CN117506572B - 一种用于水磨石生产的抛光工艺 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种用于水磨石生产的抛光工艺，属于水磨石加工领域，包括机架、滑台、可调抛光装置、调节装置和间歇转动机构。本发明通过在工艺中的粗磨、中磨和细磨利用自动抛光设备完成，在自动抛光设备内部设置有可调抛光装置、调节装置和间歇转动机构，调节装置配合间歇转动机构可对水磨石进行自动托举，并且可在驱动下对其高度、角度进行调节，调节为间歇转动调节角度，无需人工手动转动，减少人工操作，有效提高工作效率；并且可调抛光装置可实现对水磨石表面进行抛光处理并且能进行多组抛光组件的轮换，配合调节装置和间歇转动机构的调节，完成自动化抛光。

Description

一种用于水磨石生产的抛光工艺

技术领域

本发明涉及水磨石加工相关领域，尤其涉及一种用于水磨石生产的抛光工艺。

背景技术

水磨石抛光是一种对水磨石表面进行磨削和抛光的过程，旨在使其表面变得平滑、光亮，并增强其美观性和耐久性。水磨石是一种天然石材，通常用于室内地面、墙面、台面等装饰，然而，随着时间的推移和使用磨损，水磨石表面可能出现划痕、污渍和失去光泽；

水磨石抛光的过程包括使用不同粒度的磨石或砂轮进行磨削，以去除表面的不平整部分和旧的抛光层。然后，通过使用抛光垫或抛光机以及适当的抛光剂，在水磨石表面上施加压力和摩擦，以达到所需的光泽度和光亮效果。抛光过程中常常使用水作为润滑剂，以减少磨削时产生的热量和灰尘，并保持石材表面的湿润。

中国专利授权公告号：CN106334990B的一种水磨石抛光工艺，包括工作台,所述工作台上表面设有移动抛光机构，所述旋转电机旋转端均与每个相对应的金刚石磨片活动连接，所述工作台上表面中心处且位于一组一号滑轨之间设有红外线接收器，所述工作台一侧表面上设有控制器，所述工作台另一侧表面上设有市电接口，所述控制器电源接线端通过导线与市电接口相连接，所述控制器输入端通过导线分别与一号电动小车、风机、二号电动小车、直线电机、旋转电机和红外线接收器相连接，有益效果是，操作简单，维护成本低，打磨速度快，能大量的打磨水磨石原料，提高了工作效率。

上述专利和现有技术在实际使用过程中存在以下问题：抛光过程中，大多采用人工手动辅助进行抛光，由于抛光位置不同，需要人工不断手动调整水磨石位置以及角度，较为耗费人力，并且在对于粗磨、中磨以及细磨过程时，需要不断的更换工具以及设备，均需要人工辅助完成，导致工作效率降低。

发明内容

因此，为了解决上述不足，本发明提供一种用于水磨石生产的抛光工艺。

为了实现上述目的，本发明采取以下技术方案：一种用于水磨石生产的抛光工艺，步骤如下：

S1表面清洁：使用吸尘器或湿抹布清洁水磨石表面，确保没有灰尘、污渍或其他杂质；

S2打磨抛光：将水磨石置于自动抛光设备内，自动抛光设备包括机架、滑台、可调抛光装置、调节装置和间歇转动机构，可调抛光装置实现对水磨石表面进行抛光处理并且能进行多组抛光组件的轮换，可调抛光装置下方设置有调节装置，调节装置内上端连接有间歇转动机构，两者对水磨石进行托举，并且使其在被托举过程中进行位置调节，完成对水磨石的粗磨、中磨和细磨；

S3激光抛光技术应用：选择激光抛光技术，根据设备说明和操作指南，调整激光能量和频率，将激光束照射到水磨石表面，并控制抛光效果；

S4抛光调整和质量控制：在进行抛光过程中，进行质量控制和调整，使用光泽度测量仪或目视检查来评估抛光效果，并根据需要进行调整，包括调整设备参数、更换抛光剂；

S5清洁和保护：完成抛光后，进行表面清洁和保护，使用湿抹布或吸尘器清洁水磨石表面，确保将抛光过程中产生的残留物清除干净，然后，根据需要选择适当的水磨石清洁和保护产品来维护其美观和耐久性。

优选的，所述机架上端安装有滑台，所述滑台底部连接可调抛光装置，可调抛光装置下方设置有调节装置，所述调节装置内上端设有间歇转动机构。

优选的，所述可调抛光装置包括顶板、设于顶板顶部的第一电机、安装于顶板底部的固定箱、设于顶板底部且置于固定箱内的传动调节机构、设于顶板底部且连接传动调节机构的支撑杆、连接传动调节机构底部的抛光件、安装于固定箱左侧的传动箱、设于传动箱左侧的第二电机、设于传动箱内部且连接第二电机输出轴的主动带轮、设于主动带轮外侧的同步带以及连接同步带另一端的从动带轮，所述从动带轮中部与传动调节机构相接，所述固定箱顶部连接第一电机输出轴跟随进行转动。

优选的，所述传动调节机构包括设于固定箱左侧的支块、安装在支块中部的主轴、设于主轴中部的主动齿轮、啮合于主动齿轮且中部设置有轴杆的从动齿轮、设于从动齿轮左方且设于固定箱左侧被轴杆贯穿的衔接块、设于固定箱外侧且被轴杆贯穿的指示盘、连接轴杆且置于指示盘左侧的标识件、套设于主轴右端的凸轮、底部接触凸轮的摆动件、铰接于摆动件的固定块，固定块设置有两组、两端分别铰接于两组固定块的联动件、铰接于第二组固定块的活动杆、铰接活动杆另一端的拉动件、与拉动件下端进行铰接的传动杆、铰接于传动杆后端的侧块、插入于传动杆下端的拉柱、被拉柱贯穿的随动件、被随动件贯穿的圆盘、设于主轴右侧的稳固块、设于稳固块右侧且随主轴转动的拨动件、设于拨动件右侧被其进行拨动的间歇件以及安装在间歇件中部的联动轴，所述联动轴上端连接固定箱，下端则连接圆盘，支撑杆设置有四组，其底部分别连接两组固定块、侧块和稳固块顶部，所述随动件底部连接抛光件。

优选的，所述随动件两端呈直杆状，该随动件两端直杆位置底部安装有柱形状的电磁铁。

优选的，所述圆盘内部四端阵列开设有方形口，圆盘具备磁力，磁力小于通电后的随动件下端电磁铁，随动件底部的电磁铁可在贯穿圆盘后连接抛光件，抛光件设置有四组，四组抛光件吸附在圆盘内方形口底部，面积大于方形口，固定箱底部右端开设与圆盘右端方形口相对的通口。

优选的，所述间歇件呈倒中空半球状，其内部开设有四组凹槽。

优选的，所述抛光件包括吸附于圆盘底部的壳体、设于壳体内部的稳固板、连接稳固板底部的衔接轴以及设于衔接轴外侧的抛光盘，所述壳体上端开设有对应随动件两端直杆位置的圆槽，被随动件两端直杆位置进行吸附。

优选的，所述调节装置包括用于进行托举且置于可调抛光装置下方的托板、开设于托板中部用于连接间歇转动机构的开口以及设于托板底部的顶升机构；

顶升机构包括用于进行支撑稳固的支臂，支臂设置有四组，支臂内开设有滑槽，并且前后两端呈条形开口状，支臂内部活动嵌入有支柱，支柱下端嵌入有连接柱，该连接柱外侧接触呈叉状的顶杆，顶杆摆动可通过连接柱对支柱顶起，使得支柱在支臂内进行上下移动，而支柱顶部与托板相接，顶杆另一端连接转轴，转轴靠外端贯穿托举座，且由其进行支撑，在支臂内侧下端焊接固定有底架，底架顶部与托举座进行固定，在底架顶端中部固定有承载座，承载座中部被转轴贯穿，在承载座中部被转轴贯穿位置设置有随动齿轮，两组随动齿轮内侧啮合蜗杆，蜗杆转动可带其进行转动，从而实现转轴的转动，蜗杆底部与安装在底架底部的第三电机输出轴相接。

优选的，所述间歇转动机构包括设于开口内侧的底箱、设于底箱左侧的第四电机、安装在底箱内部且连接第四电机输出轴的连接轴、设于连接轴中部的拨动轮、底部接触拨动轮的接触件、设于底箱内侧用于对接触件进行限位的限位块、安装在接触件中部且顶部贯穿底箱的驱动轴以及连接驱动轴顶部的托举板，托举板可跟随上下移动并转动；

拨动轮一端凸起，接触件两端凸起，受拨动轮转动力运动。

本发明的有益效果：

本发明通过在工艺中的粗磨、中磨和细磨利用自动抛光设备完成，在自动抛光设备内部设置有可调抛光装置、调节装置和间歇转动机构，调节装置配合间歇转动机构可对水磨石进行自动托举，并且可在驱动下对其高度、角度进行调节，调节为间歇转动调节角度，无需人工手动转动，减少人工操作，有效提高工作效率；并且可调抛光装置可实现对水磨石表面进行抛光处理并且能进行多组抛光组件的轮换，配合调节装置和间歇转动机构的调节，完成自动化抛光。

附图说明

图1是本发明结构示意图；

图2是本发明可调抛光装置结构示意图；

图3是本发明传动调节机构结构示意图；

图4是本发明传动调节机构另一视角结构示意图；

图5是本发明抛光件结构示意图；

图6是本发明调节装置结构示意图；

图7是本发明顶升机构结构示意图；

图8是本发明间歇转动机构结构示意图；

图9是本发明底箱内部结构示意图。

其中：机架-1、滑台-2、可调抛光装置-3、调节装置-4、间歇转动机构-5、顶板-31、第一电机-32、固定箱-33、传动调节机构-6、支撑杆-34、抛光件-35、传动箱-36、第二电机-37、主动带轮-38、同步带-39、从动带轮-310、支块-61、主轴-62、主动齿轮-63、从动齿轮-64、衔接块-65、指示盘-66、标识件-67、凸轮-68、摆动件-69、固定块-610、联动件-611、活动杆-612、拉动件-613、传动杆-614、侧块-615、拉柱-616、随动件-617、圆盘-618、稳固块-619、拨动件-620、间歇件-621、联动轴-622、壳体-351、稳固板-352、衔接轴-353、抛光盘-354、托板-41、开口-42、顶升机构-43、支臂-431、支柱-432、连接柱-433、顶杆-434、转轴-435、托举座-436、底架-437、随动齿轮-438、承载座-439、蜗杆-4310、第三电机-4311、底箱-51、第四电机-52、连接轴-53、拨动轮-54、接触件-55、限位块-56、驱动轴-57、托举板-58。

具体实施方式

为了进一步解释本发明的技术方案，下面通过具体实施例进行详细阐述。

一种用于水磨石生产的抛光工艺，其工艺步骤包括：表面清洁：使用吸尘器或湿抹布清洁水磨石表面，确保没有灰尘、污渍或其他杂质；打磨抛光：将水磨石置于自动抛光设备内，完成对水磨石的粗磨、中磨和细磨；激光抛光技术应用：选择激光抛光技术，根据设备说明和操作指南，调整激光能量和频率，将激光束照射到水磨石表面，并控制抛光效果；抛光调整和质量控制：在进行抛光过程中，进行质量控制和调整，使用光泽度测量仪或目视检查来评估抛光效果，并根据需要进行调整，包括调整设备参数、更换抛光剂；清洁和保护：完成抛光后，进行表面清洁和保护，使用湿抹布或吸尘器清洁水磨石表面，确保将抛光过程中产生的残留物清除干净，然后，根据需要选择适当的水磨石清洁和保护产品来维护其美观和耐久性。

请参阅图1，自动抛光设备包括用于进行支撑的机架1，机架1内侧上端安装有能进行左右移动的滑台2，滑台2可移动位置底部连接有可调抛光装置3，可调抛光装置3可实现对水磨石表面进行抛光处理并且能进行多组抛光组件的轮换，可调抛光装置3下方设置有调节装置4，调节装置4内上端连接有间歇转动机构5，两者可对水磨石进行托举，并且可使其在被托举过程中进行位置调节。

请参阅图2，可调抛光装置3包括用于进行稳固的顶板31，顶板31顶端中部设置有第一电机32，顶板31底部设有固定箱33，并且固定箱33顶部连接第一电机32输出轴可跟随进行转动，固定箱33内顶部两端垂直焊接有支撑杆34，支撑杆34底部与传动调节机构6相接，传动调节机构6底部贯穿固定箱33底部连接有抛光件35，抛光件35可对水磨石进行抛光，固定箱33左侧下端固设有传动箱36，传动箱36左侧锁定有第二电机37，在传动箱36内下端设置有与第二电机37输出轴相接的主动带轮38，主动带轮38外侧通过同步带39与从动带轮310进行同步转动，从动带轮310中部与传动调节机构6相接，可驱动传动调节机构6内部部分组件进行传动。

请参阅图3和图4，传动调节机构6包括固定于固定箱33左侧的支块61，支块61内中部设置有主轴62，主轴62左侧与从动带轮310中部相接，主轴62中部套设有主动齿轮63，主动齿轮63顶部与从动齿轮64相啮合，从动齿轮64左方设有衔接块65，衔接块65左侧与固定箱33进行固定，并且衔接块65左侧于固定箱33左侧还连接固定有指示盘66，在从动齿轮64中部设置有轴杆，该轴杆左侧贯穿衔接块65与指示盘66后连接标识件67，标识件67可在指示盘66左侧进行转动，来进行标识；

主轴62右端套设有可跟随转动的凸轮68，凸轮68顶部接触摆动件69，摆动件69另一端铰接于固定块610，固定块610另一端则铰接联动件611，摆动件69运动下可作用于联动件611，使其进行摆动，联动件611另一端同样铰接于相同的固定块610，另一端的固定块610右侧与活动杆612进行铰接，活动杆612另一端则铰接于拉动件613，拉动件613上端位置均为铰接座状，其上端铰链座连接活动杆612，下端铰接座铰接有传动杆614，传动杆614后端则铰接于侧块615，传动杆614下端插入有拉柱616，拉柱616外侧置于随动件617内部，随动件617可随着拉柱616进行上下移动，随动件617两端呈直杆状，该随动件两端直杆位置底部安装有柱形状的电磁铁；

随动件617下端贯穿圆盘618，圆盘618内部四端阵列开设有方形口，可供随动件617贯穿，在主轴62右侧固定有稳固块619，稳固块619右侧铰接有拨动件620，拨动件620可跟随主轴62进行转动，拨动件620上嵌入有拨动柱，拨动件620右侧接触间歇件621，间歇件621呈倒中空半球状，其内部开设有四组凹槽，在拨动件620转动过程中可对间歇件621进行拨动，来实现间歇转动，间歇件621中部与联动轴622进行连接，联动轴622上端连接固定箱33，下端则连接圆盘618，圆盘即可跟随进行间歇转动，圆盘同样具备磁力，但磁力小于通电后的随动件617下端电磁铁；

随动件617底部的电磁铁可在贯穿圆盘618后连接抛光件35，抛光件35设置有四组，四组抛光件35吸附在圆盘内方形口底部，面积大于方形口；

在固定箱33底部右端开设与圆盘右端方形口相对的通口，该通口大于方形口，便于抛光件的伸出；

支撑杆34设置有四组，其底部分别连接两组固定块610、侧块615和稳固块619顶部，可对其进行支撑，实现正常传动机构的稳定。

请参阅图5，抛光件35包括顶部吸附于圆盘底部的壳体351，壳体351上端开设有对应随动件两端直杆位置的圆槽，壳体351内下端固设有稳固板352，稳固板352内开设有三组轴承，轴承内部嵌入连接有衔接轴353，衔接轴353底部则固设有抛光盘354，可随其进行转动，并且四组抛光件35内部的抛光盘354种类不同，根据需求进行更换。

请参阅图6和图7，调节装置4包括用于进行托举的托板41，托板41内中部开设有开口42，开口42内部连接间歇转动机构5，托板41底部连接有顶升机构43，顶升机构43可实现托板41的高度位置调节；

顶升机构43包括用于进行支撑稳固的支臂431，支臂431设置有四组，支臂431内开设有滑槽，并且前后两端呈条形开口状，支臂431内部活动嵌入有支柱432，支柱432下端嵌入有连接柱433，该连接柱433外侧接触呈叉状的顶杆434，顶杆434摆动可通过连接柱对支柱432顶起，使得支柱432在支臂内进行上下移动，而支柱432顶部与托板41相接，顶杆434另一端连接转轴435，转轴435靠外端贯穿托举座436，且由其进行支撑，在支臂431内侧下端焊接固定有底架437，底架437顶部与托举座436进行固定，在底架437顶端中部固定有承载座439，承载座439中部被转轴435贯穿，在承载座439中部被转轴贯穿位置设置有随动齿轮438，两组随动齿轮438内侧啮合蜗杆4310，蜗杆4310转动可带其进行转动，从而实现转轴的转动，蜗杆4310底部与安装在底架437底部的第三电机4311输出轴相接。

请参阅图8和图9，间歇转动机构5包括设于开口42内侧可跟随托板41上下移动的底箱51，底箱51左侧设置有第四电机52，在底箱51内中部安装有与第四电机52连接的连接轴53，连接轴53外侧左端固定有跟随其转动的拨动轮54，拨动轮54一端凸起，并且拨动轮54顶部接触接触件55，接触件55两端凸起，可受拨动轮54作用力，并且接触件55中部设置有驱动轴57，驱动轴57顶部贯穿底箱51与托举板58进行连接，托举板可跟随上下移动并转动，在底箱51内右上端固设有限位块56，方便对接触件55在转动过程中进行限位。

具体实施流程如下：

当需要进行整体抛光工作时，首先将水磨石置于托板41以及托举板58顶部，接着使用者启动第三电机4311工作，第三电机4311工作过程中即可带着蜗杆4310转动，使得两端的随动齿轮438跟随转动，并带着转轴435转动，转轴转动过程中可带着四组顶杆434摆动并作用于连接柱433，从而使得支柱432在支臂431内上升，完成托板41的高度位置调节；

而启动第四电机工作时，驱动连接轴53转动，连接轴53外侧的拨动轮54跟随转动，在转动过程中，即可对接触件55顶起并将其拨动，驱动轴57受作用即可带着托举板58上移且转动，可对顶部托举的水磨石进行角度位置调节；

然后开始进行抛光，启动滑台2工作可对可调抛光装置3的左右位置进行调节，使用者启动第二电机37开始工作，第二电机37带着主动带轮38转动，主动带轮38外侧的同步带39即可带着从动带轮310转动，从动带轮310中部连接的主轴62开始转动，主轴62转动过程中即可带着凸轮68对摆动件69顶起，然后摆动件69作用于联动件611，联动件611另一端带着活动杆612通过拉动件613作用于传动杆614，实现随动件617的上下移动，并且在主轴62转动过程中同时带着拨动件620对间歇件621进行拨动，使其中部的联动轴622带着圆盘618间歇转动，在随动件617下压时，即可通过方形口接触到抛光件35，同时启动电磁铁工作，开始对下方接触的抛光件35进行连接，抛光件35设置有四组，均跟随圆盘618进行移动，并且每组抛光件35内部的抛光盘354目数以及材质不同，可根据需求选择，同时在主动齿轮63跟随主轴62转动过程中，从动齿轮64转动，即可通中部的轴杆带着标识件67转动，方便指示盘66上所被指向的抛光件35来便于使用者查看；

抛光件35在连接后，即可通过固定箱33底部伸出，接触到水磨石，然后启动第一电机32工作，带着固定箱33转动，进行抛光工作，并且配合滑台2和调节装置4均可在抛光过程中对位置进行调节。

以上所述仅为本发明的优选实例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种用于水磨石生产的抛光工艺，其特征在于：步骤如下：

S1表面清洁：使用吸尘器或湿抹布清洁水磨石表面，确保没有灰尘、污渍或其他杂质；

S2打磨抛光：将水磨石置于自动抛光设备内，自动抛光设备包括机架、滑台、可调抛光装置、调节装置和间歇转动机构，可调抛光装置实现对水磨石表面进行抛光处理并且能进行多组抛光组件的轮换，可调抛光装置下方设置有调节装置，调节装置内上端连接有间歇转动机构，两者对水磨石进行托举，并且使其在被托举过程中进行位置调节，完成对水磨石的粗磨、中磨和细磨；

S3激光抛光技术应用：选择激光抛光技术，根据设备说明和操作指南，调整激光能量和频率，将激光束照射到水磨石表面，并控制抛光效果；

S4抛光调整和质量控制：在进行抛光过程中，进行质量控制和调整，使用光泽度测量仪或目视检查来评估抛光效果，并根据需要进行调整，包括调整设备参数、更换抛光剂；

S5清洁和保护：完成抛光后，进行表面清洁和保护，使用湿抹布或吸尘器清洁水磨石表面，确保将抛光过程中产生的残留物清除干净，然后，根据需要选择适当的水磨石清洁和保护产品来维护其美观和耐久性；

所述机架上端安装有滑台，所述滑台底部连接可调抛光装置，可调抛光装置下方设置有调节装置，所述调节装置内上端设有间歇转动机构；

所述可调抛光装置包括顶板、设于顶板顶部的第一电机、安装于顶板底部的固定箱、设于顶板底部且置于固定箱内的传动调节机构、设于顶板底部且连接传动调节机构的支撑杆、连接传动调节机构底部的抛光件、安装于固定箱左侧的传动箱、设于传动箱左侧的第二电机、设于传动箱内部且连接第二电机输出轴的主动带轮、设于主动带轮外侧的同步带以及连接同步带另一端的从动带轮，所述从动带轮中部与传动调节机构相接，所述固定箱顶部连接第一电机输出轴跟随进行转动；

所述传动调节机构包括设于固定箱左侧的支块、安装在支块中部的主轴、设于主轴中部的主动齿轮、啮合于主动齿轮且中部设置有轴杆的从动齿轮、设于从动齿轮左方且设于固定箱左侧被轴杆贯穿的衔接块、设于固定箱外侧且被轴杆贯穿的指示盘、连接轴杆且置于指示盘左侧的标识件、套设于主轴右端的凸轮、底部接触凸轮的摆动件、铰接于摆动件的固定块，固定块设置有两组、两端分别铰接于两组固定块的联动件、铰接于第二组固定块的活动杆、铰接活动杆另一端的拉动件、与拉动件下端进行铰接的传动杆、铰接于传动杆后端的侧块、插入于传动杆下端的拉柱、被拉柱贯穿的随动件、被随动件贯穿的圆盘、设于主轴右侧的稳固块、设于稳固块右侧且随主轴转动的拨动件、设于拨动件右侧被其进行拨动的间歇件以及安装在间歇件中部的联动轴，所述联动轴上端连接固定箱，下端则连接圆盘，支撑杆设置有四组，其底部分别连接两组固定块、侧块和稳固块顶部，所述随动件底部连接抛光件；

所述调节装置包括用于进行托举且置于可调抛光装置下方的托板、开设于托板中部用于连接间歇转动机构的开口以及设于托板底部的顶升机构；

顶升机构包括用于进行支撑稳固的支臂，支臂设置有四组，支臂内开设有滑槽，并且前后两端呈条形开口状，支臂内部活动嵌入有支柱，支柱下端嵌入有连接柱，该连接柱外侧接触呈叉状的顶杆，顶杆摆动可通过连接柱对支柱顶起，使得支柱在支臂内进行上下移动，而支柱顶部与托板相接，顶杆另一端连接转轴，转轴靠外端贯穿托举座，且由其进行支撑，在支臂内侧下端焊接固定有底架，底架顶部与托举座进行固定，在底架顶端中部固定有承载座，承载座中部被转轴贯穿，在承载座中部被转轴贯穿位置设置有随动齿轮，两组随动齿轮内侧啮合蜗杆，蜗杆转动可带其进行转动，从而实现转轴的转动，蜗杆底部与安装在底架底部的第三电机输出轴相接。

2.根据权利要求1所述一种用于水磨石生产的抛光工艺，其特征在于：所述随动件两端呈直杆状，该随动件两端直杆位置底部安装有柱形状的电磁铁。

3.根据权利要求2所述一种用于水磨石生产的抛光工艺，其特征在于：所述圆盘内部四端阵列开设有方形口，圆盘具备磁力，磁力小于通电后的随动件下端电磁铁，随动件底部的电磁铁可在贯穿圆盘后连接抛光件，抛光件设置有四组，四组抛光件吸附在圆盘内方形口底部，面积大于方形口，固定箱底部右端开设与圆盘右端方形口相对的通口。

4.根据权利要求1所述一种用于水磨石生产的抛光工艺，其特征在于：所述间歇件呈倒中空半球状，其内部开设有四组凹槽。

5.根据权利要求3所述一种用于水磨石生产的抛光工艺，其特征在于：所述抛光件包括吸附于圆盘底部的壳体、设于壳体内部的稳固板、连接稳固板底部的衔接轴以及设于衔接轴外侧的抛光盘，所述壳体上端开设有对应随动件两端直杆位置的圆槽，被随动件两端直杆位置进行吸附。

6.根据权利要求1所述一种用于水磨石生产的抛光工艺，其特征在于：所述间歇转动机构包括设于开口内侧的底箱、设于底箱左侧的第四电机、安装在底箱内部且连接第四电机输出轴的连接轴、设于连接轴中部的拨动轮、底部接触拨动轮的接触件、设于底箱内侧用于对接触件进行限位的限位块、安装在接触件中部且顶部贯穿底箱的驱动轴以及连接驱动轴顶部的托举板，托举板可跟随上下移动并转动；

拨动轮一端凸起，接触件两端凸起，受拨动轮转动力运动。