CN117558608A - 晶圆处理设备 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种晶圆处理设备，包括：腔体，所述腔体包括喷淋板、基座和销，所述基座用于放置晶圆，所述销设置在所述基座上，用于带动所述晶圆在所述腔体内的升降，所述喷淋板设置在所述腔体的上部，用于向所述腔体内通入工艺气体；运动控制装置，所述运动控制装置与所述基座及所述销连接，用于控制所述基座及所述销在所述腔体内进行竖直方向的运动；传感装置，所述传感装置与所述运动控制装置连接，用于防止所述销的上端部与所述喷淋板相撞。本发明设置了传感装置，用于防止销的上端部或放置在销上的晶圆与喷淋板相互碰撞。

Description

晶圆处理设备

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，特别涉及一种晶圆处理设备及传感装置。

背景技术

在半导体工艺中，晶圆通过晶圆传输口被传输到工艺腔室内进行加工，在腔室内部设置用于有托举晶圆的销和用于放置晶圆的基座，在对晶圆进行加工的过程中，还在腔体下方设置了运动控制装置，用于控制基座以及销上下移动以将晶圆转移至不同位置从而完成对晶圆的加工。

在现有技术中，运动控制装置在对基座及销的运动的控制的过程中，仍存在以下的问题：

运动控制装置设置在腔室外，在带动腔室内的所述销及所述基座在腔体内进行竖直方向的运动时，销的上端部或放置在销上的晶圆和工艺腔室顶部的喷淋板会出现相互碰撞的问题，导致销及喷淋板出现故障或者影响晶圆加工质量。

发明内容

本发明的目的是提供一种晶圆处理设备，所述晶圆处理设备设置了传感装置，能够防止所述销的上端部与所述腔体上部的喷淋板相撞。

为了实现以上目的，本发明通过以下技术方案实现：

提供了一种晶圆处理设备，包括：

腔体，所述腔体包括喷淋板、基座和销，所述基座用于放置晶圆，所述销设置在所述基座上，用于带动所述晶圆在所述腔体内的升降，所述喷淋板设置在所述腔体的上部，用于向所述腔体内通入工艺气体；

运动控制装置，所述运动控制装置与所述基座及所述销连接，用于控制所述基座及所述销在所述腔体内进行竖直方向的运动；

传感装置，所述传感装置与所述运动控制装置连接，用于防止所述销的上端部与所述喷淋板相撞。

进一步，所述运动控制装置包括主运动控制装置和副运动控制装置，所述主运动控制装置与所述基座连接，用于控制所述基座在所述腔体内进行竖直方向的运动；所述副运动控制装置分别与所述主运动控制装置和所述销连接，用于控制所述销在所述腔体内进行竖直方向的运动。

进一步，所述传感装置包括传感器组件和传感器支架，所述传感器组件设置在所述传感器支架上，所述传感器支架与所述副运动控制装置连接，用于保持所述传感装置与所述销的相对位置固定。

进一步，所述传感器支架包括横向支架及竖向支架，所述横向支架与所述副运动控制装置连接，所述竖向支架与所述横向支架连接，所述传感器组件设置在所述竖向支架上。

进一步，所述竖向支架包括调节组件，所述调节组件用于调节所述传感器组件与所述竖向支架的相对位置。

进一步，所述传感器组件包括感应部件和被感应部件，所述感应部件和被感应部件中的任一者设置在所述竖向支架上，另一者设置在所述腔体的外侧壁上。

进一步，所述感应部件与所述被感应部件在竖直方向上相对设置，且两者在竖直方向上的最大距离设置为不大于所述销与所述喷淋板之间在竖直方向上的最大距离。

进一步，所述传感器组件为光学传感器组件，所述被感应部件为光学发生装置，所述感应部件为光学接收装置，在所述副运动控制装置带动所述传感装置运动过程中，当所述感应部件接收到所述被感应部件发生的光，所述传感装置向所述运动控制装置反馈制动信号，则所述运动控制装置停止运动。

进一步，所述传感器组件为机械传感器，所述被感应部件包括传感器按钮，所述感应部件为制动片，在所述副运动控制装置带动所述传感装置运动过程中，当所述制动片和所述传感器按钮发生碰撞，所述传感装置向所述运动控制装置反馈制动信号，则所述运动控制装置停止运动。

进一步，所述传感器支架包括传感器底座，所述传感器组件设置在所述传感器底座上。

进一步，所述传感器底座为可调节底座，所述传感器底座可以调节所述传感器组件与所述腔体底壁之间的距离。

进一步，所述传感器组件包括在竖直方向上相对设置的感应部件和被感应部件，所述感应部件和被感应部件中的任一者设置在所述腔体底壁上，另一者设置在所述传感器底座上。

进一步，所述传感器组件为光学传感器，所述被感应部件为光学发生装置，所述感应部件为光学接收装置，在所述副运动控制装置带动所述传感装置运动过程中，当根据所述传感装置的运动距离等于所述销与所述喷淋板之间在竖直方向上的最大距离，所述传感装置向所述运动控制装置反馈制动信号，则所述运动控制装置停止运动。

进一步，所述传感器组件为机械传感器，且所述传感器组件与所述腔体底壁在竖直方向上的最大距离被设置为不大于所述销与所述喷淋板之间在竖直方向上的最大距离，所述被感应部件包括传感器按钮，所述感应部件为制动片，在所述副运动控制装置带动所述传感装置运动过程中，当所述制动片和所述传感器按钮发生碰撞，所述传感装置向所述运动控制装置反馈制动信号，则所述运动控制装置停止运动。

进一步，所述主运动控制装置包括依次连接的主驱动部件、主运动滑块和主连接杆，所述主驱动部件与所述腔体的外壁固定连接，用于控制所述基座进行竖直方向的运动，所述主运动滑块与所述主驱动部件连接，被设置为相对所述主驱动部件进行竖直方向上的运动，所述主连接杆分别与所述基座及所述主运动滑块连接，所述主连接杆与所述主运动滑块的相对位置固定，用于带动所述基座在所述腔体内进行竖直方向的运动。

进一步，所述副运动控制装置与所述主连接杆固定连接，所述副运动控制装置包括依次连接的副驱动部件、副运动滑块和副连接杆，所述副驱动部件与所述主连接杆固定连接，用于控制所述销进行竖直方向的运动，所述副运动滑块与所述副驱动部件连接，被设置为相对所述副驱动部件进行竖直方向上的运动，所述副连接杆分别与所述销及所述副运动滑块连接，所述副连接杆与所述副运动滑块的相对位置固定，用于带动所述销在所述腔体内进行竖直方向的运动。

进一步，所述传感器支架与所述副连接杆连接。

与现有技术相比，本发明具有如下优点：

本发明在运动控制装置上设置了传感装置，所述传感装置可以间接测量所述销的上端部与所述喷淋板在竖直方向上的相对距离，能够在所述销与所述喷淋板发生相互碰撞之前对所述运动控制装置进行反馈制动信号，则所述运动控制装置停止运动，从而防止所述销的上端部或放置在销上的晶圆与喷淋板相互碰撞，提高了晶圆处理质量，并降低销或喷淋板发生故障的频率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明的技术方案，下面将对描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一个实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图：

图1为本发明一实施例提供的晶圆处理设备的结构示意图；

图2为本发明一实施例提供的竖向支架及调节组件的结构示意图；

图3为本发明另一实施例提供的晶圆处理设备的结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施方式对本发明提出的方案作进一步详细说明。根据下面说明，本发明的优点和特征将更清楚。需要说明的是，附图采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施方式的目的。为了使本发明的目的、特征和优点能够更加明显易懂，请参阅附图。须知，本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本发明实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本发明所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本发明所揭示的技术内容能涵盖的范围内。

图1和图3分别示出了本发明一实施例和另一实施例提供的晶圆处理设备的结构示意图。如图1和图3所示，本发明提供了一种晶圆处理设备。可选的，所述晶圆处理设备为外延设备、快速热处理设备中的至少一种。本发明以外延设备为例，所述外延设备用于在晶圆表面沉积外延层，所述外延层可以是硅外延层、硅锗外延层或掺杂的硅锗外延层。

如图1和图3所示，本发明提供的晶圆处理设备主要包括腔体100、运动控制装置及传感装置200。其中，所述腔体由腔体壁101密封连接组成，所述腔体100包括喷淋板102、基座103和销120，所述基座103用于放置晶圆，所述销120设置在所述基座上，用于带动所述晶圆在所述腔体100内的升降，所述喷淋板102设置在所述腔体100的上部，用于向所述腔体100内通入工艺气体。所述运动控制装置与所述基座103及所述销120连接，用于控制所述基座103及所述销120在所述腔体100内进行竖直方向的运动。所述传感装置200与所述运动控制装置连接，用于防止所述销120的上端部与所述喷淋板102相撞。所述传感装置200可以防止所述销120的上端部或放置在销120上的晶圆与喷淋板102相互碰撞，提高了晶圆处理质量，并降低销120或喷淋板102发生故障的频率

可选的，所述运动控制装置包括主运动控制装置和副运动控制装置，所述主运动控制装置与所述基座103连接，用于控制所述基座103在所述腔体100内进行竖直方向的运动；所述副运动控制装置分别与所述主运动控制装置和所述销120连接，用于控制所述销120在所述腔体内进行竖直方向的运动。进一步可选的，所述主运动控制装置包括依次连接的主驱动部件104、主运动滑块113和主连接杆，所述主驱动部件104与所述腔体的外壁101固定连接，用于控制所述基座进行竖直方向的运动，所述主运动滑块113与所述主驱动部件104连接，被设置为相对所述主驱动部件104进行竖直方向上的运动，所述主连接杆分别与所述基座103及所述主运动滑块113连接，所述主连接杆与所述主运动滑块113的相对位置固定，用于带动所述基座103在所述腔体100内进行竖直方向的运动；更进一步的，所述副运动控制装置与所述主连接杆固定连接，所述副运动控制装置包括依次连接的副驱动部件110、副运动滑块114和副连接杆，所述副驱动部件110与所述主连接杆固定连接，用于控制所述销进行竖直方向的运动，所述副运动滑块114与所述副驱动部件110连接，被设置为相对所述副驱动部件110进行竖直方向上的运动，所述副连接杆分别与所述销120及所述副运动滑块114连接，所述副连接杆与所述副运动滑块114的相对位置固定，用于带动所述销120在所述腔体100内进行竖直方向的运动。优选的，所述运动控制装置还包括连接块109，所述连接块109分别于所述主连接杆及所述副驱动部件110连接，用于将所述副驱动部件110固定安装在所述主连接杆上。

具体的，所述主运动控制装置还包括主驱动器115，所述主驱动器115设置在所述主驱动部件104的端部，用于驱动所述主运动滑块113在所述主驱动部件104上进行竖直方向的运动，且所述主连接杆包括第一杆108和第二杆107，所述第一杆108与所述第二杆107连接，其中，所述第一杆108与所述主运动滑块113连接，用于确定所述主连接杆的位置，所述第二杆107与所述基座103连接，用于带动所述基座103在所述腔体100内进行竖直方向的运动；类似的，所述副运动控制装置还包括副驱动器116，所述副驱动器116设置在所述副驱动部件110的端部，用于驱动所述副运动滑块114在所述副驱动部件110上进行竖直方向的运动，且所述副连接杆包括第三杆112和第四杆111，所述第三杆112与所述第四杆111连接，其中，所述第三杆112与所述副运动滑块114连接，用于确定所述副连接杆的位置，所述第四杆111与所述销120连接，用于带动所述销120在所述腔体100内进行竖直方向的运动；

可选的，所述传感装置200包括传感器组件和传感器支架，所述传感器组件设置在所述传感器支架上，所述传感器支架与所述副运动控制装置连接，用于保持所述传感装置与所述销的相对位置固定。优选的，所述传感器支架与所述副连接杆连接。

本发明提供的传感装置200有多种设置方式，本发明中根据图1和图3具体介绍了其中两种传感装置200的结构设置和使用方法。

如图1所示，所述传感器支架包括横向支架204及竖向支架203，所述横向支架204与所述副运动控制装置连接，用于保持所述传感装置200与所述副运动装置的相对位置固定，所述竖向支架203与所述横向支架204连接，所述传感器组件设置在所述竖向支架203上。同时，可选的，所述传感器组件包括感应部件201和被感应部件201，所述感应部件201和被感应部件202中的任一者设置在所述竖向支架203上，另一者设置在所述腔体的外侧壁101上。进一步的，所述感应部件201与所述被感应部件202在竖直方向上相对设置，且两者在竖直方向上的最大距离设置为不大于所述销120与所述喷淋板102之间在竖直方向上的最大距离。具体的，如图2所示，所述竖向支架203包括调节组件301，所述调节组件301可以用于调节所述被感应部件202与所述竖向支架203的相对位置。可选的，所述腔体相对于所述竖向支架203的外侧壁101也可以设置另一调节组件，用于调节所述感应部件201与所述外侧壁101的相对位置，调节完成后，需要保证所述感应部件201与所述被感应部件202在竖直方向上的最大距离不大于所述销120与所述喷淋板102之间在竖直方向上的最大距离。

进一步可选的，所述传感器组件可以为光学传感器组件，具体的，所述被感应部件202为光学发生装置，所述感应部件201为光学接收装置，且所述被感应部件202与所述感应部件201都水平设置，使所述光学接收装置201能够接收到所述光学发生装置202发出水平的光束。在所述副运动控制装置带动所述传感装置200运动过程中，当所述感应部件201接收到所述被感应部件202发生的光，所述传感装置200向所述运动控制装置反馈制动信号，则所述运动控制装置停止运动。使用方式为：所述传感装置200与所述主驱动器115及所述副驱动器116连接，设置所述感应部件201与所述被感应部件202在竖直方向上的最大距离不大于所述销120与所述喷淋板102之间在竖直方向上的最大距离，当所述感应部件201接收到所述被感应部件202发生的光，所述感应部件201与所述被感应部件202在同一水平线上，此时所述传感装置200向所述主驱动器115及所述副驱动器116反馈制动信号，则所述运动控制装置控制所述基座103及所述销120停止运动，从而防止所述销120的上端部与所述腔体上部的喷淋板102相撞。优选的，所述传感器组件可以为激光传感器。

应当可以理解的是，本发明不限于此，所述光学传感器组件的设置存不限于水平方向，且不影响本发明设置的传感装置200的效果。本发明中，下文还以图3为例，介绍了竖直设置的光学传感器组件的使用方式。

进一步可选的，所述传感器组件也可以为机械传感器，具体的，所述被感应部件202包括传感器按钮，所述感应部件201为制动片，且所述传感器按钮设置在被感应部件202的面对所述制动片201的一侧，在所述副运动控制装置带动所述传感装置200运动过程中，当所述制动片201和所述传感器按钮发生碰撞，所述传感装置200向所述运动控制装置反馈制动信号，则所述运动控制装置停止运动。使用方式为：所述传感装置200与所述主驱动器115及所述副驱动器116连接，设置所述感应部件201与所述被感应部件202在竖直方向上的最大距离不大于所述销120与所述喷淋板102之间在竖直方向上的最大距离，当所述制动片201和所述传感器按钮发生碰撞，所述感应部件201与所述被感应部件202即将到达同一水平线上，此时所述传感装置200向所述主驱动器115及所述副驱动器116反馈制动信号，则所述运动控制装置控制所述基座103及所述销120停止运动，从而防止所述销120的上端部与所述腔体上部的喷淋板102相撞。

图1中示出了所述感应部件201设置在外侧壁201上，所述被感应部件202设置在所述竖向支架203上，应当可以理解的是，本发明不限制于此，所述感应部件201与所述被感应部件202的位置可以交换，不影响本发明设置的传感装置200的效果。

图3示出了本发明另一实施例提供的晶圆处理设备的结构示意图，如图3所示，所述传感器支架204包括传感器底座210，所述传感器组件设置在所述传感器底座210上。所述传感器组件可以测量所述第三杆112与所述腔体的底壁在竖直方向上的相对距离，并计算所述第三杆112在竖直方向上的运动距离，当所述运动距离的数值接近但不大于所述销120与所述喷淋板102之间在竖直方向上的最大距离的数值时，即表明所述销120的上端部与所述腔体上部的喷淋板102即将相撞，此时所述传感装置200向所述主驱动器115及所述副驱动器116反馈制动信号，则所述运动控制装置控制所述基座103及所述销120停止运动，从而防止所述销120的上端部与所述腔体上部的喷淋板102相撞。

可选的，所述传感器底座210为可调节底座，所述传感器底座210可以调节所述传感器组件与所述腔体底壁之间的距离。可选的，所述传感器组件包括在竖直方向上相对设置的感应部件201和被感应部件202，所述感应部件201和被感应部件202中的任一者设置在所述腔体底壁上，另一者设置在所述传感器底座210。具体地，通过所述传感器底座210调节所述感应部件201与所述被感应部件202的相对位置，调节完成后，需要保证所述感应部件201与所述被感应部件202在竖直方向上的最大距离略小于所述销120与所述喷淋板102之间在竖直方向上的最大距离，两者之差可以根据需要确定。

调节完成后，进一步可选的，所述传感器组件可以为光学传感器，具体的，所述被感应部件202为光学发生装置，所述感应部件201为光学接收装置，且所述被感应部件202与所述感应部件201都竖直设置，使所述光学接收装置201能够接收到所述光学发生装置202发出竖直的光束。在所述副运动控制装置带动所述传感装置200运动过程中，当所述被感应部件202的运动距离等于所述销120的上端部与所述喷淋板102之间在竖直方向上的最大距离，所述传感装置200向所述运动控制装置反馈制动信号，则所述运动控制装置停止运动。使用方式为：所述传感装置200与所述主驱动器115及所述副驱动器116连接，当所述被感应部件202的运动距离等于所述销120的上端部与所述喷淋板102之间在竖直方向上的最大距离，即表明所述销120的上端部与所述腔体上部的喷淋板102即将相撞，此时所述传感装置200向所述主驱动器115及所述副驱动器116反馈制动信号，则所述运动控制装置控制所述基座103及所述销120停止运动，从而防止所述销120的上端部与所述腔体上部的喷淋板102相撞。优选的，所述传感器组件可以为激光传感器。

调节完成后，另一可选的，所述传感器组件可以为机械传感器，具体的，所述被感应部件202包括传感器按钮，所述感应部件201为制动片，在所述副运动控制装置带动所述传感装置200运动过程中，当所述制动片201和所述传感器按钮发生碰撞，所述传感装置200向所述运动控制装置反馈制动信号，则所述运动控制装置停止运动。使用方式为：所述传感装置200与所述主驱动器115及所述副驱动器116连接，当所述制动片201和所述传感器按钮发生碰撞，所述感应部件201与所述被感应部件202即将到达同一水平线上，此时所述传感装置200向所述主驱动器115及所述副驱动器116反馈制动信号，则所述运动控制装置控制所述基座103及所述销120停止运动，从而防止所述销120的上端部与所述腔体上部的喷淋板102相撞。

图3中示出了所述感应部件201设置在腔体底壁上，所述被感应部件202设置在所述传感器支架204上，应当可以理解的是，本发明不限制于此，所述感应部件201与所述被感应部件202的位置可以交换，不影响本发明设置的传感装置200的效果。

本发明在运动控制装置上设置了传感装置200，所述传感装置200可以间接测量所述销120的上端部与所述喷淋板102在竖直方向上的相对距离，能够在所述销120与所述喷淋板102发生相互碰撞之前对所述运动控制装置进行反馈制动信号，则所述运动控制装置控制所述基座103及所述销120停止运动，从而防止所述销120的上端部或放置在销120上的晶圆与喷淋板102相互碰撞，提高了晶圆处理质量，并降低销或喷淋板发生故障的频率。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。另外，本文中术语“连接”表示A和B直接连接，或表示A和B间接连接，间接连接如A和B通过C，甚至通过C和D等更多的部件连接，A和B连接可以是一体的，也可以分体的，可以是可拆卸的，也可以是固定的。本文中术语“可选的”表示该技术特征能和文中任意特征进行组合或不组合。

尽管本发明的内容已经通过上述优选实施例作了详细介绍，但应当认识到上述的描述不应被认为是对本发明的限制。在本领域技术人员阅读了上述内容后，对于本发明的多种修改和替代都将是显而易见的。因此，本发明的保护范围应由所附的权利要求来限定。

Claims (17)

1.一种晶圆处理设备，其特征在于，包括：

腔体，所述腔体包括喷淋板、基座和销，所述基座用于放置晶圆，所述销设置在所述基座上，用于带动所述晶圆在所述腔体内的升降，所述喷淋板设置在所述腔体的上部，用于向所述腔体内通入工艺气体；

运动控制装置，所述运动控制装置与所述基座及所述销连接，用于控制所述基座及所述销在所述腔体内进行竖直方向的运动；

传感装置，所述传感装置与所述运动控制装置连接，用于防止所述销的上端部与所述喷淋板相撞。

2.如权利要求1所述的晶圆处理设备，其特征在于，所述运动控制装置包括主运动控制装置和副运动控制装置，所述主运动控制装置与所述基座连接，用于控制所述基座在所述腔体内进行竖直方向的运动；所述副运动控制装置分别与所述主运动控制装置和所述销连接，用于控制所述销在所述腔体内进行竖直方向的运动。

3.如权利要求2所述的晶圆处理设备，其特征在于，所述传感装置包括传感器组件和传感器支架，所述传感器组件设置在所述传感器支架上，所述传感器支架与所述副运动控制装置连接，用于保持所述传感装置与所述销的相对位置固定。

4.如权利要求3所述的晶圆处理设备，其特征在于，所述传感器支架包括横向支架及竖向支架，所述横向支架与所述副运动控制装置连接，所述竖向支架与所述横向支架连接，所述传感器组件设置在所述竖向支架上。

5.如权利要求4所述的晶圆处理设备，其特征在于，所述竖向支架包括调节组件，所述调节组件用于调节所述传感器组件与所述竖向支架的相对位置。

6.如权利要求5所述的晶圆处理设备，其特征在于，所述传感器组件包括感应部件和被感应部件，所述感应部件和被感应部件中的任一者设置在所述竖向支架上，另一者设置在所述腔体的外侧壁上。

7.如权利要求6所述的晶圆处理设备，其特征在于，所述感应部件与所述被感应部件在竖直方向上相对设置，且两者在竖直方向上的最大距离设置为不大于所述销与所述喷淋板之间在竖直方向上的最大距离。

8.如权利要求7所述的晶圆处理设备，其特征在于，所述传感器组件为光学传感器组件，所述被感应部件为光学发生装置，所述感应部件为光学接收装置，在所述副运动控制装置带动所述传感装置运动过程中，当所述感应部件接收到所述被感应部件发生的光，所述传感装置向所述运动控制装置反馈制动信号，则所述运动控制装置停止运动。

9.如权利要求7所述的晶圆处理设备，其特征在于，所述传感器组件为机械传感器，所述被感应部件包括传感器按钮，所述感应部件为制动片，在所述副运动控制装置带动所述传感装置运动过程中，当所述制动片和所述传感器按钮发生碰撞，所述传感装置向所述运动控制装置反馈制动信号，则所述运动控制装置停止运动。

10.如权利要求3所述的晶圆处理设备，其特征在于，所述传感器支架包括传感器底座，所述传感器组件设置在所述传感器底座上。

11.如权利要求10所述的晶圆处理设备，其特征在于，所述传感器底座为可调节底座，所述传感器底座可以调节所述传感器组件与所述腔体底壁之间的距离。

12.如权利要求11所述的晶圆处理设备，其特征在于，所述传感器组件包括在竖直方向上相对设置的感应部件和被感应部件，所述感应部件和被感应部件中的任一者设置在所述腔体底壁上，另一者设置在所述传感器底座上。

13.如权利要求12所述的晶圆处理设备，其特征在于，所述传感器组件为光学传感器，所述被感应部件为光学发生装置，所述感应部件为光学接收装置，在所述副运动控制装置带动所述传感装置运动过程中，当根据所述传感装置的运动距离等于所述销与所述喷淋板之间在竖直方向上的最大距离，所述传感装置向所述运动控制装置反馈制动信号，则所述运动控制装置停止运动。

14.如权利要求12所述的晶圆处理设备，其特征在于，所述传感器组件为机械传感器，且所述传感器组件与所述腔体底壁在竖直方向上的最大距离被设置为不大于所述销与所述喷淋板之间在竖直方向上的最大距离，所述被感应部件包括传感器按钮，所述感应部件为制动片，在所述副运动控制装置带动所述传感装置运动过程中，当所述制动片和所述传感器按钮发生碰撞，所述传感装置向所述运动控制装置反馈制动信号，则所述运动控制装置停止运动。

15.如权利要求3所述的晶圆处理设备，其特征在于，所述主运动控制装置包括依次连接的主驱动部件、主运动滑块和主连接杆，所述主驱动部件与所述腔体的外壁固定连接，用于控制所述基座进行竖直方向的运动，所述主运动滑块与所述主驱动部件连接，被设置为相对所述主驱动部件进行竖直方向上的运动，所述主连接杆分别与所述基座及所述主运动滑块连接，所述主连接杆与所述主运动滑块的相对位置固定，用于带动所述基座在所述腔体内进行竖直方向的运动。

16.如权利要求15所述的晶圆处理设备，其特征在于，所述副运动控制装置与所述主连接杆固定连接，所述副运动控制装置包括依次连接的副驱动部件、副运动滑块和副连接杆，所述副驱动部件与所述主连接杆固定连接，用于控制所述销进行竖直方向的运动，所述副运动滑块与所述副驱动部件连接，被设置为相对所述副驱动部件进行竖直方向上的运动，所述副连接杆分别与所述销及所述副运动滑块连接，所述副连接杆与所述副运动滑块的相对位置固定，用于带动所述销在所述腔体内进行竖直方向的运动。

17.如权利要求16所述的晶圆处理设备，其特征在于，所述传感器支架与所述副连接杆连接。