CN117512769A - 一种单晶炉自动获取引晶功率的方法及系统 - Google Patents
一种单晶炉自动获取引晶功率的方法及系统 Download PDFInfo
- Publication number
- CN117512769A CN117512769A CN202311383456.6A CN202311383456A CN117512769A CN 117512769 A CN117512769 A CN 117512769A CN 202311383456 A CN202311383456 A CN 202311383456A CN 117512769 A CN117512769 A CN 117512769A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- seeding
- data
- interval
- obtaining
- power
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 title claims abstract description 254
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 108
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims abstract description 69
- 230000004083 survival effect Effects 0.000 claims abstract description 50
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 44
- 238000003466 welding Methods 0.000 claims description 30
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 9
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 21
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 abstract description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000001444 catalytic combustion detection Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004781 supercooling Methods 0.000 description 1
- 238000004857 zone melting Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
- C30B15/20—Controlling or regulating
- C30B15/203—Controlling or regulating the relationship of pull rate (v) to axial thermal gradient (G)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/02—Elements
- C30B29/06—Silicon
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
本发明公开了一种单晶炉自动获取引晶功率的方法及系统,包括以下步骤:对炉台数据进行采集,得到引晶数据集和断线率数据集;获取一时间段内的引晶数据和对应时间段内的断线率数据;通过关系建立函数建立起引晶数据中不同数据与断线数据之间的对应关系,并将对应关系导入数据统计分析软件,得到引晶正态分布区间;根据引晶正态分布区间得到成活率最高的引晶数据区间;根据成活率最高的引晶数据区间得到功率值标准范围;根据功率值标准范围,得到一系列偏差修正系数,并基于一系列偏差修正系数建立引晶方程;将实时获取到的引晶数据代入引晶方程,得到推荐的引晶功率。本发明达到减少单晶硅棒生产异常以及有效地对异常进行修正的目的。
Description
技术领域
本发明涉及单晶硅棒制备技术领域,具体涉及一种单晶炉自动获取引晶功率的方法及系统。
背景技术
直拉式单晶硅生长炉是制备单晶硅材料的主要设备,又称单晶硅生长炉。设备通过石墨加热方式将盛在石英坩埚中的高纯多晶原料熔化,在持续的低压氩气保护下,硅晶体在合适的温度与生长速度下在一根细小的籽晶上逐渐结晶成一根单晶体。
单晶硅是由硅原子周期性紧密排列在一起形成的单晶体,它是微电子行业最重要的半导体材料。硅的物理、化学性质在不同晶向呈各向异性,需要根据所加工器件的要求生长出特定晶向的硅材料。工业领域最常用单晶硅晶向包括<100>、<110>及<111>三类,多数硅结型器件(如晶体管、集成电路等),大都采用<111>晶向硅片;对于表面器件如MOSFET、CCD等,大都采用<100>晶向。从熔体中生长单晶所用的直拉法和区熔法是当前单晶硅生产的主要方法,据统计,世界上单晶硅的产量中70%~80%是用直拉法生产的。
直拉法,也叫切克劳斯基(J.Czochralski)方法(简称CZ法),1917年由切克劳斯基发明。1950年,teal(蒂尔)和Little(里特尔)将CZ方法应用在生长锗及单晶硅上。在1958年,Dash发明了一种可以完全排除位错的方法,使得生长大尺寸晶体成为可能。用直拉法生长单晶硅的设备和工艺比较简单,容易实现自动控制,生产效率高,易于制备大直径单晶,容易控制单晶中杂质浓度,可以制备低电阻率单晶。具体过程主要为:
(1)把高纯度的多晶硅原料放入高纯石英坩埚,通过石墨加热器产生的高温将其熔化;
(2)对熔化的硅液稍做降温,使之产生一定的过冷度,再将一根固定在旋转的籽晶轴上的单晶硅体(称作籽晶)浸入硅熔体表面,待籽晶与熔体完全熔合后,沿竖直方向旋转而且缓慢提拉籽晶,晶体便会在籽晶下端生长;控制籽晶生长出一段长约100mm、直径为3-5mm的细颈晶体,用于消除高温熔体带来的强烈热冲击在籽晶内产生的位错,这个过程称为引晶;
(3)随后,进一步降温和降低晶体提拉速度,使晶体直径增大到工艺要求的尺寸,常见为75~300mm,这个过程称为放肩;
(4)当晶体直径达到工艺要求需快速提高晶体提拉速度,抑制其继续长大,进行转肩操作;
(5)进入等径工艺,通过控制热场温度和晶体提升速度,生长出一定直径规格大小的单晶柱体;
(6)待大部分硅熔体都已经完成结晶时,通过控制晶体提拉速度以及熔体温度,使晶体直径逐渐缩小而形成一个尾形锥体,称为收尾工艺。
在实际的制备过程中,通常采用设定好的引晶功率对单晶硅棒进行制备,此种方式存在以下两个弊端:
(1)在制备过程中,晶棒的生长过程容易受到外界各种因素的影响以及原材料批次的影响,因此采用设定好的引晶功率所得到的单晶硅棒容易出现异常;
(2)由于设定好的引晶功率一般都是由经验丰富的操作人员根据以往经验进行设置,因此当单晶硅棒出现异常需要调整引晶功率时,只能通过经验丰富的操作人员的主观意识加经验判定来制定最新的引晶功率,但是该人为方法经常无法正确的给定引晶功率,从而导致无法有效地对晶棒异常进行修正,使得制备得到的单晶硅棒需要二次返工,甚至报废。
发明内容
为了克服现有技术的不足,本发明提供一种单晶炉自动获取引晶功率的方法及系统,用于解决现有技术由于采用人工方式对引晶功率进行设定和调整,从而导致单晶硅棒容易出现异常以及难以对异常进行修正的技术问题,从而达到通过自动获取所需引晶功率值,减少单晶硅棒生产异常以及有效地对异常进行修正的目的。
为解决上述问题,本发明所采用的技术方案如下:
一种单晶炉自动获取引晶功率的方法,包括以下步骤:
对炉台数据进行采集,得到引晶数据集和断线率数据集;
获取所述引晶数据集中一时间段内的引晶数据,再获取所述断线率数据集对应时间段内的断线率数据;
通过关系建立函数建立起引晶数据中不同数据与断线数据之间的对应关系,并将所述对应关系导入数据统计分析软件,得到引晶正态分布区间;
根据所述引晶正态分布区间得到成活率最高的引晶数据区间;
根据所述成活率最高的引晶数据区间得到功率值标准范围;
根据所述功率值标准范围,得到一系列偏差修正系数,并基于所述一系列偏差修正系数建立引晶方程;
将实时获取到的引晶数据代入所述引晶方程,得到推荐的引晶功率。
作为本发明优选的实施方式,在对炉台数据进行采集时,包括:
采集前一次开始调温工步时的投料量、前一次引放引晶功率、前一次引晶100mm引晶拉速、前一次引晶工步结束放肩工步开始时至放肩工步结束时的晶体长度、上一次完成熔接和本次完成熔接的间隔时间、本次引放时投料量。
作为本发明优选的实施方式,在建立起引晶数据中不同数据与断线数据之间的对应关系时,包括:
通过Vlook函数建立起不同的前一次引晶100mm引晶拉速与断线数据之间的对应关系,得到第一对应关系;
通过Vlook函数建立起不同的前一次引晶工步结束放肩工步开始时至放肩工步结束时的晶体长度与断线数据之间的对应关系,得到第二对应关系。
作为本发明优选的实施方式,在建立起引晶数据中不同数据与断线数据之间的对应关系时,还包括:
通过Vlook函数建立起不同的上一次完成熔接和本次完成熔接的间隔时间与断线数据之间的对应关系,得到第三对应关系;
通过Vlook函数建立起不同的前一次开始调温工步时的投料量、本次引放时投料量与断线数据之间的对应关系,得到第四对应关系。
作为本发明优选的实施方式,在得到引晶正态分布区间时,包括:
将所述第一对应关系、所述第二对应关系、所述第三对应关系以及所述第四对应关系分别导入Minitab数据统计分析软件,得到第一引晶正态分布区间、第二引晶正态分布区间、第三引晶正态分布区间以及第四引晶正态分布区间。
作为本发明优选的实施方式,在得到成活率最高的引晶数据区间时,包括:
根据所述第一引晶正态分布区间得到成活率最高的引晶拉速区间;
根据所述第二引晶正态分布区间得到成活率最高的放肩高度区间;
根据所述第三引晶正态分布区间得到成活率最高的熔接间隔时间区间;
根据所述第四引晶正态分布区间得到成活率最高的两次引放投料量区间。
作为本发明优选的实施方式,在得到功率值标准范围时,包括:
根据所述成活率最高的引晶拉速区间得到第一功率值标准范围;
根据所述成活率最高的放肩高度区间得到第二功率值标准范围;
根据所述成活率最高的熔接间隔时间区间得到第三功率值标准范围;
根据所述成活率最高的两次引放投料量区间得到第四功率值标准范围。
作为本发明优选的实施方式,在得到一系列偏差修正系数时,包括:
根据所述第一功率值标准范围得到拉速偏差修正系数;
根据所述第二功率值标准范围得到放肩高度偏差修正系数;
根据所述第三功率值标准范围得到时间偏差修正系数;
根据所述第四功率值标准范围得到两次引放投料量偏差修正系数。
作为本发明优选的实施方式,在建立引晶方程时,包括:
根据所述拉速偏差修正系数、所述放肩高度偏差修正系数、所述时间偏差修正系数以及所述两次引放投料量偏差修正系数,建立所述引晶方程,如公式1所示:
B+(C-a)*X1+(d-D)*X2+E*X3+(A-F)*X4(1);
式中,A为所述前一次开始调温工步时的投料量,B为所述前一次引放引晶功率,C为所述前一次引晶100mm引晶拉速,D为所述前一次引晶工步结束放肩工步开始时至放肩工步结束时的晶体长度,E为所述上一次完成熔接和本次完成熔接的间隔时间,F为所述本次引放时投料量,a为引晶拉速下限,b为引晶拉速上限,c为放肩高度下限,d为放肩高度上限,X1为所述拉速偏差修正系数,X2为所述放肩高度偏差修正系数,X3为所述时间偏差修正系数,X4为所述两次引放投料量偏差修正系数;
其中,所述引晶拉速上限和所述引晶拉速下限为所述成活率最高的引晶拉速区间的上限和下限,所述放肩高度上限和所述放肩高度下限为所述成活率最高的放肩高度区间的上限和下限。
一种单晶炉自动获取引晶功率的系统,包括:
数据采集单元:用于对炉台数据进行采集,得到引晶数据集和断线率数据集;
数据获取单元:用于获取所述引晶数据集中一时间段内的引晶数据,再获取所述断线率数据集对应时间段内的断线率数据;
数据区间确定单元:用于通过关系建立函数建立起引晶数据中不同数据与断线数据之间的对应关系,并将所述对应关系导入数据统计分析软件,得到引晶正态分布区间,以及根据所述引晶正态分布区间得到成活率最高的引晶数据区间;
引晶方程建立单元:用于根据所述成活率最高的引晶数据区间得到功率值标准范围,以及根据所述功率值标准范围,得到一系列偏差修正系数,并基于所述一系列偏差修正系数建立引晶方程;
引晶功率确定单元:用于将实时获取到的引晶数据代入所述引晶方程,得到推荐的引晶功率。
相比现有技术,本发明的有益效果在于:
(1)本发明通过利用关系建立函数建立起引晶数据与断线数据之间的对应关系,并借助数据统计分析软件得到引晶正态分布区间,并基于引晶正态分布区间筛选出成活率最高引放的引晶拉速区间、放肩高度区间、熔接间隔时间区间以及两次引放投料量区间,并进一步确定功率值标准范围,得到一系列偏差修正系数,建立起引晶方程,从而借助引晶方程减少单晶硅棒生产异常以及有效地对异常进行修正;
(2)当晶棒未出现异常时,将实时引晶数据代入该引晶方程得到推荐的引晶功率,并根据推荐的引晶功率调整设定的引晶功率,使得单晶硅棒在制备过程中不容易出现异常;当晶棒出现异常时,将实时引晶数据代入该引晶方程得到推荐的引晶功率,并根据推荐的引晶功率调整目前的引晶功率,从而对单晶硅棒的异常进行有效修正。
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细说明。
附图说明
图1-是本发明实施例的单晶炉自动获取引晶功率的方法步骤图。
具体实施方式
本发明所提供的单晶炉自动获取引晶功率的方法,如图1所示,包括以下步骤:
步骤S1:对炉台数据进行采集,得到引晶数据集和断线率数据集;
步骤S2:获取引晶数据集中一时间段内的引晶数据,再获取断线率数据集对应时间段内的断线率数据;
步骤S3:通过关系建立函数建立起引晶数据中不同数据与断线数据之间的对应关系,并将对应关系导入数据统计分析软件,得到引晶正态分布区间;
步骤S4:根据引晶正态分布区间得到成活率最高的引晶数据区间;
步骤S5:根据成活率最高的引晶数据区间得到功率值标准范围;
步骤S6:根据功率值标准范围,得到一系列偏差修正系数,并基于一系列偏差修正系数建立引晶方程;
步骤S7:将实时获取到的引晶数据代入引晶方程,得到推荐的引晶功率。
在上述步骤S1中,在对炉台数据进行采集时,包括:
采集前一次开始调温工步时的投料量、前一次引放引晶功率、前一次引晶100mm引晶拉速、前一次引晶工步结束放肩工步开始时至放肩工步结束时的晶体长度、上一次完成熔接和本次完成熔接的间隔时间、本次引放时投料量。
具体地,上述熔接为在加料完成并执行完成自动控温工序后,液面温度稳定至1458-1462℃区间范围内时。
在上述步骤S3中,在建立起引晶数据中不同数据与断线数据之间的对应关系时,包括:
通过Vlook函数建立起不同的前一次引晶100mm引晶拉速与断线数据之间的对应关系,得到第一对应关系;
通过Vlook函数建立起不同的前一次引晶工步结束放肩工步开始时至放肩工步结束时的晶体长度与断线数据之间的对应关系,得到第二对应关系。
在上述步骤S3中,在建立起引晶数据中不同数据与断线数据之间的对应关系时,还包括:
通过Vlook函数建立起不同的上一次完成熔接和本次完成熔接的间隔时间与断线数据之间的对应关系,得到第三对应关系;
通过Vlook函数建立起不同的前一次开始调温工步时的投料量、本次引放时投料量与断线数据之间的对应关系,得到第四对应关系。
在上述步骤S3中,在得到引晶正态分布区间时,包括:
将第一对应关系、第二对应关系、第三对应关系以及第四对应关系分别导入Minitab数据统计分析软件,得到第一引晶正态分布区间、第二引晶正态分布区间、第三引晶正态分布区间以及第四引晶正态分布区间。
在上述步骤S4中,在得到成活率最高的引晶数据区间时,包括:
根据第一引晶正态分布区间得到成活率最高的引晶拉速区间;
根据第二引晶正态分布区间得到成活率最高的放肩高度区间;
根据第三引晶正态分布区间得到成活率最高的熔接间隔时间区间;
根据第四引晶正态分布区间得到成活率最高的两次引放投料量区间。
在上述步骤S5中,在得到功率值标准范围时,包括:
根据成活率最高的引晶拉速区间得到第一功率值标准范围;
根据成活率最高的放肩高度区间得到第二功率值标准范围;
根据成活率最高的熔接间隔时间区间得到第三功率值标准范围;
根据成活率最高的两次引放投料量区间得到第四功率值标准范围。
在上述步骤S6中,在得到一系列偏差修正系数时,包括:
根据第一功率值标准范围得到拉速偏差修正系数;
根据第二功率值标准范围得到放肩高度偏差修正系数;
根据第三功率值标准范围得到时间偏差修正系数;
根据第四功率值标准范围得到两次引放投料量偏差修正系数。
具体地,拉速偏差修正系数、放肩高度偏差修正系数、时间偏差修正系数以及两次引放投料量偏差修正系数均为可调整系数,具体得出系数值为保持其他条件不变的情况下修正该系数使最终得到的功率值在标准范围内,适用于不同工艺。
在上述步骤S6中,在建立引晶方程时,包括:
根据拉速偏差修正系数、放肩高度偏差修正系数、时间偏差修正系数以及两次引放投料量偏差修正系数,建立引晶方程,如公式1所示:
B+(C-a)*X1+(d-D)*X2+E*X3+(A-F)*X4(1);
式中,A为前一次开始调温工步时的投料量,B为前一次引放引晶功率,C为前一次引晶100mm引晶拉速,D为前一次引晶工步结束放肩工步开始时至放肩工步结束时的晶体长度,E为上一次完成熔接和本次完成熔接的间隔时间,F为本次引放时投料量,a为引晶拉速下限,b为引晶拉速上限,c为放肩高度下限,d为放肩高度上限,X1为拉速偏差修正系数,X2为放肩高度偏差修正系数,X3为时间偏差修正系数,X4为两次引放投料量偏差修正系数;
其中,引晶拉速上限和引晶拉速下限为成活率最高的引晶拉速区间的上限和下限,放肩高度上限和放肩高度下限为成活率最高的放肩高度区间的上限和下限。
本发明所提供的单晶炉自动获取引晶功率的系统,包括:数据采集单元、数据获取单元、数据区间确定单元、引晶方程建立单元以及引晶功率确定单元。
数据采集单元:用于对炉台数据进行采集,得到引晶数据集和断线率数据集。
数据获取单元:用于获取引晶数据集中一时间段内的引晶数据,再获取所断线率数据集对应时间段内的断线率数据。
数据区间确定单元:用于通过关系建立函数建立起引晶数据中不同数据与断线数据之间的对应关系,并将对应关系导入数据统计分析软件,得到引晶正态分布区间,以及根据引晶正态分布区间得到成活率最高的引晶数据区间。
引晶方程建立单元:用于根据成活率最高的引晶数据区间得到功率值标准范围,以及根据功率值标准范围,得到一系列偏差修正系数,并基于一系列偏差修正系数建立引晶方程。
引晶功率确定单元:用于将实时获取到的引晶数据代入引晶方程,得到推荐的引晶功率。
以下的实施例是对本发明的进一步说明,但本发明的范围并不限制于此。
通过进入连通炉台可随时抓取炉台数据的集控系统网址得到引晶数据:前一次开始调温工步时的投料量(A)、前一次引放引晶功率(B)、前一次引晶100mm引晶拉速(C)、前一次引晶工步结束放肩工步开始时至放肩工步结束时的晶体长度(系统内显示为“放肩高度”)(D)、上一次点击“熔接”工步至本次点击“熔接”(在加料完成并执行完成自动控温工序后,液面温度稳定至1458-1462℃区间范围内时)间隔时间(E)、本次引放时投料量(F)。
通过集控系统网址将一周或一月内的引晶数据导出下载,再通过集控系统网址将对应时间的断线率报表导出下载,将表内数据复制至之前的引晶数据表内,通过Vlook函数将不同引晶拉速对应的是否断线数据代出,再将引晶拉速导入Minitab中可得到拉速正态分布区间,即可得到成活率最高引放的引晶拉速区间,例:下限a,上限b,成活率最高引放的放肩高度区间,例:下限c,上限d。
给定一个拉速偏差修正系数(该系数为可调整系数,具体得出系数值为保持其他条件不变的情况下修正该系数使最终得到的功率值在标准范围内,适用于不同工艺)。在本实施例中拉速偏差修正系数为0.007。
给定一个放肩高度偏差修正系数(该系数为可调整系数,具体得出系数值为保持其他条件不变的情况下修正该系数使最终得到的功率值在标准范围内,适用于不同工艺)。在本实施例中放肩高度偏差修正系数为0.035。
给定一个前次“熔接”至本次“熔接”时间偏差修正系数(该系数为可调整系数,具体得出系数值为保持其他条件不变的情况下修正该系数使最终得到的功率值在标准范围内,适用于不同工艺)。在本实施例中时间偏差修正系数为0.003。
给定一个两次引放投料量偏差修正系数(该系数为可调整系数,具体得出系数值为保持其他条件不变的情况下修正该系数使最终得到的功率值在标准范围内,适用于不同工艺)。在本实施例中两次引放投料量偏差修正系数为0.0035。
注:所使用系数均为单独判定条件,无其他逻辑关联性。
在本实施例中,引晶方程如下:
B+(C-a)*0.007+(d-D)*0.035+E*0.003+(A-F)*0.0035
A:前一次开始调温工步时的投料量;
B:前一次引放引晶功率;
C:前一次引晶100mm引晶拉速;
D:前一次放肩(成功)高度;
E:上一次点击“熔接”工步至本次点击“熔接”间隔时间;
F:本次引放时投料量;
a:引晶拉速下限;
b:引晶拉速上限;
c:放肩高度下限;
d:放肩高度上限。
通过上述引晶方程计算出推荐使用的引晶功率。
上述实施方式仅为本发明的优选实施方式,不能以此来限定本发明保护的范围,本领域的技术人员在本发明的基础上所做的任何非实质性的变化及替换均属于本发明所要求保护的范围。
Claims (10)
1.一种单晶炉自动获取引晶功率的方法,其特征在于,包括以下步骤:
对炉台数据进行采集,得到引晶数据集和断线率数据集;
获取所述引晶数据集中一时间段内的引晶数据,再获取所述断线率数据集对应时间段内的断线率数据;
通过关系建立函数建立起引晶数据中不同数据与断线数据之间的对应关系,并将所述对应关系导入数据统计分析软件,得到引晶正态分布区间;
根据所述引晶正态分布区间得到成活率最高的引晶数据区间;
根据所述成活率最高的引晶数据区间得到功率值标准范围;
根据所述功率值标准范围,得到一系列偏差修正系数,并基于所述一系列偏差修正系数建立引晶方程;
将实时获取到的引晶数据代入所述引晶方程,得到推荐的引晶功率。
2.根据权利要求1所述的单晶炉自动获取引晶功率的方法,其特征在于,在对炉台数据进行采集时,包括:
采集前一次开始调温工步时的投料量、前一次引放引晶功率、前一次引晶100mm引晶拉速、前一次引晶工步结束放肩工步开始时至放肩工步结束时的晶体长度、上一次完成熔接和本次完成熔接的间隔时间、本次引放时投料量。
3.根据权利要求2所述的单晶炉自动获取引晶功率的方法,其特征在于,在建立起引晶数据中不同数据与断线数据之间的对应关系时,包括:
通过Vlook函数建立起不同的前一次引晶100mm引晶拉速与断线数据之间的对应关系,得到第一对应关系;
通过Vlook函数建立起不同的前一次引晶工步结束放肩工步开始时至放肩工步结束时的晶体长度与断线数据之间的对应关系,得到第二对应关系。
4.根据权利要求3所述的单晶炉自动获取引晶功率的方法,其特征在于,在建立起引晶数据中不同数据与断线数据之间的对应关系时,还包括:
通过Vlook函数建立起不同的上一次完成熔接和本次完成熔接的间隔时间与断线数据之间的对应关系,得到第三对应关系;
通过Vlook函数建立起不同的前一次开始调温工步时的投料量、本次引放时投料量与断线数据之间的对应关系,得到第四对应关系。
5.根据权利要求4所述的单晶炉自动获取引晶功率的方法,其特征在于,在得到引晶正态分布区间时,包括:
将所述第一对应关系、所述第二对应关系、所述第三对应关系以及所述第四对应关系分别导入Minitab数据统计分析软件,得到第一引晶正态分布区间、第二引晶正态分布区间、第三引晶正态分布区间以及第四引晶正态分布区间。
6.根据权利要求5所述的单晶炉自动获取引晶功率的方法,其特征在于,在得到成活率最高的引晶数据区间时,包括:
根据所述第一引晶正态分布区间得到成活率最高的引晶拉速区间;
根据所述第二引晶正态分布区间得到成活率最高的放肩高度区间;
根据所述第三引晶正态分布区间得到成活率最高的熔接间隔时间区间;
根据所述第四引晶正态分布区间得到成活率最高的两次引放投料量区间。
7.根据权利要求6所述的单晶炉自动获取引晶功率的方法,其特征在于,在得到功率值标准范围时,包括:
根据所述成活率最高的引晶拉速区间得到第一功率值标准范围;
根据所述成活率最高的放肩高度区间得到第二功率值标准范围;
根据所述成活率最高的熔接间隔时间区间得到第三功率值标准范围;
根据所述成活率最高的两次引放投料量区间得到第四功率值标准范围。
8.根据权利要求7所述的单晶炉自动获取引晶功率的方法,其特征在于,在得到一系列偏差修正系数时,包括:
根据所述第一功率值标准范围得到拉速偏差修正系数;
根据所述第二功率值标准范围得到放肩高度偏差修正系数;
根据所述第三功率值标准范围得到时间偏差修正系数;
根据所述第四功率值标准范围得到两次引放投料量偏差修正系数。
9.根据权利要求8所述的单晶炉自动获取引晶功率的方法,其特征在于,在建立引晶方程时,包括:
根据所述拉速偏差修正系数、所述放肩高度偏差修正系数、所述时间偏差修正系数以及所述两次引放投料量偏差修正系数,建立所述引晶方程,如公式1所示:
B+(C-a)*X1+(d-D)*X2+E*X3+(A-F)*X4(1);
式中,A为所述前一次开始调温工步时的投料量,B为所述前一次引放引晶功率,C为所述前一次引晶100mm引晶拉速,D为所述前一次引晶工步结束放肩工步开始时至放肩工步结束时的晶体长度,E为所述上一次完成熔接和本次完成熔接的间隔时间,F为所述本次引放时投料量,a为引晶拉速下限,b为引晶拉速上限,c为放肩高度下限,d为放肩高度上限,X1为所述拉速偏差修正系数,X2为所述放肩高度偏差修正系数,X3为所述时间偏差修正系数,X4为所述两次引放投料量偏差修正系数;
其中,所述引晶拉速上限和所述引晶拉速下限为所述成活率最高的引晶拉速区间的上限和下限,所述放肩高度上限和所述放肩高度下限为所述成活率最高的放肩高度区间的上限和下限。
10.一种单晶炉自动获取引晶功率的系统,其特征在于,包括:
数据采集单元:用于对炉台数据进行采集,得到引晶数据集和断线率数据集;
数据获取单元:用于获取所述引晶数据集中一时间段内的引晶数据,再获取所述断线率数据集对应时间段内的断线率数据;
数据区间确定单元:用于通过关系建立函数建立起引晶数据中不同数据与断线数据之间的对应关系,并将所述对应关系导入数据统计分析软件,得到引晶正态分布区间,以及根据所述引晶正态分布区间得到成活率最高的引晶数据区间;
引晶方程建立单元:用于根据所述成活率最高的引晶数据区间得到功率值标准范围,以及根据所述功率值标准范围,得到一系列偏差修正系数,并基于所述一系列偏差修正系数建立引晶方程;
引晶功率确定单元:用于将实时获取到的引晶数据代入所述引晶方程,得到推荐的引晶功率。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202311383456.6A CN117512769A (zh) | 2023-10-24 | 2023-10-24 | 一种单晶炉自动获取引晶功率的方法及系统 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202311383456.6A CN117512769A (zh) | 2023-10-24 | 2023-10-24 | 一种单晶炉自动获取引晶功率的方法及系统 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN117512769A true CN117512769A (zh) | 2024-02-06 |
Family
ID=89759691
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202311383456.6A Pending CN117512769A (zh) | 2023-10-24 | 2023-10-24 | 一种单晶炉自动获取引晶功率的方法及系统 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN117512769A (zh) |
-
2023
- 2023-10-24 CN CN202311383456.6A patent/CN117512769A/zh active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP2705178B1 (en) | Growth of a uniformly doped silicon ingot by doping only the initial charge | |
TW202016366A (zh) | 一種晶體生長控制方法、裝置、系統及電腦儲存媒體 | |
US20070056504A1 (en) | Method and apparatus to produce single crystal ingot of uniform axial resistivity | |
CN111690980A (zh) | 一种用于放肩过程的晶体生长控制方法、装置、系统及计算机存储介质 | |
TW202018132A (zh) | 一種晶體生長控制方法、裝置、系統及電腦儲存媒體 | |
CN112064109A (zh) | 一种对半导体硅材料晶体长晶放肩形状的控制方法 | |
JPS61163188A (ja) | シリコン単結晶引上法における不純物のド−プ方法 | |
JP5170061B2 (ja) | 抵抗率計算プログラム及び単結晶の製造方法 | |
JPH09227275A (ja) | ドープ剤添加装置 | |
JP2017105650A (ja) | シリコン単結晶の製造方法 | |
CN117512769A (zh) | 一种单晶炉自动获取引晶功率的方法及系统 | |
CN114592236B (zh) | 一种p型掺镓硅单晶的生长方法 | |
US20090293802A1 (en) | Method of growing silicon single crystals | |
JPH04104988A (ja) | 単結晶成長方法 | |
JP5262257B2 (ja) | 窒素ドープシリコン単結晶の製造方法 | |
WO2010103594A1 (ja) | 単結晶の製造方法 | |
JP4273793B2 (ja) | 単結晶の製造方法 | |
CN108796603B (zh) | 一种直拉单晶补掺合金的工艺方法 | |
KR101540235B1 (ko) | 단결정 잉곳제조장치 및 단결정 잉곳제조방법 | |
JP2017190261A (ja) | 単結晶の製造方法および装置 | |
JP2003246695A (ja) | 高濃度にドーピングされたシリコン単結晶の製造方法 | |
JPH07300388A (ja) | シリコン単結晶の製造方法 | |
JP5182234B2 (ja) | シリコン単結晶の製造方法 | |
WO2004065667A1 (ja) | 単結晶の製造方法 | |
US20050211157A1 (en) | Process control system for controlling a crystal-growing apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination |