CN117518750A - 一种光刻胶剥离液及其制备方法和应用 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种光刻胶剥离液及其制备方法和应用，涉及光刻胶技术领域。通过混合使用烷醇胺类和脂环胺类化合物，配合质子极性溶剂、非质子极性溶剂、金属保护剂和表面活性剂，并对各组分用量进行调整，使光刻胶剥离液能够有效剥离固化的光刻胶，在基板上无光刻胶残留，且能够减少对下层基板的腐蚀。
Description
技术领域
本发明涉及光刻胶技术领域，具体而言，涉及一种光刻胶剥离液及其制备方法和应用。
背景技术
在目前的TFT(Thin Film Transistor)薄膜晶体管及IC(integrated circuit)集成电路制造工艺中，通常先在玻璃基板或硅晶圆上旋涂一层光致抗蚀剂，利用所需掩模版进行曝光、显影。最后根据光致抗蚀剂的特性(正性光刻胶或负性光刻胶)，使用相对应光刻胶剥离液去除曝光或者未曝光的光致抗蚀剂，在需要的部分形成图案。利用光刻胶受紫外光曝光后在显影液中的溶解度会发生明显变化的特点，通过对部分区域进行紫外曝光使光刻胶形成特定形貌的图型，经过刻蚀工艺后再将光刻胶剥离，使特定材料形成特定的器件形貌，利用不同形貌的材料叠加即可制成特定的半导体器件。
目前现有的光刻胶剥离液虽然可以有效剥离基板上固化的光刻胶，但是在水洗后依然存在较多的光刻胶残留，进而会影响器件性能。
鉴于此，特提出本发明。
发明内容
本发明的目的在于提供一种光刻胶剥离液及其制备方法和应用，旨在有效将光刻胶剥离干净，减少光刻胶残留。
本发明是这样实现的：
第一方面，本发明提供一种光刻胶剥离液，按质量百分比计，包括：质子极性溶剂40.00％-80.00％、非质子极性溶剂10.00％-20.00％、烷醇胺类化合物0.10％-1.00％、脂环胺类化合物1.00％-5.00％、金属保护剂0.01％-2.00％和表面活性剂0.01％-2.00％。发明人通过采用烷醇胺类和脂环胺类化合物混合使用，配合质子极性溶剂、非质子极性溶剂、金属保护剂和表面活性剂并对各组分用量进行调整，能够有效解决面板制程中的风刀吹干剥离液后再水洗的光刻胶残留问题。
在可选的实施方式中，烷醇胺类化合物的质量占比为0.10％-0.50％，脂环胺类化合物的质量占比为1.50％-3.50％。通过对烷醇胺类化合物和脂环胺类化合物的含量进行优化，以进一步减少光刻胶残留。
在可选的实施方式中，按质量百分比计，包括：质子极性溶剂60.00％-79.00％、非质子极性溶剂15.00％-20.00％、烷醇胺类化合物0.10％-0.50％、脂环胺类化合物1.50％-3.50％、金属保护剂0.05％-1.00％和表面活性剂0.20％-0.50％。发明人对各组分的用量进行了优化，以进一步改善剥离效果，减少基板上的光刻胶残留。
在可选的实施方式中，烷醇胺类化合物同时具有羟基和胺基；和/或，脂环胺类为链状胺类或环状胺类。烷醇胺类化合物和脂环胺类化合物含有以上功能基团为宜，能够在保证剥离效果的前提下，减少基板上的光刻胶残留。
在可选的实施方式中，金属保护剂为含氮杂原子的苯环类化合物；
和/或，表面活性剂选自磺酸盐、醋酸盐和聚醚类化合物中的至少一种；
和/或，质子极性溶剂为醇醚类化合物；
和/或，非质子极性溶剂为酰胺类化合物。金属保护剂、表面活性剂、质子极性溶剂和非质子极性溶剂含有以上官能团为宜，以提升剥离效果。
在可选的实施方式中，烷醇胺类化合物选自2-氨基乙醇、2-(乙基氨基)乙醇、2-(甲基氨基)乙醇、N-甲基二乙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺、N,N-二乙基氨基乙醇、2-(2-氨基乙基氨基)-1-乙醇、1-氨基-2-丙醇和2-氨基-1-丙醇中的至少一种；优选地，烷醇胺类选自2-氨基乙醇、2-(乙基氨基)乙醇、2-(甲基氨基)乙醇和N-甲基二乙醇胺中的至少一种。烷醇胺类是主要起到剥离作用的组分，通过对烷醇胺类的种类进行优化，以更充分地剥离光刻胶，同时避免光刻胶的残留。
脂环胺类化合物选自胺类化合物和含氮杂环化合物中的至少一种；优选地，脂环胺类化合物选自三亚乙基二胺、六亚甲基四胺、环乙烯亚胺、吗啉、哌嗪和环己胺中的至少一种；更优选地，脂环胺类化合物选自三亚乙基二胺、六亚甲基四胺和环乙烯亚胺中的至少一种。脂环胺类化合物也是主要起到剥离作用的组分，通过对脂环胺类化合物的种类进行优化，以进一步改善对光刻胶的剥离效果。
在可选的实施方式中，金属保护剂选自二巯基苯并咪唑、二巯基苯并噻唑、邻苯二酚、对苯二酚、苯并三氮唑、5-甲基苯并三氮唑和苯并咪唑中的至少一种。以上几种金属保护剂均能够与基板底部金属配线发生物理或化学吸附，从而保护金属配线不被剥离液腐蚀。
在可选的实施方式中，表面活性剂选自十二烷基苯磺酸钠、醋酸氯乙啶、聚乙二醇醚、聚氧乙烯乙基醚和壬基酚聚氧乙烯醚中的至少一种。以上几种表面活性剂均可以很好地润湿基板。
在可选的实施方式中，质子极性溶剂选自二乙二醇甲醚、二乙二醇乙醚、二乙二醇丁醚、乙二醇异丙醚和乙二醇单丁醚中的至少一种。以上几种质子极性溶剂均能够有效将剥离下来的光刻胶溶解。
在可选的实施方式中，非质子极性溶剂选自甲酰胺、N-甲基甲酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、乙酰胺、N-甲基乙酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-(2-羟基乙基)乙酰胺、3-甲氧基-N,N-二甲基丙酰胺、3-(2-乙基己基氧基)-N,N-二甲基丙酰胺和3-丁氧基-N,N-二甲基丙酰胺中的至少一种。以上几种非质子极性溶剂均能够有效增大光刻胶在剥离液中的溶解度，进一步避免光刻胶的残留。
第二方面，本发明提供一种前述实施方式中任一项光刻胶剥离液的制备方法，包括：按配比将质子极性溶剂、非质子极性溶剂、烷醇胺类、脂环胺类化合物、金属保护剂和表面活性剂混合；
优选地，将各原料混合均匀之后进行过滤。该制备方法简便易行，适合于工业化应用。
第三方面，本发明提供前述实施方式中任一项光刻胶剥离液在剥离固化后的光刻胶中的应用；
应用包括如下步骤：将光刻胶剥离液与基板上固化后的光刻胶接触，剥离基板上固化后的光刻胶，之后对基板进行水洗；
其中，基板上具有深度为80nm-200nm的孔隙；控制剥离温度为55℃-65℃，剥离时间为90s-120s。利用本发明提供的光刻胶剥离液可以有效剥离基板上固化的光刻胶，无光刻胶残留，特别适用于具有深孔的基板上光刻胶的剥离工作。
本发明具有以下有益效果：通过采用烷醇胺类和脂环胺类化合物混合使用，配合质子极性溶剂、非质子极性溶剂、金属保护剂和表面活性剂并对各组分用量进行调整，使光刻胶剥离液能够有效剥离固化的光刻胶，在基板上无光刻胶残留，能够减少对下层基板的腐蚀。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本发明的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1为实施例和对比例腐蚀测试的实物图；(a)表示实施例1，(b)表示实施例2，(c)表示实施例3，(d)表示实施例4，(e)表示实施例5，(f)表示对比例1，(g)表示对比例2；
图2为实施例5和对比例2的剥离效果图，(a)表示对比例2，(b)表示实施例5。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。实施例中未注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市售购买获得的常规产品。
对于大部分的有机系剥离液，当剥离液中的有机胺含量高于某特定值时，虽能将光刻胶去除，但有较多的光刻胶残留，进而影响器件性能。
本发明实施例提供一种光刻胶剥离液，按质量百分比计，包括：质子极性溶剂40.00％-80.00％、非质子极性溶剂10.00％-20.00％、烷醇胺类化合物0.10％-1.00％、脂环胺类化合物1.00％-5.00％、金属保护剂0.01％-2.00％和表面活性剂0.01％-2.00％。
发明人通过采用烷醇胺类和脂环胺类化合物混合使用，配合质子极性溶剂、非质子极性溶剂、金属保护剂和表面活性剂并对各组分用量进行调整，使光刻胶剥离液能够有效剥离固化的光刻胶，达到在基板上无光刻胶残留的效果，能够减少对下层基板的腐蚀。本发明实施例提供的光刻胶剥离液能够有效解决面板制程中的风刀吹干剥离液后再水洗的光刻胶残留问题，从材料方面解决了面板工艺问题，提高了面板生产工艺的效率及降低了工艺生产成本。
具体地，光刻胶剥离液中，质子极性溶剂的质量分数可以为40.00％、50.00％、60.00％、70.00％、79.00％、80.00％等；非质子极性溶剂的质量分数可以为10.00％、13.00％、15.00％、18.00％、20.00％等；烷醇胺类的质量分数可以为0.10％、0.30％、0.50％、0.80％、1.00％等；脂环胺类化合物的质量分数可以为1.00％、1.50％、2.00％、2.50％、3.00％、3.50％、4.00％、4.50％、5.00％等；金属保护剂的质量分数可以为0.01％、0.05％、0.10％、0.50％、1.00％、1.50％、2.00％等；表面活性剂的质量分数可以为0.01％、0.05％、0.10％、0.20％、0.30％、0.40％、0.50％、1.00％、1.50％、2.00％等。
发明人对各组分的用量进行了优化，以进一步改善剥离效果，减少基板上的光刻胶残留：在优选的实施例中，按质量百分比计，包括：质子极性溶剂60.00％-79.00％、非质子极性溶剂15.00％-20.00％、烷醇胺类化合物0.10％-0.50％、脂环胺类化合物1.50％-3.50％、金属保护剂0.05％-1.00％和表面活性剂0.20％-0.50％。
质子极性溶剂是光刻胶剥离液的主要成分，按质量百分比计，质子极性溶剂的含量为40wt％-80wt％，质子极性溶剂的含量控制在上述范围内为宜，以更好地溶解光刻胶。
在优选实施例中，质子极性溶剂的含量为60wt％-79wt％。当含量小于60wt％时，已经完全剥离的光刻胶不能够被完全溶解，有部分残留在基板上；当质量浓度在79wt％以上时，虽然能够将已剥离的光刻胶完全溶解，但此时烷醇胺类与脂环胺类化合物物质质量浓度较低，不能完全将金属膜层表面的光致抗蚀剂剥离。此外，质子极性溶剂含量过高，也会增加产品的生产、使用成本。
进一步地，质子极性溶剂为醇醚类化合物，常见的醇醚类化合物均适合于作为本发明实施例提供配方体系中的质子极性溶剂。在一些实施例中，质子极性溶剂选自二乙二醇甲醚、二乙二醇乙醚、二乙二醇丁醚、乙二醇异丙醚和乙二醇单丁醚中的至少一种，质子极性溶剂可以为以上任意一种或几种。以上几种质子极性溶剂均能够有效将剥离下来的光刻胶溶解。
本发明实施例利用质子极性溶剂和10wt％-20wt％的非质子极性有机溶剂联用，能够有效增大光刻胶在剥离液中的溶解度，且光刻胶溶质在体系中分散均匀稳定。优选地，非质子极性有机溶剂的含量为15wt％-20wt％，当质量浓度在15wt％以下时，质子极性有机溶剂与非质子极性有机溶剂的组合比例导致光刻胶的溶解度较小；当质量浓度在20wt％以上时，烷醇胺与脂环胺与质子极性溶剂比例较低，不能完全将光致抗蚀剂剥离并溶解。
进一步地，非质子极性溶剂为酰胺类化合物，常见的酰胺类化合物均适合于作为本发明实施例提供配方体系中的非质子极性溶剂。在一些实施例中，非质子极性溶剂选自甲酰胺、N-甲基甲酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、乙酰胺、N-甲基乙酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-(2-羟基乙基)乙酰胺、3-甲氧基-N,N-二甲基丙酰胺、3-(2-乙基己基氧基)-N,N-二甲基丙酰胺和3-丁氧基-N,N-二甲基丙酰胺中的至少一种，可以为以上任意一种或几种。以上几种非质子极性溶剂均能够有效增大光刻胶在剥离液中的溶解度，进一步避免光刻胶的残留。优选地，非质子极性溶剂选自N-甲基甲酰胺和N,N-二甲基甲酰胺中的至少一种，综合沸点、闪点、价格、溶解性和可回收性等因素，以上两种原料综合效果更佳。
烷醇胺类和脂环胺类化合物均是光刻胶剥离液的起到剥离作用的组分，脂环胺类化合物是主要的光刻胶剥离组分，其含量为1wt％-5wt％；烷醇胺类是辅助剥离光刻胶的物质，其含量为0.1wt％-1.0wt％。脂环胺类化合物和烷醇胺类的用量控制在上述范围内为宜，以使光刻胶更好地从基板上剥离。
为进一步提升光刻胶的剥离效果，发明人对脂环胺类化合物和烷醇胺类的用量进行了优化，控制烷醇胺类的含量为0.1wt％-0.5wt％，脂环胺类化合物的含量为1.5wt％-3.5wt％，脂环胺类化合物和烷醇胺类的用量控制在上述范围内能够完全剥离光刻胶。当脂环胺类化合物和烷醇胺类的浓度总和大于4.0wt％时，虽能将光致抗蚀剂完全从玻璃基板上剥离下来，但由于大多胺类物质呈强碱性，会对金属膜层造成一定程度腐蚀；当脂环胺类化合物和烷醇胺类的浓度总和小于2.5wt％以下时，不能完全将光刻胶剥离，会造成基板上光刻胶的残留。
进一步地，烷醇胺类选自2-氨基乙醇、2-(乙基氨基)乙醇、2-(甲基氨基)乙醇、N-甲基二乙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺、N,N-二乙基氨基乙醇、2-(2-氨基乙基氨基)-1-乙醇、1-氨基-2-丙醇和2-氨基-1-丙醇中的至少一种，可以为以上任意一种或几种，以上几种烷醇胺类的有机物均能够有效剥离光刻胶。在优选的实施例中，烷醇胺类选自2-氨基乙醇、2-(乙基氨基)乙醇、2-(甲基氨基)乙醇和N-甲基二乙醇胺中的至少一种，通过对烷醇胺类的种类进行优化，以更充分地剥离光刻胶，避免光刻胶的残留。
进一步地，脂环胺类化合物选自胺类化合物和含氮杂环化合物中的至少一种，可以为以上任意一种或几种。在一些实施例中，脂环胺类化合物选自三亚乙基二胺、六亚甲基四胺、环乙烯亚胺、吗啉、哌嗪和环己胺中的至少一种，可以为以上任意一种或几种，以上几种脂环胺类化合物有机物均能够起到很好的辅助剥离的效果。在优选的实施例中，脂环胺类化合物选自三亚乙基二胺、六亚甲基四胺和环乙烯亚胺中的至少一种，通过对脂环胺类化合物的种类进行优化，以进一步改善对光刻胶的剥离效果。
金属保护剂在光刻胶剥离液中的含量较小，其质量分数为0.01wt％-2.00wt％，在剥胶的过程中，金属保护剂与基板底部金属配线发生物理或化学吸附，从而保护金属配线不被剥离液腐蚀。
在优选的实施例中，金属保护剂的质量分数为0.05wt％-1.00wt％，当金属保护剂低于0.05wt％的时候，随着时间推移，光刻胶剥离液中的金属保护剂不能充分吸附在底部金属配线上或着与金属配线形成难腐蚀的配合物，导致光刻胶剥离液对基板金属配线形成腐蚀，当金属保护剂高于1wt％的时候，保护剂的过多加入会影响光刻胶剥离液的剥离性能以及理化特性超标，无法满足客户端对理化特性的要求，具体的理化特征包括粘度、pH值、表面张力、吸附角等。
进一步地，金属保护剂选自苯并杂环化合物和多酚羟基苯中的至少一种，可以为以上任意一种或几种。在一些实施例中，金属保护剂选自二巯基苯并咪唑、二巯基苯并噻唑、邻苯二酚、对苯二酚、苯并三氮唑、5-甲基苯并三氮唑和苯并咪唑中的至少一种，可以为以上任意一种或几种，以上几种金属保护剂均能够与基板底部金属配线发生物理或化学吸附，从而保护金属配线不被剥离液腐蚀。
表面活性剂主要起到降低剥离液表面张力的作用，使本发明实施提供的光刻胶剥离液能够更好地润湿基板，表面活性剂的含量为0.01wt％-2.00wt％。为进一步提升润湿效果和剥离性能，发明人对表面活性剂的含量进行了优化，控制表面活性剂的含量为0.2wt％-0.5wt％，在此范围内剥离效果和润湿效果均更好。当表面活性剂含量低于0.2wt％时，剥离液不能更好的润湿基板；当表面活性剂含量高于0.5wt％时，使得剥离液本身具有较多的泡沫，同时降低剥离的有效成分，影响剥离效果。
在一些实施例中，表面活性剂选自磺酸盐、醋酸盐和聚醚类化合物中的至少一种，可以为以上任意一种或几种。在一些实施例中，表面活性剂选自十二烷基苯磺酸钠、醋酸氯乙啶、聚乙二醇醚、聚氧乙烯乙基醚和壬基酚聚氧乙烯醚中的至少一种，可以为以上任意一种或几种，以上几种表面活性剂均可以很好地润湿基板。
本发明实施例还提供一种光刻胶剥离液的制备方法，包括：将质子极性溶剂、非质子极性溶剂、烷醇胺类、脂环胺类化合物、金属保护剂和表面活性剂混合，以上各组分的用量参照关于光刻胶剥离液组成的介绍部分，在此不做重复赘述。
在优选的实施例中，将各原料混合均匀之后进行过滤，以去除体系中的颗粒物，防止颗粒物沉积在基板上的孔隙上。
本发明实施例中所提供的光刻胶剥离液可以有效剥离固化后的光刻胶，应用非常广泛。
具体地，在实际应用时可以包括如下步骤：将光刻胶剥离液与基板上固化后的光刻胶接触，以剥离基板上固化后的光刻胶，控制剥离温度为55℃-65℃，剥离时间为90s-120s，之后对基板进行水洗，以将剥离下来的光刻胶去除。具体地，剥离温度可以为55℃、60℃、65℃等，剥离时间可以为90s、100s、110s、120s等。
在一些实施例中，基板上具有深度为80nm-200nm的孔隙，本发明实施例所提供的光刻胶剥离液应用于具有深孔的基板时，仍然能够有效剥离光刻胶，在此类基板的光刻胶剥离方面具有非常好的应用前景。
以下结合实施例对本发明的特征和性能作进一步的详细描述。
实施例1
本实施例提供一种光刻胶剥离液，按质量百分比计，包括：质子极性溶剂76.7％、非质子极性溶剂20.0％、烷醇胺类0.1％、脂环胺类化合物2.0％、金属保护剂1.0％和表面活性剂0.2％。其中，质子极性溶剂为二乙二醇甲醚，非质子极性溶剂为N,N-二甲基甲酰胺，烷醇胺为N-甲基二乙醇胺，脂环胺为吗啉，金属保护剂为二巯基苯并咪唑，表面活性剂为壬基酚聚氧乙烯醚。
本实施例还提供一种光刻胶剥离液的制备方法，包括：按照本实施例中光刻胶剥离液的组成和配比称取原料，并混合均匀，采用0.2微米滤芯过滤。
实施例2-5和对比例1-2与实施例1的区别仅在于：烷醇胺类和脂环胺类化合物的用量，具体见表1。
表1实施例1-5和对比例1-2所提供的光刻胶剥离液的组成
需要说明的是，实施例1-4仅给出了烷醇胺和脂环胺含有改变的情况，其他组分在误差范围内变化均能达到相似的效果。
试验例1
测试实施例和对比例提供的光刻胶剥离液的剥离效果，结果如图1所示。(a)表示实施例1，(b)表示实施例2，(c)表示实施例3，(d)表示实施例4，(e)表示实施例5，(f)表示对比例1，(g)表示对比例2。
测试方法：将实施例1-5与比较例1-2于100mL烧杯做浸泡腐蚀测试，腐蚀时间为2min、30min。结束后2s内用超纯水清洗样片表面，并用氮气枪吹干表面水分。结束后使用扫描电子显微镜(SEM)，评估腐蚀情况，结果如图1所示。
可以看出，当逐渐增加烷醇胺的含量时，此时烷醇胺与脂环胺的相对比例逐渐减小，基材表面的光刻胶残留情况逐渐改善，最终达到干净状态，对比例1说明当减少脂环胺含量时，有光刻胶残留；对比例2说明当不添加烷醇胺时，此时的光刻胶残留是最严重的，说明烷醇胺与脂环胺在一定比例范围内时，光刻胶残留可以得到改善。
试验例2
测试实施例5和对比例2制备得到的光刻胶剥离液对具有深孔的基板的剥离效果，结果如图2所示。
图中(a)可以看出：对比例2的光刻胶剥离液处理后深孔内有残留；图中(b)可以看出：实施例5的光刻胶剥离液处理后深孔无有残留。
以上仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种光刻胶剥离液，其特征在于，按质量百分比计，包括：质子极性溶剂40.00％-80.00％、非质子极性溶剂10.00％-20.00％、烷醇胺类化合物0.10％-1.00％、脂环胺类化合物1.00％-5.00％、金属保护剂0.01％-2.00％和表面活性剂0.01％-2.00％。
2.根据权利要求1所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述烷醇胺类化合物的质量占比为0.10％-0.50％，所述脂环胺类化合物的质量占比为1.50％-3.50％。
3.根据权利要求2所述的光刻胶剥离液，其特征在于，按质量百分比计，包括：质子极性溶剂60.00％-79.00％、非质子极性溶剂15.00％-20.00％、烷醇胺类化合物0.10％-0.50％、脂环胺类化合物1.50％-3.50％、金属保护剂0.05％-1.00％和表面活性剂0.20％-0.50％。
4.根据权利要求1所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述烷醇胺类化合物同时具有羟基和胺基；
和/或，所述脂环胺类化合物为链状胺类或环状胺类。
5.根据权利要求1所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述金属保护剂为含氮杂原子的苯环类化合物；
和/或，所述表面活性剂选自磺酸盐、醋酸盐和聚醚类化合物中的至少一种；
和/或，所述质子极性溶剂为醇醚类化合物；
和/或，所述非质子极性溶剂为酰胺类化合物。
6.根据权利要求4或5中所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述烷醇胺类化合物选自2-氨基乙醇、2-(乙基氨基)乙醇、2-(甲基氨基)乙醇、N-甲基二乙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺、N,N-二乙基氨基乙醇、2-(2-氨基乙基氨基)-1-乙醇、1-氨基-2-丙醇和2-氨基-1-丙醇中的至少一种；
和/或，脂环胺类化合物选自三亚乙基二胺、六亚甲基四胺、环乙烯亚胺、吗啉、哌嗪和环己胺中的至少一种。
7.根据权利要求6所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述烷醇胺类化合物选自2-氨基乙醇、2-(乙基氨基)乙醇、2-(甲基氨基)乙醇和N-甲基二乙醇胺中的至少一种；
和/或，所述脂环胺类化合物选自三亚乙基二胺、六亚甲基四胺和环乙烯亚胺中的至少一种。
8.根据权利要求4或5中所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述金属保护剂选自二巯基苯并咪唑、二巯基苯并噻唑、邻苯二酚、对苯二酚、苯并三氮唑、5-甲基苯并三氮唑和苯并咪唑中的至少一种；
和/或，所述表面活性剂选自十二烷基苯磺酸钠、醋酸氯乙啶、聚乙二醇醚、聚氧乙烯乙基醚和壬基酚聚氧乙烯醚中的至少一种；
和/或，所述质子极性溶剂选自二乙二醇甲醚、二乙二醇乙醚、二乙二醇丁醚、乙二醇异丙醚和乙二醇单丁醚中的至少一种；
和/或，所述非质子极性溶剂选自甲酰胺、N-甲基甲酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、乙酰胺、N-甲基乙酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-(2-羟基乙基)乙酰胺、3-甲氧基-N,N-二甲基丙酰胺、3-(2-乙基己基氧基)-N,N-二甲基丙酰胺和3-丁氧基-N,N-二甲基丙酰胺中的至少一种。
9.一种权利要求1-8中任一项所述光刻胶剥离液的制备方法，其特征在于，包括：按配比将所述质子极性溶剂、所述非质子极性溶剂、所述烷醇胺类、所述脂环胺类化合物、所述金属保护剂和所述表面活性剂混合。
10.权利要求1-8中任一项所述光刻胶剥离液在剥离固化后的光刻胶中的应用；
所述应用包括如下步骤：将所述光刻胶剥离液与基板上固化后的光刻胶接触，剥离基板上固化后的光刻胶，之后对基板进行水洗；
其中，所述基板上具有深度为80nm-200nm的孔隙；控制剥离温度为55℃-65℃，剥离时间为90s-120s。
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