层，即两强化层的折射率均随着深度的变化而渐变。且由于折射率是渐变的，因此在两强化层与玻璃基底3之间不存在明显的界面之分，没有界面反射。
玻璃元素中，Li、Na、K的折射率大小排序是：K＞Li＞Na。在高钾强化层1中，从外部向内，钾离子浓度逐渐下降，钠离子浓度逐渐上升，折射率由高到低变化；在高钠强化层2中，从外部向内，钠离子浓度逐渐下降，锂离子浓度逐渐上升，折射率由低到高变化。光线入射到高钾强化层1中后，该从外向内折射率由高到低的折射率渐变结构使光线在其中不断地重复发生折射-反射-折射的过程直到射出，相比均一介质，大大减少了光的反射。光线入射到高钠强化层2中后，该从外向内折射率由低到高的折射率渐变结构能够使更多大角度入射的光最终射入基底，大幅提高透过率。通过上述的两个不同的梯度折射率强化层的共同作用，进一步降低玻璃的反射率，且高钾强化层能大幅提高玻璃表面的硬度。
另外，玻璃基板的最大光程差小于2，使玻璃基板整体具有较为均匀的反射率，从而保证强化层形成梯度折射率。
在一些实施例中，d1的范围为10-12μm，d2的范围为3-5μm。锂离子与外界的钠离子的交换深度d1小于10μm降低玻璃反射率的效果不佳，大于12μm会使制得的低反射率玻璃的耐划伤性能和抗跌落性能大幅度下降，因此d1的范围控制在10-12μm。钠离子与外界的钾离子的交换深度d2小于3μm降低玻璃反射率的效果不佳且耐划伤性差，大于5μm则使高钾强化层1过厚而高钠强化层2过薄，降低玻璃反射率的效果不佳，因此d2的范围控制在3-5μm。
在一些实施例中，对前述的玻璃基板进行强化的方法为：将前述的玻璃基板浸入400-470℃的NaNO3熔盐中1-5h，然后浸入380-450℃的KNO3熔盐中0.25-3h。
NaNO3熔盐的温度低于400℃则钠离子与锂离子交换缓慢且无法达到所需的深度；NaNO3熔盐的温度高于470℃，会造成玻璃张应力变大，玻璃的耐划伤性能和抗跌落性能会大幅度下降，因此控制钠盐强化温度为400-470℃。NaNO3熔盐强化时间低于1h则钠离子与锂离子交换无法达到所需的深度，NaNO3熔盐强化时间高于5h则会造成玻璃张应力变大，玻璃的耐划伤性能和抗跌落性能会大幅度下降，因此控制钠盐强化时间为1-5h。KNO3熔盐的温度低于380℃则钾离子与钠离子交换缓慢且无法达到所需的深度；KNO3熔盐的温度高于450℃，会造成玻璃张应力变大，玻璃的耐划伤性能和抗跌落性能会大幅度下降，因此控制钾盐强化温度为380-450℃。KNO3熔盐强化时间低于0.25h则钾离子与钠离子交换无法达到所需的深度，KNO3熔盐强化时间高于3h，则会使钾离子与钠离子交换深度过深，反射率降低效果不佳，因此控制钾盐强化时间为0.25-3h。
在一些实施例中，将前述的玻璃基板浸入400-450℃的NaNO3熔盐中2-5h，然后浸入380-435℃的KNO3熔盐中0.25-1.5h。采用此温度范围和时间范围制备的低反射率玻璃反射率更低且耐划伤性能更好。
在一些实施例中，对前述的玻璃基板进行强化的方法为：将前述的玻璃基板浸入400-470℃的混合熔盐中4-8h；前述的混合熔盐包括3-10％KNO3和90-97％NaNO3。
采用两次强化的方法或者混合强化的方法都能实现本公开的目的。在采用混合熔盐对玻璃基板进行强化时，温度过低或时间过短则离子交换深度过浅，温度过高或时间过长则会造成玻璃张应力变大，玻璃的耐划伤性能和抗跌落性能会大幅度下降，因此控制混合熔盐强化的温度为400-470℃，时间为4-8h。混合熔盐由3-10％KNO3和90-97％NaNO3组成。在此范围内制得的低反射率玻璃的反射率较低。
在一些实施例中，前述的玻璃基板浸入420-450℃的混合熔盐中进行离子交换，时间为4-6h。在此范围内制得的低反射率玻璃的反射率较低。
在一些实施例中，前述的玻璃基板组分按氧化物质量百分比计，Li2O：4-7％；以及，Na2O：4-8％。
Li2O是离子交换成分，特别是为了将玻璃中含有的Li离子与熔融盐中的Na离子进行离子交换而得到较深的应力深度所必须的成分。另外，Li2O使玻璃高温粘度降低，提高杨氏模量。但是当Li2O含量较高时，会增加对窑炉的耐火材料的侵蚀，降低窑炉的使用寿命，因此在本公开中Li2O含量限定在4-7％。
Na2O是离子交换成分，通过将钠离子交换为钾离子，从而增大玻璃表面压缩应力，也是形成不同折射率层的必要成分。另外Na2O是使高温粘度降低而提高熔融性、成形性的成分。若Na2O的含量过少，则熔融性降低，同时离子交换速度变慢。Na2O含量过高，则玻璃的耐划伤以及表面压缩应力会降低显著，因此，其含量限制在4-8％。
在一些实施例中，前述的玻璃基板组分按氧化物质量百分比计，
SiO2：55-67％；
Al2O3：16-25％；
B2O3：2-6％；
ZrO2：0.5-2％；
BeO：0.5-2％；
K2O：0-3％；
MgO：0-3％；
CaO：0-1％；
SrO：0-2％；以及，
ZnO：0-2％。
SiO2是材料的网络形成体，是玻璃骨架的主要成份。当SiO2含量太低时，形成的玻璃强度不高，且玻璃的整体透射率降低，反射率会增大；当SiO2含量过高时，玻璃难以熔融和成型。因此，SiO2的含量在55-67％时，玻璃具有较好的机械性能，其反射率也处在较低水平。
Al2O3能提高玻璃的耐热性与化学持久性，同时，提高玻璃内部空隙率，使玻璃中碱金属离子能自由移动，便于玻璃中的碱金属离子进行交换，提高玻璃强化后的表面压应力。当玻璃中的Al2O3含量较低时，玻璃的耐久性和表面压应力会变低，耐划伤性能会降低，当Al2O3含量超过一定量时，玻璃熔液的黏度增加，难以澄清。因此本公开中Al2O3含量限定在16-25％。
本公开提供的玻璃中Al2O3含量为16-25％，导致玻璃熔化温度升高，因此引入B2O3作为助熔剂，可提高玻璃的低温粘度。并且，提高玻璃的耐划伤性能和抗裂性能，同时提高玻璃的透光率，降低玻璃的反射率。但是过多的B2O3会使玻璃的韧性大幅降低，离子交换速度降低，降低玻璃强化后的性能，因此B2O3的含量限定在2-6％。
ZrO2能提高玻璃的透明度，增加玻璃的透过率，降低玻璃本体的反射率，在化学强化时能提高玻璃表面压缩应力，提高耐划伤性能，但是其含量过高会造成玻璃熔融温度增加，且在玻璃成型时，析出Zr结晶，影响玻璃质量。因此，ZrO2的含量限制在0.5-2％。
Be的原子量很小，但是其氧化物BeO在所有碱土金属氧化物中具有较高的强度，同时能降低玻璃的熔解温度、成型粘度和玻璃的膨胀系数，降低玻璃的反射率，增加透过率，因此，对于寻求降低反射率玻璃来讲，BeO具有独特的优势，此外，一定量的BeO可以提升玻璃的退火质量，降增加玻璃的耐划伤性能。但是BeO也具有很大的缺点，具有很高的熔化点，因此在玻璃中添加过多的BeO,不仅会增加玻璃的生产成本，也增加了玻璃熔化工艺的难度，因此，BeO的含量限制在0.5-2％。
K2O是用于使高温粘度降低而提高熔融性、成形性的成分，其作用效果与Na2O基本相同。Na2O和K2O能同时存在，也能单独存在。因此在本公开中，K2O的含量限制在0-3％。
MgO含量太高玻璃的失透性增加，因此，MgO的含量限制在0-3％。CaO含量过多会使玻璃的脆性增加，对钾钠离子交换不利，因此，CaO的含量限制在0-1％。SrO含量过高，会增大玻璃的密度，增加玻璃折射率和反射率，因此，SrO的含量限制在0-2％。
ZnO能改善玻璃的机械性能且增加玻璃的杨氏模量，且能降低玻璃高温熔融黏度，使得玻璃更容易成型，而过高的ZnO能大幅度提高玻璃的折射率，增加玻璃反射率，因此，ZnO的含量限制在0-2％。
在一些实施例中，前述的铝硅酸盐玻璃，组分按氧化物质量百分比计，碱金属氧化物总含量M：10-14％，碱土金属氧化物总含量N：1％-5％。
碱金属氧化物能降低玻璃高温粘度，提高玻璃的熔融性、成形性。但是，若碱金属氧化物含量M([Li2O]+[Na2O]+[K2O])过高，玻璃的热膨胀系数升高，耐划伤性能降低。因此，碱金属氧化物含量M的适宜范围在10-14％。
碱土金属氧化物(BeO、MgO、CaO、SrO)的加入可有效降低玻璃的高温粘度从而提高玻璃的熔融性及成形性，并可提高玻璃的耐划伤性能。但是碱土金属氧化物的含量过多会使玻璃密度增加，折射率提高，反射率增大，耐划伤性能下降。因此，碱土金属氧化物总量N限制在1-5％。
在一些实施例中，前述的铝硅酸盐玻璃，组分按氧化物质量百分比计，0.3≤Li2O/M≤0.6，且0.5≤(M+N)/Al2O3≤1，0.2≤BeO/N≤1。
申请人在研究中发现，当碱金属与碱土金属满足0.3≤Li2O/M≤0.6，且0.5≤(M+N)/Al2O3≤1，0.2≤BeO/N≤1时，玻璃具有良好的熔融性及耐划伤性能，且呈现较低的反射率。
在一些实施例中，前述的铝硅酸盐玻璃，其中所述的玻璃组分按氧化物质量百分比计，ZrO2：BeO＝1：0.3-1.3。
申请人在研究中发现，ZrO2和BeO共同作用降低玻璃的反射率，二者按氧化物计的质量比的范围为ZrO2：BeO＝1：0.3-1.3时，玻璃呈现较低的反射率。
本公开实施例提供一种低反射率玻璃，如图1所示，包括：
玻璃基底3；
高钠强化层2，设置于前述的玻璃基底的表面上；前述的高钠强化层是将前述的玻璃基底中部分锂离子与外界钠离子进行了交换的玻璃；以及，
高钾强化层1，设置于前述的高钠强化层的表面上；前述的高钾强化层是将前述的高钠强化层中部分钠离子与外界钾离子进行了交换的玻璃。
本公开解决其技术问题还采用以下的技术方案来实现。
本公开实施例提供一种屏幕盖板，包含前述的低反射率玻璃。该屏幕盖板能用于手机、电脑或车载显示器等各种电子设备的显示屏上。
本公开还提出一种电子设备，电子设备包含前述的屏幕盖板。电子设备为手机、平板电脑、车载导航等带屏幕的电子设备。
下面将结合具体实施例对本公开作进一步说明，但不能理解为是对本公开保护范围的限制，该领域的技术人员根据上述本公开的内容对本公开作出的一些非本质的改进和调整，仍属于本公开的保护范围。
若无特殊说明，以下所涉及的材料、试剂等均为本领域技术人员熟知的市售商品；若无特殊说明，所述方法均为本领域公知的方法。除非另外定义，所使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内的普通技术人员所理解的通常意义。
实施例1-8
按照表中的各组分配比，计算并称取各组分对应的原料(各组分质量均为换算为氧化物后的质量)，充分搅拌后投入熔窑，在经过熔化、澄清、成型、退火、切裁等工艺后，制备出厚度为1.3mm的玻璃基板，且玻璃基板的最大光程差小于2。测量玻璃的反射率F1，测得的数值见表1。
将前述制得的玻璃基板先进行一次强化，然后进行二次强化，得到低反射率玻璃。一次强化的方法为：将玻璃基板预热后浸入100％的NaNO3熔盐中；各实施例一次强化的温度与时长见表1。二次强化的方法为：将一次强化后的玻璃基板预热后浸入100％的KNO3熔盐中，得到低反射率玻璃；各实施例两次强化的温度与时长见表1。测量各实施例中低反射率玻璃的反射率F2与负载1kg时的划痕宽度，测得的数值见表1。
表1实施例1-8的原料、实验参数与玻璃性能测量结果
实施例9-16
按照表中的各组分配比，计算并称取各组分对应的原料(各组分质量均为换算为氧化物后的质量)，充分搅拌后投入熔窑，在经过熔化、澄清、成型、退火、切裁等工艺后，制备出厚度为1.3mm的玻璃基板，且玻璃基板的最大光程差小于2。测量玻璃基板550nm的反射率F1，测得的数值见表2。
将前述制得的玻璃基板先进行混合强化，得到低反射率玻璃。混合强化的方法为：将玻璃基板预热后浸入NaNO3和KNO3的混合熔盐中；各实施例混合熔盐中NaNO3与KNO3的比例见表2；各实施例混合强化的温度与时长见表2。测量各实施例中低反射率玻璃550nm的反射率F2与负载1kg时的划痕宽度，测得的数值见表2。
表2实施例9-16的原料、实验参数与玻璃性能测量结果
根据实施例1-16的实验结果可得，实施例1-16中制得的厚度1.3mm的玻璃基板550nm的反射率F1小于8.3％；对制得的玻璃基板进行强化后制得的低反射率玻璃550nm的反射率F2小于8.1％，F2–F1大于0.2％，且强化后的玻璃耐划伤性能好，负载1kg时的划痕宽度小于100μm。
对比例1
对比例1与实施例4的区别在于两次强化都采用NaNO3熔盐。
对比例2
对比例2与实施例4的区别在于两次强化都采用KNO3熔盐。
对比例3
对比例3与实施例4的区别在于所采用的玻璃基板的最大光程差为5。
对比例1-2的制得的厚度1.3mm的低反射率玻璃550nm反射率F2以及d1、d2和划痕宽度的数据见表3。
表3对比例1-2的低反射率玻璃测量数据
由对比例1-2可得，采用本公开双离子交换的方法使玻璃表面形成具有梯度折射率的高钾强化层和高钠强化层，能减少光的反射，进一步降低玻璃的反射率，并提高玻璃的耐划伤性。
本公开权利要求和/或说明书中的技术特征能进行组合，其组合方式不限于权利要求中通过引用关系得到的组合。通过权利要求和/或说明书中的技术特征进行组合得到的技术方案，也是本公开的保护范围。
以上所述，仅是本公开的较佳实施例而已，并非对本公开作任何形式上的限制，依据本公开的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本公开技术方案的范围内。
Claims (10)
1.一种低反射率玻璃的制备方法，其特征在于，
对玻璃基板进行强化，使所述玻璃基板中的锂离子与外界的钠离子交换，交换深度为d1，钠离子与外界的钾离子交换，交换深度为d2，得到低反射率玻璃；其中，d1＞d2；以及，所述玻璃基板的最大光程差小于2。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，
d1的范围为10-12μm，d2的范围为3-5μm。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，
对所述玻璃基板进行强化的方法为：将所述玻璃基板浸入400-470℃的NaNO3熔盐中1-5h，然后浸入380-450℃的KNO3熔盐中0.25-3h。
4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，将所述玻璃基板浸入400-450℃的NaNO3熔盐中2-5h，然后浸入380-435℃的KNO3熔盐中0.25-1.5h。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，对所述玻璃基板进行强化的方法为：将所述玻璃基板浸入400-470℃的混合熔盐中4-8h；所述混合熔盐包括3-10％KNO3和90-97％NaNO3。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述玻璃基板浸入420-450℃的混合熔盐中进行离子交换，时间为4-6h。
7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述玻璃基板组分按氧化物质量百分比计，Li2O：4-7％；以及，Na2O：4-8％。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述玻璃基板组分按氧化物质量百分比计，
SiO2：55-67％；
Al2O3：16-25％；
B2O3：2-6％；
ZrO2：0.5-2％；
BeO：0.5-2％；
K2O：0-3％；
MgO：0-3％；
CaO：0-1％；
SrO：0-2％；以及，
ZnO：0-2％。
9.一种低反射率玻璃，其特征在于，包括：
玻璃基底；
高钠强化层，设置于所述玻璃基底的表面上；所述高钠强化层是将所述玻璃基底中部分锂离子与外界钠离子进行了交换的玻璃；以及，
高钾强化层，设置于所述高钠强化层的表面上；所述高钾强化层是将所述高钠强化层中部分钠离子与外界钾离子进行了交换的玻璃。
10.一种屏幕盖板，其特征在于，包含权利要求9中所述的低反射率玻璃。
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